一種金屬成膜掩膜板的清洗方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體元器件制造技術(shù)，尤其涉及一種掩膜板清洗方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在大尺寸OLED陰極金屬材料的蒸鍍制程中，隨著蒸鍍的持續(xù)，掩膜板上堆積了大量的金屬材料。為擔(dān)心堆積量太大而脫落污染蒸鍍腔室，該掩膜板需要定期清洗。由于該掩膜板的清洗周期較其它掩膜板有機(jī)物的清洗周期長，目前的金屬成膜掩膜板的清洗是運(yùn)用特殊的方式或者是特殊的設(shè)備清洗，一般企業(yè)沒有配備該設(shè)備，只有特殊化學(xué)廠家擁有，一般情況下是由外部專門清洗金屬材料的廠家清洗。但由于大尺寸的掩膜板的運(yùn)輸比較麻煩，且也需要一定的費(fèi)用。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明設(shè)計(jì)一種新的方法來將金屬成膜掩膜板運(yùn)用在常規(guī)清洗機(jī)中清洗。
[0004]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題通過以下技術(shù)方案予以實(shí)現(xiàn):所述清洗方法包括如下步驟:
S1:在掩膜板的表面蒸鍍一層有機(jī)層；
52:將步驟SI得到具有有機(jī)層的掩膜板放入金屬成膜腔體進(jìn)行金屬蒸鍍；
53:將步驟S2得到的掩膜板放入有機(jī)溶液中清洗。
[0005]進(jìn)一步地，所述步驟SI中通過將掩膜板置入有機(jī)物蒸鍍腔室內(nèi)蒸鍍形成有機(jī)層。
[0006]進(jìn)一步地，所述步驟S3中通過將掩膜板放入裝有有機(jī)溶液的清洗機(jī)中清洗。
[0007]進(jìn)一步地，所述有機(jī)層厚度為300A?500 Ao
[0008]進(jìn)一步地，所述步驟SI中有機(jī)層為酞菁銅層或N，N’ - 二苯基-N，N’ - (1-萘基)-1，I’ -聯(lián)苯-4，4’ - 二胺層。
[0009]進(jìn)一步地，所述步驟S3中的有機(jī)物溶液為N-甲基吡咯烷酮、環(huán)己酮系列藥劑中的任種O
[0010]進(jìn)一步地，完成步驟S3后還包括對掩膜板進(jìn)行干燥步驟。
[0011]進(jìn)一步地，所述干燥為加熱干燥、通入氣體進(jìn)行干燥、異丙醇干燥、氫氟醚干燥中的任種。
[0012]本發(fā)明的有益效果為:通過此種方法可以簡化金屬成膜掩膜板的清洗過程，提高清洗效率，同時(shí)省去尋找專門廠家進(jìn)行清洗造成運(yùn)輸不便的問題，節(jié)約清洗掩膜板的成本。
【附圖說明】
[0013]圖1為本發(fā)明實(shí)施例的原理圖。
[0014]圖2為本發(fā)明實(shí)施例的原理分解圖。
【具體實(shí)施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)的說明。參照本發(fā)明實(shí)施例圖1所示，為解決大尺寸金屬成膜掩膜板清洗的問題，提供如下方法:
第一步將掩膜板I放入有機(jī)物蒸鍍腔室中，所述掩膜板材料為invar36(因瓦合金)，但不僅限于此。在蒸鍍前將有機(jī)物蒸鍍腔室抽成高真空，通過一次l~2min的真空蒸鍍，在掩膜板I整個(gè)表面上蒸鍍一層有機(jī)材料，形成有機(jī)層2。該有機(jī)層2要蒸鍍均勻，其厚度在蒸鍍均勻的基礎(chǔ)上優(yōu)選輕薄，防止有機(jī)層2過厚在后期過程中部分脫落，固優(yōu)選厚度為300A?500 A，但不僅限于此。所述有機(jī)材料可以為實(shí)際生產(chǎn)中所需要的任何有機(jī)材料，如:CuPc(酞菁銅)或NBP (N，N’-二苯基-N，N’-(1-萘基)-1，I’-聯(lián)苯-4，4’-二胺)中一種，但不僅限于此。
[0016]第二步，將已經(jīng)蒸鍍一層有機(jī)層2的掩膜板I送入金屬成膜腔室內(nèi)，進(jìn)行金屬蒸鍍，這樣金屬材料附著在該掩膜板I的有機(jī)層2上，形成金屬材料堆積3，所述金屬堆積3的覆蓋范圍小于等于有機(jī)層2的覆蓋范圍，金屬堆積3中金屬可以為鎂或銀，但不僅限于此。
[0017]第三步，在成膜過后，清洗時(shí)，直接將將該掩膜板I放在常規(guī)有機(jī)物的清洗機(jī)中清洗；常規(guī)有機(jī)物清洗液可以為酮類例如NMP (N-甲基吡咯烷酮)或HC(環(huán)己酮)系列藥劑中任意一種，使用NMP (N-甲基吡咯烷酮)溶劑后還需要使用去離子水進(jìn)行沖洗，再經(jīng)過KOH(氫氧化鉀)的拋光工藝。目前的有機(jī)物清洗機(jī)幾乎可以清洗市面上存在的各種有機(jī)材料，如非特殊有機(jī)材料均可以使用清洗機(jī)進(jìn)行清洗。
[0018]如圖2所示，該掩膜板I上有兩層材料，內(nèi)層為有機(jī)層2，外層為金屬堆積3，在清洗過程中，該掩膜板I中的有機(jī)層2與有機(jī)物清洗液進(jìn)行溶解，故有機(jī)層2直接從掩膜板I上剝離，其剝離過程中，自動帶走上層金屬堆積3，這樣金屬材料也被清除。此有機(jī)物清洗液與掩膜板組成材料不會發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，保護(hù)了掩膜板I的同時(shí)洗掉掩膜板I外部的有機(jī)層2與金屬堆積3。此種清洗方法利用有機(jī)物與有機(jī)溶劑相溶解的方式可以減少金屬成膜掩膜板浸泡在特殊金屬清洗溶劑中的時(shí)間(成膜的金屬是鎂銀，所以一般采用的是強(qiáng)堿性溶劑)，加快掩膜板的清洗時(shí)間，提高效率，同時(shí)保護(hù)掩膜板的使用壽命。
[0019]完成步驟S3后，需要將完成清洗的掩膜板I進(jìn)行干燥，其干燥方式可以采用加熱干燥，真空加熱干燥會使干燥效果更佳；也可以使用IPA (異丙醇)溶劑或HFE (氫氟醚)溶劑進(jìn)行干燥，這兩種溶劑具有吸水功能，同時(shí)揮發(fā)性大，適合用來作為干燥溶劑；還可以通入氣體進(jìn)行干燥，通入氣體可以為惰性氣體、臭氧、氮?dú)獾鹊粌H限于此。
[0020]本發(fā)明的工作原理為:在金屬成膜前，先在掩膜板上面蒸鍍一層有機(jī)層，然后再用掩模板蒸鍍金屬材料，形成金屬堆積，再將鍍有機(jī)物層并在有機(jī)層上覆蓋金屬堆積的掩膜板放入有機(jī)物清洗機(jī)中清洗干燥后得到干凈的掩膜板。
[0021]通過此種方法進(jìn)行掩膜板清洗，不需送到專門清洗的廠家，使得清洗過程變得簡便，同時(shí)節(jié)省費(fèi)用。
[0022]以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本發(fā)明的實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對本發(fā)明專利范圍的限制，但凡采用等同替換或等效變換的形式所獲得的技術(shù)方案，均應(yīng)落在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種金屬成膜掩膜板的清洗方法，其特征在于，所述清洗方法包括如下步驟: S1:在掩膜板的表面蒸鍍一層有機(jī)層； 52:將步驟SI得到具有有機(jī)層的掩膜板放入金屬成膜腔體進(jìn)行金屬蒸鍍； 53:將步驟S2得到的掩膜板放入有機(jī)溶液中清洗。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬成膜掩膜板的清洗方法，其特征在于，所述步驟SI中通過將掩膜板置入有機(jī)物蒸鍍腔室內(nèi)蒸鍍形成有機(jī)層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬成膜掩膜板的清洗方法，其特征在于，所述步驟S3中通過將掩膜板放入裝有有機(jī)溶液的清洗機(jī)中清洗。
4.如權(quán)利要求3所述的金屬成膜掩膜板的清洗方法，其特征在于，所述有機(jī)層厚度為300A ?500 A0
5.如權(quán)利要求1所述的金屬成膜掩膜板的清洗方法，其特征在于，所述步驟SI中有機(jī)層為酞菁銅層或N，N’ - 二苯基-N，N’ - (1-萘基)-1，I’ -聯(lián)苯-4，4’ - 二胺層。
6.如權(quán)利要求1所述的金屬成膜掩膜板的清洗方法，其特征在于，所述步驟S3中的有機(jī)物溶液為N-甲基吡咯烷酮、環(huán)己酮系列藥劑中的任一一種。
7.如權(quán)利要求1所述的金屬成膜掩膜板的清洗方法，其特征在于，完成步驟S3后還包括對掩膜板進(jìn)行干燥步驟。
8.如權(quán)利要求7所述的金屬成膜掩膜板的清洗方法，其特征在于，所述干燥為加熱干燥、通入氣體進(jìn)行干燥、異丙醇干燥、氫氟醚干燥中的任--種。
【專利摘要】本發(fā)明公開一種金屬成膜掩膜板的清洗方法，包括以下3個(gè)步驟：S1：在掩膜板的表面蒸鍍一層有機(jī)層；S2：將步驟S1得到的蒸鍍有有機(jī)層的掩膜板放入金屬成膜腔體進(jìn)行金屬蒸鍍；S3：將步驟S2得到的掩膜板放入有機(jī)溶液中清洗。本發(fā)明可以將金屬成膜掩膜板的清洗運(yùn)用在有機(jī)溶劑的清洗機(jī)中清洗，有效防止運(yùn)輸過程中引起的不便，同時(shí)可以節(jié)約外送清洗掩膜板的成本。
【IPC分類】G03F1-82
【公開號】CN104614933
【申請?zhí)枴緾N201410812632
【發(fā)明人】周揚(yáng)川, 柯賢軍, 吳俊雄, 冉應(yīng)剛, 蘇君海, 黃亞清, 李建華
【申請人】信利（惠州）智能顯示有限公司
【公開日】2015年5月13日
【申請日】2014年12月24日