。此外，基板載臺(tái)裝置PSTb中，為了將Y步進(jìn)定盤20驅(qū)動(dòng)在Y軸方向，而將構(gòu)成Y線性馬達(dá)的Y固定子48在Y軸方向的尺寸設(shè)定為較上述第1?第3實(shí)施例長(zhǎng)，但為了說(shuō)明方便而使用相同符號(hào)。
[0115]基板載臺(tái)裝置PSTc中，與上述第2實(shí)施例同樣地，由于Y步進(jìn)定盤20與Y步進(jìn)導(dǎo)件50完全分離，因此防止例如因驅(qū)動(dòng)一對(duì)X托架70時(shí)的反作用力而產(chǎn)生的振動(dòng)等傳達(dá)至Y步進(jìn)定盤20。因此，在曝光動(dòng)作中一邊將基板支承構(gòu)件60以長(zhǎng)行程驅(qū)動(dòng)于X軸方向，一邊使用一對(duì)Y音圈馬達(dá)29y將基板支承構(gòu)件60驅(qū)動(dòng)于Y軸方向(或θ ζ方向)時(shí)因作用于Y步進(jìn)導(dǎo)件50的Y軸方向的反作用力而產(chǎn)生的振動(dòng)等不會(huì)傳達(dá)至Y步進(jìn)定盤20。此外，相對(duì)于Y步進(jìn)定盤20搭載在裝置本體30上，由于Y固定子48固定在底座定盤40上，而Y固定子48與Y可動(dòng)子318b的間隔有可能變化，因此驅(qū)動(dòng)Y步進(jìn)定盤20的Y線性馬達(dá)最好使用無(wú)心線性馬達(dá)。
[0116]《第5實(shí)施例》
[0117]其次根據(jù)圖17及圖18說(shuō)明第5實(shí)施例形態(tài)的基板載臺(tái)裝置PSTd。第5實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置PSTd與上述第1實(shí)施例形態(tài)相比較，Y步進(jìn)定盤20的驅(qū)動(dòng)方向不同。第5實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置PSTd中，Y步進(jìn)定盤20通過(guò)安裝于Y步進(jìn)導(dǎo)件50的多個(gè)永久磁石418a與安裝于Y步進(jìn)定盤20上的多個(gè)永久磁石418b之間所產(chǎn)生的斥力(反彈力)，而在無(wú)機(jī)械式接觸的狀態(tài)(非接觸)被按壓于Y步進(jìn)導(dǎo)件50上，藉此與Y步進(jìn)導(dǎo)件50 —起在Y軸方向移動(dòng)向。
[0118]永久磁石418a，如圖17所示在一對(duì)空氣懸浮裝置中用底座53各自的+Y側(cè)側(cè)面及-Y側(cè)側(cè)面各固定有一個(gè)。又，永久磁石418b，相對(duì)于上述多個(gè)永久磁石418a固定于Y步進(jìn)定盤20的X柱21的內(nèi)側(cè)面。又，永久磁石418a與永久磁石418b配置成彼此對(duì)向的對(duì)向面的磁極成為相同(S極與S極、或N極與N極對(duì)向)。此外，永久磁石418a及永久磁石418b的數(shù)目及配置不限于此，可適當(dāng)變更。
[0119]基板載臺(tái)裝置PSTd中，Y步進(jìn)導(dǎo)件50被Y線性馬達(dá)在一對(duì)底座定盤40上驅(qū)動(dòng)于Y軸方向后，通過(guò)在彼此對(duì)向的永久磁石418a與永久磁石418b之間產(chǎn)生的磁力反彈力，而在于形成Y步進(jìn)定盤20與Y步進(jìn)導(dǎo)件50之間形成有既定空隙(間隙/隙縫)的狀態(tài)下(無(wú)機(jī)械式接觸)，Y步進(jìn)定盤20被按壓于Y步進(jìn)導(dǎo)件50，而與該Y步進(jìn)導(dǎo)件50 —體移動(dòng)在Y軸方向。第5實(shí)施形態(tài)的基板載臺(tái)裝置PSTd中，除了有與上述第3實(shí)施例所得的效果相同的效果以外，能在不供應(yīng)加壓氣體或電氣等能量的情況下于Y步進(jìn)定盤20與Y步進(jìn)導(dǎo)件50之間形成既定空隙(間隙/隙縫)，而能使裝置構(gòu)成簡(jiǎn)單。又，也無(wú)灰塵產(chǎn)生、振動(dòng)傳達(dá)的可能性。
[0120]此外，包含基板載臺(tái)裝置在內(nèi)的液晶曝光裝置的構(gòu)成不限于上述實(shí)施形態(tài)例所記載者的，亦可也可適當(dāng)變更。例如，圖19(A)所示，基板支承構(gòu)件60b也亦可使用能相對(duì)X支承構(gòu)件61b微幅移動(dòng)于Z軸方向的保持構(gòu)件161b來(lái)吸附保持基板P。保持構(gòu)件161b，是由延伸于X軸方向的棒狀構(gòu)件構(gòu)成，于其上面具有未圖示的吸附墊(真空吸引用的配管等系未圖示)。在保持構(gòu)件161b下面的長(zhǎng)度方向兩端部附近，安裝有分別往下方(-Z側(cè))突出的銷162b。銷162b插入形成于X支承構(gòu)件61b上面的凹部?jī)?nèi)，而從下方被支承于收容于該凹部?jī)?nèi)的壓縮線圈彈簧。藉此，保持構(gòu)件161b (亦即即基板P)能相對(duì)X支承構(gòu)件61b移動(dòng)于Z軸方向(上下方向)。如前所述，上述第1?第5實(shí)施例形態(tài)中，如圖2等所示，由于定點(diǎn)載臺(tái)80搭載于裝置本體30 —部分即定點(diǎn)載臺(tái)架臺(tái)35，Y步進(jìn)導(dǎo)件50透過(guò)一對(duì)架臺(tái)42搭載于底座定盤40上，因此基板支承構(gòu)件60b的Z位置(基板支承構(gòu)件60b平行地沿XY平面移動(dòng)時(shí)的移動(dòng)平面的Z位置)與空氣懸浮裝置59的Z位置雖有可能例如因防振裝置34的作用而變化，但圖19(A)所示的基板支承構(gòu)件60b由于不將基板P在Z軸方向拘束，因此假使基板支承構(gòu)件60b的Z位置與定點(diǎn)載臺(tái)80的Z位置偏移，基板P亦會(huì)依據(jù)空氣懸浮裝置59的Z位置而相對(duì)X支承構(gòu)件61b在Z軸方向移動(dòng)(上下動(dòng))于Z軸方向，因此可抑制對(duì)基板P的Z軸方向的負(fù)荷。此外，也可如圖19(B)的基板支承構(gòu)件60c所示，使用多個(gè)平行板彈簧裝置162c使具有未圖示吸附墊的保持構(gòu)件161c相對(duì)X支承構(gòu)件61b在Z軸方向微幅移動(dòng)。
[0121]又，基板支承構(gòu)件60雖然是從下方吸附保持基板P的構(gòu)成，但并不限于此，也可通過(guò)例如將基板P的端部往Y軸方向(從一方的X支承構(gòu)件61側(cè)往另一方的X支承構(gòu)件61偵D按壓的按壓裝置保持基板。此情形下，能對(duì)基板P的大致全面進(jìn)行曝光處理。
[0122]又，直進(jìn)導(dǎo)引Y步進(jìn)定盤20、Y步進(jìn)導(dǎo)件50或X托架70的一軸導(dǎo)引裝置，也可是包含由例如石材、陶瓷等形成的導(dǎo)引構(gòu)件與多個(gè)氣體靜壓軸承(空氣軸承)的非接觸一軸導(dǎo)引裝置。
[0123]又，作為驅(qū)動(dòng)Y步進(jìn)定盤20、Y步進(jìn)導(dǎo)件50或X托架70的驅(qū)動(dòng)裝置，也可是組合有滾珠螺桿與旋轉(zhuǎn)馬達(dá)的進(jìn)給裝置、組合有皮帶(或繩)與旋轉(zhuǎn)馬達(dá)的皮帶驅(qū)動(dòng)裝置等。
[0124]又，基板支承構(gòu)件60雖然通過(guò)從空氣軸承64噴出的加壓氣體而懸浮在Y步進(jìn)定盤20上，但并不限于此，例如也可使空氣軸承64具有吸引功能，吸引基板支承構(gòu)件60與X導(dǎo)件24間的氣體而對(duì)基板支承構(gòu)件60施以預(yù)負(fù)荷，而使基板支承構(gòu)件60與X導(dǎo)件24間的空隙(間隙/隙縫)變窄，以提高基板支承構(gòu)件60與X導(dǎo)件24間的氣體剛性。
[0125]又，基板支承構(gòu)件60的位置信息也可使用線性編碼器系統(tǒng)求出。又，也可使用線性編碼器系統(tǒng)獨(dú)立求出基板支承構(gòu)件60所具有的X支承構(gòu)件61各自的位置信息，此情形下，也可不將一對(duì)X支承構(gòu)件61彼此機(jī)械式地連結(jié)(不需要連結(jié)構(gòu)件62)。
[0126]又，定點(diǎn)載臺(tái)80 (參照?qǐng)D8)中，驅(qū)動(dòng)空氣夾頭裝置88的Z音圈馬達(dá)95的固定子95a，在其驅(qū)動(dòng)反作用力小至可忽視對(duì)裝置本體30造成影響時(shí)，也可固定于定點(diǎn)載臺(tái)架臺(tái)35ο
[0127]又，定點(diǎn)載臺(tái)80中，也可將空氣夾頭裝置88構(gòu)成為可移動(dòng)在X軸方向，在開(kāi)始掃描曝光動(dòng)作前，預(yù)先使真空預(yù)負(fù)荷空氣軸承90位于基板Ρ的移動(dòng)方向上游側(cè)(例如在圖9 (Α)所示的第1照射區(qū)域S1的曝光前為曝光區(qū)域ΙΑ的+Χ側(cè))，并在該位置預(yù)先進(jìn)行基板Ρ上面的面位置調(diào)整，伴隨著基板Ρ往掃描方向移動(dòng)，使空氣夾頭裝置88與基板Ρ (基板支承構(gòu)件60)同步移動(dòng)(曝光中，使之在緊鄰曝光區(qū)域IA的下方停止)。
[0128]又，作為通過(guò)Y步進(jìn)導(dǎo)件50使Y步進(jìn)定盤20移動(dòng)的方式，也可組合上述第1?3及第5實(shí)施形態(tài)的驅(qū)動(dòng)方式。例如，如上述第1實(shí)施例，并用彎曲裝置18(參照?qǐng)D2)與推件裝置118 (圖11)，或并用推件裝置118與一組永久磁石418a、418b (圖17)，通過(guò)Y步進(jìn)導(dǎo)件50使Y步進(jìn)定盤20移動(dòng)。
[0129]又，也可設(shè)置質(zhì)量塊，在使用線性馬達(dá)驅(qū)動(dòng)一對(duì)X托架70或Y步進(jìn)導(dǎo)件50 (及第4實(shí)施例的Y步進(jìn)定盤20)等可動(dòng)構(gòu)件時(shí)減低其驅(qū)動(dòng)反作用力。
[0130]又，照明光，不限于ArF準(zhǔn)分子雷射光(波長(zhǎng)193nm)，也能使用KrF準(zhǔn)分子雷射光(波長(zhǎng)248nm)等紫外光、F2雷射光(波長(zhǎng)157nm)等真空紫外光。又，作為照明光，可使用例如諧波，它是摻有鉺(或鉺及鐿兩者)的光纖放大器，將從DFB半導(dǎo)體雷射或纖維雷射振蕩出的紅外線區(qū)或可見(jiàn)區(qū)的單一波長(zhǎng)雷射光放大，并以非線形光學(xué)結(jié)晶將其轉(zhuǎn)換波長(zhǎng)成紫外光。又，也可使用固態(tài)雷射(波長(zhǎng):355nm、266nm)等。
[0131]又，上述各實(shí)施例中，雖已說(shuō)明投影光學(xué)系統(tǒng)PL具備多支投影光學(xué)系統(tǒng)的多透鏡方式的投影光學(xué)系統(tǒng)，但投影光學(xué)系統(tǒng)的支數(shù)不限于此，只要有一支以上即可。又，不限于多透鏡方式的投影光學(xué)系統(tǒng)，也可是使用了 Offner型的大型反射鏡的投影光學(xué)系統(tǒng)等。
[0132]又，上述實(shí)施形態(tài)中，雖然說(shuō)明使用投影倍率為等倍系統(tǒng)者來(lái)作為投影光學(xué)系統(tǒng)PL，但并不限于此，投影光學(xué)系統(tǒng)也可是放大系統(tǒng)及縮小系統(tǒng)的任意一個(gè)。
[0133]又，上述實(shí)施例中，雖使用在具光透射性的基板上形成既定遮光圖案(或相位圖案，減光圖案)的光透射性光罩(標(biāo)線片)，但亦可使用例如美國(guó)發(fā)明專利第6，778，257號(hào)說(shuō)明書(shū)所揭示的電子光罩來(lái)代替此標(biāo)線片，該電子光罩(可變成形光罩)是根據(jù)欲曝光圖案的電子資料來(lái)形成透射圖案、反射圖案、或發(fā)光圖案，它是使用例如非發(fā)光型影像顯示元件(也稱為空間光調(diào)變器)的一種的DMD(Digital Micro-mirror Device)的可變成形光罩。
[0134]此外，曝光裝置，在適用為將尺寸(包含外徑、對(duì)角線、一邊的至少一個(gè))為500_以上的基板、例如液晶顯示元件等平板顯示器(FPD)用的大型基板曝光的曝光裝置時(shí)，特別有效。
[0135]又，曝光裝置也可適用于步進(jìn)重復(fù)方式的曝光處理、步進(jìn)接合方式的曝光裝置。
[0136]又，曝光裝置用途并不限定于將液晶顯示元件圖案轉(zhuǎn)印至角型玻璃板的液晶用曝光裝置，也可廣泛適用于用來(lái)制造例如半導(dǎo)體制造用的曝光裝置、薄膜磁頭、微型機(jī)器及DNA晶片等的曝光裝置。又，除了制造半導(dǎo)體元件等微型元件以外，為了制造用于光曝光裝置、EUV曝光裝置、X射線曝光裝置及電子射線曝光裝置等的光罩或標(biāo)線片，也能將上述各實(shí)施形態(tài)適用于用以將電路圖案轉(zhuǎn)印至玻璃基板或硅晶圓等的曝光裝置。此外，作為曝光對(duì)象的物體并不限玻璃板，也可以是例如晶圓、陶瓷基板、膜構(gòu)件、或者空白光罩等其他物體。又，曝光對(duì)象物為平板顯示器用的基板時(shí)，該基板的厚度不特別限定，也包含例如膜狀(具有可撓性的片狀構(gòu)件)者。
[0137]又，作為使物體沿既定二維平面移動(dòng)的移動(dòng)體裝置(載臺(tái)裝置)，并不限于曝光裝置，也可使用例如用于物體的檢查的物體檢查裝置等進(jìn)行物體相關(guān)的既定處理的物體處理駐g筆
目.寸ο
[0138]此外，援用與至此為止的說(shuō)明中所引用的曝光裝置等相關(guān)的所有美國(guó)發(fā)明專利申請(qǐng)公開(kāi)說(shuō)明書(shū)及美國(guó)發(fā)明專利說(shuō)明書(shū)的揭示作為本說(shuō)明書(shū)記載的一部分。
[0139]《元件制造方法》
[0140]其次，說(shuō)明在微影步驟使用上述各實(shí)施例的曝光裝置的微型元件的制造方法。
[0141]上述各實(shí)施例的曝光裝置，可藉由在板體(玻璃基板)上形成既定圖案(電路圖案、電極圖案等)而制得作為微型元件的液晶顯示元件。
[0142]〈圖案形成步驟〉
[0143]首先，是執(zhí)行使用上述各實(shí)施形態(tài)的曝光裝置將圖案像形成于感光性基板(涂布有光阻的玻璃基板等)的所謂光微影步驟。憑借此光微影步驟，在感光性基板上形成包含多個(gè)電極等的既定圖案。其后，經(jīng)曝光的基板，經(jīng)過(guò)顯影步驟、蝕刻步驟、光阻剝離步驟等各步驟而于基板上形成既定圖案。
[0144]〈彩色濾光片形成步驟〉
[0145]其次，形成與R(Red)、G(Green)、B(Blue)對(duì)應(yīng)的三個(gè)點(diǎn)的組多數(shù)個(gè)排列成矩陣狀、或?qū)、G、B的三條條紋的濾光器組多個(gè)排列于水平掃描線方向的彩色濾光片上。
[0146]〈單元組裝步驟〉
[0147]接著，使用在圖案形成步驟制得的具有既定圖案的基板、以及在彩色濾光片形成步驟制得的彩色濾光片等組裝液晶面板(液晶單元)。例如于在圖案形成步驟制得的具有既定圖案的基板與在彩色濾光片形成步驟制得的彩色濾光片之間注入液晶，而制造液晶面板(液晶單元)。
[0148]〈模組組裝步驟〉
[0149]其后，安裝用以進(jìn)行已組裝完成的液晶面板(液晶單元)的顯示動(dòng)作的電路、背光等各零件，而完成液晶顯示元件。此時(shí)，在圖案形成步驟中，由于是使用上述各實(shí)施例的曝光裝置而能以高產(chǎn)能且高精度進(jìn)行板體的曝光，其結(jié)果能提升液晶顯示元件的生產(chǎn)性。
[0150]產(chǎn)業(yè)上的可利用性
[0151 ] 如以上說(shuō)明，本發(fā)明的移動(dòng)體裝置適于沿既定二維平面驅(qū)動(dòng)物體。又，本發(fā)明的物體處理裝置適于對(duì)物體進(jìn)行既定處理。又，本發(fā)明的曝光裝置適于于物體形成既定圖案。又，本發(fā)明的平板顯示器的制造方法適于制造平板顯示器。又，本發(fā)明的元件制造方法適于生產(chǎn)微型元件。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種移動(dòng)體裝置，其具備: 第1移動(dòng)體，其保持沿與水平面平行的既定二維平面配置的物體的端部，并且于至少所述二維平面內(nèi)的第1方向以既定行程移動(dòng)； 第2移動(dòng)體，其包含在所述第1移動(dòng)體的在所述第1方向的可移動(dòng)范圍內(nèi)從下方支承所述物體的物體支承構(gòu)件，并且能與所述第1移動(dòng)體一起移動(dòng)于在所述二維平面內(nèi)與所述第