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      一種基于多環(huán)級(jí)聯(lián)的高消光比Fano共振調(diào)制器

      文檔序號(hào):40277680發(fā)布日期:2024-12-11 13:12閱讀:15來(lái)源:國(guó)知局
      一種基于多環(huán)級(jí)聯(lián)的高消光比Fano共振調(diào)制器

      本發(fā)明涉及光子神經(jīng)擬態(tài)計(jì)算芯片及光電器件,具體為一種基于多環(huán)級(jí)聯(lián)的高消光比f(wàn)ano共振調(diào)制器。


      背景技術(shù):

      1、在蓬勃發(fā)展且極具應(yīng)用前景的光子神經(jīng)擬態(tài)網(wǎng)絡(luò)這一前沿領(lǐng)域中,為了成功達(dá)成高效、精準(zhǔn)且復(fù)雜的光學(xué)計(jì)算功能,迫切需要眾多類型多樣、性能卓越的硅光器件共同參與、協(xié)同運(yùn)作,而在這眾多的硅光器件里,硅光調(diào)制器無(wú)疑占據(jù)著舉足輕重、不可替代的關(guān)鍵地位,它宛如整個(gè)光子神經(jīng)擬態(tài)網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)中的核心樞紐,對(duì)于實(shí)現(xiàn)精確而高效的光學(xué)計(jì)算發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。

      2、目前現(xiàn)有的微環(huán)諧振腔fano共振調(diào)制器消光比較低,硅光調(diào)制器輸出光譜諧振峰較低,并且因?yàn)橄獗容^低調(diào)制器性能較差。


      技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

      1、針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明提供了一種基于多環(huán)級(jí)聯(lián)的高消光比f(wàn)ano共振調(diào)制器,解決了消光比較低不利于硅光調(diào)制器實(shí)現(xiàn)調(diào)制功能的問(wèn)題。

      2、為實(shí)現(xiàn)以上目的,本發(fā)明通過(guò)以下技術(shù)方案予以實(shí)現(xiàn):一種基于多環(huán)級(jí)聯(lián)的高消光比f(wàn)ano共振調(diào)制器,包括:三個(gè)微環(huán)諧振腔耦合總線波導(dǎo),所述三個(gè)微環(huán)與總線波導(dǎo)的耦合區(qū)域各設(shè)有一個(gè)矩形波導(dǎo),光從i?nput口輸入,然后通過(guò)總線波導(dǎo)與微環(huán)諧振腔的耦合區(qū)域耦合入微環(huán)諧振腔,在三個(gè)微環(huán)諧振腔中諧振后,再通過(guò)總線波導(dǎo)through輸出。

      3、優(yōu)選的,所述矩形波導(dǎo)用于引入額外相位因子,將微環(huán)諧振腔中的輸出光譜由lorenz線型轉(zhuǎn)變?yōu)閒ano共振線型,提升輸出光譜諧振峰的線性度。

      4、優(yōu)選的,所述調(diào)制器基于soi平臺(tái)加工制造,波導(dǎo)寬度為450nm,厚度為220nm。

      5、優(yōu)選的,所述調(diào)制器采用傳輸矩陣法分析其傳輸特性,所述傳輸矩陣法將整個(gè)硅光器件看作是具有多個(gè)輸入輸出端口的黑盒子,每個(gè)端口的響應(yīng)特性與器件的各個(gè)參量聯(lián)系在一起,得到器件各端口在不同參量下的響應(yīng)特性,器件的輸入輸出端口之間的關(guān)系通過(guò)以下公式表示:其傳輸矩陣通過(guò)表示,并且t和k滿足:t2+k2=1,其中t和k分別為透射系數(shù)和耦合系數(shù)。

      6、優(yōu)選的,所述傳輸矩陣法用于分析硅基多環(huán)級(jí)聯(lián)fano共振器件傳輸特性,該器件的輸出光譜為:式中:eout為輸出光場(chǎng),e0為輸入光場(chǎng),t和κ1(κ2)分別是耦合區(qū)域的透射系數(shù)和耦合系數(shù),δφ為耦合區(qū)域的矩形波導(dǎo)引入的相位,κ2=κ1κ2=1-t2,α為線性損耗系數(shù),neff為有效折射率,λ是工作波長(zhǎng),r為微環(huán)諧振腔的半徑。

      7、優(yōu)選的,所述調(diào)制器基于等離子色散效應(yīng)進(jìn)行調(diào)制,當(dāng)改變半導(dǎo)體材料中的自由載流子濃度,其材料本身的折射率實(shí)部和虛部隨之發(fā)生改變,自由載流子濃度對(duì)材料折射率虛部(吸收系數(shù))δα的影響用以下經(jīng)驗(yàn)公式表示:δα(λ)=3.52×10-6λ2δn+2.4×10-6λ2δp

      8、δn(λ)=-3.64×10-10λ2δn-3.51×10-6λ2δp0.8

      9、式中,δn、δp分別是電子和空穴的濃度(cm-3)。

      10、一種基于多環(huán)級(jí)聯(lián)的高消光比f(wàn)ano共振調(diào)制器的使用方法,所述方法包括:

      11、步驟一:將基于多環(huán)級(jí)聯(lián)的高消光比f(wàn)ano共振調(diào)制器與相應(yīng)的光通信系統(tǒng)或光學(xué)實(shí)驗(yàn)裝置進(jìn)行連接,確保光從指定的i?nput口準(zhǔn)確輸入,并從總線波導(dǎo)through口輸出;

      12、步驟二:根據(jù)具體的應(yīng)用需求和工作環(huán)境,對(duì)調(diào)制器的工作參數(shù)進(jìn)行設(shè)置,包括調(diào)整微環(huán)諧振腔的半徑、矩形波導(dǎo)引入的相位因子、耦合系數(shù),啟動(dòng)光通信系統(tǒng)或光學(xué)實(shí)驗(yàn)裝置,使光信號(hào)從i?nput口輸入調(diào)制器,光在三個(gè)微環(huán)諧振腔中發(fā)生諧振;

      13、步驟三:利用傳輸矩陣法對(duì)調(diào)制器的傳輸特性進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)和分析,通過(guò)測(cè)量輸入輸出端口的光場(chǎng)強(qiáng)度、波長(zhǎng)等參數(shù),結(jié)合傳輸矩陣公式和相關(guān)理論評(píng)估調(diào)制器性能;

      14、步驟四:基于等離子色散效應(yīng)進(jìn)行調(diào)制操作,通過(guò)控制半導(dǎo)體材料中的自由載流子濃度改變材料的折射率實(shí)部和虛部,以實(shí)現(xiàn)對(duì)光信號(hào)的調(diào)制,并根據(jù)具體調(diào)制需求精確調(diào)整載流子濃度;

      15、步驟五:在使用過(guò)程中,持續(xù)監(jiān)測(cè)調(diào)制器的輸出光譜,確保輸出光譜諧振峰的線性度滿足應(yīng)用要求,若出現(xiàn)性能偏差,及時(shí)檢查參數(shù)設(shè)置和外部工作條件并進(jìn)行調(diào)整優(yōu)化。

      16、本發(fā)明提供了一種基于多環(huán)級(jí)聯(lián)的高消光比f(wàn)ano共振調(diào)制器。具備以下

      17、有益效果:

      18、1、本發(fā)明通過(guò)采用三個(gè)微環(huán)諧振腔耦合總線波導(dǎo),在三個(gè)微環(huán)與總線波導(dǎo)的耦合區(qū)域各有一個(gè)矩形波導(dǎo),用于引入額外相位因子,從而可將微環(huán)諧振腔中的輸出光譜由lorenz線型轉(zhuǎn)變?yōu)閒ano共振線型,可提升輸出光譜諧振峰的線性度。

      19、2、本發(fā)明采用三環(huán)級(jí)聯(lián)的方法提升器件的消光比,光從i?nput口輸入,然后通過(guò)總線波導(dǎo)與微環(huán)諧振腔的耦合區(qū)域耦合入微環(huán)諧振腔,在三個(gè)微環(huán)諧振腔中諧振后,再通過(guò)總線波導(dǎo)through輸出,該方法可實(shí)現(xiàn)每個(gè)共振波長(zhǎng)都具有高消光比的fano共振諧振峰,從而可將其結(jié)構(gòu)應(yīng)用于硅光調(diào)制器中,極大地提升調(diào)制器性能。



      技術(shù)特征:

      1.一種基于多環(huán)級(jí)聯(lián)的高消光比f(wàn)ano共振調(diào)制器,其特征在于,包括:三個(gè)微環(huán)諧振腔耦合總線波導(dǎo),所述三個(gè)微環(huán)與總線波導(dǎo)的耦合區(qū)域各設(shè)有一個(gè)矩形波導(dǎo),光從input口輸入,然后通過(guò)總線波導(dǎo)與微環(huán)諧振腔的耦合區(qū)域耦合入微環(huán)諧振腔,在三個(gè)微環(huán)諧振腔中諧振后,再通過(guò)總線波導(dǎo)through輸出。

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于多環(huán)級(jí)聯(lián)的高消光比f(wàn)ano共振調(diào)制器,其特征在于:所述矩形波導(dǎo)用于引入額外相位因子,將微環(huán)諧振腔中的輸出光譜由lorenz線型轉(zhuǎn)變?yōu)閒ano共振線型,提升輸出光譜諧振峰的線性度。

      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于多環(huán)級(jí)聯(lián)的高消光比f(wàn)ano共振調(diào)制器,其特征在于:所述調(diào)制器基于soi平臺(tái)加工制造,波導(dǎo)寬度為450nm,厚度為220nm。

      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于多環(huán)級(jí)聯(lián)的高消光比f(wàn)ano共振調(diào)制器,其特征在于:所述調(diào)制器采用傳輸矩陣法分析其傳輸特性,所述傳輸矩陣法將整個(gè)硅光器件看作是具有多個(gè)輸入輸出端口的黑盒子,每個(gè)端口的響應(yīng)特性與器件的各個(gè)參量聯(lián)系在一起,得到器件各端口在不同參量下的響應(yīng)特性,器件的輸入輸出端口之間的關(guān)系通過(guò)以下公式表示:其傳輸矩陣通過(guò)表示,并且t和k滿足:t2+k2=1,其中t和k分別為透射系數(shù)和耦合系數(shù)。

      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于多環(huán)級(jí)聯(lián)的高消光比f(wàn)ano共振調(diào)制器,其特征在于:所述傳輸矩陣法用于分析硅基多環(huán)級(jí)聯(lián)fano共振器件傳輸特性,該器件的輸出光譜為:式中:eout為輸出光場(chǎng),e0為輸入光場(chǎng),t和κ1(κ2)分別是耦合區(qū)域的透射系數(shù)和耦合系數(shù),δφ為耦合區(qū)域的矩形波導(dǎo)引入的相位,κ2=κ1κ2=1-t2,α為線性損耗系數(shù),neff為有效折射率,λ是工作波長(zhǎng),r為微環(huán)諧振腔的半徑。

      6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于多環(huán)級(jí)聯(lián)的高消光比f(wàn)ano共振調(diào)制器,其特征在于:所述調(diào)制器基于等離子色散效應(yīng)進(jìn)行調(diào)制,當(dāng)改變半導(dǎo)體材料中的自由載流子濃度,其材料本身的折射率實(shí)部和虛部隨之發(fā)生改變,自由載流子濃度對(duì)材料折射率虛部(吸收系數(shù))δα的影響用以下經(jīng)驗(yàn)公式表示:δα(λ)=3.52×10-6λ2δn+2.4×10-6λ2δp

      7.一種基于多環(huán)級(jí)聯(lián)的高消光比f(wàn)ano共振調(diào)制器的使用方法,其特征在于,用于權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的一種基于多環(huán)級(jí)聯(lián)的高消光比f(wàn)ano共振調(diào)制器,所述方法包括:


      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明涉及光子神經(jīng)擬態(tài)計(jì)算芯片及光電器件領(lǐng)域,公開(kāi)了一種基于多環(huán)級(jí)聯(lián)的高消光比Fano共振調(diào)制器,包括:三個(gè)微環(huán)諧振腔耦合總線波導(dǎo),所述三個(gè)微環(huán)與總線波導(dǎo)的耦合區(qū)域各設(shè)有一個(gè)矩形波導(dǎo),光從I?nput口輸入,然后通過(guò)總線波導(dǎo)與微環(huán)諧振腔的耦合區(qū)域耦合入微環(huán)諧振腔,在三個(gè)微環(huán)諧振腔中諧振后,再通過(guò)總線波導(dǎo)Through輸出,所述矩形波導(dǎo)用于引入額外相位因子,將微環(huán)諧振腔中的輸出光譜由Lorenz線型轉(zhuǎn)變?yōu)镕ano共振線型。通過(guò)采用三個(gè)微環(huán)諧振腔耦合總線波導(dǎo),在三個(gè)微環(huán)與總線波導(dǎo)的耦合區(qū)域各有一個(gè)矩形波導(dǎo),用于引入額外相位因子,從而可將微環(huán)諧振腔中的輸出光譜由Lorenz線型轉(zhuǎn)變?yōu)镕ano共振線型,可提升輸出光譜諧振峰的線性度。

      技術(shù)研發(fā)人員:徐英杰,祝連慶,鹿利單,陳偉強(qiáng),董明利,何彥霖
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:合肥工業(yè)大學(xué)
      技術(shù)研發(fā)日:
      技術(shù)公布日:2024/12/10
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