專利名稱：光刻膠的涂覆裝置和涂覆方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及光刻中的光刻膠的涂覆裝置和涂覆方法。
以前，作為半導(dǎo)體器件的裝配技術(shù)，TAB(Tape AutomatedBonding，載帶自動鍵合)技術(shù)已經(jīng)實用化。在該技術(shù)中具有可以把半導(dǎo)體器件裝配在柔軟電路基板上，適合于大量生產(chǎn)，可以小型化，可以形成精密的圖形等許多特征。
其中，柔軟電路基板要經(jīng)過許多工序進行制造。就是說，要經(jīng)過在以樹脂為主要材料的薄膜載帶上形成銅等的金屬導(dǎo)體層的工序、涂覆光刻膠的工序、使電路圖形曝光的工序、對電路圖形顯影的工序、進行刻蝕使得電路圖形留下來的工序、除去光刻膠的工序、以及電鍍工序等來制造柔軟基板。
在這些工序之內(nèi)，在涂覆光刻膠的工序中，使用了圖2所示的裝置。
在該裝置中，采用了滾涂方式。就是說，把光刻膠1通過泵3從容器2送往接受皿4。接受皿4的上邊設(shè)有輥子5，使該輥子5轉(zhuǎn)動，卷揚上已存放在接受皿4中的光刻膠1。此外，光刻膠1用滑動輥子6定量化并通過其上的復(fù)印輥子7涂到薄膜載帶8的金屬體層9的表面上。
在該裝置中，泵3進行壓縮動作時卷進來的空氣，在管道13中變成為氣泡12，與光刻膠1一起被送往接受皿4。接著，已卷進了氣泡的光刻膠1被輥子5卷揚起來，并通過滑動輥子6和復(fù)印輥子7，原樣不變地涂到薄膜載帶8的金屬體層9上。
這樣一來，被涂覆的光刻膠1在卷進了氣泡12的部位處常常會變薄，或者會形成針孔。
在這里，如圖3A所示，如果已經(jīng)正確地涂上了光刻膠1，則用其后的工序，如圖3B所示，未被刻蝕而留下來的金屬導(dǎo)體層9應(yīng)變成為電路圖形。但是，如圖4A所示，當(dāng)光刻膠1中混進了氣泡12時，金屬導(dǎo)體層9的應(yīng)不被刻蝕的區(qū)域也遭受刻蝕。結(jié)果是如圖4B所示，將產(chǎn)生圖形缺口16或者圖形斷線17。
或者，如圖4A所示，有時候容器2內(nèi)的光刻膠1中混進了粉塵或樹脂塊等的異物15，即便是經(jīng)過其后的工序，如圖4B所示，異物15也將會保持附著于金屬導(dǎo)體層9上的狀態(tài)不變。
本發(fā)明就是著眼于上述問題而發(fā)明的，其目的是在光刻中涂光刻膠時，提供可以提高圖形精度的光刻膠涂覆裝置和涂覆方法。
(1)本發(fā)明的光刻膠的涂覆裝置具有光刻膠的貯存容器；用于形成上述光刻膠膜的涂覆臺；從上述貯存容器向上述涂覆臺導(dǎo)入上述光刻膠的管道；比上述涂覆臺還處于上游，改善上述光刻膠的質(zhì)量的質(zhì)量改善臺。
倘采用本發(fā)明，則即使在光刻膠中有氣泡，或已混進了異物，在到達(dá)涂覆臺之前，光刻膠的質(zhì)量被改善。這樣一來，由于將向涂覆臺上供給其質(zhì)量已被改善了的光刻膠，所以就可以進行良好的涂覆，會提高光刻中的圖形精度。
(2)上述質(zhì)量改善臺，具有留下一部分空間流入上述光刻膠的密閉槽和使該密閉槽內(nèi)的上述空間減壓的真空泵，上述光刻膠，也可以在借助于上述空間的減壓抽出了氣泡之后，送往上述涂覆臺。
倘采用本發(fā)明，采用抽出氣泡的辦法，可以改善光刻膠的質(zhì)量。
(3)本發(fā)明也可以在比上述密閉槽還往上游處，具有從上述貯存容器向上述密閉槽中送入上述光刻膠的泵。
倘采用這種構(gòu)成，則由于在用泵送入光刻膠的時候，易于在該光刻膠中產(chǎn)生氣泡，故用上述的密閉槽和真空泵抽出氣泡是有效的。
(4)上述質(zhì)量改善臺，還可以含有過濾上述光刻膠的過濾器。這樣的話，采用進行過濾的辦法，就可以除去混入光刻膠中的異物，改善該光刻膠的質(zhì)量。
(5)上述涂覆臺也可以具有滾涂機構(gòu)。采用具有滾涂機構(gòu)的辦法，可以進行由滾涂法進行的膜的形成。
(6)本發(fā)明的光刻膠的涂覆方法，是在從貯存容器到用于形成膜的涂覆臺為止的位置之間，改善上述光刻膠的質(zhì)量的方法。
倘采用本發(fā)明，則即使或者光刻膠中有了氣泡，或者是已混入了異物，在到達(dá)涂覆臺之前，光刻膠的質(zhì)量將得到改善。這樣一來，由于把質(zhì)量已改善的光刻膠供給涂覆臺，故可以得到良好的涂覆，將會提高光刻中的圖形精度。
(7)在本發(fā)明中，還可以留下一部分空間把上述光刻膠供給到密閉槽中，并在上述密閉槽內(nèi)對上述空間進行減壓，抽出混入上述光刻膠中的氣泡，改善上述光刻膠的質(zhì)量。
倘采用這種構(gòu)成，則可以把無氣泡的光刻膠供給涂覆臺。
(8)在本發(fā)明中，還可以在比上述密閉槽還往上游處，用泵從上述貯存容器向上述密閉槽內(nèi)送入上述光刻膠。
倘采用這種構(gòu)成，則由于在用泵送入光刻膠時易于在光刻膠中產(chǎn)生氣泡，故使上述密閉容器內(nèi)的空間減壓來除去氣泡是有效的。
(9)在本發(fā)明中，還可以采用對上述光刻膠進行過濾的辦法，改善上述光刻膠的質(zhì)量。
倘采用這種構(gòu)成，就可以把已除去了異物的光刻膠供給涂覆臺。
(10)在上述涂覆臺中，還可以用滾涂方式形成光刻膠的膜。


圖1示出了本發(fā)明的實施例的涂覆裝置，圖2示出了現(xiàn)有的涂覆裝置，圖3A和圖3B是用于說明正常的電路圖形的形成過程的說明圖，圖4A和圖4B是說明有缺陷的電路圖形的形成過程的說明圖。
參照附圖對本發(fā)明的實施例進行說明。
圖1的示意圖示出了本發(fā)明的實施例的涂覆裝置。該涂覆裝置具有貯存容器10，泵20，質(zhì)量改善臺30和涂覆臺40，這些部分用聚四氟乙烯樹脂制的管道52、54、56和58進行連接。
在貯存容器10中，存有液體的光刻膠12。此外，貯存容器10連有兩個管道52和58并已密閉。一方的管道52頂端部分在貯存容器10的底部附近開有開口，變成為用泵20吸出已存于貯存容器10內(nèi)的光刻膠12。泵20構(gòu)成為壓縮吸出光刻膠20。另一方的管道58頂端部分在貯存容器10內(nèi)的上部附近開有開口，構(gòu)成為返回在涂覆工序中剩下的光刻膠12。
光刻膠12通過管道52用泵20從貯存容器10中吸出，再通過管道54送往質(zhì)量改善臺30。在這里，泵20壓縮并送出光刻膠。
在本實施例中，使在涂覆工序中剩下的光刻膠12返回貯存容器中去再次利用。因此，隨著反復(fù)進行涂覆工序，異物24將混入光刻膠12中去。另外，在用泵20送出光刻膠12時，常常會因卷入空氣而發(fā)生氣泡22。這些異物24或氣泡22會妨害正常的涂覆。于是，在質(zhì)量改善臺30中，要除去混入到光刻膠12中的異物24或氣泡22。
質(zhì)量改善臺30具有密閉槽32和通過管道34連接到該密閉槽32上的真空泵36。
密閉槽32含有外側(cè)槽32a和內(nèi)側(cè)槽32b。內(nèi)側(cè)槽32b臨時存放由管道54導(dǎo)入的光刻膠12。此外，在內(nèi)側(cè)槽32b上已連接有過濾器39和管道56，以送出光刻膠12。
外側(cè)槽32a對內(nèi)側(cè)槽32b的外周進行密閉。內(nèi)側(cè)槽32b的上面形成有開口，并在與外側(cè)槽32a之間形成空間38。向著該空間38管道34已形成了開口，真空泵36使該空間38減壓。
這樣一來，光刻膠12臨時地存放于內(nèi)側(cè)槽32b中，當(dāng)空間38減壓后，就可以除去已混入光刻膠12中的氣泡22。
空間38的減壓理想的是使之變成為約數(shù)十Torr。如果是以ECA(ethyl-cellosolve-acetate，乙基乙酸溶纖劑)或者PGMEA(丙二醇一甲基醚乙酸酯)為溶劑的光刻膠，則即使進行上述減壓，也可以把粘度的增加抑制為約10％。此外，理想的是減小從泵20送往內(nèi)側(cè)槽32b的光刻膠12的液壓，縮小連接到內(nèi)側(cè)槽32b上的管道54、56的直徑。
質(zhì)量改善臺30為除去異物24具有過濾器39。過濾器39設(shè)在內(nèi)側(cè)槽32b與管道56之間，即設(shè)在光刻膠12的出口上。過濾器39的構(gòu)成為可以經(jīng)過過濾來除去大小大于50μm的異物24。另外還可以使大小大于50μm的氣泡22也不能通過。
光刻膠12經(jīng)由過濾器39送往涂覆臺40。涂覆臺40具有含有接受皿41，輥子42，滑動輥子43，輥子44、45的滾涂機構(gòu)。由于其構(gòu)成與現(xiàn)有技術(shù)是相同的，故免于詳細(xì)地說明。
在涂覆臺40中，把光刻膠12涂到薄膜載帶60上的金屬導(dǎo)體層52上。在涂覆工序中剩下的光刻膠12，借助于管道58使之返回到貯存容器10中去。為了使光刻膠12返回貯存容器10中去，貯存容器做成為密閉構(gòu)造。這樣一來，當(dāng)通過泵20把光刻膠12從管道52送出時，貯存容器10內(nèi)的空間14將變成為負(fù)壓。借助于這一負(fù)壓，通過管道58從接受皿41中吸引光刻膠12。這樣一來，光刻膠12就將返回貯存容器10中去。
本實施例的構(gòu)成如上所述，以下，對其作用進行說明。
首先，在貯存容器10中先存放液體的光刻膠12，并用泵10把該光刻膠12送往質(zhì)量改善臺30。這時，在光刻膠12中將因泵20的壓縮動作而產(chǎn)生氣泡22。
在質(zhì)量改善臺30中，把光刻膠12先臨時性地存到內(nèi)側(cè)槽32b中。接著，用真空泵36使外側(cè)槽32a內(nèi)部中的空間38減壓。這樣一來，在內(nèi)側(cè)槽32b中所存的光刻膠12中所混進去的氣泡22就被除去。
此外，在光刻膠12已混入了粉塵或樹脂塊等異物24的情況下，異物24由過濾器39除去。另外，過濾器24還可以除去氣泡22。采用設(shè)置該過濾器39的辦法，將有可能再次使用光刻膠，節(jié)約原材料費。
這樣，光刻膠12在除去了氣泡22和異物24后，被送往涂覆臺40。由于這樣在涂覆臺40中將使用良好的光刻膠12，故在薄膜載帶60的金屬導(dǎo)體層62上可以形成良好的光刻膠12的膜。因此可以提高產(chǎn)品的成品率。
另外，在涂覆臺40中，進行利用滾涂法的膜的形成。就是說，光刻膠12存于接受皿41中，用進行轉(zhuǎn)動的輥子42卷揚上來，并用滑動輥子43定量化。然后，通過復(fù)印輥子44，把光刻膠12涂到用鏈輪45引導(dǎo)的薄膜載帶60的金屬導(dǎo)體層62的表面上。
其次，對上述質(zhì)量改善臺的效果進行說明。下表示出了質(zhì)量改善臺30的導(dǎo)入前和導(dǎo)入后的圖形形成不合格的發(fā)生率。詳細(xì)說來，在上述質(zhì)量改善臺的導(dǎo)入前和導(dǎo)入后，在進行了規(guī)定期間的涂覆工序之后，檢查了圖形斷線和缺口。其結(jié)果，示于下表。
由表可以看出，質(zhì)量改善臺導(dǎo)入后，圖形斷線和缺口的發(fā)生率已降低。因此，借助于質(zhì)量改善臺可以除去光刻膠中的氣泡、粉塵和樹脂塊等的異物。
權(quán)利要求
1.一種光刻膠涂覆裝置，具有光刻膠的貯存容器；用于形成上述光刻膠的膜的涂覆臺；從上述貯存容器向上述涂覆臺導(dǎo)入上述光刻膠的管道；比上述涂覆臺還處于上游，改善上述光刻膠的質(zhì)量的質(zhì)量改善臺。
2.權(quán)利要求1所述的光刻膠涂覆裝置，其特征是上述質(zhì)量改善臺具有留下一部分空間流入上述光刻膠的密閉槽和使該密閉槽內(nèi)的上述空間減壓的真空泵，上述光刻膠借助于上述空間的減壓抽出了氣泡之后，送往上述涂覆臺。
3.權(quán)利要求2所述的光刻膠涂覆裝置，其特征是在比上述密閉槽還往上游處，具有從上述貯存容器向上述密閉槽中送入上述光刻膠的泵。
4.權(quán)利要求1所述的光刻膠涂覆裝置，其特征是上述質(zhì)量改善臺含有過濾上述光刻膠的過濾器。
5.權(quán)利要求1到4中的任何一項所述的光刻膠涂覆裝置，其特征是上述涂覆臺具有滾涂機構(gòu)。
6.一種光刻膠的涂覆方法，其特征是在從貯存容器到用于形成膜的涂覆臺為止的位置之間，改善上述光刻膠的質(zhì)量。
7.權(quán)利要求6所述的光刻膠涂覆方法，其特征是留下一部分空間把上述光刻膠供給到密閉槽中，并在上述密閉槽內(nèi)對上述空間進行減壓，抽出混入上述光刻膠中的氣泡，改善上述光刻膠的質(zhì)量。
8.權(quán)利要求7所述的光刻膠涂覆方法，其特征是在比上述密閉槽還往上游處，用泵從上述貯存容器向上述密閉槽內(nèi)送入上述光刻膠。
9.權(quán)利要求6所述的光刻膠涂覆方法，其特征是采用對上述光刻膠進行過濾的辦法改善上述光刻膠的質(zhì)量。
10.權(quán)利要求6到9中的任何一項所述的光刻膠涂覆方法，其特征是在上述涂覆臺中用滾涂方式形成光刻膠的膜。
全文摘要
本發(fā)明的目的是提供在光刻中涂光刻膠時,提高圖形精度的光刻膠的涂覆裝置和涂覆方法。具有:光刻膠(12)的貯存容器(10);用于形成光刻膠(12)的膜的涂覆臺(40);從貯存容器(10)向涂覆臺(40)導(dǎo)入光刻膠(12)的管道(52、54、56);和在比涂覆臺(40)還往上游處改善光刻膠(12)的質(zhì)量的質(zhì)量改善臺(30)。
文檔編號G03F7/16GK1212640SQ97192717
公開日1999年3月31日 申請日期1997年6月20日 優(yōu)先權(quán)日1996年7月11日
發(fā)明者澤本俊宏 申請人:精工愛普生株式會社