壓印方法、壓印裝置以及物品的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種壓印方法、壓印裝置以及物品的制造方法。所述壓印方法通過使用具有圖案區(qū)域的模具，在基板上形成的投射區(qū)域上形成圖案，所述壓印方法包括：根據(jù)變形量，進(jìn)行用于所述圖案區(qū)域和所述投射區(qū)域中的至少一者的變形的控制；獲得在所述變形之后的、所述圖案區(qū)域上配設(shè)的多個(gè)標(biāo)記中的各個(gè)與所述投射區(qū)域上配設(shè)的多個(gè)標(biāo)記中的對(duì)應(yīng)標(biāo)記之間的偏移量；基于所述偏移量，選擇要用于控制所述圖案區(qū)域與所述投射區(qū)域之間的交疊的標(biāo)記，以滿足預(yù)設(shè)條件；以及在進(jìn)行變形的控制步驟中的變形之后，基于對(duì)選擇的標(biāo)記的位置的檢測結(jié)果，進(jìn)行所述交疊的反饋控制。
【專利說明】
壓印方法、壓印裝置以及物品的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及壓印方法、壓印裝置以及物品的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]作為批量生產(chǎn)半導(dǎo)體器件、磁存儲(chǔ)介質(zhì)等的光刻裝置中的一種，通過使用模具使供給到基板上的壓印材料形成圖案的壓印裝置已引起關(guān)注。為了使模具上形成的圖案區(qū)域和基板上形成的投射區(qū)域精確地交疊(overlay)，壓印裝置基于在圖案區(qū)域和投射區(qū)域分別配設(shè)的標(biāo)記的位置，進(jìn)行交疊的反饋控制。日本特開2013-102132號(hào)公報(bào)已提出了如下的方法:通過使用向模具施加力來使圖案區(qū)域變形的技術(shù)、以及加熱基板來使投射區(qū)域變形的技術(shù)二者，使圖案區(qū)域和投射區(qū)域交疊。
[0003]壓印裝置能夠使用例如進(jìn)行前饋控制來使圖案區(qū)域和投射區(qū)域中的至少一者變形的方法，以使圖案區(qū)域的形狀和投射區(qū)域的形狀在交疊的反饋控制之前彼此接近。當(dāng)在變形的該反饋控制中使圖案區(qū)域的形狀和投射區(qū)域的形狀彼此接近時(shí)，有時(shí)期望有意在圖案區(qū)域上的多個(gè)標(biāo)記中的一些與投射區(qū)域上的對(duì)應(yīng)的標(biāo)記之間進(jìn)行位置偏移。在這種情況下，進(jìn)行交疊的反饋控制以使圖案區(qū)域上的標(biāo)記與投射區(qū)域上的標(biāo)記(有意在其間進(jìn)行位置偏移)相匹配，使得難以精確地交疊圖案區(qū)域和投射區(qū)域。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明提供了一種有利于使例如在模具上形成的圖案區(qū)域與在基板上形成的投射區(qū)域精確地交疊的技術(shù)。
[0005]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供一種壓印方法，其通過使用具有形成有圖案的圖案區(qū)域的模具，使基板上形成的投射區(qū)域上的壓印材料形成圖案，所述壓印方法包括以下步驟:根據(jù)被確定為使所述圖案區(qū)域的形狀與所述投射區(qū)域的形狀彼此接近的所述圖案區(qū)域和所述投射區(qū)域中的至少一個(gè)區(qū)域的變形量，進(jìn)行所述至少一個(gè)區(qū)域的變形的控制;獲得在所述圖案區(qū)域和所述投射區(qū)域的變形之后的、所述圖案區(qū)域上配設(shè)的多個(gè)標(biāo)記中的各個(gè)與所述投射區(qū)域上配設(shè)的多個(gè)標(biāo)記中的對(duì)應(yīng)標(biāo)記之間的偏移量;基于在所述獲得步驟中獲得的所述偏移量，從所述多個(gè)標(biāo)記中選擇要用于控制所述圖案區(qū)域與所述投射區(qū)域之間的交疊的標(biāo)記，使得滿足預(yù)設(shè)條件；以及在所述進(jìn)行變形的控制步驟中的所述變形之后，基于對(duì)在所述選擇步驟中選擇的標(biāo)記的位置的檢測結(jié)果，進(jìn)行所述圖案區(qū)域與所述投射區(qū)域之間的交疊的反饋控制。
[0006]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供一種壓印裝置，其通過使用具有形成有圖案的圖案區(qū)域的模具，使基板上形成的投射區(qū)域上的壓印材料形成圖案，所述壓印裝置包括:變形單元，其被構(gòu)造為使所述圖案區(qū)域和所述投射區(qū)域中的至少一者變形；以及控制單元，其中，所述控制單元根據(jù)被確定為使所述圖案區(qū)域的形狀與所述投射區(qū)域的形狀彼此接近的至少一個(gè)區(qū)域的變形量，針對(duì)所述變形單元進(jìn)行所述至少一個(gè)區(qū)域的變形的控制;獲得在所述圖案區(qū)域和所述投射區(qū)域的變形之后的、所述圖案區(qū)域上配設(shè)的多個(gè)標(biāo)記中的各個(gè)與所述投射區(qū)域上配設(shè)的多個(gè)標(biāo)記中的對(duì)應(yīng)標(biāo)記之間的偏移量;基于所獲得的偏移量，從所述多個(gè)標(biāo)記中選擇要用于控制所述圖案區(qū)域與所述投射區(qū)域之間的交疊的標(biāo)記，使得滿足預(yù)設(shè)條件；以及在所述至少一個(gè)區(qū)域的變形之后，基于對(duì)所選擇的標(biāo)記的位置的檢測結(jié)果，進(jìn)行所述圖案區(qū)域與所述投射區(qū)域之間的交疊的反饋控制。
[0007 ]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供一種物品的制造方法，所述物品的制造方法包括:使用壓印方法在基板上形成圖案；以及對(duì)形成有所述圖案的所述基板進(jìn)行處理以制造所述物品，其中，所述壓印方法通過使用具有形成有圖案的圖案區(qū)域的模具，使基板上形成的投射區(qū)域上的壓印材料形成圖案，并且所述壓印方法包括以下步驟:根據(jù)被確定為使所述圖案區(qū)域的形狀與所述投射區(qū)域的形狀彼此接近的至少一個(gè)區(qū)域的變形量，進(jìn)行所述圖案區(qū)域和所述投射區(qū)域中的至少一者的變形的控制;獲得在所述圖案區(qū)域和所述投射區(qū)域的變形之后的、所述圖案區(qū)域上配設(shè)的多個(gè)標(biāo)記中的各個(gè)與所述投射區(qū)域上配設(shè)的多個(gè)標(biāo)記中的對(duì)應(yīng)標(biāo)記之間的偏移量;基于在所述獲得步驟中獲得的所述偏移量，從所述多個(gè)標(biāo)記中選擇要用于控制所述圖案區(qū)域與所述投射區(qū)域之間的交疊的標(biāo)記，使得滿足預(yù)設(shè)條件；以及在所述進(jìn)行變形的控制步驟中的所述變形之后，基于對(duì)在所述選擇步驟中選擇的標(biāo)記的位置的檢測結(jié)果，進(jìn)行所述圖案區(qū)域與所述投射區(qū)域之間的交疊的反饋控制。
[0008]通過以下參照附圖對(duì)示例性實(shí)施例的描述，本發(fā)明的其他方面將變得清楚。
【附圖說明】
[0009]圖1是示出根據(jù)第一實(shí)施例的壓印裝置的示意圖；
[0010]圖2是示出根據(jù)第一實(shí)施例的壓印裝置中的對(duì)準(zhǔn)過程的流程圖；
[0011]圖3A是示出圖案區(qū)域的形狀和投射區(qū)域的形狀的圖；
[0012]圖3B是示出圖案區(qū)域的形狀和投射區(qū)域的形狀的圖；
[0013]圖4A是用于說明圖案區(qū)域與投射區(qū)域之間的交疊的圖；
[0014]圖4B是用于說明圖案區(qū)域與投射區(qū)域之間的交疊的圖；
[0015]圖5A是用于說明圖案區(qū)域與投射區(qū)域之間的交疊的圖；
[0016]圖5B是用于說明圖案區(qū)域與投射區(qū)域之間的交疊的圖；以及
[0017]圖6是用于說明選擇在從各邊的中心偏移的位置處布置的標(biāo)記的原因的圖。
【具體實(shí)施方式】
[0018]下面，將參照附圖描述本發(fā)明的示例性實(shí)施例。注意，在整個(gè)附圖中，相同的附圖標(biāo)號(hào)表示相同的部件，并且將不給出其重復(fù)說明。
[0019]〈第一實(shí)施例〉
[0020]將參照?qǐng)D1描述根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的壓印裝置I。壓印裝置I用于半導(dǎo)體器件等的制造，并且進(jìn)行通過使用模具7使基板上的壓印材料14成型的壓印處理，模具7具有形成有圖案的圖案區(qū)域7a。例如，在模具7與基板上的壓印材料14接觸的同時(shí)，壓印裝置I使壓印材料14(樹脂)固化。然后，通過增加模具7與基板11之間的間隔，并且將模具7從固化后的壓印材料14分離(脫模)，壓印裝置I能夠形成由基板上的壓印材料14形成的圖案。使壓印材料14固化的方法包括使用熱的熱循環(huán)法和使用光的光固化法。第一實(shí)施例將舉例說明使用光固化法的情況。光固化法是如下的方法，通過將樹脂供給到基板上，并且在模具7與壓印材料14接觸的同時(shí)，用紫外光照射壓印材料14，從而使未固化的紫外線可固化樹脂作為壓印材料14固化。
[0021][裝置結(jié)構(gòu)]
[0022]圖1是示出根據(jù)第一實(shí)施例的壓印裝置I的示意圖。壓印裝置I能夠包括例如保持模具7的模具保持單元3、保持基板11的基板臺(tái)4、照射單元2、檢測單元22以及供給單元5。模具保持單元3通過柱狀支撐件26，固定在由底座24支撐的橋板25上。基板臺(tái)4被支撐為在底座24上可移動(dòng)。壓印裝置I還包括控制單元6，控制單元6包括CPU和存儲(chǔ)器，并且控制壓印處理(控制壓印裝置I的各個(gè)單元)ο通過執(zhí)行控制單元6的存儲(chǔ)器中存儲(chǔ)的程序，來執(zhí)行壓印處理。
[0023]通常通過使用紫外光能夠透過的材料(例如石英)來制備模具7，并且用于使基板11上的壓印材料14成型的凹凸圖案，形成在位于基板側(cè)的表面上的部分區(qū)域(圖案區(qū)域7a)。另外，作為基板11，例如使用單晶硅基板或SOI(絕緣體上硅)基板。供給單元5將壓印材料(紫外線可固化樹脂)14供給到基板11的上表面(處理表面)上。
[0024]模具保持單元3包括用例如真空抽吸力或靜電力保持模具7的模具卡盤15，以及在Z方向上驅(qū)動(dòng)模具卡盤15的模具驅(qū)動(dòng)單元16。模具卡盤15和模具驅(qū)動(dòng)單元16在其中心部分(內(nèi)側(cè)部分)分別具有開口區(qū)域17，并且被構(gòu)造為用從照射單元2透過模具7發(fā)射的光照射基板11。在這種情況下，模具上的圖案區(qū)域7a具有例如矩形形狀，并且有時(shí)具有變形分量(例如由制造誤差或熱變形等引起的放大分量或梯形分量)。為此，模具保持單元3包括向模具7的側(cè)面上的多個(gè)部分施加力以使圖案區(qū)域7a變形的加壓單元18。加壓單元18能夠校正圖案區(qū)域7a中的變形分量，并且能夠通過向模具7的側(cè)面上的多個(gè)部分施加力，使模具7上的圖案區(qū)域7a形成為期望的形狀。加壓單元18能夠包括諸如壓電器件等的多個(gè)致動(dòng)器。
[0025]模具驅(qū)動(dòng)單元16包括例如，諸如線性電機(jī)或氣缸等的致動(dòng)器，并且在Z方向上驅(qū)動(dòng)模具卡盤15(模具7)，以使模具7與壓印材料14接觸或與壓印材料14分離。當(dāng)使模具7與壓印材料14接觸時(shí)，需要模具驅(qū)動(dòng)單元16進(jìn)行精確的對(duì)準(zhǔn)。為此，模具驅(qū)動(dòng)單元16可以包括多個(gè)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，例如粗動(dòng)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)(coarse mot1n driving system)和微動(dòng)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)。此外，除了Z方向驅(qū)動(dòng)功能，模具驅(qū)動(dòng)單元16還可以具有在X方向、Y方向及Θ方向(繞Z軸的旋轉(zhuǎn)方向)上調(diào)整模具7的位置的位置調(diào)整功能，用于校正模具7的傾斜的傾斜功能等。在根據(jù)第一實(shí)施例的壓印裝置I中，模具驅(qū)動(dòng)單元16進(jìn)行改變模具7與基板11之間的距離的操作。然而，基板臺(tái)4的臺(tái)驅(qū)動(dòng)單元20可以進(jìn)行該操作。作為選擇，模具驅(qū)動(dòng)單元16和臺(tái)驅(qū)動(dòng)單元20 二者可以相對(duì)地進(jìn)行該操作。
[0026]基板臺(tái)4包括基板保持單元19和臺(tái)驅(qū)動(dòng)單元20，并且在X方向和Y方向上驅(qū)動(dòng)基板
11。基板保持單元19用諸如真空抽吸力或靜電力等的保持力保持基板11。臺(tái)驅(qū)動(dòng)單元20機(jī)械地保持基板保持單元19，并且在X方向和Y方向上驅(qū)動(dòng)基板保持單元19 (基板11)。臺(tái)驅(qū)動(dòng)單元20可以使用例如線性電機(jī)，并且可以由諸如粗動(dòng)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)和微動(dòng)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)等的多個(gè)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)構(gòu)成。另外，臺(tái)驅(qū)動(dòng)單元20可以具有在Z方向上驅(qū)動(dòng)基板11的驅(qū)動(dòng)功能，通過在Θ方向上旋轉(zhuǎn)/驅(qū)動(dòng)基板11而調(diào)整基板11的位置的位置調(diào)整功能，用于校正基板11的傾斜的傾斜功能等。
[0027]位置測量單元40測量基板臺(tái)4的位置。位置測量單元40包括例如激光干涉儀及編碼器，并且測量基板臺(tái)4的位置。以下將舉例說明位置測量單元40包括激光干涉儀的情況。激光干涉儀向基板臺(tái)4(例如基板卡盤19)的側(cè)面上配設(shè)的反射板施加激光，并且基于由反射板反射的激光來檢測基板臺(tái)4從基準(zhǔn)位置的位移。這使得位置測量單元40能夠基于由激光干涉儀檢測到的位移，來測量基板臺(tái)4的當(dāng)前位置。
[0028]檢測單元22檢測圖案區(qū)域7a上配設(shè)的標(biāo)記31(對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記)的位置以及投射區(qū)域12上配設(shè)的標(biāo)記32(對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記)的位置。為了將圖案區(qū)域圖7a精確地交疊在投射區(qū)域12上而不降低產(chǎn)量，可以盡可能多的同時(shí)檢測分別配設(shè)在圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12上的標(biāo)記30。然而，配設(shè)多個(gè)檢測單元22以同時(shí)檢測所有標(biāo)記30，會(huì)導(dǎo)致裝置結(jié)構(gòu)的復(fù)雜性及裝置的成本的增加。為此，壓印裝置I配設(shè)有能夠同時(shí)檢測分別配設(shè)在圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12上的多個(gè)標(biāo)記30中的僅一些的數(shù)量(第二數(shù)量)的檢測單元22。根據(jù)第一實(shí)施例的壓印裝置I配設(shè)有，例如4個(gè)檢測單元22，其能夠同時(shí)檢測配設(shè)在圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12中的各個(gè)上的4個(gè)標(biāo)記30。在該情況下，在本實(shí)施例中，包括圖案區(qū)域7a上的標(biāo)記31和投射區(qū)域12上的標(biāo)記32的標(biāo)記，將被稱為標(biāo)記30。
[0029]基板上的投射區(qū)域12具有例如矩形形狀，并且有時(shí)具有變形分量，例如由一系列的半導(dǎo)體器件制造步驟等的影響而引起的放大分量或梯形分量。在這種情況下，為了將模具上形成的圖案區(qū)域7a精確地交疊在基板上形成的投射區(qū)域12上，可以使投射區(qū)域12變形，并通過使用加壓單元18使圖案區(qū)域7a變形。為此，如后面所述，根據(jù)第一實(shí)施例的壓印裝置I能夠包括加熱單元50，加熱單元50通過加熱基板11來使投射區(qū)域12變形。也即，第一實(shí)施例能夠使用加壓單元18和加熱單元50中的至少一者，作為使圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12中的至少一者變形的變形單元。
[°03°] 照射單元2能夠包括固化單元9和加熱單元50，固化單元9通過用光照射壓印材料14來使基板上的壓印材料14固化，加熱單元50通過用光照射基板11來使投射區(qū)域12變形。照射單元2還能夠包括光學(xué)構(gòu)件10，光學(xué)構(gòu)件10將從固化單元9發(fā)射的光和從加熱單元50發(fā)射的光引導(dǎo)到基板上。如圖1所示，根據(jù)第一實(shí)施例的壓印裝置I包括作為一個(gè)單元的固化單元9和加熱單元50。然而，這并不是窮舉的，并且該裝置可以包括作為單獨(dú)單元的這些單元。固化單元9能夠包括光源和光學(xué)系統(tǒng)，光源發(fā)射使基板上的壓印材料14固化的光(紫外光)，光學(xué)系統(tǒng)將從光源發(fā)射的光整形(shape)成適合于壓印處理的光。此外，加熱單元50能夠包括發(fā)射具有特定波長的光(該特定波長的光不使供給到基板上的壓印材料14固化并適合于加熱基板11)的光源，并且能夠包括用于調(diào)整從光源發(fā)射的光的強(qiáng)度的光調(diào)整設(shè)備。加熱單元50的光調(diào)整設(shè)備能夠調(diào)整施加到基板11上的光的強(qiáng)度，以使投射區(qū)域12上的溫度分布形成為期望的溫度分布。作為加熱單元50的光調(diào)整設(shè)備，例如，能夠采用液晶裝置、DMD(數(shù)字鏡設(shè)備)等。
[0031][壓印處理]
[0032]接下來，將描述根據(jù)第一實(shí)施例的壓印裝置I中的壓印處理。控制單元6控制基板臺(tái)4，以將基板上的投射區(qū)域12布置在供給單元5下方，其中，模具7上的圖案被轉(zhuǎn)印到基板上。當(dāng)投射區(qū)域12被布置在供給單元5下方時(shí)，控制單元6控制供給單元5以向投射區(qū)域12供給壓印材料14?？刂茊卧?向投射區(qū)域12供給壓印材料14，然后控制基板臺(tái)4，以將投射區(qū)域12布置在模具上的圖案區(qū)域7a下方。當(dāng)將投射區(qū)域12布置在模具上的圖案區(qū)域7a下方時(shí)，控制單元6控制模具驅(qū)動(dòng)單元16，以在-Z方向上驅(qū)動(dòng)模具7，從而使模具7與基板上的壓印材料14接觸(模壓步驟)。控制單元6使模具7與基板上的壓印材料14之間的接觸，保持預(yù)定的時(shí)間段。這使得能夠用基板上的壓印材料14，完全填滿模具7上的圖案。
[0033 ]在模具7與基板上的壓印材料14接觸的同時(shí)，控制單元6在X方向和Y方向上，進(jìn)行模具7上的圖案區(qū)域7a與投射區(qū)域12之間的對(duì)準(zhǔn)。對(duì)準(zhǔn)能夠包括“變形步驟”和“交疊步驟”，“變形步驟”使圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12變形，以使圖案區(qū)域7a的形狀接近投射區(qū)域12的形狀，“交疊步驟”將圖案區(qū)域7a交疊在投射區(qū)域12上。稍后將描述圖案區(qū)域7a與投射區(qū)域12之間的對(duì)準(zhǔn)的詳情。當(dāng)將圖案區(qū)域7a與投射區(qū)域12對(duì)準(zhǔn)時(shí)，控制單元6控制固化單元9，以用透過模具7的光(紫外光)照射基板上的壓印材料14。然后，控制單元6控制模具驅(qū)動(dòng)單元16，以在+Z方向上驅(qū)動(dòng)模具7，從而將模具7從基板上的、通過照射光而固化的壓印材料14分離(分離步驟)。這使得能夠通過使用模具7使基板上的壓印材料14成型，并且能夠形成由基板上的壓印材料14形成的圖案。針對(duì)基板上的多個(gè)投射區(qū)域12中的各個(gè)進(jìn)行這樣的壓印處理。
[0034][對(duì)準(zhǔn)]
[0035]接下來，將描述根據(jù)第一實(shí)施例的壓印裝置I中的對(duì)準(zhǔn)。壓印裝置I基于例如預(yù)先獲得的圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12的形狀信息，來確定用于圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12中的至少一者的變形的變形量，以使它們的形狀彼此接近?；谒_定的變形量，進(jìn)行控制以使這些區(qū)域中的至少一者變形。假定進(jìn)行前饋控制(下文中被稱為FF控制)，以基于變形量來使這些區(qū)域中的至少一者變形。在這種情況下，僅進(jìn)行FF控制，有時(shí)會(huì)導(dǎo)致圖案區(qū)域7a的位置和形狀與投射區(qū)域12的位置和形狀之間的相對(duì)偏移。為此，當(dāng)進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)時(shí)，壓印裝置I在“變形步驟”之后進(jìn)行“交疊步驟”，在“變形步驟”中，進(jìn)行FF控制，以基于變形量使圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域中的至少一者變形。在“交疊步驟”中，在變形步驟中的使這些區(qū)域中的至少一者變形之后，基于由各個(gè)檢測單元22獲得的檢測結(jié)果，進(jìn)行用于圖案區(qū)域7a與投射區(qū)域12之間的交疊的反饋控制(下文中被稱為FB控制)。該交疊步驟校正圖案區(qū)域7a與投射區(qū)域12的相對(duì)位置和形狀。
[0036]變形步驟是如下的步驟:進(jìn)行FF控制，以使圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12中的至少一者變形，從而校正高階分量，諸如圖案區(qū)域7a或投射區(qū)域12中包含的弓形分量或筒形分量。因此，可以基于通過檢測分別配設(shè)在圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12上的多個(gè)標(biāo)記中的盡可能多的標(biāo)記30，而獲得的形狀信息，來進(jìn)行變形步驟。在第一實(shí)施例中，通過檢測分別配設(shè)在圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12上的多個(gè)標(biāo)記30中的第一數(shù)量(例如17)的標(biāo)記30，來獲得形狀信息。
[0037]另一方面，交疊步驟是如下的步驟:進(jìn)行用于圖案區(qū)域7a與投射區(qū)域12之間的交疊的FB控制，以基于由各個(gè)檢測單元22獲得的檢測結(jié)果，來進(jìn)行低階分量校正，例如圖案區(qū)域7a與投射區(qū)域12之間的偏移校正或倍率校正。能夠在變形步驟中使圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12變形的同時(shí)，進(jìn)行交疊步驟。即，交疊步驟是僅校正低階分量的步驟，因而，與在變形步驟中使用的被檢測以獲得形狀信息的標(biāo)記30的數(shù)量(第一數(shù)量)相比，能夠通過使用更小數(shù)量(第二數(shù)量)的標(biāo)記30來進(jìn)行交疊步驟。第二數(shù)量是例如在交疊步驟中能夠同時(shí)落入多個(gè)檢測單元22的檢測視野內(nèi)的標(biāo)記30的數(shù)量。由于根據(jù)第一實(shí)施例的壓印裝置I配設(shè)有4個(gè)檢測單元22，因此，在交疊步驟中同時(shí)檢測4個(gè)標(biāo)記30的位置，并且基于檢測結(jié)果，圖案區(qū)域7a能夠被交疊在投射區(qū)域12上。
[0038]接下來，將參照?qǐng)D2描述根據(jù)第一實(shí)施例的壓印裝置I中的對(duì)準(zhǔn)。圖2是示出了用于根據(jù)第一實(shí)施例的壓印裝置I中的對(duì)準(zhǔn)的過程的流程圖。
[0039]在步驟SlOl中，控制單元6獲得模具上的圖案區(qū)域7a和基板上的投射區(qū)域12的形狀信息。在第一實(shí)施例中，如上所述，通過檢測分別配設(shè)在圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12上的多個(gè)標(biāo)記30中的第一數(shù)量(17)的標(biāo)記30的位置，獲得形狀信息。然而，根據(jù)第一實(shí)施例的壓印裝置I中的檢測單元22的數(shù)量，是比第一數(shù)量更小的第二數(shù)量(4)。為此，期望通過使用壓印裝置I外部的測量設(shè)備來檢測第一數(shù)量的標(biāo)記30，而預(yù)先獲得圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12中的至少一者的形狀作為形狀信息。這使得控制單元6能夠從外部測量設(shè)備獲得形狀信息，并且能夠獲得圖案區(qū)域7a與投射區(qū)域12之間的形狀差異，以包括高階分量。
[0040]圖3A是示出了圖案區(qū)域7a的形狀和投射區(qū)域12的形狀的圖。參照?qǐng)D3A，虛線33表示圖案區(qū)域7a的形狀，而實(shí)線34表示投射區(qū)域12的形狀。分別從圖案區(qū)域7a上配設(shè)的17個(gè)標(biāo)記31和投射區(qū)域12上配設(shè)的17個(gè)標(biāo)記32的位置獲得這些形狀。為簡單起見，圖3A示出了由實(shí)線34表示的投射區(qū)域12的形狀為理想形狀(矩形形狀)。然而，在實(shí)踐中，包括高階和低階分量的變形，有時(shí)也發(fā)生在投射區(qū)域12。即，參考圖3A，虛線33能夠被認(rèn)為是圖案區(qū)域7a與投射區(qū)域12之間的實(shí)際形狀差異，而實(shí)線34能夠被認(rèn)為是圖案區(qū)域7a與投射區(qū)域12之間的目標(biāo)形狀差異。
[0041]在這種情況下，在第一實(shí)施例中，壓印裝置I外部的測量設(shè)備獲得圖案區(qū)域7a的形狀和投射區(qū)域12的形狀，作為形狀信息。然而，這并不是窮舉的。例如，能夠通過使用4個(gè)檢測單元22并且移動(dòng)基板臺(tái)4反復(fù)檢測標(biāo)記30的位置，來檢測第一數(shù)量的標(biāo)記30的位置，從而獲得壓印裝置I內(nèi)部的圖案區(qū)域7a的形狀和投射區(qū)域12的形狀。
[0042]在步驟S102中，控制單元6基于在步驟SlOl中獲得的形狀信息，獲得圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12中的至少一者的變形量，以使圖案區(qū)域7a的形狀接近投射區(qū)域12的形狀。然后，控制單元6基于獲得的變形量，確定用于驅(qū)動(dòng)變形單元(加壓單元18和加熱單元50中的至少一者)的驅(qū)動(dòng)量。確定的驅(qū)動(dòng)量被用在隨后的變形步驟(步驟S105)中。在變形步驟中，為了校正高階分量，期望使用加熱單元50和加壓單元18二者，加熱單元50通過加熱基板11來使投射區(qū)域12變形，加壓單元18通過向模具7施加力來使圖案區(qū)域7a變形。在這種情況下，控制單元6能夠確定用于驅(qū)動(dòng)加壓單元18的驅(qū)動(dòng)量和用于驅(qū)動(dòng)加熱單元50的驅(qū)動(dòng)量二者，以使圖案區(qū)域7a的形狀接近投射區(qū)域12的形狀。在這種情況下，當(dāng)使圖案區(qū)域7a或投射區(qū)域12變形時(shí)，控制單元6能夠確定用于驅(qū)動(dòng)加壓單元18的驅(qū)動(dòng)量或用于驅(qū)動(dòng)加熱單元50的驅(qū)動(dòng)量。
[0043]在步驟S103中，在基于步驟S102中確定的驅(qū)動(dòng)量(變形量)，使圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12中的至少一者變形之后，控制單元6獲得圖案區(qū)域7a上的標(biāo)記31與投射區(qū)域12上的標(biāo)記32之間生成的偏移量?？刂茊卧?針對(duì)分別配設(shè)在圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12上的多個(gè)標(biāo)記30中的各個(gè)，獲得這樣的偏移量。在步驟S104中，控制單元6基于在步驟S103中獲得的有關(guān)各個(gè)標(biāo)記30的偏移量，從多個(gè)標(biāo)記30中選擇要用于交疊控制的標(biāo)記30，以滿足預(yù)設(shè)條件。在這種情況下，控制單元6在步驟S103中，基于在步驟S102中確定的驅(qū)動(dòng)量(變形量)，獲得(估計(jì))變形后的、圖案區(qū)域7a上的標(biāo)記31與投射區(qū)域12上的標(biāo)記32之間的偏移量。然而，這并不是窮舉的。例如，可以在圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12中的至少一者的變形之后，通過使檢測單元22檢測圖案區(qū)域7a上的標(biāo)記31和投射區(qū)域12上的標(biāo)記32，來獲得該偏移量。
[0044]圖3B是示出了當(dāng)通過基于步驟S102中確定的驅(qū)動(dòng)量，來驅(qū)動(dòng)加壓單元18和加熱單元50，從而使圖案區(qū)域7a的形狀與投射區(qū)域12的形狀接近時(shí)，圖案區(qū)域7a的形狀與投射區(qū)域12的形狀的圖。當(dāng)加壓單元18向模具7施加力時(shí)，在圖案區(qū)域7a中能夠產(chǎn)生由泊松比造成的無意的變形。另一方面，當(dāng)加熱單元50加熱基板11時(shí)，在投射區(qū)域12中能夠產(chǎn)生各向同性變形。為此，使用加壓單元18和加熱單元50 二者，能夠減少由泊松比造成的圖案區(qū)域7a的變形和投射區(qū)域12的各向同性變形。這有利于使圖案區(qū)域7a的形狀接近投射區(qū)域12的形狀。
[0045]當(dāng)使圖案區(qū)域7a的形狀接近投射區(qū)域12的形狀時(shí)，有時(shí)期望有意在多個(gè)標(biāo)記30(例如，圖案區(qū)域7a上的標(biāo)記31和投射區(qū)域12上的標(biāo)記32)中的一些標(biāo)記之間進(jìn)行位置偏移。例如，在圖3B中所示的情況下，通過有意在圖案區(qū)域7a的四個(gè)角上的標(biāo)記31與投射區(qū)域12的四個(gè)角上的標(biāo)記32之間進(jìn)行位置偏移，來使圖案區(qū)域7a的形狀接近投射區(qū)域12的形狀。在這種情況下，如果進(jìn)行交疊的FB控制，以使在X方向和Y方向上圖案區(qū)域7a上的標(biāo)記31與投射區(qū)域12上的標(biāo)記32匹配，其中，在圖案區(qū)域7a上的標(biāo)記31與投射區(qū)域12上的標(biāo)記32之間有意進(jìn)行了位置偏移，則難以將圖案區(qū)域7a精確地交疊在投射區(qū)域12上。即，難以實(shí)現(xiàn)圖案區(qū)域7a與投射區(qū)域12之間的期望的交疊精度。
[0046]圖4A和圖4B是用于說明圖案區(qū)域7a與投射區(qū)域12之間的交疊的圖。如上所述，為了使圖案區(qū)域7a的形狀接近投射區(qū)域12的形狀，有時(shí)期望有意在例如四個(gè)角上的標(biāo)記30(即圖案區(qū)域7a上的標(biāo)記31與投射區(qū)域12上的標(biāo)記32)之間進(jìn)行位置偏移。圖4A是示出圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12中的各個(gè)的四個(gè)角上的標(biāo)記30(即圖案區(qū)域7a上的標(biāo)記31與投射區(qū)域12上的標(biāo)記32)之間進(jìn)行位置偏移的狀態(tài)的圖。參照?qǐng)D4A，虛線33表示圖案區(qū)域7a的形狀，而實(shí)線34表示投射區(qū)域12的形狀。假定在這種情況下，圖案區(qū)域7a與投射區(qū)域12之間的交疊精度是期望的精度。
[0047]在這種狀態(tài)下，當(dāng)使各檢測單元22僅檢測圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12中的各個(gè)的四個(gè)角上的標(biāo)記30的位置時(shí)，控制單元6能夠?qū)D案區(qū)域7a的形狀識(shí)別為如同圖4A中的雙點(diǎn)劃線35所指示的直線形狀。假設(shè)如下的情況:使圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12中的至少一者變形，以使圖案區(qū)域7a的四個(gè)角上的標(biāo)記31與投射區(qū)域12的四個(gè)角上的標(biāo)記32匹配。在這種情況下，如圖4B所示，基于檢測結(jié)果而識(shí)別的圖案區(qū)域7a的形狀(雙點(diǎn)劃線35)與投射區(qū)域12的形狀(實(shí)線34)彼此交疊。然而，圖案區(qū)域7a的實(shí)際形狀(虛線33)未交疊在投射區(qū)域12的形狀(實(shí)線34)上。這能夠降低圖案區(qū)域7a與投射區(qū)域12之間的交疊精度。
[0048]為此，在步驟S103中，在圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12中的至少一者的變形之后，控制單元6獲得多個(gè)標(biāo)記30中的各個(gè)的偏移量。在步驟S104中，控制單元6基于所獲得的偏移量，從多個(gè)標(biāo)記30中選擇要用于交疊控制的標(biāo)記30，使得滿足預(yù)設(shè)條件。例如，該條件可以被設(shè)置為包括偏移量小于多個(gè)標(biāo)記30的偏移量的平均值的標(biāo)記30的選擇。作為選擇，當(dāng)兩個(gè)或更多個(gè)標(biāo)記30配設(shè)在圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12中的各個(gè)的各邊上時(shí)，該條件可以被設(shè)置為包括各邊上的至少一個(gè)標(biāo)記30的選擇。在這種情況下，條件可以被設(shè)置為針對(duì)各邊以偏移量的升序來選擇標(biāo)記30。在這種情況下，控制單元6可以不僅基于所獲得的偏移量，而且基于通過模具7已經(jīng)使壓印材料14成型的基板的交疊精度，來選擇要用于交疊步驟的標(biāo)記30。例如，假設(shè)如下的情況:存在偏移量小于多個(gè)標(biāo)記30的偏移量的平均值的幾個(gè)標(biāo)記30。在這種情況下，作為要用于交疊步驟的標(biāo)記30，控制單元6可以從壓印材料14已經(jīng)成型的多個(gè)基板中，選擇布置在與基板的用于交疊步驟的標(biāo)記的位置相同位置處的、展現(xiàn)出最小的交疊精度的標(biāo)記30。請(qǐng)注意，“邊”是頂點(diǎn)之間的線，并且包括曲線，而不限定為直線。
[0049]能夠基于例如表示加壓單元18的驅(qū)動(dòng)量與圖案區(qū)域7a的變形量之間的關(guān)系以及加熱單元50的驅(qū)動(dòng)量與投射區(qū)域12的變形量之間的關(guān)系的信息(下文中將被稱為變形量信息)，來獲得移動(dòng)量。通過數(shù)據(jù)庫、函數(shù)等表示變形量信息。能夠通過例如在模擬、使用虛設(shè)基板的實(shí)驗(yàn)等中，在加壓單元18的驅(qū)動(dòng)時(shí)進(jìn)行模具7的變形分析，來獲得加壓單元18的驅(qū)動(dòng)量與圖案區(qū)域7a的變形量之間的關(guān)系。同樣地，能夠通過例如在模擬、使用虛設(shè)基板的實(shí)驗(yàn)等中，在加熱單元50的驅(qū)動(dòng)時(shí)進(jìn)行基板11的變形分析，來獲得加熱單元50的驅(qū)動(dòng)量與投射區(qū)域12的變形量之間的關(guān)系。在這種情況下，虛擬基板可以是不進(jìn)行壓印處理的基板，或者應(yīng)當(dāng)進(jìn)行壓印處理的多個(gè)基板中的、要首先進(jìn)行壓印處理的基板(例如，批量中的第一基板)。
[0050]在步驟S105中，控制單元6根據(jù)在步驟S102中確定的驅(qū)動(dòng)量(變形量)，控制加壓單元18和加熱單元50，以控制圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12的變形，以使圖案區(qū)域7a的形狀接近投射區(qū)域12的形狀(變形步驟)。第一實(shí)施例被構(gòu)造為控制加壓單元18和加熱單元50 二者，來校正高階分量，以使圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12二者變形。然而，這并不是窮舉的。例如，可以控制加壓單元18和加熱單元50中的至少一者，以使圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12中的至少一者變形。在步驟S106中，控制單元6控制模具保持單元3以使模具7與投射區(qū)域上的壓印材料14接觸。在第一實(shí)施例中，在作為變形步驟的步驟S105之后，使模具7與壓印材料14接觸。然而，這并不是窮舉的?？梢栽诓襟ES105之前進(jìn)行上述操作。即，可以在使模具7與壓印材料14接觸之后，控制圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12中的至少一者。
[0051 ] 在步驟S107中，控制單元6使多個(gè)檢測單元22檢測在步驟S104中選擇的標(biāo)記30的位置，并且基于由各個(gè)檢測單元22獲得的檢測結(jié)果，進(jìn)行圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12之間的交疊的FB控制(交疊步驟)。在交疊步驟中，控制單元6進(jìn)行圖案區(qū)域7a與投射區(qū)域的相對(duì)位置的調(diào)整(例如平移校正和旋轉(zhuǎn)校正)，以及圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12中的至少一者的變形(例如倍率校正和梯形校正)。在“調(diào)整”中，控制單元6針對(duì)圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12進(jìn)行平移校正和旋轉(zhuǎn)校正，以維持在變形步驟中變形的區(qū)域的形狀的狀態(tài)?？刂茊卧?通過例如控制基板臺(tái)4的臺(tái)驅(qū)動(dòng)單元20，來進(jìn)行“調(diào)整”。此外，在“變形”中，控制單元6通過使圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12中的至少一者變形，來進(jìn)行圖案區(qū)域7a與投射區(qū)域12之間的放大校正和梯形校正。能夠通過例如控制加壓單元18和加熱單元50中的至少一者，來進(jìn)行“變形”。
[0052]假設(shè)在步驟S104中，控制單元6從多個(gè)標(biāo)記30中，選擇了各自具有偏移量小于多個(gè)標(biāo)記30的偏移量的平均值的4個(gè)標(biāo)記30a至30d，作為在對(duì)準(zhǔn)步驟中要使用的標(biāo)記30。在這種情況下，當(dāng)4個(gè)檢測單元22檢測4個(gè)標(biāo)記30a至30d的位置時(shí)，控制單元6能夠?qū)D案區(qū)域7a的形狀識(shí)別為如同由圖5A中的雙點(diǎn)劃線36指示的直線形狀。假設(shè)如下的情況:針對(duì)在步驟S104中選擇的4個(gè)標(biāo)記30a至30d進(jìn)行交疊的FB控制，以在X方向和Y方向上，使圖案區(qū)域7a上的標(biāo)記31與投射區(qū)域12上的標(biāo)記32匹配。在這種情況下，如圖5B所示，基于檢測結(jié)果識(shí)別的、圖案區(qū)域7a的形狀(雙點(diǎn)劃線36)和投射區(qū)域12的形狀(實(shí)線34)，彼此交疊。根據(jù)第一實(shí)施例的壓印裝置I通過使用各自偏移量小于平均值的標(biāo)記30來進(jìn)行交疊的FB控制，因而能夠抑制圖案區(qū)域7a與投射區(qū)域12之間的交疊精度的劣化。
[0053]在這種情況下，如圖5A和圖5B所示，有時(shí)期望將選擇作為要用于交疊步驟的標(biāo)記30的4個(gè)標(biāo)記30a至30d，布置在從各邊的中心偏移的位置處。這是因?yàn)槿鐖D6所示，例如當(dāng)圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12中的至少一者具有包含梯形分量的形狀時(shí)，難以根據(jù)對(duì)各邊的中心布置的標(biāo)記30的位置的檢測結(jié)果，識(shí)別包含梯形分量的形狀。在這種情況下，在交疊步驟中無法進(jìn)行梯形校正，因而，難以將圖案區(qū)域7a精確地交疊在投射區(qū)域12上。為此，在步驟S104中，作為要用于交疊控制的標(biāo)記30，控制單元6可以從各自偏移量小于多個(gè)標(biāo)記30的偏移量的平均值的標(biāo)記30中，選擇在從各邊的中心偏移的位置處布置的標(biāo)記30。
[0054]如上所述，在圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12中的至少一者的變形控制之后，根據(jù)第一實(shí)施例的壓印裝置I獲得圖案區(qū)域7a上的標(biāo)記31和投射區(qū)域12上的標(biāo)記32的偏移量。然后，控制單元6基于所獲得的偏移量，選擇要在交疊步驟中使用的標(biāo)記30，并且基于對(duì)所選擇的標(biāo)記30的位置的檢測結(jié)果，進(jìn)行圖案區(qū)域7a與投射區(qū)域12之間的交疊的FB控制。這使得根據(jù)第一實(shí)施例的壓印裝置I，能夠?qū)⒛＞呱闲纬傻膱D案區(qū)域7a精確地交疊在基板上形成的投射區(qū)域12上。
[0055]〈第二實(shí)施例〉
[0056]第一實(shí)施例已舉例說明了相同的標(biāo)記30用于交疊步驟中的“調(diào)整”和“變形”的情況。然而，不同的標(biāo)記30可以用于“調(diào)整”和“變形”。例如，增大標(biāo)記30的位置之間的距離，能夠減少對(duì)各個(gè)標(biāo)記30的位置的檢測結(jié)果中包含的誤差的影響，從而提高有關(guān)標(biāo)記之間的距離的測量精度。因此，當(dāng)進(jìn)行“調(diào)整”時(shí)，可以使用在圖案區(qū)域7a和投射區(qū)域12中的各個(gè)的4個(gè)角上布置的標(biāo)記30。另一方面，如上所述，當(dāng)進(jìn)行“變形”時(shí)，可以使用各自偏移量小于多個(gè)標(biāo)記30的偏移量的平均值的標(biāo)記。即，在交疊步驟中，控制單元6可以在要用于“調(diào)整”和“變形”的標(biāo)記30之間切換。
[0057]〈物品的制造方法的實(shí)施例〉
[0058]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的物品的制造方法，適合于制造諸如微型器件(例如半導(dǎo)體器件或具有微型結(jié)構(gòu)的元件)等的物品。根據(jù)本實(shí)施例的物品的制造方法包括通過使用上述壓印裝置使涂布在基板上的樹脂形成圖案的步驟(對(duì)基板進(jìn)行壓印處理的步驟)，以及對(duì)在先前步驟中已形成圖案的基板(已進(jìn)行壓印處理的基板)進(jìn)行處理的步驟。該制造方法還包括其他已知步驟(氧化、成膜、沉積、摻雜、平面化、蝕刻、抗蝕劑去除、切割、鍵合、封裝等)。根據(jù)本實(shí)施例的物品的制造方法在物品的性能、質(zhì)量、生產(chǎn)率和生產(chǎn)成本中的至少一個(gè)方面，優(yōu)于傳統(tǒng)方法。
[0059]〈其他實(shí)施例〉
[0060]還可以通過讀出并執(zhí)行記錄在存儲(chǔ)介質(zhì)(也可更完整地稱為“非暫時(shí)性計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)”)上的計(jì)算機(jī)可執(zhí)行指令(例如，一個(gè)或更多個(gè)程序)以執(zhí)行上述實(shí)施例中的一個(gè)或更多個(gè)的功能、并且/或者包括用于執(zhí)行上述實(shí)施例中的一個(gè)或更多個(gè)的功能的一個(gè)或更多個(gè)電路(例如，專用集成電路(ASIC))的系統(tǒng)或裝置的計(jì)算機(jī)，來實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的實(shí)施例，并且，可以利用通過由系統(tǒng)或裝置的計(jì)算機(jī)例如讀出并執(zhí)行來自存儲(chǔ)介質(zhì)的計(jì)算機(jī)可執(zhí)行指令以執(zhí)行上述實(shí)施例中的一個(gè)或更多個(gè)的功能、并且/或者控制一個(gè)或更多個(gè)電路執(zhí)行上述實(shí)施例中的一個(gè)或更多個(gè)的功能的方法，來實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的實(shí)施例。計(jì)算機(jī)可以包括一個(gè)或更多個(gè)處理器(例如，中央處理單元(CPU)，微處理單元(MPU))，并且可以包括分開的計(jì)算機(jī)或分開的處理器的網(wǎng)絡(luò)，以讀出并執(zhí)行計(jì)算機(jī)可執(zhí)行指令。計(jì)算機(jī)可執(zhí)行指令可以例如從網(wǎng)絡(luò)或存儲(chǔ)介質(zhì)被提供給計(jì)算機(jī)。存儲(chǔ)介質(zhì)可以包括例如硬盤、隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(RAM)、只讀存儲(chǔ)器(ROM)、分布式計(jì)算系統(tǒng)的存儲(chǔ)器、光盤(諸如壓縮光盤(CD)、數(shù)字通用光盤(DVD)或藍(lán)光光盤(BD)?)、閃存裝置以及存儲(chǔ)卡等中的一個(gè)或更多個(gè)。
[0061]本發(fā)明的實(shí)施例還可以通過如下的方法來實(shí)現(xiàn)，S卩，通過網(wǎng)絡(luò)或者各種存儲(chǔ)介質(zhì)將執(zhí)行上述實(shí)施例的功能的軟件(程序)提供給系統(tǒng)或裝置，該系統(tǒng)或裝置的計(jì)算機(jī)或是中央處理單元(CPU)、微處理單元(MPU)讀出并執(zhí)行程序的方法。
[0062]雖然參照示例性實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了描述，但是應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明不限于所公開的示例性實(shí)施例。應(yīng)當(dāng)對(duì)所附權(quán)利要求的范圍給予最寬的解釋，以使其涵蓋所有這些變型例以及等同的結(jié)構(gòu)和功能。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種壓印方法，其通過使用具有形成有圖案的圖案區(qū)域的模具，使基板上形成的投射區(qū)域上的壓印材料形成圖案，所述壓印方法包括以下步驟: 根據(jù)被確定為使所述圖案區(qū)域的形狀與所述投射區(qū)域的形狀彼此接近的所述圖案區(qū)域和所述投射區(qū)域中的至少一個(gè)區(qū)域的變形量，進(jìn)行所述至少一個(gè)區(qū)域的變形的控制； 獲得在所述圖案區(qū)域和所述投射區(qū)域的變形之后的、所述圖案區(qū)域上配設(shè)的多個(gè)標(biāo)記中的各個(gè)與所述投射區(qū)域上配設(shè)的多個(gè)標(biāo)記中的對(duì)應(yīng)標(biāo)記之間的偏移量； 基于在所述獲得步驟中獲得的所述偏移量，從所述多個(gè)標(biāo)記中選擇要用于控制所述圖案區(qū)域與所述投射區(qū)域之間的交疊的標(biāo)記，使得滿足預(yù)設(shè)條件；以及 在所述進(jìn)行變形的控制步驟中的所述變形之后，基于對(duì)在所述選擇步驟中選擇的標(biāo)記的位置的檢測結(jié)果，進(jìn)行所述圖案區(qū)域與所述投射區(qū)域之間的交疊的反饋控制。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的控制方法，其中，所述預(yù)設(shè)條件包括選擇所述偏移量小于所述多個(gè)標(biāo)記的所述偏移量的平均值的標(biāo)記。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的控制方法，其中，在所述變形之后所述至少一個(gè)區(qū)域在各邊配設(shè)有不少于兩個(gè)標(biāo)記，并且 所述預(yù)設(shè)條件包括針對(duì)所述至少一個(gè)區(qū)域的各邊，從所述不少于兩個(gè)標(biāo)記中，選擇至少一個(gè)標(biāo)記。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的控制方法，其中，所述預(yù)設(shè)條件包括選擇在從所述至少一個(gè)區(qū)域的各邊的中心偏移的位置處布置的標(biāo)記。5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的控制方法，其中，所述預(yù)設(shè)條件包括針對(duì)所述至少一個(gè)區(qū)域的各邊以所述偏移量的升序來選擇標(biāo)記。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的控制方法，其中，所述預(yù)設(shè)條件包括選擇被構(gòu)造為在所述進(jìn)行所述交疊的反饋控制步驟中同時(shí)落入檢測視野的數(shù)量的標(biāo)記。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的控制方法，其中，通過使用表示所述圖案區(qū)域的形狀和所述投射區(qū)域的形狀的信息，來確定所述變形量，并且 在所述選擇步驟中，從所述多個(gè)標(biāo)記中，選擇數(shù)量小于為獲得所述信息而檢測到的標(biāo)記的數(shù)量的標(biāo)記。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的控制方法，其中，在所述選擇步驟中，還基于所述模具已經(jīng)使壓印材料成形的基板的交疊精度，來選擇要用于所述交疊的反饋控制的標(biāo)記。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的控制方法，其中，在所述進(jìn)行變形的控制步驟中，根據(jù)所述變形量進(jìn)行所述變形的反饋控制。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的控制方法，其中，所述進(jìn)行所述交疊的反饋控制步驟包括進(jìn)行所述圖案區(qū)域與所述投射區(qū)域之間的倍率校正和梯形校正中的至少一者。11.一種壓印裝置，其通過使用具有形成有圖案的圖案區(qū)域的模具，使基板上形成的投射區(qū)域上的壓印材料形成圖案，所述壓印裝置包括: 變形單元，其被構(gòu)造為使所述圖案區(qū)域和所述投射區(qū)域中的至少一者變形；以及 控制單元， 其中，所述控制單元根據(jù)被確定為使所述圖案區(qū)域的形狀與所述投射區(qū)域的形狀彼此接近的至少一個(gè)區(qū)域的變形量，針對(duì)所述變形單元進(jìn)行所述至少一個(gè)區(qū)域的變形的控制， 獲得在所述圖案區(qū)域和所述投射區(qū)域的變形之后的、所述圖案區(qū)域上配設(shè)的多個(gè)標(biāo)記中的各個(gè)與所述投射區(qū)域上配設(shè)的多個(gè)標(biāo)記中的對(duì)應(yīng)標(biāo)記之間的偏移量； 基于所獲得的偏移量，從所述多個(gè)標(biāo)記中選擇要用于控制所述圖案區(qū)域與所述投射區(qū)域之間的交疊的標(biāo)記，使得滿足預(yù)設(shè)條件；以及 在所述至少一個(gè)區(qū)域的變形之后，基于對(duì)所選擇的標(biāo)記的位置的檢測結(jié)果，進(jìn)行所述圖案區(qū)域與所述投射區(qū)域之間的交疊的反饋控制。12.—種物品的制造方法，所述物品的制造方法包括: 使用壓印方法在基板上形成圖案；以及 對(duì)形成有所述圖案的所述基板進(jìn)行處理以制造所述物品， 其中，所述壓印方法通過使用具有形成有圖案的圖案區(qū)域的模具，使基板上形成的投射區(qū)域上的壓印材料形成圖案，并且所述壓印方法包括以下步驟: 根據(jù)被確定為使所述圖案區(qū)域的形狀與所述投射區(qū)域的形狀彼此接近的至少一個(gè)區(qū)域的變形量，進(jìn)行所述圖案區(qū)域和所述投射區(qū)域中的至少一者的變形的控制； 獲得在所述圖案區(qū)域和所述投射區(qū)域的變形之后的、所述圖案區(qū)域上配設(shè)的多個(gè)標(biāo)記中的各個(gè)與所述投射區(qū)域上配設(shè)的多個(gè)標(biāo)記中的對(duì)應(yīng)標(biāo)記之間的偏移量； 基于在所述獲得步驟中獲得的所述偏移量，從所述多個(gè)標(biāo)記中選擇要用于控制所述圖案區(qū)域與所述投射區(qū)域之間的交疊的標(biāo)記，使得滿足預(yù)設(shè)條件；以及 在所述進(jìn)行變形的控制步驟中的所述變形之后，基于對(duì)在所述選擇步驟中選擇的標(biāo)記的位置的檢測結(jié)果，進(jìn)行所述圖案區(qū)域與所述投射區(qū)域之間的交疊的反饋控制。
【文檔編號(hào)】B82Y40/00GK105842983SQ201610073671
【公開日】2016年8月10日
【申請(qǐng)日】2016年2月2日
【發(fā)明人】中川樹, 中川一樹
【申請(qǐng)人】佳能株式會(huì)社