顯示面板的信號(hào)線(xiàn)制作方法
【專(zhuān)利說(shuō)明】
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及平面顯示領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示面板的信號(hào)線(xiàn)制作方法。
【【背景技術(shù)】】
[0002]在薄膜晶體管液晶顯不器(Thin-FilmTransistor Liquid Crystal Display,TFT-LCD)的制造工藝中，線(xiàn)距是一個(gè)很重要的參數(shù)，它直接影響了很多TFT-LCD的特性，比如溝道長(zhǎng)度的最小值直接影響薄膜晶體管驅(qū)動(dòng)能力；掃描線(xiàn)與信號(hào)線(xiàn)的間距的最小值會(huì)影響扇出區(qū)域的走線(xiàn)設(shè)計(jì)，進(jìn)而影響薄膜晶體管液晶顯示器的邊框?qū)挾?、信?hào)延遲等液晶面板的特性。
[0003]隨著液晶面板向精細(xì)化、高品質(zhì)方向發(fā)展，也要求線(xiàn)距越做越小。通常情況下薄膜晶體管液晶顯示器的制程工藝中線(xiàn)距的最小值都是由曝光機(jī)的設(shè)備能力決定的。請(qǐng)參考圖1所示，在制作金屬線(xiàn)的過(guò)程中時(shí)，如果所要求的金屬線(xiàn)的線(xiàn)距超過(guò)曝光機(jī)設(shè)備能力時(shí)，金屬層9上的光阻90將無(wú)法完全依照掩膜上的圖案完全曝開(kāi)，爾后顯影便會(huì)殘留一部分光阻M，而導(dǎo)致信號(hào)線(xiàn)制作失敗。
[0004]如果要對(duì)上述問(wèn)題進(jìn)行改進(jìn)，現(xiàn)有技術(shù)通常是進(jìn)行設(shè)備改良，另一方面也可以通過(guò)特殊設(shè)計(jì)進(jìn)行補(bǔ)償。然而，前者需要很大的改良費(fèi)用，后者則會(huì)增加掩膜的制造成本且線(xiàn)距減小幅度有限。
[0005]故，有必要提供一種顯示面板的信號(hào)線(xiàn)制作方法，以解決現(xiàn)有技術(shù)所存在的問(wèn)題?！?br/>【發(fā)明內(nèi)容】
】
[0006]有鑒于現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，本發(fā)明的主要目的在于提供一種顯示面板的信號(hào)線(xiàn)制作方法，其可在不改造曝光設(shè)備的前提下，最大限度的利用曝光設(shè)備的能力。
[0007]為達(dá)成本發(fā)明的前述目的，本發(fā)明提供一種完成小線(xiàn)距的顯示面板的信號(hào)線(xiàn)制作方法，顯示面板的信號(hào)線(xiàn)制作方法包含下列步驟:
[0008]步驟1:提供一金屬膜層；
[0009]步驟2:涂布一光阻層于所述金屬膜層上；
[0010]步驟3:對(duì)所述光阻層進(jìn)行曝光及顯影處理；
[0011 ]步驟4:對(duì)所述光阻層進(jìn)行灰化處理，以去除一定厚度的所述光阻層，進(jìn)而一并去除對(duì)應(yīng)曝光區(qū)域的殘留光阻，以形成圖案化的光阻層；以及
[0012]步驟5:對(duì)所述金屬膜層進(jìn)行蝕刻處理；以及
[0013]步驟6:去除所述圖案化的光阻層。
[0014]在本發(fā)明的一實(shí)施例中，步驟3使用一曝光機(jī)結(jié)合一掩膜對(duì)所述光阻層進(jìn)行局部曝光，其中所述掩膜的細(xì)縫圖案超過(guò)所述曝光機(jī)的曝光能力。
[0015]在本發(fā)明的一實(shí)施例中，步驟3進(jìn)行顯影處理時(shí)，使用顯影液將所述光阻層中受到曝光的光阻部分溶解去除;其中顯影處理后的光阻層對(duì)應(yīng)曝光區(qū)域的位置仍有殘留光阻
[0016]在本發(fā)明的一實(shí)施例中，所述金屬膜層是單一的金屬層或是復(fù)合金屬層。
[0017]在本發(fā)明的一實(shí)施例中，所述金屬膜層材質(zhì)選自銅、鋁、鉻、鉬、鉭或其合金。
[0018]在本發(fā)明的一實(shí)施例中，所述灰化處理是利用局部加熱的方式。
[0019]在本發(fā)明的一實(shí)施例中，所述灰化處理是利用激光照射的方式。
[0020]在本發(fā)明的一實(shí)施例中，所述灰化處理是利用氧電漿灰化工藝的方式。
[0021]本發(fā)明主要是在蝕刻工藝之前對(duì)不需要的殘留光阻額外進(jìn)行一灰化處理，以除去原本圖案化光阻層中不需要的殘留光阻，進(jìn)而在不改良曝光設(shè)備的前提下，制造出線(xiàn)距更小的信號(hào)線(xiàn)。
【【附圖說(shuō)明】】
[0022]圖1是示意在超過(guò)現(xiàn)有的曝光機(jī)設(shè)備能力下，進(jìn)行信號(hào)線(xiàn)制作工藝而導(dǎo)致光阻殘留的不意圖。
[0023]圖2是本發(fā)明一較佳實(shí)施例的顯示面板的信號(hào)線(xiàn)制作方法的步驟流程圖。
[0024]圖3A?3C是進(jìn)行本發(fā)明一較佳實(shí)施例的顯示面板的信號(hào)線(xiàn)制作方法的曝光、灰化處理及蝕刻的流程示意圖。
【【具體實(shí)施方式】】
[0025]為讓本發(fā)明上述目的、特征及優(yōu)點(diǎn)更明顯易懂，下文特舉本發(fā)明較佳實(shí)施例，并配合附圖，作詳細(xì)說(shuō)明如下。再者，本發(fā)明所提到的方向用語(yǔ)，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「內(nèi)」、「外」、「?jìng)?cè)面」等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語(yǔ)是用以說(shuō)明及理解本發(fā)明，而非用以限制本發(fā)明。
[0026]本發(fā)明的信號(hào)線(xiàn)制作方法適用于一般顯示面板(例如薄膜晶體管液晶顯示器)的信號(hào)線(xiàn)制作工藝，所述信號(hào)線(xiàn)可以是例如薄膜晶體管液晶顯示器的掃描線(xiàn)、數(shù)據(jù)線(xiàn)或其他以金屬制成的走線(xiàn)。所述信號(hào)線(xiàn)可以是單一的金屬層或是復(fù)合金屬層，材質(zhì)可選自銅、鋁、鉻、鉬、鉭等。
[0027]請(qǐng)參考圖2并同時(shí)配合圖3A?3C所示，其中圖2是本發(fā)明一較佳實(shí)施例的顯示面板的信號(hào)線(xiàn)制作方法的步驟流程圖，圖3A?3C是進(jìn)行本發(fā)明一較佳實(shí)施例的顯示面板的信號(hào)線(xiàn)制作方法的曝光、灰化處理及蝕刻的流程示意圖，本發(fā)明的顯示面板的信號(hào)線(xiàn)制作方法包含有下列步驟:
[0028]步驟1:提供一金屬膜層10，如圖3A所示，所述金屬膜層10可以是單一的金屬層或是復(fù)合金屬層，材質(zhì)可選自銅、鋁、鉻、鉬、鉭或其合金；
[0029]步驟2:涂布一光阻層11于所述金屬膜層10上；
[0030]步驟3:對(duì)所述光阻層11進(jìn)行曝光顯影處理；步驟3可使用一曝光機(jī)結(jié)合一掩膜對(duì)所述光阻層11進(jìn)行局部曝光，其中所述掩膜的細(xì)縫圖案超過(guò)所述曝光機(jī)的曝光能力;接著進(jìn)行顯影處理，使用顯影液將所述光阻層11中受到曝光的光阻部分溶解去除；由于掩膜的細(xì)縫圖案超過(guò)所述曝光機(jī)的曝光能力，顯影處理后的光阻層11對(duì)應(yīng)曝光區(qū)域的位置將仍有殘留光阻P;
[0031]步驟4、對(duì)所述光阻層11進(jìn)行灰化(Ashing)處理，以去除一定厚度的所述光阻層，進(jìn)而一并去除對(duì)應(yīng)曝光區(qū)域的殘留光阻P，從而圖案化所述光阻層；如圖3B所示，經(jīng)過(guò)灰化處理，圖3A中對(duì)應(yīng)曝光區(qū)域的殘留光阻P已被移除而形成預(yù)定所需的圖案化光阻層11 \所述灰化處理可以是利用局部加熱、激光照射、氧電楽灰化工藝(Oxygen plasma ashing)等方式使一定厚度的光阻層揮發(fā)，進(jìn)而去除掉所述殘留光阻P;
[0032]步驟5、對(duì)所述金屬膜層10進(jìn)行蝕刻處理；如圖3C所示，本步驟是通過(guò)金屬蝕刻除去暴露于圖案化光阻層11'之外的金屬膜層10部份，進(jìn)而圖案化所述金屬膜層10，形成金屬線(xiàn)路圖案；
[0033]步驟6、去除所述圖案化光阻層11\以形成導(dǎo)線(xiàn)；即在金屬蝕刻后，去除掉所述圖案化光阻層11 S留下所需的金屬線(xiàn)路圖案，完成顯示面板的信號(hào)線(xiàn)的制作。
[0034]由上述說(shuō)明可知，相較于現(xiàn)有技術(shù)無(wú)法制作超出曝光機(jī)設(shè)備能力的更小線(xiàn)距的信號(hào)線(xiàn)，本發(fā)明的顯示面板的信號(hào)線(xiàn)制作方法在蝕刻工藝之前對(duì)不需要的殘留光阻額外進(jìn)行一灰化處理，以除去原本圖案化光阻層中不需要的殘留光阻，進(jìn)而在不改良曝光設(shè)備的前提下，制造出線(xiàn)距更小的信號(hào)線(xiàn)，達(dá)到最大限度的利用曝光設(shè)備的能力的目的。
[0035]本發(fā)明已由上述相關(guān)實(shí)施例加以描述，然而上述實(shí)施例僅為實(shí)施本發(fā)明的范例。必需指出的是，已公開(kāi)的實(shí)施例并未限制本發(fā)明的范圍。相反地，包含于權(quán)利要求書(shū)的精神及范圍的修改及均等設(shè)置均包括于本發(fā)明的范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種顯示面板的信號(hào)線(xiàn)制作方法，其特征在于:所述顯示面板的信號(hào)線(xiàn)制作方法包含下列步驟: 步驟1:提供一金屬膜層； 步驟2:涂布一光阻層于所述金屬膜層上； 步驟3:對(duì)所述光阻層進(jìn)行曝光及顯影處理； 步驟4:對(duì)所述光阻層進(jìn)行灰化處理，以去除一定厚度的所述光阻層，進(jìn)而一并去除對(duì)應(yīng)曝光區(qū)域的殘留光阻，以形成圖案化的光阻層； 步驟5:對(duì)所述金屬膜層進(jìn)行蝕刻處理；以及 步驟6:去除所述圖案化的光阻層。2.如權(quán)利要求1所述的顯示面板的信號(hào)線(xiàn)制作方法，其特征在于:步驟3使用一曝光機(jī)結(jié)合一掩膜對(duì)所述光阻層進(jìn)行局部曝光，其中所述掩膜的細(xì)縫圖案超過(guò)所述曝光機(jī)的曝光能力。3.如權(quán)利要求2所述的顯示面板的信號(hào)線(xiàn)制作方法，其特征在于:步驟3進(jìn)行顯影處理時(shí)，使用顯影液將所述光阻層中受到曝光的光阻部分溶解去除；其中顯影處理后的光阻層對(duì)應(yīng)曝光區(qū)域的位置仍有殘留光阻。4.如權(quán)利要求1所述的顯示面板的信號(hào)線(xiàn)制作方法，其特征在于:所述金屬膜層是單一的金屬層或是復(fù)合金屬層。5.如權(quán)利要求4所述的顯示面板的信號(hào)線(xiàn)制作方法，其特征在于:所述金屬膜層材質(zhì)選自銅、招、絡(luò)、鉬、鉭或其合金。6.如權(quán)利要求1所述的顯示面板的信號(hào)線(xiàn)制作方法，其特征在于:所述灰化處理是利用局部加熱的方式。7.如權(quán)利要求1所述的顯示面板的信號(hào)線(xiàn)制作方法，其特征在于:所述灰化處理是利用激光照射的方式。8.如權(quán)利要求1所述的顯示面板的信號(hào)線(xiàn)制作方法，其特征在于:所述灰化處理是利用氧電漿灰化工藝的方式。
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明公開(kāi)一種顯示面板的信號(hào)線(xiàn)制作方法。所述信號(hào)線(xiàn)制作方法是先于金屬膜層上涂布光阻，經(jīng)過(guò)曝光顯影后，進(jìn)一步通過(guò)灰化處理去除一定厚度的光阻層，進(jìn)而一并去除對(duì)應(yīng)曝光區(qū)域的殘留光阻，以形成圖案化的光阻層，之后再進(jìn)行金屬膜層的蝕刻，以形成信號(hào)線(xiàn)。
【IPC分類(lèi)】G02F1/1362
【公開(kāi)號(hào)】CN105629613
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201610153934
【發(fā)明人】姜祥衛(wèi)
【申請(qǐng)人】深圳市華星光電技術(shù)有限公司
【公開(kāi)日】2016年6月1日
【申請(qǐng)日】2016年3月17日