一種塔式太陽(yáng)能反射鏡的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種塔式太陽(yáng)能反射鏡，包括依次接觸的玻璃基板、反射層、過(guò)渡層、保護(hù)層以及抗紫外保護(hù)膜，其中，所述抗紫外保護(hù)膜是在膜內(nèi)部具有在折射率相對(duì)低的區(qū)域中中具備折射率相對(duì)高的多個(gè)區(qū)域的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，且上述折射率相對(duì)高的多個(gè)區(qū)域在沿膜的膜后的中間點(diǎn)發(fā)生彎曲的抗紫外線的保護(hù)膜。本發(fā)明提供的塔式太陽(yáng)能反射鏡，通過(guò)真空磁控濺射方法將反射層和過(guò)渡層依次鍍?cè)诓ＡЩ妆砻?，提高了界面之間的附著力，提高了反射膜的耐久性，通過(guò)添加具有光擴(kuò)散作用的保護(hù)膜，提高了反射鏡的反射效率，并且耐老化，抗紫外。
【專利說(shuō)明】
一種塔式太陽(yáng)能反射鏡
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明涉及反射鏡領(lǐng)域，更具體地說(shuō)，本發(fā)明涉及一種塔式太陽(yáng)能反射鏡。
【背景技術(shù)】
[0002] 在塔式太陽(yáng)能熱發(fā)電技術(shù)中，定日鏡技術(shù)是實(shí)現(xiàn)塔式太陽(yáng)能熱發(fā)電的關(guān)鍵技術(shù)之 一。定日鏡的功能在于捕捉、反射、聚焦太陽(yáng)光，并將其投射到太陽(yáng)能接收器，它是提高太陽(yáng) 能能量密度的關(guān)鍵部件。同時(shí)，國(guó)內(nèi)外塔式太陽(yáng)能電站建設(shè)實(shí)踐表明，定日鏡群是塔式太陽(yáng) 能熱電站投資最大的部分，也是制約塔式太陽(yáng)能熱發(fā)電迅速發(fā)展的原因之一。降低定日鏡 成本、提高定日鏡性價(jià)比是促進(jìn)我國(guó)塔式太陽(yáng)能熱發(fā)電事業(yè)發(fā)展的有效手段之一。
[0003] 在定日鏡技術(shù)中，定日鏡上的反射鏡是影響定日鏡聚焦效果的關(guān)鍵，太陽(yáng)能反射 鏡目前有玻璃基底鏡后膜反射鏡和金屬基底鏡前膜反射鏡等。其中鏡前膜反射鏡雖然反射 效率高但存在耐風(fēng)沙腐蝕性能差的缺陷。因此目前規(guī)?；瘧?yīng)用的太陽(yáng)能反射鏡多采用玻璃 基底鏡后膜。典型結(jié)構(gòu)為玻璃基底/銀/銅/保護(hù)漆，其中銀反射層多采用傳統(tǒng)的化學(xué)"濕法" 工藝制備。該方法制備的反射鏡反射率為93 %。由于玻璃/銀/銅采用化學(xué)反應(yīng)成膜法，界面 之間的附著力較差，長(zhǎng)期戶外使用存在耐久性缺陷。其次由于采用化學(xué)反應(yīng)鍍膜方法，鍍膜 過(guò)程存在環(huán)境污染等問(wèn)題，同時(shí)保護(hù)漆不具有光擴(kuò)散性，影響反射鏡的反射效率，且對(duì)于戶 外遇到冰雹、大風(fēng)等惡性天氣時(shí)，玻璃基底易損，易破碎。
[0004] 綜上所述，現(xiàn)有的塔式太陽(yáng)能反射鏡主要存在以下不足：1、反射鏡基底無(wú)保護(hù)層 易損，脆性斷裂后出現(xiàn)全部破碎的危險(xiǎn);2、現(xiàn)有技術(shù)中玻璃/銀/銅界面之間的附著力較差； 3、反射鏡的保護(hù)層不具有光擴(kuò)散作用。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 針對(duì)上述技術(shù)中存在的不足之處，本發(fā)明提供一種塔式太陽(yáng)能反射鏡，通過(guò)真空 磁控濺射方法將反射層和過(guò)渡層依次鍍?cè)诓ＡЩ妆砻妫岣吡私缑嬷g的附著力，提高 了反射膜的耐久性，通過(guò)添加具有光擴(kuò)散作用的保護(hù)膜，提高了反射鏡的反射效率，并且耐 老化，抗紫外。
[0006] 為了實(shí)現(xiàn)根據(jù)本發(fā)明的這些目的和其它優(yōu)點(diǎn)，本發(fā)明通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):一 種塔式太陽(yáng)能反射鏡，包括依次接觸的玻璃基板、反射層、過(guò)渡層、保護(hù)層以及抗紫外保護(hù) 膜，其中，所述抗紫外保護(hù)膜是在膜內(nèi)部具有在折射率相對(duì)低的區(qū)域中中具備折射率相對(duì) 高的多個(gè)區(qū)域的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，且上述折射率相對(duì)高的多個(gè)區(qū)域在沿膜的膜后的中間點(diǎn)發(fā)生彎 曲的抗紫外線的保護(hù)膜。
[0007] 優(yōu)選的是，所述反射層為金屬基反射層或高分子基反射層，其厚度為20~80nm。 [0008]優(yōu)選的是，所述金屬基反射層的材料為銀或鋁，所述金屬基反射層中金屬的含量 為1200~2000mg/m 2。
[0009]優(yōu)選的是，所述過(guò)渡層的材料為銅或鋁，其厚度為20~100nm，所述金屬基反射層 中金屬的含量為300~800mg/m2。。
[0010] 優(yōu)選的是，所述保護(hù)層采用鋼化玻璃或著塑料制成，其厚度為25~50mi。
[0011] 優(yōu)選的是，所述抗紫外保護(hù)膜使用如下質(zhì)量百分比的組分經(jīng)紫外線照射而成： 甲基丙烯酸酯 12~40%; 氨基甲酸酯甲基丙烯酸酯 3 0~50%;
[0012] 光聚合引發(fā)劑 1~5%; 紫外線吸收劑 ：1~3°/^
[0013]優(yōu)選的是，所述紫外線吸收劑對(duì)波長(zhǎng)330~380nm的光具有吸收峰。
[0014]優(yōu)選的是，所述反射層通過(guò)真空磁控濺射方法鍍?cè)诓ＡЩ灞砻?，所述過(guò)渡層聽 過(guò)真空磁控濺射方法鍍?cè)诜瓷鋵颖砻妗?br>[0015] 本發(fā)明至少包括以下有益效果：
[0016] 1)本發(fā)明在反射鏡外表面制備了一層抗紫外線保護(hù)膜，通過(guò)特定的組分，滿足抗 紫外的同時(shí)，還具有光學(xué)增透的作用，使得該結(jié)構(gòu)反射鏡的反光率有明顯提高；
[0017] 2)本發(fā)明反射層的金屬采用了真空磁控濺射的方法，在提高膜層附著力，保證膜 層性能的同時(shí)，消除了制鏡過(guò)程中的化學(xué)污染;過(guò)渡層的金屬采用了真空磁控濺射的方法， 起到保護(hù)反射層及增強(qiáng)保護(hù)層附著力的作用；
[0018] 3)本發(fā)明采用鋼化玻璃作為保護(hù)層，可以保護(hù)玻璃基底，使反射鏡具備較大強(qiáng)度 和剛度的同時(shí)，還具有較好的韌性，避免了太陽(yáng)能反射鏡脆性斷裂后出現(xiàn)全部破碎的危險(xiǎn)。
[0019] 本發(fā)明的其它優(yōu)點(diǎn)、目標(biāo)和特征將部分通過(guò)下面的說(shuō)明體現(xiàn)，部分還將通過(guò)對(duì)本 發(fā)明的研究和實(shí)踐而為本領(lǐng)域的技術(shù)人員所理解。
【附圖說(shuō)明】
[0020] 圖1為本發(fā)明所述的塔式太陽(yáng)能反射鏡的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021 ]其中，1-玻璃基低，2-反射層，3-過(guò)渡層，4-保護(hù)層，5-抗紫外保護(hù)膜。
【具體實(shí)施方式】
[0022]下面結(jié)合具體附圖對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明，以令本領(lǐng)域技術(shù)人員參照說(shuō)明 書文字能夠據(jù)以實(shí)施。
[0023]應(yīng)當(dāng)理解，本文所使用的諸如"具有"、"包含"以及"包括"術(shù)語(yǔ)并不配出一個(gè)或多 個(gè)其它元件或其組合的存在或添加。
[0024] 如圖1所示，一種塔式太陽(yáng)能反射鏡，包括依次接觸的玻璃基板1、反射層2、過(guò)渡層 3、保護(hù)層4以及抗紫外保護(hù)膜5,其中，所述抗紫外保護(hù)膜5是在膜內(nèi)部具有在折射率相對(duì)低 的區(qū)域中中具備折射率相對(duì)高的多個(gè)區(qū)域的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，且上述折射率相對(duì)高的多個(gè)區(qū)域在 沿膜的膜后的中間點(diǎn)發(fā)生彎曲的抗紫外線的保護(hù)膜，所述保護(hù)膜。
[0025] 在本發(fā)明中，所述反射層2為金屬基反射層或高分子基反射層，其厚度為20~ 80nm〇
[0026] 在本發(fā)明中，所述金屬基反射層的材料為銀或鋁，所述金屬基反射層中金屬的含 量為 1200 ~2000mg/m2。
[0027]在本發(fā)明中，所述過(guò)渡層3的材料為銅或鋁，其厚度為20~100nm，所述金屬基反射 層中金屬的含量為300~800mg/m2。。
[0028]在本發(fā)明中，所述保護(hù)層4采用鋼化玻璃或著塑料制成，其厚度為25~50mi。
[0029] 在本發(fā)明中，所述抗紫外保護(hù)膜5使用如下質(zhì)量百分比的組分經(jīng)紫外線照射而成： 甲基丙烯酸酯 12~40%; 氨基甲酸酯甲基丙烯酸酯 30~50%;
[0030] 光聚合引發(fā)劑 1~5%, 紫外線吸收劑 1~3%。
[0031]在本發(fā)明中，所述紫外線吸收劑對(duì)波長(zhǎng)330~380nm的光具有吸收峰，使用該組分 的抗紫外線保護(hù)膜可以保護(hù)反射鏡免受紫外線的照射，同時(shí)形成的薄膜具有光擴(kuò)散性，可 以提尚太陽(yáng)光的通過(guò)率，進(jìn)而提尚反射鏡的反射率。
[0032] 在本發(fā)明中，所述反射層通過(guò)真空磁控濺射方法鍍?cè)诓ＡЩ灞砻?，所述過(guò)渡層 聽過(guò)真空磁控濺射方法鍍?cè)诜瓷鋵颖砻?，采用了真空磁控濺射的方法，在提高膜層附著力， 保證膜層性能的同時(shí)，消除了制鏡過(guò)程中的化學(xué)污染;過(guò)渡層的金屬采用了真空磁控濺射 的方法，起到保護(hù)反射層及增強(qiáng)保護(hù)層附著力的作用。
[0033] 盡管本發(fā)明的實(shí)施方案已公開如上，但其并不僅僅限于說(shuō)明書和實(shí)施方式中所列 運(yùn)用。它完全可以被適用于各種適合本發(fā)明的領(lǐng)域。對(duì)于熟悉本領(lǐng)域的人員而言可容易地 實(shí)現(xiàn)另外的修改。因此在不背離權(quán)利要求及等同范圍所限定的一般概念下，本發(fā)明并不限 于特定的細(xì)節(jié)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種塔式太陽(yáng)能反射鏡，其特征在于，包括依次接觸的玻璃基板、反射層、過(guò)渡層、保 護(hù)層以及抗紫外保護(hù)膜，其中，所述抗紫外保護(hù)膜是在膜內(nèi)部具有在折射率相對(duì)低的區(qū)域 中中具備折射率相對(duì)高的多個(gè)區(qū)域的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，且上述折射率相對(duì)高的多個(gè)區(qū)域在沿膜的 膜后的中間點(diǎn)發(fā)生彎曲的抗紫外線的保護(hù)膜。2. 如權(quán)利要求1所述的塔式太陽(yáng)能反射鏡，其特征在于，所述反射層為金屬基反射層或 高分子基反射層，其厚度為20~80nm〇3. 如權(quán)利要求2所述的塔式太陽(yáng)能反射鏡，其特征在于，所述金屬基反射層的材料為銀 或錯(cuò)，所述金屬基反射層中金屬的含量為1200~2000mg/m 2。4. 如權(quán)利要求1所述的塔式太陽(yáng)能反射鏡，其特征在于，所述過(guò)渡層的材料為銅或鋁， 其厚度為20~IOOnm，所述金屬基反射層中金屬的含量為300~800mg/m 2。。5. 如權(quán)利要求1所述的塔式太陽(yáng)能反射鏡，其特征在于，所述保護(hù)層采用鋼化玻璃或著 塑料制成，其厚度為25~50μπι。6. 如權(quán)利要求1所述的塔式太陽(yáng)能反射鏡，其特征在于，所述抗紫外保護(hù)膜使用如下質(zhì) 量百分比的組分經(jīng)紫外線照射而成： 甲基丙烯酸酯 12~40%; 氨基甲酸酯甲基丙烯酸酯 30~50%; 光聚合引發(fā)劑 1~5%; 紫外線吸收劑 1~3%。7. 如權(quán)利要求6所述的塔式太陽(yáng)能反射鏡，其特征在于，所述紫外線吸收劑對(duì)波長(zhǎng)330 ~380nm的光具有吸收峰。8. 如權(quán)利要求1所述的塔式太陽(yáng)能反射鏡，其特征在于，所述反射層通過(guò)真空磁控濺射 方法鍍?cè)诓ＡЩ灞砻妫鲞^(guò)渡層通過(guò)真空磁控濺射方法鍍?cè)诜瓷鋵颖砻妗?br>【文檔編號(hào)】G02B5/08GK105891923SQ201610374240
【公開日】2016年8月24日
【申請(qǐng)日】2016年5月31日
【發(fā)明人】王詠梅, 秦強(qiáng)
【申請(qǐng)人】南京達(dá)峰合金有限公司