一種擴散膜及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種擴散膜及其制備方法，屬于液晶顯示背光源技術領域，包括PET基材，所述基材的一側面上涂布有包含擴散粒子的擴散層，所述擴散粒子的粒徑為40?60um，基材與所述擴散層相對的另一側面上涂布有抗靜電層，所述抗靜電層上通過鋼板模具壓印形成有凸半球型的微結構擴散點；所述鋼板模具通過激光打點后，涂擦巴素擦銅水獲得。
【專利說明】
_種擴散膜及其制備方法
技術領域
[0001]本發(fā)明屬于液晶顯示背光源技術領域，具體涉及一種擴散膜及其制備方法。
【背景技術】
[0002]背光源關鍵組件包括光源、導光板和各類光學膜，光學膜主要包括反射膜、擴散膜和增亮膜，其中擴散膜可將從導光板中射出的光線進行均勻擴散，以形成均勻面光源，其原理是光線透過以PET作為基材的擴散層，從折射率相異的介質中穿過，使得光發(fā)生折射、反射和散射，達到光學擴散的效果，傳統(tǒng)的擴散膜制造方法是將散射顆?；旌嫌谡辰觿┲?，在透明的PET基材上涂布混合有擴散粒子粘接劑，經(jīng)高溫或UV光固化形成，這種傳統(tǒng)的生產(chǎn)方式，需要使用大量的有機溶劑，對環(huán)境具有一定的危害，同時散射粒子經(jīng)后續(xù)工藝粘接到透明基材上，在背光模組經(jīng)過振動測試、高溫高濕測試后，擴散膜背面的散射顆粒存在脫落的風險，導致刮傷導光板的不良現(xiàn)象發(fā)生，降低背光模組的良率。
[0003]現(xiàn)有技術的另一種擴散膜是在膜的表面利用模具形成凹凸微結構，通過所述微結構將光線往四面八方出光，達到光線勻化的功效，一種獲得具有凹凸微結構的模具的方法是通過鐳射鋼板得到具有微型凹點的鋼板模具，但是采用鐳射激光轟擊鋼板時，鋼板表面會由于熔渣噴濺而在凹點周圍形成凸點，這些凸點在壓印過程中極易彎折或崩塌而落入微型凹點內，從而影響微結構的均一性。
【發(fā)明內容】
[0004]本發(fā)明的目的在于提供一種擴散膜及其制備方法。
[0005]本發(fā)明技術方案所述的一種擴散膜，包括PET基材，所述基材的一側面上涂布有包含擴散粒子的擴散層，所述擴散粒子的粒徑為40_60um，基材與所述擴散層相對的另一側面上涂布有抗靜電層，所述抗靜電層上形成有凸半球型的微結構擴散點。
[0006]優(yōu)選地，本發(fā)明所述的一種擴散膜，所述微結構擴散點的粒徑為5-10um。
[0007]本發(fā)明技術方案一種擴散膜的制備方法，包括如下步驟:
[0008](I)提供一鋼板，所述鋼板上通過激光打點的方式制成具有光學微結構的凹半球型粒徑表面的鋼板模具，所述凹半球型粒徑的周圍形成有凸點；
[0009](2)以軟布沾巴素擦銅水涂擦步驟(I)所述鋼板模具具有微結構的一面，進行研磨拋光；
[0010](3)在經(jīng)過預處理的透明PET基材的一側上涂布包含有擴散粒子的擴散層，所述擴散粒子的粒徑為40-60um，在PET基材的另一側涂布抗靜電層；
[0011](4)將步驟(3)得到的基材進行分段式高溫干燥，待涂布液固化后，采用高溫壓印的方式將經(jīng)步驟(2)處理得到的鋼板模具上具有微結構的表面壓印到所述抗靜電層上形成凸半球型的微結構擴散點；
[0012](5)將步驟(4)得到的基材進行常溫冷卻，待微結構擴散點成型后收卷。
[0013]優(yōu)選地，本發(fā)明所述的一種擴散膜制備方法，所述的鋼板模具上的凹半球型的粒徑的直徑為5-10umo
[0014]優(yōu)選地，本發(fā)明所述的一種擴散膜制備方法，所述壓印的壓力為0.5_2Kg，時間為l_5s，溫度為 100-130°C。
[0015]本發(fā)明技術有益效果:
[0016]本發(fā)明技術方案提供的擴散膜將設置微結構擴散點的一側朝向導光板，不會發(fā)生脫落，避免刮傷導光板，同時該擴散膜制備方法簡單易行，在制備工藝上只需要在PET基材的一側涂布擴散層，降低了有機溶劑的使用量，在鋼板上采用激光打點的方式獲得具有凹凸結構的模具后采用藥劑擦洗除去凸點，避免壓印過程中凸點對微結構造成影響，其成本低廉，操作簡單，所制得的微結構均一穩(wěn)定，擴散膜良率高，品質穩(wěn)定，大幅度降低了生產(chǎn)成本。
【附圖說明】
[0017]圖1為本發(fā)明所述擴散膜制備工藝流程圖，
[0018]圖2為本發(fā)明所述的鋼板結構示意圖，
[0019]圖3為本發(fā)明所述擴散膜制備方法制備得到的擴散膜的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0020]為便于本領域技術人員理解本發(fā)明技術方案，現(xiàn)結合說明書附圖對本發(fā)明技術方案做進一步的說明。
[0021]參見圖1、圖2及圖3，本發(fā)明技術方案所述的一種擴散膜的制備方法包括如下步驟:
[0022](I)提供一鋼板，所述鋼板上通過激光打點的方式制成具有光學微結構的凹半球型粒徑表面的鋼板模具，所述凹半球型粒徑的周圍形成有凸點；
[0023](2)以軟布沾巴素擦銅水涂擦步驟(I)所述鋼板模具上具有微結構的一面，巴素擦銅水含有高質量的拋光土，具有良好的研磨作用，在用布擦拭的過程中能進行有效的研磨，除去凹半球型粒徑周圍的凸點；
[0024](3)在經(jīng)過預處理的透明PET基材的一側上涂布包含有擴散粒子的擴散層，所述擴散粒子的粒徑為40-60um，在PET基材的另一側涂布抗靜電層；
[0025](4)將步驟(3)得到的基材進行分段式高溫干燥，待涂布液固化后，采用高溫壓印的方式將步驟(2)所述的鋼板模具上具有微結構的表面壓印到所述抗靜電層上形成凸半球型的微結構擴散點；
[0026](5)將步驟(4)得到的基材進行常溫冷卻，待微結構擴散點成型后收卷。
[0027]優(yōu)選地，本發(fā)明所述的一種擴散膜制備方法，所述的鋼板模具上的凹半球型的粒徑的直徑為5-10umo
[0028]優(yōu)選地，本發(fā)明所述的一種擴散膜制備方法，所述壓印的壓力為0.5_2Kg，時間為l_5s，溫度為 100-130°C。
[0029]采用上述方法即可制得如圖3所示的擴散膜，該擴散膜包括PET基材3，所述基材3的一側面上涂布有包含擴散粒子的擴散層4，所述擴散粒子的粒徑為40-60um，基材3與所述擴散層4相對的另一側面上涂布有抗靜電層5，所述抗靜電層5上形成有凸半球型的微結構擴散點6。
[0030 ]所述微結構擴散點6的粒徑為5-1 Oum。
[0031]該擴散膜具有微結構擴散點6的一側在使用時用作背面，通過模具直接壓印的方式在抗靜電層5上形成均一的凸半球型的微結構擴散點6，且其附著穩(wěn)定，在能夠有效地對光線進行擴散，達到均勻出光目的的同時，不會出現(xiàn)脫落而刮傷導光板的情況。
[0032]本發(fā)明技術方案在上面結合附圖對發(fā)明進行了示例性描述，顯然本發(fā)明具體實現(xiàn)并不受上述方式的限制，只要采用了本發(fā)明的方法構思和技術方案進行的各種非實質性改進，或未經(jīng)改進將發(fā)明的構思和技術方案直接應用于其它場合的，均在本發(fā)明的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種擴散膜，其特征在于，包括PET基材，所述基材的一側面上涂布有包含擴散粒子的擴散層，所述擴散粒子的粒徑為40-60um，基材與所述擴散層相對的另一側面上涂布有抗靜電層，所述抗靜電層上形成有凸半球型的微結構擴散點。2.根據(jù)權利要求1所述的一種擴散膜，其特征在于，所述微結構擴散點的粒徑為5-1Oum03.一種擴散膜的制備方法，其特征在于，包括如下步驟: (1)提供一鋼板，所述鋼板上通過激光打點的方式制成具有光學微結構的凹半球型粒徑表面的鋼板模具，所述凹半球型粒徑的周圍形成有凸點； (2)以軟布沾巴素擦銅水涂擦步驟(I)所述鋼板模具上具有微結構的一面，進行研磨拋光； (3)在經(jīng)過預處理的透明PET基材的一側上涂布包含有擴散粒子的擴散層，所述擴散粒子的粒徑為40-60um，在PET基材的另一側涂布抗靜電層； (4)將步驟(3)得到的基材進行分段式高溫干燥，待涂布液固化后，采用高溫壓印的方式將經(jīng)步驟(2)處理得到的鋼板模具上具有微結構的表面壓印到所述抗靜電層上形成凸半球型的微結構擴散點； (5)將步驟(4)得到的基材進行常溫冷卻，待微結構擴散點成型后收卷。4.根據(jù)權利要求1所述的一種擴散膜制備方法，其特征在于，所述的鋼板模具上的凹半球型的粒徑的直徑為5-10umo5.根據(jù)權利要求1所述的一種擴散膜制備方法，其特征在于，所述壓印的壓力為0.5-.2Kg，時間為l-5s，溫度為100-130°C。
【文檔編號】G02F1/13357GK105842764SQ201610374346
【公開日】2016年8月10日
【申請日】2016年6月1日
【發(fā)明人】孫學武
【申請人】翰博高新材料(合肥)股份有限公司