專利名稱：電荷潛像顯影裝置和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及對設(shè)置在受光器上的電荷潛像進(jìn)行顯影的裝置和方法，該受光器位于陰極射線管(CRT)的面板內(nèi)表面上；更具體地說，涉及具有底部電極和側(cè)壁屏蔽件的裝置，以及操作該帶有底部電極和屏蔽件的顯影裝置的方法。
在1995年12月19日頒發(fā)給G.H.N.Riddle等人的U.S.專利No.5477285中描述了使用摩擦帶電的顆粒對設(shè)置在受光器上的電荷潛像進(jìn)行顯影的裝置，該受光器位于顯示器件如陰極射線管(GRT)的觀看面板的內(nèi)表面上。在顯影裝置的一個實施例中，描述了具有絕緣側(cè)壁和絕緣屏盤支撐件的顯影室。具有旋轉(zhuǎn)噴嘴系統(tǒng)的摩擦帶電槍將空氣和干的帶電熒光顆粒的混合物引導(dǎo)到顯影室中，在那里熒光物質(zhì)與四周的室的壁碰撞。帶電熒光顆粒造成累積在顯影器的絕緣側(cè)壁上、防止熒光物質(zhì)淀積到屏盤裙部上的絕緣屏蔽件上，及顯影器格柵上的電荷，這在1992年3月3日頒發(fā)給Datta等人的U.S.專利No.5093217中有更充分的描述。需要頻繁地清洗顯影器的內(nèi)部元件，以在熒光物質(zhì)變松散并以不受控制的方式淀積在受光器上之前消除熒光物質(zhì)的累積。此外，在與顯影器的內(nèi)表面碰撞之前，由于不受控制的空間電荷的排斥，漂移的熒光顆粒接近受光器。碰撞產(chǎn)生具有不定電荷和質(zhì)量的聚集物，這可能引起熒光顆粒沉淀在受光器上不希望的地方，該受光器設(shè)置在CRT屏盤的內(nèi)表面上。這導(dǎo)致形成在受光器上的不同顏色熒光物質(zhì)線的玷污。對于顯影器有顯著減少在其內(nèi)部元件上累積的熒光物質(zhì)的要求，以便減少清洗的頻率，將上述缺點減至最小程度，并借助于對淀積過程更好的控制在受光器上提供更均勻的熒光物質(zhì)淀積。
根據(jù)本發(fā)明，披露了一種用于使在受光器上形成的靜電電荷潛像顯影的裝置和方法，該受光器設(shè)置在CRT屏盤的內(nèi)表面上。該裝置包括顯影箱，該顯影箱具有側(cè)壁，在其一端由底部部件封閉，在其另一端由屏盤支撐件封閉，該屏盤支撐件具有從中穿過的開口，以提供通向屏盤的入口。背部電極設(shè)置在顯影箱內(nèi)，與屏盤的內(nèi)表面相隔，但又與之平行。背部電極具有施加在其上的第一電位，從而在背部電極和接地的受光器之間建立一個靜電漂移電場。具有與施加到背部電極上的第一電位同樣極性的電荷的、摩擦帶電的干粉狀發(fā)光熒光材料被引入顯影箱內(nèi)，背部電極和屏盤之間。借助于所施加的靜電漂移電場，該摩擦帶電的熒光材料被引向屏盤上的所述受光器。屏盤裙部側(cè)壁屏蔽件圍繞屏盤的四周側(cè)壁而設(shè)置，以排斥來自屏盤側(cè)壁的摩擦帶電的熒光材料。
使形成在設(shè)置于CRT屏盤內(nèi)表面上的受光器上的電荷潛像顯影的方法包括下列步驟在裝置上放置屏盤；將屏盤裙部側(cè)壁屏蔽件鄰近屏盤側(cè)壁而定位；將受光器接地；向背部電極施加第一電位，并將具有與施加到背部電極上的第一電位同樣極性的電荷的、摩擦帶電的熒光材料引入顯影箱內(nèi)，背部電極和屏盤之間，由此借助于所施加的靜電漂移電場，將該熒光材料引向屏盤上的受光器。
在附圖中

圖1是根據(jù)本發(fā)明制造的彩色CRT的沿軸向局部剖切的平面圖；圖2是在制造過程的一個步驟中其內(nèi)表面上帶有基體的CRT屏盤的剖面圖；圖3是圖1所示管的已完成的熒光屏組件的剖面圖；圖4是CRT屏盤的剖面圖，示出了在制造過程的另一個步驟中覆蓋基體的受光器；圖5示出了本發(fā)明中使用的顯影裝置的第一實施例；圖6是在圖5的圓圈6內(nèi)所示的CRT屏盤和屏蔽件的放大的剖面圖；以及圖7示出了顯影裝置的第二實施例。
圖1示出了一個彩色CRT10，該CRT具有一個玻璃外殼11，該外殼11包括由矩形錐體15連接的一個矩形面板12和一個管形頸部14。錐體15具有與陽極鈕16接觸并延伸到頸部14中的內(nèi)部導(dǎo)電涂層(未示出)。屏盤12包括觀看面板17和由玻璃料19密封到錐體15上的四周凸緣或側(cè)壁18。如圖2所示，在觀看面板17的內(nèi)表面上設(shè)置有相對較薄并具有多個開口21的光吸收基體20。發(fā)光的三色熒光屏22設(shè)置在面板17的內(nèi)表面上，并覆蓋基體20。如圖3中所示，熒光屏22最好為線型熒光屏，包括大量熒光屏單元，該熒光屏單元由紅、藍(lán)和綠色發(fā)光熒光條R、B和G構(gòu)成，該發(fā)光熒光條R、B和G與不同的基體開口21對中，并以循環(huán)順序按三條或三元組的彩色組或圖象單元的方式排列。所述各條沿大致垂直于產(chǎn)生電子束的平面的方向延伸。在該實施例的正常觀看位置，熒光條沿垂直方向延伸。最好熒光條的部分覆蓋至少光吸收基體20位于開口21周圍的部分?；蛘撸部梢允褂命c型熒光屏。最好為鋁制的薄導(dǎo)電層24覆蓋熒光屏22，并提供了給熒光屏施加均勻電位以及反射由熒光單元發(fā)射的光使之穿過面板17的裝置。熒光屏22和覆蓋的鋁層24構(gòu)成熒光屏組件。再參照圖1，多孔選色電極，如蔭罩，張力罩或聚焦罩25以常規(guī)的方式被可移動地安裝在與熒光屏組件有預(yù)定間隔關(guān)系的位置。該選色電極25以現(xiàn)有技術(shù)中公知的方式被可拆卸地固定在多個柱銷26上，該多個柱銷26埋置于屏盤12的側(cè)壁18中。
由虛線示意地表示的電子槍27對中安裝在頸部14中，以產(chǎn)生并沿會聚路徑射出三束電子束28，使之穿過選色電極25中的孔射向熒光屏22。電子槍是常規(guī)的，并可以是現(xiàn)有技術(shù)中已知的任何合適的槍。
管10被設(shè)計成與位于錐體-頸部接合區(qū)域的一個外部磁偏轉(zhuǎn)線圈例如線圈30一起使用。當(dāng)通電時，線圈30使三束電子束28受到磁場作用，該磁場使電子束按矩形光柵水平和垂直地掃描熒光屏22。初始偏轉(zhuǎn)平面(位于零偏轉(zhuǎn)處)在圖1中由線P-P表示，大約位于線圈30的中部。為簡化起見，沒有示出偏轉(zhuǎn)區(qū)域中偏轉(zhuǎn)束路徑的實際曲線。
熒光屏22按1990年5月1日頒發(fā)給Datta等人的U.S.專利No.4921767中描述的電子照相制屏(EPS)工藝制造。首先，象在現(xiàn)有技術(shù)中已知的那樣，通過用腐蝕性溶液清洗并在水中進(jìn)行漂洗來清潔屏盤12。然后，最好用1971年1月26日頒發(fā)給Mayaud的U.S.專利No.3558310中描述的常規(guī)的濕基體工藝在觀看面板17的內(nèi)表面上設(shè)置光吸收基體20。在該濕基體工藝中，例如通過旋涂將合適的光致抗蝕劑溶液涂敷到所述內(nèi)表面上，并使溶液干燥以形成光致抗蝕劑層。然后，將選色電極25插入屏盤12中，并將屏盤放置在三合一曝光室(未示出)上，該曝光室使光致抗蝕劑層曝光于來自光源的光化輻射下，該光源投射的光穿過選色電極中的孔。在使光源位于模擬來自三個電子槍的電子束路徑的位置的情況下，將曝光再重復(fù)進(jìn)行兩次。光有選擇性地改變光致抗蝕劑層的曝光區(qū)域的溶解性。在第三次曝光之后，將屏盤從曝光室中移去，并將選色電極從屏盤上移去。用水對光致抗蝕劑層進(jìn)行顯影，以除去其更易溶解的區(qū)域，從而露出下面的觀看面板的內(nèi)表面，保留光致抗蝕劑層幾乎不溶解的被曝光區(qū)域不動。然后，將合適的光吸收材料溶液均勻地設(shè)置到屏盤內(nèi)表面上以覆蓋觀看面板的露出部分以及被保留的光致抗蝕劑層幾乎不溶解的區(qū)域。將光吸收材料層干燥，并用合適的溶液進(jìn)行顯影，使光致抗蝕劑層的被保留部分以及其上面的光吸收材料溶解并被去除，形成粘附在觀看面板內(nèi)表面上的基體20中的開口21。對于具有51cm(20英寸)對角尺寸的屏盤12來說，基體20中形成的開口21具有約為0.13到0.18mm的寬度，而不透明基體的線寬度約為0.1到0.15mm。然后其上具有基體20的觀看面板17被涂敷合適的未示出的易揮發(fā)有機(jī)導(dǎo)電(OC)材料的層，該層為同樣未示出的上面的易揮發(fā)有機(jī)光電導(dǎo)(OPC)層提供電極。該OC層和OPC層共同構(gòu)成受光器36，如圖4所示。
用于OC層的合適材料包括于1994年12月6日頒發(fā)給P.Datta等人的U.S.專利No.5370952中所描述的一定的季銨聚合電解質(zhì)。最好通過用下述溶液涂敷OC層來形成OPC層，該溶液含有聚苯乙烯；電子給體材料，如1，4-二(2，4-甲基苯基)-1，4二苯基丁三烯(2，4-DMPBT)；電子受體材料，如2，4，7-三硝基-9-芴酮(TNF)和2-乙基蒽醌(ethylanthroquinone)(2-EAQ)；和合適的溶劑，如甲苯，二甲苯或甲苯和二甲苯的混合物。也可在該溶液中加入表面活性劑如硅氧烷U-7602和增塑劑如鄰苯二甲酸二辛酯(DOP)。表面活性劑U-7602可從Union Carbide，Danbury，CT獲得。使用在1996年5月21日頒發(fā)給Wilbur等人的U.S.專利No.5519217中所述的電暈放電裝置(未示出)將受光器36均勻地靜電充電，該電暈放電裝置使受光器36充電到約+200到+700伏范圍內(nèi)的某一電壓。然后將選色電極25插入到屏盤12中，將該屏盤放置到曝光臺(同樣未示出)上，并使被充正電受光器36的OPC層經(jīng)過選色電極25在足夠光強(qiáng)的來自設(shè)置于曝光臺內(nèi)的氙閃光燈或其他光源如汞放電燈的光下曝光。光以與來自管的電子槍的一束電子束相同的角度穿過選色電極25中的孔，使受光器36上被照射的區(qū)域放電，并形成電荷潛像(未示出)。從屏盤12上移去選色電極25，并將屏盤放置到第一熒光物質(zhì)顯影器40上，如圖5中所示。
在本發(fā)明的第一實施例中，熒光物質(zhì)顯影器40包括顯影箱42，該顯影箱42具有側(cè)壁44，在其一端由底部46封閉，在其頂端由屏盤支撐件48封閉，該屏盤支撐件48最好由PLEXIGLAS或另一種絕緣材料制成，具有從中穿過的開口50，以提供通向屏盤12內(nèi)側(cè)的入口。顯影箱42的側(cè)壁44和底部46由絕緣體制成，如PLEXIGLAS，其外部包圍有金屬制成的接地屏蔽件。背部電極52設(shè)置在顯影箱42內(nèi)，在屏盤12內(nèi)表面中心下面，與之相隔約25到30cm。向背部電極52施加約25到30kV的正電位，并將受光器36的有機(jī)導(dǎo)電體接地。借助背部電極52和屏盤12之間的30cm間隔，建立1kV/cm或105V/cm的漂移電場。
從熒光物質(zhì)饋送器54，例如借助于未示出的螺旋推運器將所需發(fā)光顏色的干粉顆粒形式的熒光材料分散到通過管56而進(jìn)入文氏管58的空氣流中，在文氏管中空氣流與熒光顆?；旌??？諝?熒光物質(zhì)混合物被引導(dǎo)到管60中，由于熒光顆粒與管60的內(nèi)表面的接觸，該管60將摩擦電荷賦予熒光物質(zhì)粉末。例如，為使熒光材料帶正電，使用聚乙烯管。然后熒光物質(zhì)-空氣混合物經(jīng)過三向球閥62，該球閥62將該混合物引向兩個等長的聚乙烯管道60中的一個。每個管60終止于一未示出的支管，該支管具有一系列僅示出了其中兩個的扁平外形的出口噴嘴64，該噴嘴64沿與背部電極52平行的方向噴射熒光物質(zhì)-空氣混合物。為在受光器36上形成的電荷圖象上獲得均勻的熒光物質(zhì)淀積，從一個支管的噴嘴64中噴注熒光顆粒約30秒鐘。然后將球閥62轉(zhuǎn)向，從另一個支管的噴嘴64中噴注熒光顆粒同樣的時間。被噴注的熒光材料的熒光顆粒的典型遷移率μ約為3×10-6(m/s)/(V/m)，而在漂移電場中熒光物質(zhì)的特征漂移速度約0.3m/sec。隨著一般在距背部電極約10cm范圍內(nèi)將熒光材料噴注到背部電極52附近的漂移空間中，熒光顆粒朝著屏盤12上的受光器36漂移，并在幾秒鐘內(nèi)到達(dá)那里。為防止熒光材料淀積在矩形屏盤12的內(nèi)側(cè)壁上，利用兩對屏盤裙部側(cè)壁屏蔽件66和68來形成一個矩形屏蔽陣列。屏蔽件66與屏盤側(cè)壁的短邊相隔，而屏蔽件68與屏盤側(cè)壁的長邊相隔。屏蔽件66和68由絕緣材料例如尼龍制成，并且對于一個具有約51cm對角線尺寸的屏盤來說，其厚度約2.5mm，高度約5cm。屏蔽件對66和68的介電常數(shù)為真空介電常數(shù)的3倍。
當(dāng)開始噴注摩擦帶電的熒光顆粒時，最初，該對屏蔽件66和68將被一些帶電熒光顆粒所碰撞，并在該電荷抵消電場的正交分量并進(jìn)一步使屏蔽件對熒光物質(zhì)的收集停止之前積累電荷。對于51cm的EPS屏盤淀積來說，典型值是熒光物質(zhì)電荷為10微庫侖μC。最初2μC的屏蔽件淀積在屏盤淀積中占有相當(dāng)?shù)姆蓊~。如果在連續(xù)的屏盤淀積之間不在正常的干燥空氣中清潔屏蔽件66和68，則對于多次熒光物質(zhì)淀積來說屏蔽件上的電荷被節(jié)省下來。但是，屏蔽件66和68附近的靜電條件不是恒定的。例如，當(dāng)完成電荷潛像上熒光顆粒的淀積時，屏盤12被從裝置40上卸下。為協(xié)助屏盤的安裝和拆卸，屏蔽件被從屏盤內(nèi)側(cè)壁上移開，由此改變了屏蔽件66和68的帶電表面以及接地的屏盤側(cè)壁之間的電容。由于屏蔽件66和68具有恒定的電荷，并且由于V＝Q/C，其中V為電容器電壓，Q為存儲的電荷，C為屏蔽件的電容，因而隨著電容的減小，屏蔽件上的局部電壓增大，并且這些電壓的改變可能在屏蔽件上引起橫向的熒光物質(zhì)運動或者電荷遷移。這可導(dǎo)致積累的熒光物質(zhì)從屏蔽件上移位或去掉，以及由此造成的不希望的熒光物質(zhì)在受光器上的淀積，導(dǎo)致屏盤缺陷。為防止熒光顆粒在屏蔽件66和68上積累，在將屏盤12安裝到顯影裝置40上之前，使屏蔽件帶正離子。為準(zhǔn)備好屏蔽件66和68，將接地的只涂敷了OC層的板或屏盤放置在顯影器上，并將正離子從噴嘴64噴注到背部電極52和屏盤12之間的漂移空間中。正離子將淀積在屏蔽件66和68上，并將在屏蔽件處消除電場的垂直分量，從而在隨后的熒光物質(zhì)淀積過程中，屏蔽件不吸引和積累帶正電的熒光顆粒。
另一種向漂移空間中噴注正離子的途徑是電離漂移空間中的空氣。這可以例如借助于電離輻射裝置來完成。當(dāng)漂移空間中的空氣被電離時，最好是在靠近正的背部電極52的區(qū)域中，這樣負(fù)離子將被帶正電的背部電極所收集，并且正離子將漂向接地的屏盤。正離子也將被吸引到接地的屏蔽件66和68上。
在將屏盤12安裝到顯影裝置40上和從其上卸下期間，當(dāng)把屏蔽件從屏盤內(nèi)側(cè)壁上移去時，一種顯著減小屏蔽件66和68的電容變化的方法是，如圖6所示，在屏蔽件66和68的背面或面對側(cè)壁的表面上設(shè)置一個接地板70。由接地板70和帶電的屏蔽件66和68所形成的系統(tǒng)的電容在屏蔽件移動期間不改變，并因此屏蔽件上的局部電壓也不改變。這樣，屏蔽件66和68上的橫向熒光物質(zhì)移動被顯著減小。
圖7示出了顯影器140的第二實施例。在該實施例中，使用相同的數(shù)字表示與第一實施例相同的元件。顯影器140包括顯影箱42，該顯影箱42具有側(cè)壁44，在其一端由底部46封閉，在其頂端由屏盤支撐件48封閉，該屏盤支撐件48最好由PLEXIGLAS或另一種絕緣材料制成，具有從中穿過的開口50，以提供通向屏盤12內(nèi)側(cè)的入口。顯影箱42的側(cè)壁44和底部46由絕緣體制成，如PLEXIGLAS，其外部包圍有金屬制成的接地屏蔽件。背部電極152設(shè)置在顯影箱42內(nèi)，在屏盤12內(nèi)表面中心下面，與之相隔約36cm。向背部電極152施加約35kV的正電位，并將受光器36的有機(jī)導(dǎo)電體接地。背部電極152的尺寸為51cm到41.3cm，并且位于屏盤12的中心下約36cm的位置處。背部電極152相對于受光器36的OC層被以正電位35kV偏置。背部電極152具有在其中的開口，用以在該開口上安裝具有被間隔約17.8cm距離的兩個噴嘴162的旋轉(zhuǎn)噴嘴組件161。熒光物質(zhì)在屏盤12上的淀積的均勻性通過調(diào)節(jié)旋轉(zhuǎn)噴嘴的角度取向來控制，如1995年12月19日頒發(fā)給Riddle等人的U.S.5477285中所述那樣。
如上所述，從熒光物質(zhì)饋送器54，例如借助于未示出的螺旋推運器將所需發(fā)光顏色的干粉顆粒形式的熒光材料分散到通過管56而進(jìn)入文氏管58的空氣流中，在文氏管中空氣流與熒光顆?；旌稀？諝?熒光物質(zhì)混合物被引導(dǎo)到管60中，由于熒光顆粒與管60的內(nèi)表面的接觸，該管60將摩擦電荷賦予熒光物質(zhì)粉末。例如，為使熒光材料帶正電，使用聚乙烯管。該空氣-熒光物質(zhì)混合物被導(dǎo)引到旋轉(zhuǎn)噴嘴組件161中，并從噴嘴162中射出。如上所述，為防止熒光材料淀積在矩形屏盤12的內(nèi)側(cè)壁上，利用兩對屏盤裙部側(cè)壁屏蔽件66和68來形成一個矩形屏蔽陣列。使用這些參數(shù)進(jìn)行熒光物質(zhì)淀積的時間是約45秒。
在兩個屏盤12上利用50個顯影周期進(jìn)行測試。在一個屏盤上，屏蔽件66和68不具有設(shè)置在屏蔽件與屏盤側(cè)壁相對的表面上的接地板70。在另一個屏盤上，屏蔽件66和68具有在其上的接地板70。在兩組測試中，屏蔽件66和68都是可調(diào)整的而不是固定的。通過在每個屏盤上限定兩個80密爾×80密爾的樣本區(qū)域，并在一個區(qū)域中測量熒光顆粒的大塊聚集的數(shù)量，在另一個區(qū)域中測量交叉玷污的梁，由此確定接地板70的有效性。交叉玷污被定義為給定顏色的、淀積在指定用于不同顏色的線位置中的熒光顆粒的數(shù)量。聚集樣品區(qū)域位于屏盤的8點鐘對角線的角部，而交叉玷污樣品區(qū)域位于屏盤6點鐘邊緣處。在表中概括了測試結(jié)果。表
可以看出，屏蔽件66和68上接地板70的存在使屏盤缺陷顯著減少。
權(quán)利要求
1.一種用于借助合適的摩擦帶電的干粉狀發(fā)光熒光材料，使在受光器上形成的靜電電荷潛像顯影的裝置，所述受光器設(shè)置在具有四周側(cè)壁的屏盤的內(nèi)表面上，所述裝置包括顯影箱，具有側(cè)壁，在其一端由底部部件封閉，在其另一端由屏盤支撐件封閉，所述屏盤支撐件具有從中穿過的開口，以提供通向屏盤的入口，背部電極，設(shè)置在所述顯影箱內(nèi)，與屏盤的內(nèi)表面相隔，但又與之平行，所述背部電極具有施加在其上的一個電位，從而在所述背部電極和所述受光器之間建立一個漂移電場，至少一個噴注器，用于將所述摩擦帶電的干粉狀發(fā)光熒光材料噴注到所述顯影箱中，所述背部電極和所述屏盤之間，所述摩擦帶電的熒光材料具有與施加到所述背部電極上的電位同樣極性的電荷，由此所述熒光材料被引向所述屏盤上的所述受光器，以及屏盤裙部側(cè)壁屏蔽件陣列，圍繞所述屏盤的所述四周側(cè)壁而設(shè)置，以排斥來自所述屏盤的四周側(cè)壁的所述摩擦帶電的熒光材料。
2.如權(quán)利要求1的裝置，其特征在于，所述屏盤裙部側(cè)壁屏蔽件陣列包括兩對絕緣部件。
3.如權(quán)利要求2的裝置，其特征在于，所述絕緣部件進(jìn)一步包括位于所述絕緣部件的每一個的一個表面上的接地板。
4.如權(quán)利要求3的裝置，其特征在于，所述接地板設(shè)置在所述絕緣部件面對所述屏盤的所述四周側(cè)壁的表面上。
5.一種用于借助合適的摩擦帶電的干粉狀發(fā)光熒光材料，使受光器上的電荷潛像顯影的方法，所述受光器設(shè)置于陰極射線管(CRT)屏盤內(nèi)表面上，所述屏盤具有四周側(cè)壁，所述方法包括下列步驟在顯影器的屏盤支撐件上放置所述屏盤，所述顯影器包括屏盤裙部側(cè)壁屏蔽件陣列，圍繞所述屏盤的所述四周側(cè)壁而設(shè)置；箱體，具有箱側(cè)壁，其一端由底部部件封閉、另一端由所述屏盤支撐件封閉，所述屏盤支撐件具有從中穿過的開口，以提供通向所述屏盤的入口；背部電極，設(shè)置在所述顯影箱內(nèi)，與所述屏盤內(nèi)表面相隔，但又與之平行；將所述受光器接地；在所述屏盤裙部側(cè)壁屏蔽件陣列上提供電荷，以防止所述摩擦帶電的熒光材料在其上累積；向所述背部電極提供一個正電位，以在所述背部電極和所述受光器之間建立一個漂移電場；以及將所述摩擦帶電的干粉狀發(fā)光熒光材料噴注到所述顯影箱內(nèi)，所述背部電極和所述屏盤之間，所述摩擦帶電的熒光材料具有與施加到所述背部電極上的電位同樣極性的電荷，由此將所述熒光材料引向所述屏盤上的所述受光器。
全文摘要
本發(fā)明包括一種用于使在受光器(36)上形成的電荷潛像顯影的裝置(40,140),該受光器(36)設(shè)置在屏盤(12)的內(nèi)表面上。該裝置(40,140)包括顯影箱(42),該顯影箱(42)具有側(cè)壁(44),在其一端由底部部件(46)封閉,在其另一端由屏盤支撐件(48)封閉,該屏盤支撐件(48)具有從中穿過的開口(50),以提供通向屏盤(12)的入口。背部電極(52)具有施加在其上的電位,從而在背部電極和接地的受光器(36)之間建立一個靜電漂移電場。具有與施加到背部電極(52)上的電位同樣極性的電荷的、摩擦帶電的干粉狀發(fā)光熒光材料被噴注到顯影箱(42)內(nèi),背部電極(52)和屏盤(12)之間。借助于所施加的靜電漂移電場,摩擦帶電的熒光材料被引向屏盤(12)上的受光器(36)。屏盤裙部側(cè)壁屏蔽件(66,68)圍繞屏盤(12)的四周側(cè)壁(18)而設(shè)置,以排斥來自屏盤側(cè)壁(18)的摩擦帶電的熒光材料。
文檔編號G03G15/08GK1322370SQ99811753
公開日2001年11月14日 申請日期1999年7月29日 優(yōu)先權(quán)日1998年8月7日
發(fā)明者D·P·齊爾姆帕, I·戈羅格, P·M·里特, 小·O·H·羅伯茨, 小·L·P·維爾布爾 申請人:湯姆森許可公司