專(zhuān)利名稱(chēng)：在底物上形成帶圖案的聚酰亞胺涂膜的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種方法，其中保護(hù)膜、絕緣膜、夾層絕緣層、鈍化膜、記錄元件、壓制材料等都是通過(guò)采用可光交聯(lián)的聚合物組合物來(lái)生產(chǎn)的，該組合物是由成象領(lǐng)域(例如，半導(dǎo)體制造業(yè)、微電子業(yè)、照相壓制、全息照相、激光記錄等)中的一種含光敏基團(tuán)的化合物對(duì)聚酰亞胺前體改性而獲得的。
在下面的段落中，敘述了一種方法，其中通過(guò)在底物表面涂敷上述可光交聯(lián)的聚合物組合物而獲得的涂膜以成像方式曝光，而把其中未曝光的部分除去以實(shí)現(xiàn)在底物上產(chǎn)生某種圖案的目的。
近幾年中，具有雜環(huán)基團(tuán)作為分子組成單元的樹(shù)脂(例如，聚酰亞胺樹(shù)脂，等)，顯示出高耐熱性和良好電性能及機(jī)械性能的樹(shù)脂，已經(jīng)被用作半導(dǎo)體制造業(yè)和微電子業(yè)中的集成元件的絕緣膜、鈍化膜、或高密度裝配底座夾層絕緣膜。
在通過(guò)采用上述樹(shù)脂來(lái)形成絕緣膜的情況下，需要在構(gòu)成上述絕緣膜下面一層的金屬或?qū)щ姴牧吓c另一個(gè)電子元件或設(shè)備之間形成回路。在通過(guò)也采用上述樹(shù)脂來(lái)形成夾層絕緣膜的情況下，常常需要在上下層之間建立導(dǎo)電途徑以獲得導(dǎo)電性。在這種情況下，樹(shù)脂膜上就形成了一個(gè)鉆孔，上下層由通過(guò)所述鉆孔的導(dǎo)電材料相連接。這種絕緣膜或夾層絕緣膜是通過(guò)采用具有良好加工性能的光敏聚酰亞胺前體組合物而形成的，并且該絕緣膜或夾層絕緣膜以所需方式通過(guò)圖案形成方法來(lái)獲得圖案。
下面的方法可以用上述圖案形成方法來(lái)實(shí)現(xiàn)，該方法采用了上述光敏聚酰亞胺前體組合物(1)涂敷把聚酰亞胺前體組合物清漆涂敷在底物上;(2)烘干使上述組合物清漆中的溶劑蒸發(fā)掉以形成涂膜;(3)曝光曝光是通過(guò)采用紫外線(xiàn)曝光設(shè)備和某些光掩模來(lái)完成的;(4)顯影采用顯影液溶解并除去未曝光的部分，然后用沖洗液完成清洗，就得到了一種圖案;(5)固化把樹(shù)脂加熱并轉(zhuǎn)變成聚酰亞胺樹(shù)脂。
通過(guò)采用光敏聚酰亞胺前體組合物而得到的光學(xué)記錄材料(例如，壓制材料，等)由于它們的良好機(jī)械強(qiáng)度等而在照相壓制和成像領(lǐng)域已吸引了相當(dāng)多的注意。
當(dāng)由上述光敏聚酰亞胺前體組合物組成的涂膜以成像方式曝光，并且當(dāng)采用顯影液把未曝光的部分溶解并除去時(shí)，可以采用由N-甲基-2-吡咯烷酮、甲醇和水組成的混合溶液作為上述顯影液。
當(dāng)通過(guò)上述方法試圖產(chǎn)生一種帶圖案的聚酰亞胺膜時(shí)，需要非常長(zhǎng)的顯影時(shí)間以實(shí)現(xiàn)高溶解度并防止殘余的未曝光部分的存在，這種殘余物是在考慮生產(chǎn)能力的工藝控制時(shí)不希望有的。
為了消除這些缺點(diǎn)，人們?cè)噲D通過(guò)縮短上述組合物清漆的烘干時(shí)間或降低烘干溫度來(lái)縮短顯影時(shí)間。在這種情況下，顯影時(shí)間縮短了，但溶解度降低了，結(jié)果導(dǎo)致要完全除去未曝光的部分是不可能的。此外，膜的底部被削去(即底切)。要實(shí)現(xiàn)一種不帶有這些問(wèn)題的顯影方法已變得非常迫切。
為解決常規(guī)方法中的上述問(wèn)題，本發(fā)明人搜集了詳盡的研究資料，結(jié)果在研究出一種具有下列特性的顯影液之后完成了本發(fā)明在通過(guò)把光敏聚酰亞胺前體組合物涂敷到底物上而得到的涂膜以成像方式曝光并隨后顯影的情況下，就能夠以高溶解度在縮短的顯影時(shí)間內(nèi)形成一種不帶有殘余的未曝光部分的圖案。
簡(jiǎn)要地講，本發(fā)明涉及一種在底物上形成具有下列特性的帶圖案的聚酰亞胺涂膜的方法在該方法中，把通過(guò)采用含光敏基團(tuán)的化合物對(duì)來(lái)自芳香族四羧酸或相應(yīng)的一元或二元酸酐和芳香族二胺的聚酰亞胺前體進(jìn)行改性而獲得的可光交聯(lián)的聚合物組合物以這樣一種方式涂敷在底物表面從而將形成一層涂膜，其中所得涂膜以成像方式曝光，用顯影液把未曝光的部分增溶溶解并除去，然后把曝光部分中剩余下來(lái)的涂膜加熱并轉(zhuǎn)變成聚酰亞胺樹(shù)脂，采用包含至少1%(重量)且不超過(guò)30%(重量)的二甲亞砜混合溶劑(溶液)作為上述顯影液。
如果在本發(fā)明中采用上述顯影液，則顯影時(shí)間被縮短了，并在縮短的顯影時(shí)間內(nèi)可以以高溶解度獲得不帶有殘余的未曝光部分的帶圖案的聚酰亞胺涂膜。
本發(fā)明中采用的可光交聯(lián)的聚合物組合物是通過(guò)用含光敏基團(tuán)的化合物對(duì)聚酰亞胺前體(即聚酰胺酸)改性而獲得的，聚酰亞胺前體來(lái)自芳香族四羧酸或相應(yīng)的一元或二元酸酐和芳香族二胺，該前體用下面的通式Ⅰ表示(化學(xué)藥品1)
(其中Ar是(化學(xué)藥品2))
Ar′是(化學(xué)藥品3)
n是關(guān)于聚酰胺酸的重復(fù)單元數(shù)，為1、2或更大)。
用于制造上述聚酰胺酸的芳香族四羧酸二酐的具體實(shí)例包括1，2，4，5-苯四酸二酐(PMDA)，3，4，3′，4′-二苯(甲)酮四羧酸二酐(BTDA)，1，4，5，5-萘-四羧酸二酐，2，3，6，7-萘-四羧酸二酐，1，2，5，6-萘-四羧酸二酐，3，3′，4，4′-二苯基-四羧酸二酐，2，2′，3，3′-二苯基-四羧酸二酐，2，3，3′，4′-二苯基-四羧酸二酐，2，2-雙(3′，4′-二羧苯基)丙烷二酐，2，2-雙(4-(3，4-二羧苯氧基)苯基)丙烷二酐，2，2-雙(4-(2，3-二羧苯氧基)苯基)丙烷二酐，雙(3，4-二羧苯基)砜二酐，雙(3，4-二羧苯基)醚二酐，雙(3，4-二羧苯基)甲烷二酐和-3，4，9，10-四羧酸二酐，二苯基硫醚-四羧酸二酐，二苯基砜四羧酸二酐，以及它們的混合物。
是用于制造上述聚酰胺酸的另一種成分的芳香族二胺的具體實(shí)例包括間-或?qū)?苯二胺，4，4′-或3，3′-二氨基聯(lián)苯，4，4′-或3，3′-二氨基聯(lián)苯醚，4，4′-或3，3′-二氨基聯(lián)苯甲烷，4，4′-或3，3′-二氨基聯(lián)苯砜，4，4′-或3，3′-硫雙苯胺，雙(4-氨基苯基)雙(三氟甲基)甲烷，4，4′-二氨基二苯(甲)酮，1，5-二氨基萘，雙(4-氨基苯基)二甲基硅烷，雙(4-氨基苯基)二乙基硅烷，雙(4-氨基苯基)二苯基硅烷，雙(4-氨基苯氧基)二甲基硅烷，雙(4-氨基苯基)乙膦氧化物，N-(雙(4-氨基苯基))-N-甲胺，N-(雙(4-氨基苯基))-N-苯胺，4，4′-亞甲基雙(鄰-氯苯胺)，4，4′-亞甲基雙(3-甲基苯胺)，4，4′-亞甲基雙(2-乙基苯胺)[原文如此]，4，4′-亞甲基雙(2-甲氧基苯胺)，5，5′-亞甲基雙(2-氨基苯酚)，4，4′-亞甲基雙(2-甲基苯胺)，4，4′-氧代雙(2-甲氧基苯胺)，4，4′-氧代雙(2-氯苯胺)，5，5′-氧代雙(2-氨基苯酚)，4，4′-硫代雙(2-甲基苯胺)，4，4′-硫代雙(2-甲氧基苯胺)，4，4′-硫代雙(2-氯苯胺)，4，4′-磺?；p(2-甲基苯胺)，4，4′-磺酰基雙(2-乙氧基苯胺)，4，4′-磺酰基雙(2-氯苯胺)，5，5′-磺酰基雙(2-氨基苯酚)，3，3′-二甲基-4，4′-二氨基二苯(甲)酮，3，3′-二甲氧基-4，4′-二氨基二苯(甲)酮，3，3′-二氯-4，4′-二氨基二苯(甲)酮，4，4′-氧代二苯胺，4，4′-異亞丙基二苯胺，3，3′-dichlorobentidine，3，3′-dimethylbentidine，3，3′-dimethoxybentidine，3，3′-dicarboxybentidine，二氨基甲苯，4，4′-亞甲基雙(3-羧基苯胺)，和相應(yīng)的各種酯，5-氨基-1-(4-氨基苯基)-1，3，3-三甲基1，2-二氫化茚和6-氨基-1-(4′-氨基苯酚)-1，3，3-三甲基1，2-二氫化茚[原文如此]，以及它們的混合物。
這種聚酰亞胺前體是采用含光敏基團(tuán)的化合物，通過(guò)把聚酰亞胺前體與上述含光敏基團(tuán)的化合物相混合，或通過(guò)把光敏基團(tuán)引入聚酰亞胺前體的側(cè)鏈來(lái)改性的。
與聚酰亞胺前體相混合的含光敏基團(tuán)的化合物的具體實(shí)例包括已知的作為光敏單體的化合物例如(甲基)丙烯酸酯(例如，三羥甲基丙烷三丙烯酸酯，三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯，聚二丙烯酸乙二醇酯，聚二甲基丙烯酸乙二醇酯，N，N-二甲基氨基乙基甲基丙烯酸酯，等)，巰基化合物(例如，巰基乙酸，等)，馬來(lái)酰亞胺(例如，苯磺酰馬來(lái)酰亞胺，等)，異氰酸酯(例如，甲基丙烯酸乙酯異氰酸酯，等)，等。與聚酰亞胺前體相混合的光敏單體的量為0.01-100%(重量)。
引入聚酰亞胺前體側(cè)鏈的光敏基團(tuán)的代表性實(shí)例是帶有碳-碳雙鍵的基團(tuán)，例如乙烯基，烯丙基，丙烯?；谆；?，肉桂基，馬來(lái)酰亞胺基，等，盡管這些實(shí)例不能構(gòu)成一個(gè)詳盡的表。這些光敏基團(tuán)可以通過(guò)化學(xué)鍵(例如，酯鍵，酰胺鍵，尿烷鍵，尿素鍵，等)被引入聚酰亞胺前體的側(cè)鏈，或者它們可以被直接引入芳核以使聚酰亞胺前體光敏化。
可以用于把光敏基團(tuán)引入聚酰亞胺前體側(cè)鏈的化合物的具體實(shí)例包括肉桂酸，肉桂的氯化物，α-氰基肉桂氯化物，亞肉桂基乙酰氯，α-氰基亞肉桂基乙酰氯，呋喃基丙烯酸脂環(huán)族的，肉桂酸縮水甘油酯，甲基丙烯酸乙酯異氰酸酯，等。
為了改善光敏性，可以把敏化劑加入到上述可光交聯(lián)的聚合物組合物中，該組合物是通過(guò)用含光敏基團(tuán)的化合物對(duì)聚酰亞胺前體改性而得到的。這種敏化劑的具體實(shí)例包括二苯酮(例如，二苯甲酮，4，4′-雙(二甲氨基)二苯酮，等)，苯偶姻醚，蒽醌，或噻噸酮衍生物，雙疊氮化物(例如，2，6-雙(4′-二乙氨基芐基)環(huán)己酮，等)，巰基化合物(例如，1-苯基-5-巰基四唑，等)，肟(例如，1-苯基-1，2-丙二酮-2-(σ-乙氧基羰基)肟，等)，咪唑(例如，2，4，5-三苯基咪唑二聚物，等)，等。
按照上述前體制備的可光交聯(lián)的聚合物組合物最好以這樣一種方式溶解在溶劑中，使得在把它涂敷到底物上之前在稀釋狀態(tài)下將使粘度降低?？蛇m用的溶劑的具體實(shí)例包括N，N′-二甲基甲酰胺，N，N′-二甲基乙酰胺，叔-丁內(nèi)酯，N-甲基吡咯烷酮，等。但這些實(shí)例并不構(gòu)成一個(gè)詳盡的表。
接著，把已經(jīng)被溶劑稀釋了的可光交聯(lián)的聚合物組合物涂敷到底物上。底物涂敷方法的具體實(shí)例包括旋涂法，輥涂器法，等。底物的代表性實(shí)例包括硅片，鎵，砷片，玻璃，陶瓷，銅板，和通過(guò)在上述底物上形成元件獲得的底物。
接著，使涂敷在底物上的可光交聯(lián)的聚合物組合物組成的涂膜經(jīng)歷一個(gè)干燥過(guò)程。在本發(fā)明的干燥過(guò)程中，通常用圓形烘箱，熱板，紅外加熱爐等來(lái)實(shí)現(xiàn)烘干目的，盡管它們不構(gòu)成一個(gè)詳盡的表。所希望的烘干溫度為50-120℃。最佳干燥時(shí)間取決于膜的厚度，但范圍是3分鐘-15小時(shí)。所希望的干燥涂膜厚度為0.1-200微米，盡管它也可能偏離這個(gè)范圍。
然后，在底物上經(jīng)過(guò)這樣涂敷和干燥的可光交聯(lián)的聚合物組合物的涂膜經(jīng)歷一個(gè)以成像方式曝光的過(guò)程。曝光方法的一個(gè)實(shí)例是一種通過(guò)采用在感光性樹(shù)脂加工中常用的紫外線(xiàn)曝光機(jī)，使紫外線(xiàn)由一個(gè)光掩模中照射出來(lái)的方法。
最佳曝光時(shí)間取決于可光交聯(lián)的聚合物及添加劑的類(lèi)型和用量，還有曝光機(jī)的光強(qiáng)度。但一般來(lái)說(shuō)，最佳持續(xù)時(shí)間范圍是1秒-1小時(shí)。
在曝光之后還可以進(jìn)行一次熱處理。在這種情況下，希望熱處理的溫度為40-150℃并且它的持續(xù)時(shí)間為1秒-1小時(shí)。在烘干法的情況下，可以采用圓形烘箱，熱板，紅外加熱爐，等。
接著，已經(jīng)以成像方式被曝光的涂膜經(jīng)歷一個(gè)顯影過(guò)程。已被固化的和不溶于溶劑的部分作為以成像方式曝光的結(jié)果留在底物上，而未曝光的和溶解于溶劑的部分在顯影過(guò)程中通過(guò)用溶劑而被溶解和除去。就本發(fā)明而言，采用了向?qū)τ谏鲜鼍酆衔镉懈呷芙舛鹊娜軇┲屑尤攵讈嗧慷玫降娜芤夯蛞环N由上述高溶解度溶劑和低溶解度溶劑組成的混合溶劑作為上述顯影用的溶劑(即顯影液)。隨著二甲亞砜的加入，其結(jié)果是聚酰亞胺前體的顯影速率增加，并且實(shí)際上不帶有殘余的未曝光部分的穩(wěn)定圖案形成過(guò)程就可以完成了。
高溶解度溶劑的具體實(shí)例包括N，N′-二甲基甲酰胺，N，N′-二甲基乙酰胺，環(huán)戊酮，環(huán)己酮，N-甲基吡咯烷酮，叔-丁內(nèi)酯，六甲基磷三酰胺，乙腈，四氫呋喃，等。其他能夠溶解上述聚合物的溶劑也可以使用。這些溶劑可以單獨(dú)使用或以?xún)煞N或多種類(lèi)型組成的混合物使用。
低溶解度溶劑的具體實(shí)例包括甲醇，乙醇，異丙醇，水，甲苯，氯仿，乙苯，異丙苯，丙酮，甲基·乙基酮，甲基溶纖劑，乙基溶纖劑，異丙基溶纖劑，正丙醇，異丁醇，等。但這些實(shí)例不構(gòu)成一個(gè)詳盡的表。這些溶劑可以單獨(dú)使用或以?xún)煞N或多種類(lèi)型組成的混合物使用。
本發(fā)明中通過(guò)采用上述顯影液而加快了顯影速率。結(jié)果，能夠穩(wěn)定地形成一種具有高溶解度的帶圖案的聚酰亞胺樹(shù)脂涂膜。
所用二甲基亞砜的量在1-30%(重量)范圍內(nèi)選擇。最佳用量是根據(jù)聚合物類(lèi)型、添加劑類(lèi)型、和高溶解度溶劑/低溶解度溶劑的混合比來(lái)選擇的。如果二甲基亞砜的用量超過(guò)了上述范圍，則顯影速率可被加快，但在曝光部分中的聚酰亞胺前體也被溶解了。結(jié)果，殘留膜比例下降，并且使圖案的形成變得不可能，或者可能觀(guān)察到與過(guò)程有關(guān)的問(wèn)題(例如，曝光部分的破裂，等)。
顯影方法的具體實(shí)例包括噴霧顯影法，浸漬顯影法，超聲波顯影法，劃槽顯影法，等。
此后，為了除去顯影液和被溶解的聚酰亞胺前體，立刻用沖洗液清洗顯影了的且?guī)D案的聚酰亞胺前體涂膜。
沖洗液的具體實(shí)例包括丙酮，甲基·乙基酮，甲基溶纖劑，乙基溶纖劑，甲醇，乙醇，正丙醇，異丙醇，甲苯，二甲苯，乙苯，水，1-甲氧基-2-丙醇，等。但這些實(shí)例不構(gòu)成一個(gè)詳盡的表。它們可以單獨(dú)使用或以?xún)煞N或多種類(lèi)型的混合物使用。
所得帶圖案的聚酰亞胺前體涂膜在200-550℃的終點(diǎn)溫度下被加熱固化5分鐘-5小時(shí)，結(jié)果，它被轉(zhuǎn)變成聚酰亞胺樹(shù)脂膜。希望的熱固化法包括利用圓形烘箱、熱板、紅外加熱爐等的方法。只要能夠?qū)崿F(xiàn)目標(biāo)的熱固化效果，也可以采用其他裝置。
如果可光交聯(lián)的聚合物組合物是用本發(fā)明的方法來(lái)形成圖案，則常規(guī)方法的缺點(diǎn)(例如，低溶解度，殘余的未曝光部分，長(zhǎng)顯影時(shí)間，等)可被大大減少，且高溶解度的帶圖案的聚酰亞胺涂膜可被穩(wěn)定地得到。
在以下段落中，本發(fā)明的效果將參照實(shí)施例作更為詳細(xì)的解釋。但應(yīng)該注意的是，本發(fā)明的范圍決不只限于這些實(shí)施例。
實(shí)施例聚酰亞胺前體的制備例當(dāng)3，3′，4，4′-二苯基四羧酸酐和對(duì)-苯二胺與N-甲基-2-吡咯烷酮以13.9%的重量比相混合后，把內(nèi)容物進(jìn)行攪拌，結(jié)果得到了36.00克的聚酰胺酸。
把所得物質(zhì)與0.008克1，4，4-三甲基-2，3-二氮雙雜環(huán)(3，2，2)非-2-烯-2，3-二氧化物，0.1克2-巰基苯并唑，0.3克雙(2-鄰-氯苯基-4，5-二苯基)咪唑，和0.151克4，4′-(二乙氨基)二苯(甲)酮相混合后，把內(nèi)容物攪拌5小時(shí)。隨后在把所得物質(zhì)與3.926克N，N-二甲氨基乙基甲基丙烯酸酯相混合后，把內(nèi)容物攪拌8小時(shí)。把所得產(chǎn)物過(guò)濾后，就得到了呈均勻溶液的樹(shù)脂清漆1。
實(shí)施例1當(dāng)采用旋涂器把樹(shù)脂清漆1涂在硅片上后，分別在90℃和110℃下在熱板上烘干3分鐘，結(jié)果，得到了厚度為20微米的膜。當(dāng)上面印有3-20微米線(xiàn)條和空格圖案的光掩模被接觸地附著到上述膜上后，通過(guò)采用曝光機(jī)PLA-501F(由Canon公司制造)在40秒內(nèi)(累積時(shí)間)進(jìn)行曝光。還制備了非曝光片并且用于計(jì)算顯影時(shí)間。換句話(huà)說(shuō)，將涂在上述片上的聚酰亞胺前體被完全除去之前經(jīng)過(guò)的顯影時(shí)間記錄下來(lái)，而顯影在相當(dāng)于與1.5倍上述時(shí)間的周期內(nèi)進(jìn)行。
接著，通過(guò)采用N-甲基吡咯烷酮/甲醇/水/二甲亞砜等于43.4/23.1/3.5/30(重量比)的顯影液進(jìn)行劃槽顯影，然后，用異丙醇作為沖洗液在16秒內(nèi)進(jìn)行噴洗。顯影時(shí)間為548秒。與實(shí)施例4(見(jiàn)下)相比顯影速度大大改善了。所得圖案的溶解度(即最窄的線(xiàn)條寬度)為10微米。所得圖案輪廓清晰，并且看不到底切、溶脹等諸如此類(lèi)的現(xiàn)象。
對(duì)比例1當(dāng)按照與實(shí)施例1相同的步驟形成涂膜后，曝光40秒，接著，用N-甲基喲咯烷酮/甲醇/水/二甲亞砜等于24.8/13.2/2/60(重量比)的顯影液進(jìn)行劃槽顯影。顯影時(shí)間短到180秒，但顯影的圖案破裂了，且殘留膜的比例為30%，這在過(guò)程控制的考慮中是成問(wèn)題的。
實(shí)施例2-5試驗(yàn)是在不同條件下(例如，顯影液組成，等)進(jìn)行的。所用設(shè)備與實(shí)施例1中的相同。
上述實(shí)施例和對(duì)比例的條件和結(jié)果總結(jié)在表Ⅰ中。
表Ⅰ膜厚曝光時(shí)間顯影方法N-甲基吡咯烷酮/甲醇/(微米)(秒)水/二甲亞砜(重量比)實(shí)施例12040劃槽43.4/23.1/3.5/3022040"49.6/26.4/4/2032040"55.8/29.7/4.5/1041040"43.4/23.1/3.5/3051040"55.8/29.7/4.5/10對(duì)比例12040"24.8/13.2/2/6022040"62/33/5/031040"62/33/5/0
顯影時(shí)間溶解度有或無(wú)烘干條件(微米)破裂實(shí)施例154810無(wú)90℃3分鐘/110℃3分鐘267210無(wú)"379510無(wú)"4967無(wú)60℃3分鐘/90℃3分鐘52167無(wú)"對(duì)比例1180"有90℃3分鐘/110℃3分鐘299415無(wú)"327010無(wú)60℃3分鐘/90℃3分鐘
權(quán)利要求
1.在底物上形成帶圖案的聚酰亞胺涂膜的方法，包括下列步驟(1)把通過(guò)采用含光敏基團(tuán)的化合物對(duì)來(lái)自芳香族四羧酸或相應(yīng)的一元或二元酸酐和芳香族二胺的聚酰亞胺前體進(jìn)行改性而獲得的可光交聯(lián)的聚合物組合物以這樣一種方式涂敷在底物表面從而將形成一層涂膜，(2)涂膜以成像方式曝光，(3)采用顯影液除去未曝光的部分，并且(4)加熱曝光部分中留下的涂膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的顯影液，其中溶液包含至少1%(重量)且不超過(guò)30%(重量)的二甲亞砜。
全文摘要
一種方法，其中把通過(guò)采用含光敏基團(tuán)的化合物對(duì)聚酰亞胺前體進(jìn)行改性而獲得的可光交聯(lián)的聚合物組合物以這樣一種方式涂敷在底物表面從而將形成一層涂膜，所得涂膜以成像方式曝光，用顯影液溶解并除去未曝光的部分，然后把曝光部分中留下的涂膜加熱并轉(zhuǎn)變成聚酰亞胺樹(shù)脂，在顯影過(guò)程中采用包含1—30％(重量)二甲亞砜的顯影液。
文檔編號(hào)G03F7/038GK1082725SQ93109059
公開(kāi)日1994年2月23日 申請(qǐng)日期1993年6月19日 優(yōu)先權(quán)日1992年6月19日
發(fā)明者山本泰久 申請(qǐng)人:E.I.內(nèi)穆?tīng)柖虐罟?br>