專利名稱：具有帶傾斜處理路徑的處理設(shè)備的處理組件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種感光材料處理組件，可處理感光材料。
處理感光膠片涉及一系列步驟，諸如顯影、漂白、定影、沖洗和干燥。在此過程中，連續(xù)的一卷膠片或者一張切出的膠片或相紙陸續(xù)地被傳送經(jīng)過一系列操作臺或處理槽，它們各自盛放一種適合于在該臺或槽處處理步驟的不同處理液劑。在通常的一些處理組件中，三部沖洗槽用于沖洗膠片和四部沖洗槽用于相紙。通常的一些處理組件具有的缺點(diǎn)在于，它們要求大量空間和裝備而導(dǎo)致成本提高。
本發(fā)明提供了一種處理組件，包括一種可以代替?zhèn)鹘y(tǒng)配置中用于膠片的三個沖洗槽和用于相紙的四個沖洗槽的處理設(shè)備。此處理設(shè)備包括沿著一第一處理路徑的一噴咀噴注裝置和從第一處理路徑延伸的一傾斜的第二處理路徑，此傾斜的第二處理路徑基本上與大氣密封隔開并包括許多沿著傾斜的處理路徑的溢流處理區(qū)段。每一溢流處理區(qū)段包括一托盤狀的裝置，接納出自傾斜處理路徑的一相鄰溢流處理區(qū)段的溢流處理溶液。本發(fā)明的配置把一種細(xì)通道噴咀設(shè)計(jì)與沿著傾斜的處理路徑的清洗下落流體逆流的好處結(jié)合起來。
本發(fā)明提供一種用于處理感光材料的處理組件。此處理組件包括一處理設(shè)備，具有一第一部分，帶有感光材料的一第一處理路徑。第一處理路徑包括許多噴咀，把處理溶液施加于感光材料。處理設(shè)備還包括一第二部分，該第二部分包括連通于第一部分的一出口的入口。第二部分包括一第二處理路徑，從第二部分的入口延伸到第二部分的出口，用于通過感光材料。此第二處理路徑從第二部分的入口到出口以一角度向上傾斜并包括許多沿著第二處理路徑長度的溢流處理區(qū)段。每一溢流處理區(qū)段包括一第一分部，用于沿著傾斜的第二處理路徑導(dǎo)引感光材料，以及一第二分部，從第一分部延伸并能在其中保持處理溶液。第二分部包括一設(shè)置在其中的傳送滾輪組件的一第一滾輪，其中傳送滾輪組件從第二部分的入口到出口沿著第二處理路徑把感光材料向上傳送。處理溶液從第二部分的出口附近供應(yīng)以使處理溶液沿著傾斜的第二處理路徑沿向下的方向梯流而下，以致處理溶液沿著第一分部被導(dǎo)入第二分部以使處理溶液而溢出第二分部并沿著相鄰的溢流處理區(qū)段的一相鄰的第一分部流動。
本發(fā)明還涉及一種處理設(shè)備，用在用于處理感光材料的一種處理組件之中。此處理設(shè)備包括一第一部分，具有一進(jìn)口和一出口以及一在它們之間延伸的用于通過感光材料的第一處理路徑。第一部分具有許多沿著第一處理路徑的噴咀，用于向感光材料施加溶液。處理設(shè)備還包括一第二部分具有一入口和一出口以及一在它們之間延伸的用于通過感光材料的第二處理路徑。第二處理路徑具有從第二部分入口到出口的向上的傾斜度。第二部分的入口接納離開第一部分的出口的感光材料。第二部分包括一第一構(gòu)件，具有許多沿著處理路徑的死口和設(shè)備在孔口之間的導(dǎo)引表面，以致從第二部分的出口附近引入第二處理路徑的溶液將從第二部分的出口到入口沿著第二處理路徑向下流動。沿著第二處理路徑向下流動的溶液也由每一導(dǎo)引表面導(dǎo)入一相應(yīng)的孔口，以便從孔口溢出。
本發(fā)明還提供了一種處理感光材料的方法。此方法包括以下各步驟把一種感光材料引入一處理設(shè)備的一第一處理路徑；沿著第一處理路徑傳送感光材料；隨著感光材料被傳送通過第一處理路徑，向感光材料施加處理溶液；把感光材料從第一處理路徑傳送到一第二處理路徑，第二處理路徑沿感光材料的傳送方向是傾斜的，而且第二處理路徑具有許多孔口和在孔口之間的導(dǎo)引表面；以及把處理溶液沿一相反于感光材料傳送方向的方向隨著感光材料沿著第二處理路徑被傳送而引入第二處理路徑，其中感光材料由第二處理路徑中的處理溶液的液流和沿著第二處理路徑出自各孔口的溶液溢流予以處理。
本發(fā)明還涉及一種用于處理感光材料的處理組件。此處理組件包括一處理設(shè)備，此設(shè)備包括一第一部分，具有一第一處理和一在第一處理路徑處的施加裝置，用于把一溶液施加于第一處理路徑之中的感光材料。處理設(shè)備還包括一第二部分，具有一第二處理路徑，該第二路徑從第一處理路徑以某一角度延伸。此第二部分還包括一孔口，用于把溶液引入第二處理路徑，以致此溶液沿一相反于第二處理路徑之中感光材料行進(jìn)方向的方向沿著第二處理路徑而流動。


圖1表明本發(fā)明的設(shè)備的概觀；以及圖2A和2B表明本發(fā)明的各導(dǎo)引表面的紋理表面的實(shí)例。
現(xiàn)在參照附圖，其中在所有幾幅視圖中同樣的參照編號標(biāo)示相同的或相應(yīng)的另部件，圖1表明本發(fā)明的一種處理設(shè)備3，它可以比如是一沖洗槽，并可以定位在一處理組件的最后一個處理槽2之后。應(yīng)當(dāng)認(rèn)識到，此處理設(shè)備也可以比如是一顯影槽、一漂白槽或一定影槽。處理組件可包括一系列處理槽，它們可以盛放各種處理溶液，諸如顯影溶液、漂白溶液、定影溶液和沖洗溶液。處理槽可以具有一種架和槽結(jié)構(gòu)，諸如披露在美國專利第5311235號之中的那種結(jié)構(gòu)，此專利的內(nèi)容結(jié)合在此作為參考。
處理設(shè)備3包括一第一部分5，此部分5包括一入口7，在第一部分5的頂部處，通過此入口7感光材料進(jìn)入并通過一第一處理路徑9，此路徑9可以是一細(xì)孔道。第一處理路徑9延伸到在第一部分5的下部處的一出口11。沿著第一部分5的第一處理路徑9設(shè)置許多噴咀15，隨著感光材料沿著第一部分5的第一處理路徑9向下傳送它們把處理溶液噴到在感光材料上。
處理設(shè)備3還包括一第二部分17，此部分17具有一入口19，入口19與第一部分5的出口11連通。第二部分17包括一傾斜的第二處理路徑21，此路徑21包括許多導(dǎo)引表面23a-23d，用于沿著傾斜的處理路徑導(dǎo)引感光材料向上，并包括狀為托盤或平底盤的彎曲表面25a-25d，它們?nèi)莘乓粋魉蜐L輪組件29a-29d的一第一滾輪27a-27d，以及處理路徑9的一個表面9a。處理路徑9和17構(gòu)成一個大致V形的配置以提供一緊湊的結(jié)構(gòu)。
圖2A和2B是紋理式流體支承表面200和205的透視圖，它們可位于導(dǎo)引表面23a-23d上以及處理路徑9的一或兩個表面9a上。紋理或表面200和205可以用任何已知的工藝方法，比如壓花、模制、EDM電火花加工或鍍敷，制成紋理。壓花202或206分別顯示在表面200和205上。紋理(圖2A、2B)和斜面(圖2A)改進(jìn)了處理溶液在感光材料與導(dǎo)引表面23a-23d以及處理路徑9的一或兩個表面9a之間的流動，并防止感光材料粘住在各表面上。
圖1中還表明在第二部分17的一出口33附近的一傳送滾輪組件31。此傳送滾輪組件31包括在彎曲分段39a之中的第一滾輪31a。一供應(yīng)進(jìn)入孔口35設(shè)置在出口33附近，用于把溶液引入傾斜的第二處理路徑21。導(dǎo)引表面23a-23d引導(dǎo)溶液沿著傾斜的第二處理路徑21向下落入或流進(jìn)彎曲表面25a-25d，它們保持傳送滾輪組件29a-29d的一個滾輪27a-27d。
設(shè)備3的第二部分17還包括一對置構(gòu)件或蓋罩37，此蓋罩37沿著傾斜的第二處理路徑21包含對應(yīng)于彎曲表面25a-25d的各蓋罩部分39。蓋罩部分39在感光材料穿過兩個滾輪之間的情況下覆蓋傳送滾輪組件29a-29d的一對置滾輪41。采用這種配置，第二傾斜的處理路徑21是基本上氣密的，以便防止對于感光材料或者設(shè)備3之內(nèi)的裝置的任何損害。
在使用本發(fā)明的設(shè)備3期間，以一處理機(jī)的最后的處理槽口出來的感光材料通過入口7進(jìn)入設(shè)備3的第一部分5。設(shè)備3的第一部分5包括傳送滾輪45，它們傳送感光材料經(jīng)過第一部分5的第一處理路徑9。第一處理路徑9一般是垂直的并包括沿著其長度的噴咀15。噴咀15噴澆處理溶液，比如沖洗溶液，于通過第一處理路徑9的感光材料上。感光材料經(jīng)過第一部分5下端處的出口11從第一部分5出來，進(jìn)入第二部分17的入口19，并被引入傾斜的第二處理路徑21。傾斜的第二處理路徑21的傳送滾輪組件29a-29d和31沿著傾斜的第二處理路徑21沿一向上方向A傳送感光材料。隨著感光材料沿著傾斜的第二處理路徑21被傳送，在進(jìn)入孔口35處供給新鮮溶液。此新鮮溶液溢過位于出口33處的彎曲表面部分39a并沿著導(dǎo)引表面23a被導(dǎo)入彎曲表面25a。溶液此后聚積起來并溢過彎曲表面25a并由導(dǎo)引表面23b導(dǎo)引。隨著溶液沿著傾斜的第二處理路徑21向下流動，這一過程對所有的彎曲表面和導(dǎo)引表面而言是連續(xù)的。采用這種配置，產(chǎn)生了包括一系列溢流部分的下落溶液流動。
如圖1所示，每一導(dǎo)引表面23a-23d可以設(shè)定或某一斜度，稍大于第二處理路徑21的斜度，以便確保感光材料的向上傳送。在傾斜的第二處理路徑21的下端處，溶液在第二部分17的入口19處流出第二部分17，并收集在第一部分5的底部處。
在一沖洗槽的應(yīng)用場合下，處理溶液會是沖洗溶液，當(dāng)感光材料沿方面A順著傾斜的第二處理路徑21向上移動時沖洗感光材料。浸沒在彎曲表面25a-25d和29a之中的溶液里面的傳送滾輪組件的第一滾輪27a-27d和31a把沖洗溶液涂于感光材料上并把沖洗溶液輾滾在感光材料上面，以清洗感光材料。同時，溢流沖洗溶液以及下落的沖洗溶液也用以清洗感光材料。應(yīng)當(dāng)認(rèn)識到，本發(fā)明并不局限于一沖洗槽應(yīng)用場合，而其他一些溶液，諸如顯影溶液、漂白溶液和定影溶液也是可以采用。
如上所指出，沿著傾斜的第二處理路徑21向下流動的處理溶液收集在第一部分5的下端處。收集起來的溶液可以通過一出口50泄放并可以通過一重新循環(huán)系統(tǒng)51循環(huán)到噴咀15。這就使得收集在第一部分5下端處的處理溶液可被利用起來，在感光材料沿著第一部分5的第一處理路徑9通過時清洗感光材料。
本發(fā)明的配置允許通過在第一部分5下端處收集處理溶液并向噴咀15重新循環(huán)沖洗溶液來利用下落的處理溶液。另外，采用本發(fā)明的配置，感光材料在離開第一部分5之后進(jìn)入傾斜的第二處理路徑21，以便借助于下落的溶液液流經(jīng)受處理。
因此，在本發(fā)明中，重新循環(huán)的處理溶液可以經(jīng)由第一部分5處的噴咀15施用，而當(dāng)感光材料進(jìn)入第二部分17時，可以經(jīng)由孔口35沿著傾斜的處理路徑21以一種下落方式施用新鮮處理溶液。當(dāng)然，應(yīng)當(dāng)指出，這只是本發(fā)明的一個實(shí)施例，并取決于一些設(shè)計(jì)條件，新鮮溶液可以施用于第一和第二部分5、17兩者。
因而，本發(fā)明的配置提供了一種諸如清洗感光材料這樣的一種處理，采用的是一噴咀組件、浸沒在溶液之中的滾輪、沿著一傾斜的處理路徑的向下下落的溶液液流，以及由溶液沿著傾斜路徑流動而成的從托盤或平底盤的溶液溢流。
本發(fā)明經(jīng)具體參照其某些優(yōu)先實(shí)施例而予以詳細(xì)說明，但是將會理解，在本發(fā)明的精神和范疇之內(nèi)是可以實(shí)現(xiàn)各種變更和改動的。
權(quán)利要求
1．一種用于處理感光材料的處理組件，此處理組件包括一處理設(shè)備，具有一第一部分，帶有感光材料的一第一處理路徑，所述第一處理路徑包括許多噴咀，所述噴咀向感光材料供應(yīng)處理溶液，此處理設(shè)備還包括一第二部分，此部分包括一個與所述第一部分的一出口連通的入口，所述第二部分包括一第二處理路徑，從所述第二部分的入口延伸到一第二部分的出口用于通過感光材料所述第二處理路徑從第二部分的入口到出口以一個角度向上傾斜并包括沿著第二處理路徑一段長度的許多溢流處理區(qū)段，每一溢流處理區(qū)段包括一第一分部，用于沿著傾斜的第二處理路徑導(dǎo)引感光材料，以及一第二分部，從第一分部延伸并可在其中保持處理溶液，每一所述第二分部包括一傳送滾輪組件的一第一滾輪，其中傳送滾輪組件可經(jīng)過第二處理路徑從第二部分的入口到出口向上傳送感光材料，沖洗溶液從所述第二部分的出口附近被供向第二處理路徑以使處理溶液沿向下傾斜的方向沿著傾斜的第二處理路徑下落，以致使處理溶液沿著第一分部被導(dǎo)入第二分部以使處理溶液溢出第二分部并流向相鄰的第一分部。
2．按照權(quán)利要求1所述的一種處理組件，其中所述第一處理路徑是垂直地設(shè)置的，以便從第一部分的入口到出口沿一垂直方向向下導(dǎo)引所述感光材料，所述噴咀隨著感光材料沿著第一處理路徑被導(dǎo)引而向感光材料供應(yīng)處理溶液。
3．按照權(quán)利要求1所述的一種處理組件，其中第一分部和第一處理路徑的至少一個表面包括一紋理表面，而第一分部比所述第二處理路徑具有一更陡的傾角，第二分部限定了一彎曲的托盤部分，而所述傳送滾輪組件的第一滾輪設(shè)置在所述彎曲的托盤部分之中，以致所述第一滾輪至少部分地浸沒在處理溶液之中。
4．按照權(quán)利要求3所述的一種處理組件，其中所述第二部分包括一對置表面，對比所述各溢流處理區(qū)段是在第二傾斜的處理路徑的對置一側(cè)，所述對置表面包括許多蓋罩部分，所述蓋罩部分對應(yīng)于彎曲的托盤部分并覆蓋所述傳送滾輪組件的一第二滾輪，所述第二滾輪對置于所述第一滾輪，而感光材料通過它們之間。
5．按照權(quán)利要求2所述的一種處理組件，其中沿著所述第二處理路徑下落的所述處理溶液通過所述第一部分的出口進(jìn)入第一部分并收集在所述第一部分的一下部中，所述處理設(shè)備還包括一重新循環(huán)系統(tǒng)，該系統(tǒng)把收集在第一部分下部處的處理溶液重新循環(huán)到第一部分的噴咀。
6．按照權(quán)利要求1所述的一種處理組件，其中所述處理設(shè)備是沖洗設(shè)備、定影設(shè)備、顯影設(shè)備和漂白設(shè)備之中的一種，所述處理溶液是沖洗溶液、定影溶液、顯影溶液和漂白溶液之中的一種。
7．一種處理設(shè)備，用于一種處理感光材料的處理組件中，此處理設(shè)備包括一第一部分，具有一進(jìn)口和一出口以及一在它們之間延伸的用于通過感光材料的第一處理路徑，所述第一部分沿著第一處理路徑包括許多噴咀，用于向感光材料供應(yīng)溶液；以及一第二部分，只有一入口和一出口以及一在它們之間延伸的用于通過感光材料的第二處理路徑，所述第二處理路徑具有一從第二部分的入口到出口的向上傾角，第二部分的所述入口接納離開第一部分的出口的感光材料，所述第二部分包括一第一構(gòu)件，該構(gòu)件具有許多沿著第二處理路徑的孔口和設(shè)置在孔口之間的導(dǎo)引表面，以致從第二部分的出口附近引入第二處理路徑的溶液將從第二部分的出口到入口沿著第二處理路徑向下流動，而沿著第二處理路徑向下流動的溶液由每一導(dǎo)引表面導(dǎo)入一相應(yīng)的孔口，以便從孔口溢流。
8．按照權(quán)利要求7所述的一種處理設(shè)備，其中所述第一和第二處理路徑限定了一大致的V形。
9．按照權(quán)利要求7所述的一種處理設(shè)備，其中所述導(dǎo)引表面和所述第一處理路徑的至少一個表面包括一紋理表面。
10．按照權(quán)利要求7所述的一種處理設(shè)備，其中沿著所述第二處理路徑向下流動的溶液通過第二部分的入口離開第二部分并通過第一部分的出口進(jìn)入第一部分的一下部，此溶液被收集在第一部分的下部。
11．按照權(quán)利要求10所述的一種處理設(shè)備，還包括一重新循環(huán)系統(tǒng)，該系統(tǒng)把第一部分的下部處的溶液重新循環(huán)到第一部分的噴咀。
12．按照權(quán)利要求7所述的一種處理設(shè)備，其中所述第二部分的入口鄰近于第一部分的出口。
13．按照權(quán)利要求7所述的一種處理設(shè)備，其中一傳送滾輪組件的一第一滾輪設(shè)置在所述第一構(gòu)件的每一所述孔口之中。
14．按照權(quán)利要求12所述的一種處理設(shè)備，其中第二部分還包括一與所述第一構(gòu)件對置的第二構(gòu)件，而第二處理路徑在它們之間延伸，所述第二構(gòu)件具有對置的孔口，所述孔口對應(yīng)于第一構(gòu)件的孔口，第二構(gòu)件的所述對置的孔口包括傳送滾輪組件的一第二滾輪，該滾輪對置于第一滾輪，以便允許感光材料通過它們之間。
15．按照權(quán)利要求6所述的一種處理設(shè)備，其中所述溶液是沖洗溶液、定影溶液、顯影溶液和漂白溶液之中的一種。
16．一種用于處理感光材料的處理組件，此處理組件包括一處理設(shè)備，包括一第一部分，具有一第一處理路徑和在第一處理路徑處的一種施加裝置，用于在第一處理路徑中向感光材料施加一種溶液，此處理設(shè)備還包括一具有第二處理路徑的第二部分，所述第二處理路徑從第一處理路徑成某一角度延伸，此第二部分還包括一孔口，用于把液引到第二處理路徑，以致溶液沿第二處理路徑以相反于感光材料在第二處理路徑中行進(jìn)方向的方向流動。
17．一種處理感光材料的方法，此方法包括的各步驟是把一種感光材料引入一處理設(shè)備的一第一處理路徑；沿著第一處理路徑傳送感光材料；隨著感光材料被傳送通過第一處理路徑，向感光材料施加處理溶液；把感光材料從第一處理路徑傳送到第二處理路徑，第二處理路徑沿感光材料的傳送方向是傾斜的，而且第二處理路徑具有許多孔口和在孔口之間的導(dǎo)引表面；以及把處理溶液沿一相反于感光材料傳送方向的方向隨著感光材料沿著第二處理路徑被傳送而送進(jìn)第二處理路徑，其中，感光材料在第二處理路徑中由所述處理溶液的液流和沿著第二處理路徑從孔口的所述處理溶液的溢流予以處理。
18．按照權(quán)利要求17所述的一種方法，其中處理溶液是沖洗溶液、定影溶液、顯影溶液和漂白溶液之中的一種。
19．按照權(quán)利要求17所述的一種方法，包括另一把流動在第二處理路徑之中的溶液重新循環(huán)到第一處理路徑的步驟。
全文摘要
一種用于處理感光材料的處理設(shè)備把細(xì)孔道技術(shù)與噴嘴以及一傾斜的處理路徑結(jié)合起來。處理溶液可以送進(jìn)傾斜的處理路徑,以使溶液在一相反于感光材料在傾斜的處理路徑之中行進(jìn)方向的方向上沿著傾斜的處理路徑而流動。采用本發(fā)明的配置,感光材料借助于噴嘴噴注裝置在第一處理路徑中予以處理并可以沿著傾斜的處理路徑經(jīng)受進(jìn)一步的處理。
文檔編號G03D3/08GK1214465SQ98120908
公開日1999年4月21日 申請日期1998年10月9日 優(yōu)先權(quán)日1997年10月9日
發(fā)明者小R·L·皮斯尼諾, A·伊爾勒, L·R·維爾斯 申請人:伊斯曼柯達(dá)公司