專利名稱:半穿透半反射式液晶顯示面板、彩色濾光片及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種半穿透半反射式液晶顯示面板，且特別涉及一種半穿透半反射式液晶顯示面板的彩色濾光片，以及此彩色濾光片的制造方法。
背景技術(shù)：
隨著液晶顯示器的普及，許多便攜式電子產(chǎn)品對于液晶顯示器的顯示功能的要求也逐漸地提高。舉例而言，這些便攜式電子產(chǎn)品在室內(nèi)不僅需要具有良好的畫面顯示效果，同時(shí)在強(qiáng)光的環(huán)境下亦需維持適當(dāng)?shù)漠嬅尜|(zhì)量。因此，如何能讓液晶顯示器在強(qiáng)光的環(huán)境下保有清晰的顯示質(zhì)量，便成為液晶顯示器的技術(shù)發(fā)展的重要趨勢之一?；谏鲜鲈颍夹g(shù)開發(fā)出一種半穿透半反射式液晶顯示器(transflective LCD)，使用此半穿透半反射式液晶顯示器在戶外明亮環(huán)境下與在室內(nèi)環(huán)境下同樣具有清晰的顯示效果。
圖1為公知的一種液晶顯示單元的剖面示意圖。請同時(shí)參照圖1，液晶顯示單元100為半穿透半反射液晶顯面板(圖中未示)的顯示單元，其包括第一基板110、薄膜晶體管120、介電層130、反射電極140、透明電極150、液晶層160、共用電極182、濾光色塊184以及第二基板190。而且，液晶顯示單元100具有透射區(qū)T與反射區(qū)R兩個(gè)區(qū)域。
承上所述，第一基板110與第二基板190為玻璃基板，而薄膜晶體管120與介電層130均設(shè)置于第一基板110之上，且介電層130覆蓋于薄膜晶體管120上。此外，反射電極140與透明電極150皆設(shè)置于介電層130之上，并分別位于反射區(qū)R與透射區(qū)T之中。另一方面，濾光色塊184與共用電極182依次設(shè)置于第二基板190相對于第一基板的表面上。液晶層140則設(shè)置于反射電極140、透明電極150以及共用電極182之間。
請?jiān)賲⒄請D1，液晶顯示單元100在穿透區(qū)T中是通過背光模塊(圖中未示)所提供的光線來顯示圖像，而液晶顯示單元100在反射區(qū)R中則是通過入射至顯示器內(nèi)的外界光線，通過反射電極140反射之后，通過液晶層160與濾光色塊184而顯示圖像。由此可知，在反射區(qū)R內(nèi)光線需通過濾光色塊184兩次，才能顯示圖像，而在穿透區(qū)T內(nèi)光線僅需通過濾光色塊184一次，即可顯示圖像。因此，液晶顯示單元100所顯示的圖像在穿透區(qū)T內(nèi)的亮度較其在反射區(qū)R內(nèi)的亮度高，但圖像在反射區(qū)R內(nèi)的色彩飽和度則較其在穿透區(qū)T內(nèi)的色彩飽和度高。
如圖2所示，為提高圖像在反射區(qū)R內(nèi)的亮度，公知技術(shù)提出一種彩色濾光片220，其在穿透區(qū)T內(nèi)設(shè)置濾光色塊184，而反射區(qū)R內(nèi)除了設(shè)置有濾光色塊186a以外，還設(shè)置有透明光刻膠層186b。因此，在反射區(qū)R內(nèi)，外界光線同時(shí)會(huì)通過濾光色塊186a及透明光刻膠186b而照射至反射電極140，并且在被反射電極140反射后，再次通過濾光色塊186a及透明光刻膠層186b而射出。由于設(shè)置于液晶顯示單元200的反射區(qū)R內(nèi)的透明光刻膠層186b可使通過反射區(qū)R的光線減少濾光量，故可解決液晶顯示單元100的反射區(qū)R圖像亮度不足的問題。然而，此彩色濾光片220卻使得液晶顯示單元200在反射區(qū)R內(nèi)的白光亮度過高，不易與穿透區(qū)T達(dá)成色度平衡。
除此之外，公知技術(shù)還提出一種彩色濾光片320，如圖3所示，其濾光色塊384在單一顯示單元內(nèi)具有兩種不同的膜厚。也就是說，在反射區(qū)R內(nèi)的濾光色塊384比穿透區(qū)T內(nèi)的濾光色塊384薄，以在兩區(qū)域之間補(bǔ)償圖像亮度與色度的差異。但是因?yàn)榇瞬噬珵V光片300的濾光色塊384是以旋轉(zhuǎn)涂布的方式形成在基板190上，所以若要形成圖3的雙膜厚的濾光色塊(dual thickness color filter，DTCF)384，需增加兩倍曝光工藝數(shù)，故工藝較為繁雜且成本高。

發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是提供一種彩色濾光片，以解決半穿透半反射式液晶顯示器中，穿透區(qū)與反射區(qū)的亮度與色度不均勻的問題。
本發(fā)明的另一目的是提供一種彩色濾光片的制造方法，以解決公知雙膜厚濾光色塊工藝成本過高的問題。
本發(fā)明的又一目的是提供一種半穿透半反射式液晶顯示面板，以解決圖像在反射顯示模式與穿透顯示模式下亮度與色度不均的問題。
為達(dá)上述或是其他目的，本發(fā)明提出一種彩色濾光片，其包括基板、遮光圖案、多個(gè)膜厚補(bǔ)償圖案、多個(gè)濾光色塊以及共用電極。其中，遮光圖案設(shè)置在基板上，而在基板上劃分出多個(gè)次像素區(qū)域。而且，各次像素區(qū)域均具有穿透區(qū)與反射區(qū)，膜厚補(bǔ)償圖案設(shè)置于各個(gè)次像素區(qū)域的反射區(qū)內(nèi)，而濾光色塊設(shè)置于各個(gè)次像素區(qū)域內(nèi)并覆蓋住膜厚補(bǔ)償圖案。共用電極則設(shè)置于基板上而覆蓋住濾光色塊與膜厚補(bǔ)償圖案。
本發(fā)明還提出一種半穿透半反射式液晶顯示面板，其包括主動(dòng)元件陣列基板、上述的彩色濾光片以及液晶層。其中，彩色濾光片是設(shè)置于主動(dòng)元件陣列基板上方，而液晶層則是設(shè)置于彩色濾光片與主動(dòng)元件陣列基板之間。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述濾光色塊例如是利用噴墨工藝而形成在次像素區(qū)域內(nèi)。因此，上述的彩色濾光片還可以包括擋墻，設(shè)置于遮光圖案上，而擋墻的厚度大于這些膜厚補(bǔ)償圖案的厚度。此外，擋墻與膜厚補(bǔ)償圖案的材質(zhì)可以相同，也可以不同。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述這些膜厚補(bǔ)償圖案可以是規(guī)則形體，也可以是不規(guī)則形體。舉例來說，這些膜厚補(bǔ)償圖案例如是半球體或多邊體。
本發(fā)明提出一種彩色濾光片的制造方法，此方法是先在基板上形成遮光圖案，而此遮光圖案是在基板上劃分出多個(gè)次像素區(qū)域。接著，在各次像素區(qū)域內(nèi)形成膜厚補(bǔ)償圖案，然后再于各次像素區(qū)域內(nèi)形成濾光色塊，以覆蓋住膜厚補(bǔ)償圖案。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述形成濾光色塊的方法例如是噴墨工藝。而且，在形成遮光圖案之后以及形成濾光色塊之前，還可以先在遮光圖案上形成擋墻，而形成擋墻的方法例如是光刻工藝、噴墨工藝或壓模工藝。其中，此擋墻的厚度大于膜厚補(bǔ)償圖案的厚度。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述擋墻與膜厚補(bǔ)償圖案例如是在同一道工藝中完成，而其形成方法例如是先在基板上形成層覆蓋遮光圖案的光刻膠層，接著以灰度光刻掩膜對此光刻膠層進(jìn)行曝光。其中，此灰度光刻掩膜具有遮光區(qū)、透光區(qū)以及半透光區(qū)，而半透光區(qū)位于這些次像素區(qū)域上方。然后，對此光刻膠層進(jìn)行顯影，以分別于遮光圖案及次像素區(qū)域內(nèi)的基板上形成擋墻與膜厚補(bǔ)償圖案。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中，在上述曝光過程中，灰度光刻掩膜的遮光區(qū)是對應(yīng)于基板上的遮光圖案。
本發(fā)明是在彩色濾光片的次像素區(qū)域內(nèi)形成膜厚補(bǔ)償圖案，以便后續(xù)在次像素區(qū)域內(nèi)形成雙膜厚的濾光色塊，進(jìn)而使半穿透半反射式液晶顯示面板在各次像素區(qū)域中顯示出來的圖像，均可具有均勻的亮度與色度。
為讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉較佳實(shí)施例，并配合附圖，作詳細(xì)說明如下。
圖1至圖3分別為三種公知液晶顯示單元的剖面示意圖。
圖4A至圖4D為本發(fā)明的一較佳實(shí)施例中彩色濾光片的制造流程剖面圖。
圖5A至圖5B為形成圖4B的擋墻412與膜厚補(bǔ)償圖案410的流程剖面圖。
圖6至圖8分別為本發(fā)明的較佳實(shí)施例中半反射式液晶顯示面板的局部剖面示意圖。
主要元件標(biāo)記說明
100、200液晶顯示單元110、190、400基板120薄膜晶體管130介電層140、612反射電極150、614透明電極160、620液晶層182、440共用電極184、186a、384、430濾光色塊186b透明光刻膠220、320、401彩色濾光片402遮光圖案404次像素區(qū)域406光刻膠層410膜厚補(bǔ)償圖案412擋墻420灰度光刻掩膜422透光區(qū)424半透光區(qū)426遮光區(qū)600半穿透半反射式液晶顯示器610主動(dòng)元件陣列基板h1、h2濾光色塊的膜厚T透射區(qū)R反射區(qū)具體實(shí)施方式
圖4A至圖4D為本發(fā)明的一較佳實(shí)施例中彩色濾光片的制造流程剖面圖。請先參照圖4A，首先在基板400上形成遮光圖案402，以在基板400上劃分出多個(gè)次像素區(qū)域404。其中，遮光圖案402即所謂的黑矩陣(black matrix，BM)，而其材質(zhì)例如是黑色樹脂、鉻及氧化鉻或其復(fù)合薄層。
接著，請參照圖4B，在各次像素區(qū)域404內(nèi)形成透明的膜厚補(bǔ)償圖案410。其中，膜厚補(bǔ)償圖案410例如是以光刻、噴墨或壓模的方式形成。
本實(shí)施例在后續(xù)工藝中例如是以噴墨的方式在每個(gè)次像素區(qū)域404內(nèi)形成濾光色塊，且為了避免在噴墨工藝中于各個(gè)次像素區(qū)域404內(nèi)造成混色的問題，本實(shí)施例在進(jìn)行濾光色塊的噴墨工藝前，先在遮光圖案402上形成擋墻412，如圖4B所示。其中，擋墻412與膜厚補(bǔ)償圖案410的材質(zhì)可以相同也可以不同。
特別的是，上述膜厚補(bǔ)償圖案410例如是在擋墻412的工藝中一并形成。以下將舉例說明同時(shí)形成擋墻412與膜厚補(bǔ)償圖案410的方法。
圖5A至圖5B為形成圖4B的擋墻412與膜厚補(bǔ)償圖案410的流程剖面圖。請參照圖5A，首先在已形成有遮光圖案402的基板400上形成光刻膠層406覆蓋遮光圖案402。其中，光刻膠層406的材質(zhì)為透明光刻膠。接著，請參照圖5B，以灰度光刻掩膜420對光刻膠層406進(jìn)行曝光。其中，灰度光刻掩膜420具有透光區(qū)422、半透光區(qū)424以及遮光區(qū)426，且半透光區(qū)424是位于次像素區(qū)域404的上方，而透光區(qū)422與遮光區(qū)426所對應(yīng)的位置則視光刻膠層406為正型光刻膠或負(fù)型光刻膠而定。舉例來說，若光刻膠層406為正型光刻膠，則在曝光過程中，灰度光刻掩膜420的遮光區(qū)426是位于遮光圖案402的上方，而透光區(qū)422則是位于遮光區(qū)426與半透光區(qū)424之間。
之后，對光刻膠層406進(jìn)行顯影，以移除光刻膠層406在曝光工藝中遭受光線照射的部分，而形成圖4B所示的結(jié)構(gòu)。其中，在圖5B的曝光工藝中，由于穿透灰度光刻掩膜420的半透光區(qū)424的光線強(qiáng)度小于穿透透光區(qū)422的光線強(qiáng)度，因此半透光區(qū)424所對應(yīng)到的部分光刻膠層406在顯影后，僅厚度變薄，并不會(huì)完全被移除，而這些殘留在各次像素區(qū)域404內(nèi)的光刻膠層即用以作為膜厚補(bǔ)償圖案410。另一方面，由于位于遮光圖案402上的部分光刻膠層406在曝光過程中并未受到光線照射，因此其在顯影過程中并不會(huì)被移除，在顯影后仍殘留在遮光圖案402上，用以作為擋墻412。由此可知，擋墻412的厚度會(huì)大于膜厚補(bǔ)償圖案410的厚度。
另外，在其他實(shí)施例中，也可以在一道噴墨工藝或壓模工藝中同時(shí)形成擋墻412與膜厚補(bǔ)償圖案410，上述實(shí)施例僅是用以舉例說明同時(shí)形成擋墻412與膜厚補(bǔ)償圖案410的方法，并非用以限定本發(fā)明。
而且，本發(fā)明并未將膜厚補(bǔ)償圖案410與擋墻412限定在同一工藝中完成，在其他實(shí)施例中，膜厚補(bǔ)償圖案410與擋墻412也可以是分別以不同的工藝來形成。當(dāng)然，本發(fā)明亦可以通過增加遮光圖案402的膜厚，而使遮光圖案402同時(shí)具有擋墻的功用。如此一來，即不需額外再于遮光圖案402上形成擋墻412。
除此之外，本發(fā)明亦不限定膜厚補(bǔ)償圖案410的外型輪廓或尺寸，其可以是任何規(guī)則或不規(guī)則的形體。舉例來說，膜厚補(bǔ)償圖案410例如是圖4B所示的多邊體或半球體。
請參照圖4C，在形成擋墻412與膜厚補(bǔ)償圖案410之后，接著即在各次像素區(qū)域404內(nèi)填入濾光色塊430。如前文所述，這些濾光色塊430例如是以噴墨的方式來形成。而且，在各次像素區(qū)域404內(nèi)，濾光色塊430是覆蓋住膜厚補(bǔ)償圖案410。如此一來，在每個(gè)次像素區(qū)域404內(nèi)的濾光色塊430均可具有兩種不同的膜厚h1與h2。
然后，請參照圖4D，在基板400上形成共用電極440，其中，共用電極440是覆蓋于濾光色塊430與擋墻412上。此時(shí)已大致完成彩色濾光片401的工藝，下文將以半穿透半反射式液晶顯示面板為例說明彩色濾光片401的特點(diǎn)。
圖6為本發(fā)明的一較佳實(shí)施例中半反射式液晶顯示面板的局部剖面示意圖。請參照圖6，半反射式液晶顯示面板600主要是由主動(dòng)元件陣列基板610、彩色濾光片401以及液晶層620所構(gòu)成。其中，彩色濾光片401是設(shè)置于主動(dòng)元件陣列基板610上方，而液晶層620則是設(shè)置于主動(dòng)元件陣列基板610與彩色濾光片401之間。
承上所述，彩色濾光片401的各次像素區(qū)域404均具有反射區(qū)R與穿透區(qū)T，且膜厚補(bǔ)償圖案410是設(shè)置于反射區(qū)R內(nèi)。換言之，在彩色濾光片401中，濾光色塊430在反射區(qū)R內(nèi)的膜厚h1小于其在穿透區(qū)T內(nèi)的膜厚h2。
在此，本發(fā)明并不限定每一次像素區(qū)域404的反射區(qū)R與穿透區(qū)T的相對位置。如圖6所示，反射區(qū)R可以位于次像素區(qū)域404的中央，而穿透區(qū)T則圍繞于反射區(qū)R周圍。當(dāng)然，如圖7所示，穿透區(qū)T也可以位于次像素區(qū)域404的中央，此時(shí)反射區(qū)R則是圍繞于穿透區(qū)T周圍?；蛘撸瑘D8所示，穿透區(qū)T亦可以與反射區(qū)R并排。而且，膜厚補(bǔ)償圖案410的設(shè)置位置即決定反射區(qū)R與穿透區(qū)T的相對位置。由此可知，本發(fā)明并不限定膜厚補(bǔ)償圖案410在次像素區(qū)域404內(nèi)的設(shè)置位置。
另一方面，所屬技術(shù)領(lǐng)域：
技術(shù)人員應(yīng)該知道，半穿透半反射式液晶顯示面板600的主動(dòng)元件陣列基板610在每個(gè)次像素區(qū)域內(nèi)均設(shè)置有反射電極612與透明電極614，其中反射電極612是對應(yīng)于彩色濾光片401的反射區(qū)R，透明電極614則是對應(yīng)于彩色濾光片401的穿透區(qū)T。也就是說，反射電極612上方的濾光色塊430的膜厚h1小于透明電極614上方的濾光色塊430的膜厚h2。
請繼續(xù)參照圖6，在半穿透半反射式液晶顯示器中，背光模塊(圖中未示)所提供的光線會(huì)通過穿透區(qū)T內(nèi)的濾光色塊430而轉(zhuǎn)換成所需的色光。另一方面，外界光線入射至半穿透半反射式液晶顯示面板600并通過反射電極612將其反射后，會(huì)通過反射區(qū)R內(nèi)的濾光色塊430而轉(zhuǎn)換成所需的色光。在此，雖然通過反射區(qū)R的光線會(huì)經(jīng)過兩次濾光色塊430，但由于反射區(qū)R內(nèi)的濾光色塊430膜厚h1小于穿透區(qū)T內(nèi)的濾光色塊430的膜厚h2，因此只要適當(dāng)?shù)乜刂苃1與h2的比例，即可在不影響圖像在反射區(qū)R內(nèi)的色彩飽和度的情況下，使反射區(qū)R與穿透區(qū)T內(nèi)所顯示出的圖像亮度相近。
綜上所述，本發(fā)明具有下列特點(diǎn)1.本發(fā)明是在彩色濾光片的次像素區(qū)域內(nèi)形成膜厚補(bǔ)償圖案，以便后續(xù)在次像素區(qū)域內(nèi)形成雙膜厚的濾光色塊。因此，本發(fā)明的半穿透半反射式液晶顯示面板在各次像素區(qū)域中顯示出來的圖像，均可具有均勻的亮度與色度。
2.本發(fā)明的膜厚補(bǔ)償圖案可以在制造濾光色塊的噴墨工藝中所需的擋墻時(shí)一并形成，以便于節(jié)省工藝成本。
3.本發(fā)明的彩色濾光片的工藝中，是以噴墨工藝形成具有雙膜厚的濾光色塊，因此與公知以旋轉(zhuǎn)涂布方式形成雙膜厚濾光色塊的工藝相比之下，本發(fā)明具有工藝成本低、原料利用率高以及生產(chǎn)速率佳的優(yōu)點(diǎn)。
雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例披露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何所屬技術(shù)領(lǐng)域：
的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作些許的更動(dòng)與改進(jìn)，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)視權(quán)利要求
所界定者為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種彩色濾光片，其特征是包括基板；遮光圖案，設(shè)置于該基板上，且該遮光圖案在該基板上劃分出多個(gè)次像素區(qū)域，而各該次像素區(qū)域具有穿透區(qū)與反射區(qū)；多個(gè)膜厚補(bǔ)償圖案，分別位于各該次像素區(qū)域的該反射區(qū)內(nèi)；多個(gè)濾光色塊，分別位于各該次像素區(qū)域內(nèi)而覆蓋該膜厚補(bǔ)償圖案；以及透明共用電極，設(shè)置于該基板上而覆蓋該遮光圖案與上述這些濾光色塊。
2.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的彩色濾光片，其特征是上述這些濾光色塊的形成方法包括噴墨工藝。
3.根據(jù)權(quán)利要求
2所述的彩色濾光片，其特征是還包括擋墻，設(shè)置于該遮光圖案上，其中該擋墻的膜厚大于該膜厚補(bǔ)償圖案的膜厚。
4.根據(jù)權(quán)利要求
3所述的彩色濾光片，其特征是該擋墻與上述這些膜厚補(bǔ)償圖案的材質(zhì)相同。
5.根據(jù)權(quán)利要求
3所述的彩色濾光片，其特征是該擋墻與上述這些膜厚補(bǔ)償圖案的材質(zhì)不同。
6.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的彩色濾光片，其特征是上述這些膜厚補(bǔ)償圖案為規(guī)則形體或不規(guī)則形體。
7.根據(jù)權(quán)利要求
6所述的彩色濾光片，其特征是上述這些膜厚補(bǔ)償圖案為半球體或多邊體。
8.一種彩色濾光片的制造方法，其特征是包括于基板上形成遮光圖案，其中該遮光圖案在該基板上劃分出多個(gè)次像素區(qū)域；于各該次像素區(qū)域內(nèi)形成膜厚補(bǔ)償圖案；于各該次像素區(qū)域內(nèi)形成濾光色塊，且上述這些濾光色塊分別覆蓋上述這些膜厚補(bǔ)償圖案；以及于該基板上形成共用電極，而覆蓋上述這些濾光色塊。
9.根據(jù)權(quán)利要求
8所述的彩色濾光片的制造方法，其特征是形成上述這些濾光色塊的方法包括噴墨工藝。
10.根據(jù)權(quán)利要求
9所述的彩色濾光片的制造方法，其特征是在形成上述這些濾光色塊之前以及形成該遮光圖案之后，還包括在該遮光圖案上形成擋墻，且該擋墻的厚度大于該膜厚補(bǔ)償圖案的厚度。
11.根據(jù)權(quán)利要求
10所述的彩色濾光片的制造方法，其特征是形成該擋墻的方法包括光刻工藝、噴墨工藝或壓模工藝。
12.根據(jù)權(quán)利要求
10所述的彩色濾光片的制造方法，其特征是該擋墻與上述這些膜厚補(bǔ)償圖案以同一工藝制造而成。
13.根據(jù)權(quán)利要求
12所述的彩色濾光片的制造方法，其特征是形成該擋墻與上述這些膜厚補(bǔ)償圖案的方法包括于該基板上形成光刻膠層，且該光刻膠層覆蓋于該遮光圖案上；以灰度光刻掩膜對該光刻膠層進(jìn)行曝光，其中該灰度光刻掩膜具有透光區(qū)、半透光區(qū)以及遮光區(qū)，且該半透光區(qū)位于上述這些次像素區(qū)域上方；以及對該光刻膠層進(jìn)行顯影，以分別于該遮光圖案及上述這些次像素區(qū)域內(nèi)的基板上形成該擋墻與上述這些膜厚補(bǔ)償圖案。
14.根據(jù)權(quán)利要求
8所述的彩色濾光片的制造方法，其特征是形成上述這些膜厚補(bǔ)償圖案的方法包括光刻工藝、噴墨工藝或壓模工藝。
15.一種半穿透半反射式液晶顯示面板，其特征是包括主動(dòng)元件陣列基板；彩色濾光片，設(shè)置于該主動(dòng)元件陣列基板上方，且該彩色濾光片包括基板；遮光圖案，設(shè)置于該基板上，且該遮光圖案在該基板上劃分出多個(gè)次像素區(qū)域，而各該次像素區(qū)域具有穿透區(qū)與反射區(qū)；多個(gè)膜厚補(bǔ)償圖案，分別位于各該次像素區(qū)域的該反射區(qū)內(nèi)；多個(gè)濾光色塊，分別位于各該次像素區(qū)域內(nèi)而覆蓋該膜厚補(bǔ)償圖案；透明共用電極，設(shè)置于該基板上而覆蓋該遮光圖案與上述這些濾光色塊；以及液晶層，設(shè)置于該主動(dòng)元件陣列基板與該彩色濾光片之間。
16.根據(jù)權(quán)利要求
15所述的半穿透半反射式液晶顯示面板，其特征是該彩色濾光片還包括擋墻，設(shè)置于該遮光圖案上，其中該擋墻的膜厚大于該膜厚補(bǔ)償圖案的膜厚。
17.根據(jù)權(quán)利要求
16所述的半穿透半反射式液晶顯示面板，其特征是該擋墻與上述這些膜厚補(bǔ)償圖案的材質(zhì)相同。
18.根據(jù)權(quán)利要求
15所述的半穿透半反射式液晶顯示面板，其特征是上述這些膜厚補(bǔ)償圖案為規(guī)則形體或不規(guī)則形體。
19.根據(jù)權(quán)利要求
18所述的半穿透半反射式液晶顯示面板，其特征是上述這些膜厚補(bǔ)償圖案為半球體或多邊體。
專利摘要
一種半穿透半反射式液晶顯示面板、彩色濾光片及其制造方法。此彩色濾光片包括基板、遮光圖案、多個(gè)膜厚補(bǔ)償圖案、多個(gè)濾光色塊及共用電極。遮光圖案設(shè)置于基板上，并在基板上劃分出多個(gè)次像素區(qū)域，而每個(gè)次像素區(qū)域均具有反射區(qū)與穿透區(qū)，膜厚補(bǔ)償圖案設(shè)置于反射區(qū)內(nèi)，濾光色塊則設(shè)置于次像素區(qū)域內(nèi)而覆蓋住膜厚補(bǔ)償圖案。因此，濾光色塊在反射區(qū)與穿透區(qū)內(nèi)的膜厚并不相同。此彩色濾光片能夠提高半穿透半反射式液晶顯示面板在各次像素區(qū)域中所顯示的圖像的亮度均勻性與色度均勻性。
文檔編號G02B5/22GK1991497SQ200510132779
公開日2007年7月4日 申請日期2005年12月26日
發(fā)明者陳中豪, 沙益安, 廖奇璋 申請人:財(cái)團(tuán)法人工業(yè)技術(shù)研究院導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan