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      一種LCD曝光裝置的制作方法

      文檔序號:40511160發(fā)布日期:2024-12-31 13:20閱讀:8來源:國知局
      一種LCD曝光裝置的制作方法

      本發(fā)明涉及l(fā)cd面板曝光,具體來說,涉及一種lcd曝光裝置。


      背景技術(shù):

      1、lcd曝光通常指的是在制造lcd面板過程中,使用光刻技術(shù)將圖案轉(zhuǎn)印到液晶顯示屏的基板上。lcd曝光是液晶顯示器生產(chǎn)中不可或缺的步驟,通過光刻技術(shù)將圖案精確地轉(zhuǎn)印到基板上,確保最終產(chǎn)品的性能和質(zhì)量。隨著技術(shù)的進步,lcd曝光工藝也在不斷演變,以滿足更高的生產(chǎn)要求。

      2、現(xiàn)有技術(shù)中,lcd曝光過程中,需要將待曝光的lcd基板通過輸送機構(gòu)送入曝光機內(nèi)。而由于lcd基板曝光之前需要經(jīng)歷涂膠工序,因此為了保護lcd基板表面的膠層,會避免采用負壓吸附的轉(zhuǎn)運方式來搬運lcd基板,就會導(dǎo)致lcd基板放置在輸送機構(gòu)上的時候可能會產(chǎn)生傾斜。此時的lcd基板并未封裝,其脆弱的棱邊直接裸露在外,導(dǎo)致尖銳的邊緣與輸送機構(gòu)的承載面接觸時,棱邊因為受到擠壓而應(yīng)力的集中碎邊,導(dǎo)致基板報廢,從而導(dǎo)致lcd基板的搬運難度加大,提高lcd的生產(chǎn)成本。

      3、因此,本領(lǐng)域技術(shù)人員提供了一種lcd曝光裝置,以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。


      技術(shù)實現(xiàn)思路

      1、本發(fā)明的目的在于提供一種lcd曝光裝置,以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

      2、為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:

      3、本發(fā)明的上述技術(shù)目的是通過以下技術(shù)方案得以實現(xiàn)的:

      4、一種lcd曝光裝置,包括曝光機,其底部開設(shè)有用于輸送lcd基板的輸送槽;

      5、輸送臺,其設(shè)置在輸送槽內(nèi),并橫穿曝光機,輸送臺的頂部開設(shè)有容納槽,容納槽內(nèi)轉(zhuǎn)動連接有輸送帶,輸送帶主要由內(nèi)帶和外帶組成,內(nèi)帶的外側(cè)設(shè)置有外帶,內(nèi)帶與外帶之間留存有間隙,內(nèi)帶與外帶的兩側(cè)邊緣處通過支撐塊固定連接;

      6、支撐件,其沿輸送帶的周長方向等距間隔設(shè)置有多組,每組均沿輸送帶的寬度方向等距間隔設(shè)置有多個,支撐件包括活塞部和吸盤部,活塞部的頂部凸起形成有吸盤部,吸盤部的頂部開設(shè)有圓孔,圓孔向下延伸至活塞部的底部,活塞部的外壁底部開設(shè)有多個與圓孔連通的通槽;

      7、負壓組件,其連接在輸送臺的輸入側(cè),用于使容納槽內(nèi)產(chǎn)生負壓,使輸送帶的間隙內(nèi)產(chǎn)生正壓;

      8、內(nèi)帶與外帶的表面均勻分布有通孔,位于外帶表面的通孔直徑大于位于內(nèi)帶表面的通孔直徑,使兩個通孔分別連接活塞部和吸盤部,吸盤部的底部與內(nèi)帶的表面之間固定連接有定位彈簧。

      9、進一步的,所述通槽的高度與所述內(nèi)帶的厚度相同,所述吸盤部伸出所述外帶的高度等于兩倍內(nèi)帶的厚度。

      10、進一步的,所述吸盤部的頂部開設(shè)有用于氣流反推的圓槽,圓槽位于所述圓孔的外側(cè)。

      11、進一步的,所述內(nèi)帶和所述外帶的通孔內(nèi)均開設(shè)有圓環(huán)槽,圓環(huán)槽內(nèi)連接有密封環(huán),兩個密封環(huán)分別與所述吸盤部和所述活塞部的外壁接觸。

      12、進一步的,所述容納槽的內(nèi)壁內(nèi)凹形成有軌道槽,所述內(nèi)帶和所述外帶的兩側(cè)均伸入軌道槽內(nèi)。

      13、進一步的,所述負壓組件包括氣泵、隔板件和擴散噴嘴,隔板件設(shè)置在所述輸送帶內(nèi),并與所述容納槽的內(nèi)壁固定連接,隔板件的頂部與所述內(nèi)帶之間形成一個用于吸氣的負壓腔;

      14、擴散噴嘴與所述輸送臺的外壁固定連接,并與所述軌道槽連通;

      15、氣泵安裝在輸送臺的外側(cè),氣泵的輸入口通過進氣管與負壓腔連通,氣泵的輸出口通過排氣管與擴散噴嘴連通。

      16、進一步的,所述輸送臺的頂部由放料區(qū)、曝光區(qū)和卸料區(qū)組成,所述負壓腔覆蓋放料區(qū)和曝光區(qū)。

      17、綜上所述,本發(fā)明包括以下至少一種有益技術(shù)效果:

      18、1.該一種lcd曝光裝置,通過設(shè)置的支撐件、輸送帶和負壓組件,可以使lcd基板放置在輸送帶上的時候,利用氣流給lcd基板施加初步緩沖,減少lcd基板與支撐件接觸時的沖力,隨后在lcd基板放置在支撐件上時,利用支撐件撐起lcd基板,避免其與輸送帶直接接觸而導(dǎo)致棱邊碎邊,可有效提高對lcd基板的保護效果,隨后在lcd基板完全放置在輸送帶上時,支撐件對lcd基板施加的支撐力轉(zhuǎn)換為負壓吸力,使lcd基板緊密貼合在輸送帶上,使lcd基板輸送更加穩(wěn)定,減少曝光時對焦的移動量,從而提高曝光效率;

      19、2.該一種lcd曝光裝置,通過在吸盤部的頂部開設(shè)有圓槽,使氣流反沖的時候受到圓槽的攔截,從而增加氣流對吸盤部的推力,增強吸盤部的預(yù)下壓力度,此時lcd基板輕微傾斜的時候,優(yōu)先靠近lcd基板的吸盤部便會稍稍向下移動,使lcd基板放置在輸送帶上的時候可以同時與多個吸盤部接觸,有效避免lcd基板放置的時候因為提前與少數(shù)吸盤部接觸導(dǎo)致接觸面過小而壓力集中,避免lcd基板表面受力不均勻損傷,進一步提高對lcd基板的保護性能。



      技術(shù)特征:

      1.一種lcd曝光裝置,其特征在于,包括曝光機(1),其底部開設(shè)有用于輸送lcd基板的輸送槽(5);

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種lcd曝光裝置,其特征在于,所述通槽(9)的高度與所述內(nèi)帶(71)的厚度相同,所述吸盤部(32)伸出所述外帶(72)的高度等于兩倍內(nèi)帶(71)的厚度。

      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種lcd曝光裝置,其特征在于,所述吸盤部(32)的頂部開設(shè)有用于氣流反推的圓槽(12),圓槽(12)位于所述圓孔(8)的外側(cè)。

      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種lcd曝光裝置,其特征在于,所述內(nèi)帶(71)和所述外帶(72)的通孔(10)內(nèi)均開設(shè)有圓環(huán)槽(13),圓環(huán)槽(13)內(nèi)連接有密封環(huán)(14),兩個密封環(huán)(14)分別與所述吸盤部(32)和所述活塞部(31)的外壁接觸。

      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種lcd曝光裝置,其特征在于,所述容納槽(6)的內(nèi)壁內(nèi)凹形成有軌道槽(15),所述內(nèi)帶(71)和所述外帶(72)的兩側(cè)均伸入軌道槽(15)內(nèi)。

      6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種lcd曝光裝置,其特征在于,所述負壓組件(4)包括氣泵(41)、隔板件(42)和擴散噴嘴(43),隔板件(42)設(shè)置在所述輸送帶(7)內(nèi),并與所述容納槽(6)的內(nèi)壁固定連接,隔板件(42)的頂部與所述內(nèi)帶(71)之間形成一個用于吸氣的負壓腔(16);

      7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種lcd曝光裝置,其特征在于,所述輸送臺(2)的頂部由放料區(qū)(17)、曝光區(qū)(18)和卸料區(qū)(19)組成,所述負壓腔(16)覆蓋放料區(qū)(17)和曝光區(qū)(18)。


      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明公開了一種LCD曝光裝置,包括曝光機,其底部開設(shè)有用于輸送LCD基板的輸送槽;輸送臺,其設(shè)置在輸送槽內(nèi),并橫穿曝光機,輸送臺的頂部開設(shè)有容納槽,容納槽內(nèi)轉(zhuǎn)動連接有輸送帶,輸送帶主要由內(nèi)帶和外帶組成,內(nèi)帶的外側(cè)設(shè)置有外帶,內(nèi)帶與外帶之間留存有間隙,內(nèi)帶與外帶的兩側(cè)邊緣處通過支撐塊固定連接。本發(fā)明涉及LCD面板曝光技術(shù)領(lǐng)域。該一種LCD曝光裝置,通過設(shè)置的支撐件、輸送帶和負壓組件,可以使LCD基板放置在輸送帶上的時候,利用氣流給LCD基板施加初步緩沖,減少LCD基板與支撐件接觸時的沖力,隨后在LCD基板放置在支撐件上時,利用支撐件撐起LCD基板,避免其與輸送帶直接接觸而導(dǎo)致棱邊碎邊。

      技術(shù)研發(fā)人員:李能學(xué),宣洪權(quán),劉子進
      受保護的技術(shù)使用者:瑞金市明崴電子科技有限公司
      技術(shù)研發(fā)日:
      技術(shù)公布日:2024/12/30
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