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      一種通用對(duì)位機(jī)構(gòu)及光刻機(jī)的制作方法

      文檔序號(hào):40399462發(fā)布日期:2024-12-20 12:23閱讀:7來(lái)源:國(guó)知局
      一種通用對(duì)位機(jī)構(gòu)及光刻機(jī)的制作方法

      本技術(shù)涉及半導(dǎo)體設(shè)備,尤其涉及一種通用對(duì)位機(jī)構(gòu)及光刻機(jī)。


      背景技術(shù):

      1、光刻機(jī)是一種半導(dǎo)體工業(yè)中常用的設(shè)備,用于將電路圖案轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體芯片上。在制造芯片時(shí),需要使用光刻機(jī)將電路圖案“鍍”在芯片表面上,以便進(jìn)行后續(xù)的加工工藝。對(duì)位機(jī)構(gòu)是光刻機(jī)中一種用于推動(dòng)晶圓的部件,其能夠?qū)A進(jìn)行定位。

      2、現(xiàn)有技術(shù)中,由于不同機(jī)型對(duì)氣缸供氣方式的差別以及框架結(jié)構(gòu)的不同,對(duì)位機(jī)構(gòu)僅適用于對(duì)應(yīng)型號(hào)的光刻機(jī)。在兩種不同機(jī)型光刻機(jī)補(bǔ)充對(duì)位機(jī)構(gòu)時(shí),由于結(jié)構(gòu)上的差異,不論是自主加工還是購(gòu)買(mǎi)現(xiàn)貨都要涉及到兩種型號(hào),不僅難以尋找貨源也延長(zhǎng)了補(bǔ)充流程,進(jìn)而造成了時(shí)間的浪費(fèi)。


      技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

      1、本實(shí)用新型的目的在于提供一種通用對(duì)位機(jī)構(gòu)及光刻機(jī),以解決現(xiàn)有技術(shù)中兩種不同機(jī)型光刻機(jī)補(bǔ)充對(duì)位機(jī)構(gòu)時(shí),由于結(jié)構(gòu)上的差異,不論是自主加工還是購(gòu)買(mǎi)現(xiàn)貨都要涉及到兩種型號(hào),不僅難以尋找貨源也延長(zhǎng)了補(bǔ)充流程,進(jìn)而造成了時(shí)間浪費(fèi)的問(wèn)題。

      2、為達(dá)上述目的,本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案:

      3、一方面,本實(shí)用新型提供一種通用對(duì)位機(jī)構(gòu),該通用對(duì)位機(jī)構(gòu)包括:

      4、支撐柱及承載臺(tái),上述支撐柱能夠設(shè)于工作臺(tái)上,上述承載臺(tái)設(shè)于上述支撐柱上;上述承載臺(tái)具有相互連通的主通道和分通道,上述支撐柱具有內(nèi)通道,上述內(nèi)通道連通于上述分通道;上述承載臺(tái)開(kāi)設(shè)有第一安裝孔和第二安裝孔,上述第一安裝孔連通上述主通道,上述第二安裝孔連通上述分通道;上述第一安裝孔可拆卸連接第一封堵件,上述第一封堵件用于封堵上述第一安裝孔;上述第二安裝孔可拆卸連接第二封堵件或連通件,上述第二封堵件用于封堵上述分通道,上述連通件用于連通上述主通道和上述內(nèi)通道;

      5、推動(dòng)組件,上述推動(dòng)組件設(shè)于上述承載臺(tái)上,上述推動(dòng)組件包括氣缸,上述氣缸連通于上述主通道。

      6、作為上述通用對(duì)位機(jī)構(gòu)的一種可選方案,上述第一封堵件、上述第二封堵件和上述連通件均具有外螺紋,上述第一安裝孔和上述第二安裝孔均具有內(nèi)螺紋,上述第一封堵件螺紋連接于上述第一安裝孔,上述第二封堵件或上述連通件螺紋連接于上述第二安裝孔。

      7、作為上述通用對(duì)位機(jī)構(gòu)的一種可選方案,上述推動(dòng)組件還包括抵推件,上述抵推件位于上述承載臺(tái)沿第一方向的一側(cè);上述氣缸的驅(qū)動(dòng)端連接于上述抵推件,用于驅(qū)動(dòng)上述抵推件沿上述第一方向移動(dòng);上述抵推件用于推動(dòng)晶圓。

      8、作為上述通用對(duì)位機(jī)構(gòu)的一種可選方案,上述推動(dòng)組件還包括限位件和行程桿,上述限位件位于上述承載臺(tái)沿上述第一方向遠(yuǎn)離上述抵推件的另一側(cè);上述行程桿沿上述第一方向的兩端分別連接于上述抵推件和上述限位件。

      9、作為上述通用對(duì)位機(jī)構(gòu)的一種可選方案,上述推動(dòng)組件還包括直線軸承,上述直線軸承設(shè)于上述承載臺(tái)上,且上述行程桿沿上述第一方向可移動(dòng)設(shè)于上述直線軸承內(nèi)。

      10、作為上述通用對(duì)位機(jī)構(gòu)的一種可選方案,上述行程桿和上述直線軸承均包括至少兩個(gè),至少兩個(gè)上述行程桿和至少兩個(gè)上述直線軸承一一對(duì)應(yīng)設(shè)置,且至少兩個(gè)上述直線軸承位于上述承載臺(tái)沿第二方向的相對(duì)兩側(cè)。

      11、作為上述通用對(duì)位機(jī)構(gòu)的一種可選方案,上述推動(dòng)組件還包括調(diào)節(jié)塊和行程調(diào)節(jié)件,上述調(diào)節(jié)塊通過(guò)上述行程調(diào)節(jié)件連接于上述限位件,且上述調(diào)節(jié)塊與上述承載臺(tái)沿上述第一方向相對(duì)設(shè)置;上述行程調(diào)節(jié)件用于調(diào)節(jié)上述調(diào)節(jié)塊相對(duì)于上述承載臺(tái)沿上述第一方向的間距。

      12、作為上述通用對(duì)位機(jī)構(gòu)的一種可選方案,上述推動(dòng)組件還包括彈性件,上述彈性件的兩端分別連接上述承載臺(tái)和上述限位件,上述彈性件用于彈性復(fù)位上述限位件。

      13、作為上述通用對(duì)位機(jī)構(gòu)的一種可選方案,上述通用對(duì)位機(jī)構(gòu)還包括定位調(diào)節(jié)件,上述定位調(diào)節(jié)件沿第一方向可移動(dòng)設(shè)于上述承載臺(tái)上,上述定位調(diào)節(jié)件的一端能夠抵接于上述支撐柱,用于調(diào)整上述支撐柱相對(duì)于上述承載臺(tái)的空間位置。

      14、另一方面,本實(shí)用新型提供一種光刻機(jī),包括如上述的通用對(duì)位機(jī)構(gòu),上述光刻機(jī)還包括工作臺(tái),上述支撐柱設(shè)于上述工作臺(tái)上。

      15、本實(shí)用新型的有益效果為:

      16、該通用對(duì)位機(jī)構(gòu)包括支撐柱、承載臺(tái)和推動(dòng)組件,支撐柱能夠設(shè)于工作臺(tái)上,承載臺(tái)設(shè)于支撐柱上,且推動(dòng)組件設(shè)于承載臺(tái)上。承載臺(tái)具有相互連通的主通道和分通道,支撐柱具有內(nèi)通道,內(nèi)通道連通于分通道,同時(shí)推動(dòng)組件包括氣缸,氣缸連通于主通道,從而內(nèi)通道、分通道和主通道能夠形成連通氣缸的氣路。承載臺(tái)開(kāi)設(shè)有第一安裝孔和第二安裝孔,第一安裝孔連通主通道,第二安裝孔連通分通道,其中,第一安裝孔可拆卸連接第一封堵件,第一封堵件用于封堵第一安裝孔,第二安裝孔可拆卸連接第二封堵件或連通件,第二封堵件用于封堵分通道,連通件用于連通主通道和內(nèi)通道,從而當(dāng)通過(guò)第一封堵件封堵第一安裝孔,通過(guò)連通件連通主通道和內(nèi)通道時(shí),外接氣管能夠從工作臺(tái)處連通于內(nèi)通道,以通過(guò)內(nèi)通道、分通道和主通道對(duì)氣缸進(jìn)行供氣;當(dāng)通過(guò)第二封堵件封堵分通道時(shí),外接氣管能夠通過(guò)第一安裝孔直接連通主通道,以對(duì)氣缸進(jìn)行供氣,使得該通用對(duì)位機(jī)構(gòu)具有兩種供氣方式,以此適用光刻機(jī)的多種機(jī)型,既減少了備件缺失時(shí)補(bǔ)充所需的加工成本以及時(shí)間成本,也能在急需的情況下從其他機(jī)器上對(duì)通用對(duì)位機(jī)構(gòu)進(jìn)行暫時(shí)調(diào)用。



      技術(shù)特征:

      1.一種通用對(duì)位機(jī)構(gòu),其特征在于,包括:

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的通用對(duì)位機(jī)構(gòu),其特征在于,所述第一封堵件(3)、所述第二封堵件(4)和所述連通件(5)均具有外螺紋,所述第一安裝孔(23)和所述第二安裝孔(24)均具有內(nèi)螺紋,所述第一封堵件(3)螺紋連接于所述第一安裝孔(23),所述第二封堵件(4)或所述連通件(5)螺紋連接于所述第二安裝孔(24)。

      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的通用對(duì)位機(jī)構(gòu),其特征在于,所述推動(dòng)組件(6)還包括抵推件(62),所述抵推件(62)位于所述承載臺(tái)(2)沿第一方向的一側(cè);所述氣缸(61)的驅(qū)動(dòng)端連接于所述抵推件(62),用于驅(qū)動(dòng)所述抵推件(62)沿所述第一方向移動(dòng);所述抵推件(62)用于推動(dòng)晶圓。

      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的通用對(duì)位機(jī)構(gòu),其特征在于,所述推動(dòng)組件(6)還包括限位件(63)和行程桿(64),所述限位件(63)位于所述承載臺(tái)(2)沿所述第一方向遠(yuǎn)離所述抵推件(62)的另一側(cè);所述行程桿(64)沿所述第一方向的兩端分別連接于所述抵推件(62)和所述限位件(63)。

      5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的通用對(duì)位機(jī)構(gòu),其特征在于,所述推動(dòng)組件(6)還包括直線軸承(65),所述直線軸承(65)設(shè)于所述承載臺(tái)(2)上,且所述行程桿(64)沿所述第一方向可移動(dòng)設(shè)于所述直線軸承(65)內(nèi)。

      6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的通用對(duì)位機(jī)構(gòu),其特征在于,所述行程桿(64)和所述直線軸承(65)均包括至少兩個(gè),至少兩個(gè)所述行程桿(64)和至少兩個(gè)所述直線軸承(65)一一對(duì)應(yīng)設(shè)置,且至少兩個(gè)所述直線軸承(65)位于所述承載臺(tái)(2)沿第二方向的相對(duì)兩側(cè)。

      7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的通用對(duì)位機(jī)構(gòu),其特征在于,所述推動(dòng)組件(6)還包括調(diào)節(jié)塊(66)和行程調(diào)節(jié)件(67),所述調(diào)節(jié)塊(66)通過(guò)所述行程調(diào)節(jié)件(67)連接于所述限位件(63),且所述調(diào)節(jié)塊(66)與所述承載臺(tái)(2)沿所述第一方向相對(duì)設(shè)置;所述行程調(diào)節(jié)件(67)用于調(diào)節(jié)所述調(diào)節(jié)塊(66)相對(duì)于所述承載臺(tái)(2)沿所述第一方向的間距。

      8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的通用對(duì)位機(jī)構(gòu),其特征在于,所述推動(dòng)組件(6)還包括彈性件(68),所述彈性件(68)的兩端分別連接所述承載臺(tái)(2)和所述限位件(63),所述彈性件(68)用于彈性復(fù)位所述限位件(63)。

      9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的通用對(duì)位機(jī)構(gòu),其特征在于,所述通用對(duì)位機(jī)構(gòu)還包括定位調(diào)節(jié)件(7),所述定位調(diào)節(jié)件(7)沿第一方向可移動(dòng)設(shè)于所述承載臺(tái)(2)上,所述定位調(diào)節(jié)件(7)的一端能夠抵接于所述支撐柱(1),用于調(diào)整所述支撐柱(1)相對(duì)于所述承載臺(tái)(2)的空間位置。

      10.一種光刻機(jī),其特征在于,包括如權(quán)利要求1~9任一項(xiàng)所述的通用對(duì)位機(jī)構(gòu),所述光刻機(jī)還包括工作臺(tái),所述支撐柱(1)設(shè)于所述工作臺(tái)上。


      技術(shù)總結(jié)
      本技術(shù)涉及半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體公開(kāi)了一種通用對(duì)位機(jī)構(gòu)及光刻機(jī),該通用對(duì)位機(jī)構(gòu)包括支撐柱、承載臺(tái)和推動(dòng)組件;支撐柱能夠設(shè)于工作臺(tái)上,承載臺(tái)設(shè)于支撐柱上;承載臺(tái)具有相互連通的主通道和分通道,支撐柱具有內(nèi)通道,內(nèi)通道連通于分通道;承載臺(tái)開(kāi)設(shè)有第一安裝孔和第二安裝孔,第一安裝孔連通主通道,第二安裝孔連通分通道;第一安裝孔可拆卸連接第一封堵件;第二安裝孔可拆卸連接第二封堵件或連通件;推動(dòng)組件設(shè)于承載臺(tái)上,推動(dòng)組件包括氣缸,氣缸連通于主通道。本技術(shù)的通用對(duì)位機(jī)構(gòu)能夠適用光刻機(jī)的多種機(jī)型,既減少了備件缺失時(shí)補(bǔ)充所需的加工成本以及時(shí)間成本,也能在急需的情況下從其他機(jī)器上對(duì)通用對(duì)位機(jī)構(gòu)進(jìn)行暫時(shí)調(diào)用。

      技術(shù)研發(fā)人員:向宇飛,李華
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:上海探躍半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
      技術(shù)研發(fā)日:20240416
      技術(shù)公布日:2024/12/19
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