光學膜制造用初始膜的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明課題在于提供光學膜制造用初始膜以及使用其的光學膜的制造方法，所述光學膜制造用初始膜可容易地制造光學特性、色相和耐久性均優(yōu)異的收縮應力低的光學膜。解決手段在于光學膜制造用初始膜以及使用該光學膜制造用初始膜的光學膜的制造方法，其具有單軸拉伸的工序，所述光學膜制造用初始膜包含含羥甲基的乙烯醇系聚合物，所述含羥甲基的乙烯醇系聚合物的下述式（1）所示的結(jié)構(gòu)單元的含有率為0.1～1.9摩爾%。
【專利說明】
光學膜制造用初始膜
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明涉及用于制造偏光膜等光學膜的初始膜(origial film)、以及使用了該初 始膜的光學膜的制造方法，所述初始膜包含特定的含羥甲基的乙烯醇系聚合物。
【背景技術(shù)】
[0002] 具有透光和遮光功能的偏振板與用于改變光的偏振光狀態(tài)的液晶均是液晶顯示 器(LCD)的基本構(gòu)成要素。多種偏振板具有在偏光膜的表面貼合有三乙酸纖維素(TAC)膜等 保護膜的結(jié)構(gòu)，作為偏光膜，使將乙烯醇系聚合物膜（以下有時將"乙烯醇系聚合物"稱為 "PVA"）進行單軸拉伸而成的基體吸附碘系色素（If、1 5_等）、二色性有機染料之類的二色性 色素而得到的偏光膜成為主流。
[0003] IXD逐漸應用于計算器和腕表等小型儀器、手機、筆記本電腦、液晶顯示器、液晶彩 色投影儀、液晶電視、車載用導航系統(tǒng)、室內(nèi)外使用的計量儀器等廣大的范圍，近年來，尤其 是要求顯示品質(zhì)的高級化。與此相伴，對偏光膜也要求高性能化，具體而言，要求偏振度、透 射度高、光學特性優(yōu)異、且色相也優(yōu)異的偏光膜。另一方面，對偏光膜也要求高耐久性。
[0004] 然而，已知若干種包含改性PVA的光學膜制造用初始膜。例如已知的是，由含有 〇.01~1摩爾％的羧酸基、羥基-a_烯烴基等親水性官能團的特定PVA形成的偏光膜的初始 用聚乙烯醇膜的拉伸?取向處理性和二色性物質(zhì)的吸附處理性優(yōu)異(參照專利文獻1)。另 外已知的是，包含在側(cè)鏈含有1，2_二醇鍵的PVA的特定光學用PVA膜的光學特性和拉伸性優(yōu) 異(參照專利文獻2)。
[0005] 現(xiàn)有技術(shù)文獻 專利文獻 專利文獻1:日本特開平8-201626號公報 專利文獻2:日本特開2009-24076號公報。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006] 發(fā)明要解決的課題 然而，使用了現(xiàn)有已知的包含改性PVA的光學膜制造用初始膜時，從獲得光學特性、色 相和耐久性均優(yōu)異的光學膜這一點出發(fā)，還存在改善的余地。另外，最近在進行LCD的薄型 化，作為用于實現(xiàn)其的手段，可列舉使LCD所用的玻璃薄型化，從解決所伴隨的偏光膜等光 學膜的收縮應力帶來的玻璃的翹曲問題等觀點出發(fā)，優(yōu)選收縮應力低的光學膜。
[0007] 因而，本發(fā)明的目的在于，提供光學膜制造用初始膜以及使用了其的光學膜的制 造方法，所述光學膜能夠容易地制造光學特性、色相和耐久性均優(yōu)異的收縮應力低的光學 膜。
[0008] 用于解決問題的手段 本發(fā)明人等為了實現(xiàn)上述目的而重復進行了深入研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn):根據(jù)包含特定的含 羥甲基PVA的膜而能夠解決上述課題，所述含羥甲基PVA的主鏈包含特定的結(jié)構(gòu)單元，基于 該見解而進一步重復研究，從而完成了本發(fā)明。
[0009] gp，本發(fā)明涉及如下內(nèi)容：
[1]光學膜制造用初始膜，其包含含羥甲基的PVA，所述含羥甲基的PVA的下述式（1)所 示的結(jié)構(gòu)單元的含有率為〇. 1~1.9摩爾％;
[化1]
[式中，R1表示碳原子數(shù)1~3的烷基。]。
[0010] [2][1]所述的光學膜制造用初始膜，其中，所述含羥甲基的PVA的聚合度超過2， 000；
[3] [1]或[2]所述的光學膜制造用初始膜，其中，所述含羥甲基的PVA的皂化度為95摩 爾％以上；
[4] [1]~[3]中任一項所述的光學膜制造用初始膜，其中，所述含羥甲基的PVA的1，2_ 二醇鍵量為1.5摩爾％以下；
[5] [1]~[4]中任一項所述的光學膜制造用初始膜，其中，所述式（1)所示的結(jié)構(gòu)單元 的R1為甲基；
[6] [1]~[5]中任一項所述的光學膜制造用初始膜，其中，厚度為60wii以下；
[7] [ 1 ]~[6]中任一項所述的光學膜制造用初始膜，其為偏光膜制造用初始膜；
[8] 制造方法，其為使用[1]~[7]中任一項所述的光學膜制造用初始膜的光學膜的制 造方法，其具有單軸拉伸的工序。
[0011]發(fā)明效果 根據(jù)本發(fā)明，可提供光學膜制造用初始膜和使用其的光學膜的制造方法，所述光學膜 制造用初始膜能夠容易地制造光學特性、色相和耐久性均優(yōu)異的收縮應力低的光學膜。
【具體實施方式】
[0012]本發(fā)明光學膜制造用初始膜包含含羥甲基的PVA，所述含羥甲基的PVA的下述式 (1)所示的結(jié)構(gòu)單元的含有率為〇. 1~1.9摩爾％;
[化2]
[式中，R1表示碳原子數(shù)1~3的烷基。]。
[0013] 本發(fā)明的光學膜制造用初始膜中包含的含羥甲基PVA通過以特定含量包含上述式 (1)所示的結(jié)構(gòu)單元，能夠容易地制造光學特性、色相和耐久性均優(yōu)異的收縮應力低的光學 膜。本發(fā)明不受任何限定，作為能夠獲得上述優(yōu)點的原因，可以認為:基于式（1)所示結(jié)構(gòu)單 元的羥甲基的亞甲基的結(jié)晶性降低的影響、以及基于該羥甲基的羥基的高氫鍵力所帶來的 影響。
[0014] 上述式（1)所示的結(jié)構(gòu)單元中，R1表示碳原子數(shù)1~3的烷基。作為該碳原子數(shù)1~3 的烷基，例如可列舉甲基、乙基、正丙基、異丙基。所得的光學膜制造用初始膜的結(jié)晶性越降 低，由其制造的光學膜的色相越提高，因此R 1優(yōu)選甲基或乙基，特別優(yōu)選甲基。
[0015] 將構(gòu)成含羥甲基PVA的全部結(jié)構(gòu)單元的摩爾數(shù)記作100摩爾％，含羥甲基PVA中的式 (1)所示結(jié)構(gòu)單元的含有率需要在0.1~1.9摩爾％的范圍內(nèi)，該含有率優(yōu)選0.2摩爾％以上、 更優(yōu)選0.3摩爾％以上、進一步優(yōu)選0.4摩爾％以上，另外，優(yōu)選1.8摩爾％以下，更優(yōu)選1.7摩 爾％以下，例如可以為1.2摩爾％以下、或1.1摩爾％以下。通過使該含有率為0.1摩爾％以上，由 所得的光學膜制造用初始膜而制造得到的光學膜的色相提高。另一方面，通過使該含有率 為1.9摩爾％以下，能夠更有效地防止使用所得的光學膜制造用初始膜制造光學膜時的膜的 溶解，另外，由該光學膜制造用初始膜制造得到的光學膜的光學特性提高。需要說明的是， 本說明書中，結(jié)構(gòu)單元是指構(gòu)成聚合物的重復單元。
[0016] 含羥甲基的PVA的聚合度沒有特別限制，例如可以為1，500以上，從由所得的光學 膜制造用初始膜而制造得到的光學膜的光學特性和耐久性得到提高的觀點出發(fā)，該聚合度 優(yōu)選超過2，000，更優(yōu)選超過2，100，進一步優(yōu)選超過2，200。另一方面，該聚合度的上限沒有 特別限制，從制造成本、制膜時的工序通過性等觀點出發(fā)，該聚合度優(yōu)選6,000以下。需要說 明的是，本說明書中的含羥甲基PVA的聚合度是指基于JIS K6726-1994的記載而測定的平 均聚合度。
[0017] 從由所得的光學膜制造用初始膜而制造得到的偏光膜等光學膜的耐水性的觀點 出發(fā)，含輕甲基PVA的皂化度優(yōu)選為95摩爾％以上、更優(yōu)選為96摩爾％以上、進一步優(yōu)選為98 摩爾％以上，例如，可以為99摩爾％以上、99.7摩爾％以上、或99.8摩爾％以上。需要說明的是， 本說明書中的含羥甲基PVA的皂化度是指:含羥甲基PVA中具有的乙烯醇單元的摩爾數(shù)相對 于通過皂化而能夠轉(zhuǎn)換成乙烯醇單元(-CH 2-CH(0H)_)的結(jié)構(gòu)單元（典型而言為乙烯酯單 元)與該乙烯醇單元的總摩爾數(shù)的比例(摩爾％)。該皂化度也可以考慮式（1)所示結(jié)構(gòu)單元、 其衍生物的量并基于JIS K6726-1994的記載來進行測定。
[0018] 含羥甲基PVA的制造方法沒有特別限定。例如可列舉出如下方法:將乙烯酯系單體 與能夠和其共聚且能夠轉(zhuǎn)換成式（1)所示結(jié)構(gòu)單元的不飽和單體進行共聚，將所得乙烯酯 系共聚物的乙稀酯單元轉(zhuǎn)換成乙稀醇單元，進而將源自能夠轉(zhuǎn)換成式（1)所示結(jié)構(gòu)單元的 不飽和單體的結(jié)構(gòu)單元轉(zhuǎn)換成式（1)所示結(jié)構(gòu)單元的方法。能夠轉(zhuǎn)換成式(1)所示結(jié)構(gòu)單元 的不飽和單體的具體例示于以下的式(2)。
[0019] [化 3]
[式中，R1表示碳原子數(shù)1~3的烷基，R2表示碳原子數(shù)1~10的烷基。] 式⑵中，R1相關(guān)的說明與式(1)中的R1相同，在此省略重復的記載。
[0020] 式（2)中，作為R2的結(jié)構(gòu)，沒有特別限定，可以為直鏈烷基，也可以一部分具有支 鏈、環(huán)狀結(jié)構(gòu)。另外，一部分可以被其它官能團取代。R優(yōu)選為碳原子數(shù)1~5的烷基，作為該烷 基的例子，可列舉出甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、叔丁基、戊基等直鏈烷基 或具有支鏈的烷基。
[0021] 作為式（2)所示的不飽和單體，可列舉例如乙酸2-甲基-2-丙烯酯（乙酸甲基丙烯 酯）、乙酸2-乙基-2-丙烯酯等。其中，從安全性和制造容易性的觀點出發(fā)，優(yōu)選使用乙酸2-甲基-2-丙烯酯（乙酸甲基丙烯酯）。
[0022]用于制造含羥甲基PVA的乙烯酯系單體沒有特別限定，可列舉出例如甲酸乙烯酯、 乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、異丁酸乙烯酯、特戊酸乙烯酯、叔碳酸乙烯酯、己酸 乙烯酯、辛酸乙烯酯、癸酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯、棕櫚酸乙烯酯、硬脂酸乙烯酯、油酸乙烯 酯、苯甲酸乙烯酯等。從經(jīng)濟的觀點出發(fā)，優(yōu)選為乙酸乙烯酯。
[0023] 將式(2)所示的不飽和單體與乙烯酯系單體進行共聚時的聚合方式可以是間歇聚 合、半間歇聚合、連續(xù)聚合、半連續(xù)聚合等中的任意方式，作為聚合方法，可以應用本體聚合 法、溶液聚合法、懸浮聚合法、乳液聚合法等公知的方法。通常采用在無溶劑或醇等溶劑中 推進聚合的本體聚合法或溶液聚合法。在獲得高聚合度的乙烯酯系共聚物時，還優(yōu)選乳液 聚合法。溶液聚合法的溶劑沒有特別限定，例如為醇。溶液聚合法的溶劑中使用的醇例如為 甲醇、乙醇、丙醇等低級醇。聚合體系中的溶劑用量根據(jù)含羥甲基PVA的目標聚合度考慮溶 劑的鏈轉(zhuǎn)移并選擇即可，例如溶劑為甲醇時，以溶劑與聚合體系中包含的全部單體的質(zhì)量 比{=(溶劑)/(全部單體）}計，優(yōu)選從0.01~10的范圍內(nèi)選擇、更優(yōu)選從0.05~3的范圍內(nèi)選 擇。
[0024] 式(2)所示的不飽和單體與乙烯酯系單體的共聚中使用的聚合引發(fā)劑根據(jù)聚合方 法從公知的聚合引發(fā)劑、例如偶氮系引發(fā)劑、過氧化物系引發(fā)劑、氧化還原系引發(fā)劑中選擇 即可。偶氣系引發(fā)劑例如為2，2 ' -偶氣雙異丁臆、2，2 ' -偶氣雙(2，4_二甲基戊臆）、2，2 ' -偶 氮雙(4-甲氧基_2,4_二甲基戊腈）。過氧化物系引發(fā)劑例如為二異丙基過氧化二碳酸酯、 二-2-乙基己基過氧化二碳酸酯、二乙氧基乙基過氧化二碳酸酯等過碳酸酯系化合物;叔丁 基過氧化新癸酸酯、枯基過氧化新癸酸酯等過氧化酯系化合物；乙?；^氧化環(huán)己基磺 酰；2，4，4-三甲基戊基-2-過氧化苯氧基乙酸酯；過氧化乙酰。也可以將過硫酸鉀、過硫酸 銨、過氧化氫等與上述引發(fā)劑組合而制成聚合引發(fā)劑。氧化還原系引發(fā)劑例如是將上述過 氧化物系引發(fā)劑與亞硫酸氫鈉、碳酸氫鈉、酒石酸、L-抗壞血酸、雕白粉等還原劑組合而得 到的聚合引發(fā)劑。聚合引發(fā)劑的用量因聚合引發(fā)劑的種類而異，因此無法一概而論，根據(jù)聚 合速度進行選擇即可。例如，聚合引發(fā)劑使用2,2'_偶氮雙異丁腈或過氧化乙酰時，相對于 乙稀酯系單體優(yōu)選為0.01~0.2摩爾％、更優(yōu)選為0.02~0.15摩爾°/〇。
[0025]式(2)所示的不飽和單體與乙烯酯系單體的共聚可以在鏈轉(zhuǎn)移劑的存在下進行。 鏈轉(zhuǎn)移劑例如為乙醛、丙醛等醛類;丙酮、甲乙酮等酮類;2-羥基乙硫醇等硫醇類;次膦酸鈉 一水合物等次膦酸鹽類等。其中，適合使用醛類和酮類。鏈轉(zhuǎn)移劑的用量可根據(jù)要使用的鏈 轉(zhuǎn)移劑的鏈轉(zhuǎn)移系數(shù)和含羥甲基PVA的目標聚合度來決定，通常相對于乙烯酯系單體100質(zhì) 量份優(yōu)選為0.1~10質(zhì)量份。
[0026]通過將利用式(2)所示的不飽和單體與乙烯酯系單體的共聚而得到的乙烯酯系共 聚物進行皂化，能夠得到上述含羥甲基PVA。通過將該乙烯酯系共聚物進行皂化，乙烯酯系 共聚物中的乙烯酯單元被轉(zhuǎn)換成乙烯醇單元。另外，源自式(2)所示不飽和單體的結(jié)構(gòu)單元 的酯鍵也被皂化，從而被轉(zhuǎn)換成式（1)所示的結(jié)構(gòu)單元。因此，該含羥甲基PVA即使在皂化后 不進一步進行水解等反應也能夠制造。
[0027]乙烯酯系共聚物的皂化例如可以在醇或含水醇中溶解有該乙烯酯系共聚物的狀 態(tài)下進行。皂化中使用的醇可列舉出例如甲醇、乙醇等低級醇，優(yōu)選為甲醇。皂化中使用的 醇例如可以以其質(zhì)量的40質(zhì)量％以下的比例包含丙酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、苯等其它溶劑。 皂化中使用的催化劑例如為氫氧化鉀、氫氧化鈉等堿金屬的氫氧化物；甲醇鈉等堿催化劑； 無機酸等酸催化劑。進行皂化的溫度沒有限定，適合在20~60°C的范圍內(nèi)。隨著皂化的推進 而逐漸析出凝膠狀的產(chǎn)物時，在將產(chǎn)物粉碎后，進行清洗、干燥，從而能夠得到含羥甲基 PVA。皂化方法不限定于前述方法，可以應用公知的方法。
[0028] 含羥甲基PVA還可以包含式（1)所示的結(jié)構(gòu)單元、乙烯醇單元和乙烯酯單元以外的 其它結(jié)構(gòu)單元。作為該其它結(jié)構(gòu)單元，可列舉出例如源自能夠與乙烯酯系單體進行共聚的 烯屬不飽和單體的結(jié)構(gòu)單元。另外，還可以包含源自能夠與上述乙烯酯系單體進行共聚且 能夠轉(zhuǎn)換成式(1)所示結(jié)構(gòu)單元的不飽和單體的結(jié)構(gòu)單元(通過阜化而未轉(zhuǎn)換成式(1)所示 結(jié)構(gòu)單元的結(jié)構(gòu)單元）。
[0029] 含羥甲基PVA中，將構(gòu)成含羥甲基PVA的全部結(jié)構(gòu)單元的摩爾數(shù)記作100摩爾％，式 (1)所示的結(jié)構(gòu)單元、乙烯醇單元和乙烯酯單元的總量所占的比例優(yōu)選為80摩爾％以上、更 優(yōu)選為90摩爾％以上、進一步優(yōu)選為95摩爾％以上、特別優(yōu)選為99摩爾％以上，可以為100摩 爾％。
[0030] 作為上述稀屬不飽和單體，例如為乙稀、丙稀、正丁稀、異丁稀、1-己稀等a-稀經(jīng) 類;丙烯酸及其鹽;具有丙烯酸酯基的不飽和單體；甲基丙烯酸及其鹽;具有甲基丙烯酸酯 基的不飽和單體;丙烯酰胺;N-甲基丙烯酰胺、N-乙基丙烯酰胺、N，N_二甲基丙烯酰胺、二丙 酮丙烯酰胺、丙烯酰胺丙磺酸及其鹽、丙烯酰胺丙基二甲胺及其鹽(例如季銨鹽)等丙烯酰 胺衍生物；甲基丙烯酰胺;N-甲基甲基丙烯酰胺、N-乙基甲基丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺丙磺 酸及其鹽、甲基丙烯酰胺丙基二甲胺及其鹽(例如季銨鹽)等甲基丙烯酰胺衍生物；甲基乙 烯基醚、乙基乙烯基醚、正丙基乙烯基醚、異丙基乙烯基醚、正丁基乙烯基醚、異丁基乙烯基 醚、叔丁基乙烯基醚、十二烷基乙烯基醚、硬脂基乙烯基醚、2,3_二乙酰氧基-1-乙烯氧基丙 燒等乙烯基醚類;丙稀腈、甲基丙稀腈等氰化乙稀類;氯乙稀、氟乙稀等鹵代乙稀類;偏二氯 乙烯、偏二氟乙烯等偏二鹵代乙烯類；乙酸烯丙酯、2,3_二乙酰氧基-1-烯丙氧基丙烷、烯丙 基氯等烯丙基化合物；馬來酸、衣康酸、富馬酸等不飽和二羧酸及其鹽或酯；乙烯基三甲氧 基硅烷等乙烯基甲娃烷基化合物、乙酸異丙稀醋。
[0031] 含羥甲基PVA中的式（1)所示的結(jié)構(gòu)單元、乙烯醇單元和其它的任意構(gòu)成單元的排 列順序沒有特別限定，可以是無規(guī)、嵌段、交互等中的任一者。
[0032] 含羥甲基的PVA的1，2_二醇鍵量優(yōu)選1.5摩爾％以下，更優(yōu)選1.4摩爾％以下，進一步 優(yōu)選1.2摩爾％以下。通過使含羥甲基的PVA的1，2_二醇鍵量為上述范圍，由所得的光學膜制 造用初始膜制造的光學膜的耐久性提高?？梢砸酝ㄟ^使乙烯酯系單體在40°C以下的溫度下 聚合而得到的乙烯酯系共聚物作為原料制造1，2_二醇鍵量為1.5摩爾％以下的含羥甲基的 PVA。從乙烯酯系單體的聚合速度的觀點出發(fā)，能在工業(yè)上的聚合溫度的下限為-50°C左右， 從該觀點出發(fā)，含羥甲基的PVA的1，2_二醇鍵量的下限大多以0.5摩爾%左右為限度。需要說 明的是，1，2_二醇鍵量是指以1，2_二醇鍵鍵合的鄰接的乙烯醇單元間的鍵的摩爾數(shù)相對于 鄰接的乙烯醇單元間的鍵的總摩爾數(shù)所占的比例(摩爾％)，可以利用NMR測定法求出。
[0033] 本發(fā)明的光學膜制造用初始膜中，除了上述含羥甲基PVA之外，還可以包含增塑 劑。作為優(yōu)選的增塑劑，可列舉出多元醇，作為具體例，可列舉出乙二醇、甘油、丙二醇、二乙 二醇、二甘油、三乙二醇、四乙二醇、三羥甲基丙烷等。本發(fā)明的光學膜制造用初始膜可以包 含這些增塑劑中的1種或2種以上。這些之中，從提高拉伸性的效果的觀點出發(fā)，優(yōu)選為甘 油。
[0034] 關(guān)于本發(fā)明的光學膜制造用初始膜中的增塑劑的含量，相對于其中包含的含羥甲 基PVA 100質(zhì)量份，優(yōu)選在1~20質(zhì)量份的范圍內(nèi)、更優(yōu)選在3~17質(zhì)量份的范圍內(nèi)、進一步優(yōu) 選在5~15質(zhì)量份的范圍內(nèi)。通過使該含量為1質(zhì)量份以上，膜的拉伸性進一步提高。另一方 面，通過使該含量為20質(zhì)量份以下，能夠抑制膜過于柔軟、處理性降低。
[0035] 本發(fā)明的光學膜制造用初始膜中根據(jù)需要還可以適當配合填充劑、銅化合物等加 工穩(wěn)定劑、耐候性穩(wěn)定劑、著色劑、紫外線吸收劑、光穩(wěn)定劑、抗氧化劑、抗靜電劑、阻燃劑、 其它熱塑性樹脂、潤滑劑、香料、消泡劑、消臭劑、增量劑、剝離劑、脫模劑、增強劑、交聯(lián)劑、 防霉劑、防腐劑、結(jié)晶化速度延遲劑等添加劑。
[0036] 本發(fā)明的光學膜制造用初始膜中的含羥甲基PVA和增塑劑的總量所占的比例基于 光學膜制造用初始膜的質(zhì)量優(yōu)選為80質(zhì)量％以上、更優(yōu)選為90質(zhì)量％以上、進一步優(yōu)選為95 質(zhì)量％以上。
[0037]本發(fā)明的光學膜制造用初始膜的溶脹度優(yōu)選在160~240%的范圍內(nèi)、更優(yōu)選在170~ 230%的范圍內(nèi)、特別優(yōu)選在180~220%的范圍內(nèi)。通過使溶脹度為160%以上，能夠穩(wěn)定地拉伸 至更高的倍率。另一方面，通過使溶脹度為240%以下，拉伸時的溶解得以抑制、即使在更高 溫的條件下也能夠拉伸。需要說明的是，本說明書中，光學膜制造用初始膜的溶脹度是指： 將光學膜制造用初始膜在30 °C的蒸餾水中浸漬30分鐘時的質(zhì)量除以浸漬后以105°C干燥16 小時后的質(zhì)量而得到的值的百分率，具體而言，可以通過實施例中后述的方法進行測定。溶 脹度可以通過例如變更熱處理的條件而調(diào)整，通常，可以通過提高熱處理溫度使熱處理時 間變長而使溶脹度降低。
[0038]根據(jù)本發(fā)明的光學膜制造用初始膜，可以容易地制造光學特性、色相和耐久性均 優(yōu)異的收縮應力低的光學膜，因此可十分有效地用于比以往厚度薄的光學膜制造用初始 膜。光學膜制造用初始膜的厚度優(yōu)選60wii以下，更優(yōu)選55wii以下，進一步優(yōu)選50wii以下，特 別優(yōu)選40mi以下，最優(yōu)選35mi以下，可以為25mi以下，還可以為20wii以下。該厚度過厚時，有 在用于制造光學膜的單軸拉伸處理時容易發(fā)生拉伸不均的傾向。需要說明的是，該厚度過 薄時，有在用于制造偏光膜等光學膜的單軸拉伸處理時，容易發(fā)生拉伸斷裂的傾向，因此該 厚度優(yōu)選lym以上，更優(yōu)選5wii以上，進一步優(yōu)選lOym以上。
[0039] 本發(fā)明的光學膜制造用初始膜的寬度沒有特別限定，可根據(jù)要制造的光學膜的用 途等來確定。近年來，從液晶電視、液晶顯示器的大畫面化正在發(fā)展的觀點出發(fā)，預先將光 學膜制造用初始膜的寬度制成3m以上時，適合于這些用途。另一方面，光學膜制造用初始膜 的寬度過大時，在利用實用裝置制造光學膜的情況下，均勻進行單軸拉伸自身容易變得困 難，因此，光學膜制造用初始膜的寬度優(yōu)選為7m以下。
[0040] 本發(fā)明的光學膜制造用初始膜的制造方法沒有特別限定，可優(yōu)選采用在制膜后的 膜的厚度和寬度變得更均勻的制造方法，例如可以使用如下的制膜原液來制造:將構(gòu)成光 學膜制造用初始膜的上述含羥甲基PVA溶解在液體介質(zhì)中，以及根據(jù)需要進一步將上述增 塑劑、添加劑和后述的表面活性劑等之中的1種或2種以上溶解在液體介質(zhì)中而得到的制膜 原液;包含含羥甲基PVA以及根據(jù)需要進一步包含增塑劑、添加劑、表面活性劑和液體介質(zhì) 等之中的1種或2種以上，且含羥甲基PVA已經(jīng)熔融的制膜原液。該制膜原液含有增塑劑、添 加劑和表面活性劑中的至少1種時，優(yōu)選這些成分均勻地混合。
[0041] 作為用于制備制膜原液的上述液體介質(zhì)，可列舉出例如水、二甲基亞砜、二甲基甲 酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、乙二醇、甘油、丙二醇、二乙二醇、三乙二醇、四乙二 醇、三羥甲基丙烷、乙二胺、二乙三胺等，可以使用這些之中的1種或2種以上。其中，從對環(huán) 境造成的負擔、回收性的觀點出發(fā)，優(yōu)選為水。
[0042] 制膜原液的揮發(fā)分率(制膜時因揮發(fā)、蒸發(fā)而被去除的液體介質(zhì)等揮發(fā)性成分在 制膜原液中的含有比例)還因制膜方法、制膜條件等而異，一般來說，優(yōu)選在50~95質(zhì)量％的 范圍內(nèi)、更優(yōu)選在55~90質(zhì)量%的范圍內(nèi)、進一步優(yōu)選在60~85質(zhì)量%的范圍內(nèi)。通過使制膜原 液的揮發(fā)分率為50質(zhì)量％以上，制膜原液的粘度不會變得過高，制備制膜原液時的過濾、脫 泡得以順利地進行，容易制造異物、缺點少的膜。另一方面，通過使制膜原液的揮發(fā)分率為 95質(zhì)量%以下，制膜原液的濃度不會變得過低，工業(yè)上容易制造膜。
[0043] 制膜原液優(yōu)選包含表面活性劑。通過包含表面活性劑，制膜性提高、抑制膜發(fā)生厚 度不均，且膜容易從用于制膜的金屬輥、帶上剝離。由包含表面活性劑的制膜原液制造光學 膜制造用初始膜時，該膜中可以含有表面活性劑。上述表面活性劑的種類沒有特別限定，從 自金屬輥、帶上剝離的剝離性的觀點等出發(fā)，優(yōu)選為陰離子性表面活性劑或非離子性表面 活性劑。
[0044] 作為陰離子性表面活性劑，例如適合的是，月桂酸鉀等羧酸型;聚氧乙烯月桂基醚 硫酸鹽、硫酸辛酯等硫酸酯型;十二烷基苯磺酸鹽等磺酸型等。
[0045]作為非離子性表面活性劑，例如適合的是，聚氧乙烯油基醚等烷基醚型；聚氧乙烯 辛基苯基醚等烷基苯基醚型；聚氧乙烯月桂酯等烷基酯型；聚氧乙烯月桂基氨基醚等烷基 胺型;聚氧乙烯月桂酰胺等烷基酰胺型；聚氧乙烯聚氧丙烯醚等聚丙二醇醚型；月桂酸二乙 醇酰胺、油酸二乙醇酰胺等烷醇酰胺型;聚氧亞烷基烯丙基苯基醚等烯丙基苯基醚型等。
[0046] 這些表面活性劑可以單獨使用1種，或者組合使用2種以上。
[0047] 制膜原液包含表面活性劑時，其含量相對于制膜原液中包含的含羥甲基PVA 100 質(zhì)量份優(yōu)選在〇. 01~〇. 5質(zhì)量份的范圍內(nèi)、更優(yōu)選在0.02~0.3質(zhì)量份的范圍內(nèi)、特別優(yōu)選在 0.05~0.1質(zhì)量份的范圍內(nèi)。通過使該含量為0.01質(zhì)量份以上，制膜性和剝離性進一步提高。 另一方面，通過使該含量為0.5質(zhì)量份以下，能夠抑制表面活性劑滲出至光學膜制造用初始 膜的表面而發(fā)生結(jié)塊、處理性降低。
[0048] 作為使用上述制膜原液制造光學膜制造用初始膜時的制膜方法，可列舉出例如壓 延制膜法、擠出制膜法、濕式制膜法、凝膠制膜法等。這些制膜方法可以僅采用1種，也可以 組合采用2種以上。這些制膜方法之中，由于能夠獲得厚度和寬度均勻且物性良好的光學膜 制造用初始膜，故而優(yōu)選壓延制膜法、擠出制膜法。所制造的膜根據(jù)需要可以進行干燥、熱 處理。
[0049] 作為本發(fā)明的光學膜制造用初始膜的具體制造方法的例子，例如工業(yè)上優(yōu)選采用 如下方法:使用T型縫模、料斗板、I-模、唇涂機模等，將上述制膜原液均勻地噴出或流延在 位于最上游側(cè)的旋轉(zhuǎn)且經(jīng)加熱的第1輥(或帶）的圓周面上，使揮發(fā)性成分從噴出或流延在 該第1輥(或帶）的圓周面上的膜的一個面進行蒸發(fā)而干燥，接著在配置于其下游側(cè)的1個或 多個旋轉(zhuǎn)且經(jīng)加熱的輥的圓周面上進一步干燥，或者使其穿過熱風干燥裝置中而進一步干 燥后，利用卷取裝置進行卷取的方法。利用加熱輥進行的干燥與利用熱風干燥裝置進行的 干燥可適當組合來實施。
[0050] 本發(fā)明的光學膜制造用初始膜作為用于制造光學膜的初始膜而使用。作為這種光 學膜，可列舉出例如偏光膜、相位差膜等，優(yōu)選偏光膜。這種光學膜例如可以通過使用本發(fā) 明的光學膜制造用初始膜即具有單軸拉伸的工序的方法來制造，具體而言，可以利用具有 單軸拉伸的工序的方法制造本發(fā)明的光學膜制造用初始膜、或者后述實施溶脹處理等而生 成的源自本發(fā)明的光學膜制造用初始膜的膜（以下，"本發(fā)明的光學膜制造用初始膜"和"源 自本發(fā)明的光學膜制造用初始膜的膜"有時總稱為"基于本發(fā)明的膜"）。
[0051] 使用本發(fā)明的光學膜制造用初始膜制造偏光膜時的方法沒有特別限定，可以采用 一直以來采用的任意方法。作為這種方法，例如可列舉出：對基于本發(fā)明的膜實施染色和單 軸拉伸、或者對含有染料的基于本發(fā)明的膜實施單軸拉伸的方法。作為用于制造偏光膜的 更具體方法，可列舉出：針對基于本發(fā)明的膜實施溶脹、染色、單軸拉伸，并且根據(jù)需要進一 步實施交聯(lián)處理、固定處理、干燥、熱處理等的方法。此時，溶脹、染色、交聯(lián)處理、單軸拉伸、 固定處理等各處理的順序沒有特別限定，也可以同時進行1個或2個以上的處理。另外，各處 理中的1個或2個以上也可以進行2次或2次以上。
[0052] 溶脹可以通過將基于本發(fā)明的膜浸漬在水中來進行。作為浸漬于水時的水溫，優(yōu) 選在20~40°C的范圍內(nèi)、更優(yōu)選在22~38°C的范圍內(nèi)、進一步優(yōu)選在25~35°C的范圍內(nèi)。另外， 作為浸漬于水的時間，例如優(yōu)選在〇. 1~5分鐘的范圍內(nèi)、更優(yōu)選在0.5~3分鐘的范圍內(nèi)。需要 說明的是，浸漬于水時的水不限定于純水，可以是溶解有各種成分的水溶液，也可以是水與 水性介質(zhì)的混合物。
[0053]染色可通過使二色性色素接觸基于本發(fā)明的膜來進行。作為二色性色素，通常使 用碘系色素。作為染色的時期，可以是單軸拉伸前、單軸拉伸時、單軸拉伸后中的任意階段。 染色通常通過使PVA膜浸漬在作為染色浴的含有碘-碘化鉀的溶液(尤其是水溶液）中來進 行，本發(fā)明中也適合采用這種染色方法。染色浴中的碘濃度優(yōu)選在〇. 〇 1~〇. 5質(zhì)量％的范圍 內(nèi)、碘化鉀的濃度優(yōu)選在0.01~10質(zhì)量%的范圍內(nèi)。另外，染色浴的溫度優(yōu)選為20~50 °C、特別 優(yōu)選為25~40 °C。
[0054]通過對基于本發(fā)明的膜實施交聯(lián)處理，能夠在以高溫進行濕式拉伸時更有效地防 止含羥甲基PVA溶出至水中。從該觀點出發(fā)，交聯(lián)處理優(yōu)選在接觸二色性色素的處理之后且 單軸拉伸之前進行。交聯(lián)處理可以通過將基于本發(fā)明的膜浸漬于包含交聯(lián)劑的水溶液來進 行。作為該交聯(lián)劑，可以使用硼酸、硼砂等硼酸鹽等硼化合物中的1種或2種以上。包含交聯(lián) 劑的水溶液中的交聯(lián)劑濃度優(yōu)選在1~15質(zhì)量%的范圍內(nèi)、更優(yōu)選在2~7質(zhì)量%的范圍內(nèi)、進一 步優(yōu)選在3~6質(zhì)量%的范圍內(nèi)。通過使交聯(lián)劑的濃度處于1~15質(zhì)量%的范圍內(nèi)，能夠維持充分 的拉伸性。包含交聯(lián)劑的水溶液可以含有碘化鉀等。包含交聯(lián)劑的水溶液的溫度優(yōu)選在20~ 50°C的范圍內(nèi)、特別優(yōu)選在25~40°C的范圍內(nèi)。通過使該溫度在20~50°C的范圍內(nèi)，能夠高效 地進行交聯(lián)。
[0055]基于本發(fā)明的膜的單軸拉伸可以利用濕式拉伸法或干式拉伸法中的任一者進行。 在濕式拉伸法的情況下，可以在包含硼酸的水溶液中進行，也可以在上述染色浴中、后述固 定處理浴中進行。另外，在干式拉伸法的情況下，可以在室溫下直接進行拉伸，也可以在加 熱的同時進行拉伸，還可以使用吸水后的基于本發(fā)明的膜在空氣中進行。這些之中，從在寬 度方向能均勻地進行拉伸出發(fā)，優(yōu)選為濕式拉伸法，更優(yōu)選在包含硼酸的水溶液中進行單 軸拉伸。硼酸水溶液中的硼酸濃度優(yōu)選在0.5~6.0質(zhì)量%的范圍內(nèi)、更優(yōu)選在1.0~5.0質(zhì)量％ 的范圍內(nèi)、特別優(yōu)選在1.5~4.0質(zhì)量％的范圍內(nèi)。另外，硼酸水溶液可以含有碘化鉀，碘化鉀 的濃度優(yōu)選在〇. 〇 1~1 〇質(zhì)量%的范圍內(nèi)。
[0056]單軸拉伸時的拉伸溫度優(yōu)選在30~90°C的范圍內(nèi)、更優(yōu)選在40~80°C的范圍內(nèi)、特 別優(yōu)選在50~70 °C的范圍內(nèi)。
[0057] 另外，從所得偏光膜的偏振光性能的觀點出發(fā)，單軸拉伸時的拉伸倍率優(yōu)選為6.6 倍以上、更優(yōu)選為6.8倍以上、特別優(yōu)選為7.0倍以上。拉伸倍率的上限沒有特別限定，拉伸 倍率優(yōu)選為8倍以下。
[0058] 將長條的基于本發(fā)明的膜進行單軸拉伸時的單軸拉伸方向沒有特別限定，可以采 用向長條方向進行的單軸拉伸、橫向單軸拉伸，由于能夠獲得偏振光性能優(yōu)異的偏光膜，因 此優(yōu)選為向長條方向進行的單軸拉伸。向長條方向進行的單軸拉伸可以通過使用具備彼此 平行的多個輥的拉伸裝置，并變更各輥間的圓周速度來進行。另一方面，橫向單軸拉伸可以 使用拉幅型拉伸機來進行。
[0059] 制造偏光膜時，為了使二色性色素(碘系色素等)穩(wěn)固地吸附于膜，優(yōu)選進行固定 處理。作為固定處理中使用的固定處理浴，可以使用包含硼酸、硼砂等硼化合物中的1種或2 種以上的水溶液。另外，根據(jù)需要可以向固定處理浴中添加碘化合物、金屬化合物。固定處 理浴中的硼化合物的濃度通常優(yōu)選為2~15質(zhì)量％、特別優(yōu)選為3~10質(zhì)量%左右。通過使該濃 度在2~15質(zhì)量%的范圍內(nèi)，能夠更穩(wěn)固地吸附二色性色素。固定處理浴的溫度優(yōu)選為15~60 °C、特別優(yōu)選為25~40°C。
[0060] 干燥的條件沒有特別限定，優(yōu)選在30~150°C的范圍內(nèi)、特別優(yōu)選在50~130°C的范 圍內(nèi)的溫度下進行干燥。通過以30~150°C范圍內(nèi)的溫度進行干燥，容易獲得尺寸穩(wěn)定性優(yōu) 異的偏光膜。
[0061] 根據(jù)本發(fā)明的光學膜制造用初始膜，可以容易地制造收縮應力低的光學膜。所得 的偏光膜的收縮應力，以在溫度20 °C、相對濕度20%的條件下實施調(diào)濕處理后的偏光膜的長 度方向（偏光膜制造時的拉伸方向）的收縮應力計，優(yōu)選3.5N/mm 2以下。通過使該收縮應力 為3.5N/mm2以下，形成難以發(fā)生LCD翹曲的的偏光膜。從LCD翹曲的觀點出發(fā)，該收縮應力更 優(yōu)選3.2N/mm2以下，進一步優(yōu)選3N/mm2以下，特別優(yōu)選2.7N/mm2以下。該收縮應力的下限沒 有特別限制，該收縮應力例如可以為1 N/mm2以上，還可以為2N/mm2以上。
[0062] 上述收縮應力可以如下測定。即，首先對作為測定對象的偏光膜的樣品（長度12cm X寬度1.5cm)在溫度20°C、相對濕度20%的條件下實施調(diào)濕處理。此處該調(diào)濕處理是為了收 縮應力測定而進行的。不進行該調(diào)濕處理時，通常收縮應力的值變大，通過進行本處理，可 以使收縮應力的值變小，同時能夠得到更加正確的值。實施上述調(diào)濕處理后，將該樣品以卡 盤間5cm固定在長度方向，接著，在溫度40°C、相對濕度5%的條件下在長度方向拉伸，張力達 到2N時停止拉伸并保持，在該狀態(tài)下升溫至80 °C，求出經(jīng)過4小時時的長度方向的收縮應力 (N/mm2)。更具體而言，該收縮應力可利用實施例中后述的方法進行測定。
[0063] 如上操作而得到的偏光膜通常在其雙面或單面貼合光學透明且具有機械強度的 保護膜后用作偏振板。作為保護膜，可使用三乙酸纖維素(TAC)膜、環(huán)烯烴聚合物(C0P)膜、 乙酸?丁酸纖維素(CAB)膜、丙烯酸系膜、聚酯系膜等。另外，作為用于貼合的粘接劑，可列 舉出PVA系粘接劑、氨基甲酸酯系粘接劑、丙烯酸酯系紫外線固化型接著劑等。
[0064] 如上操作而得到的偏振板在涂覆丙烯酸系等粘合劑后，貼合于玻璃基板而可用作 LCD的部件。同時可以貼合相位差膜、視野角改善膜、亮度改善膜等。 實施例
[0065] 以下，通過實施例更詳細地說明本發(fā)明，但本發(fā)明完全不限定于這些實施例。需要 說明的是，以下實施例和比較例中采用的各測定或評價方法如下所示。
[0066] PVA的一級結(jié)構(gòu) 以下實施例和比較例中使用的P V A (實施例中的含羥甲基P V A、比較例中的各種改性 PVA)的一級結(jié)構(gòu)使用400MHz h-NMR進行分析。1H-NMR測定時的溶劑使用了氘代DMS0。
[0067] 光學膜制造用初始膜的溶脹度 將以下實施例或比較例中得到的光學膜制造用初始膜切割至達到1.5g，在30°C的蒸餾 水中浸漬30分鐘。浸漬30分鐘后取出該膜，用濾紙濾取表面的水，求出質(zhì)量"N"。接著，將該 膜用105°C的干燥機干燥16小時后，求出質(zhì)量"M"。由所得質(zhì)量"N"和"M"利用下述式(3)算出 光學膜制造用初始膜的溶脹度。 溶脹度(％) = 100 X N/M (3)。
[0068] 光學膜制造用初始膜的拉伸性 從以下實施例或比較例中得到的光學膜制造用初始膜的寬度方向中央部，以寬度5cm X長度5cm的范圍能夠進行單軸拉伸的方式，切割寬度5cmX長度8cm的樣品。將該樣品浸漬 于30 °C的純水，并且向長度方向單軸拉伸1.5倍。接著，在以碘為0.03質(zhì)量%和碘化鉀為3.0 質(zhì)量%的比例含有碘和碘化鉀的水溶液(染色?。?溫度30 °C )中浸漬60秒鐘，并且向長度方 向單軸拉伸1.6倍(全體計拉伸2.4倍)而使碘吸附。接著，在以硼酸為3質(zhì)量%和碘化鉀為3質(zhì) 量%的比例含有硼酸和碘化鉀的水溶液(交聯(lián)?。?溫度30°C)中浸漬，并且向長度方向單軸 拉伸1.1倍(全體計拉伸2.6倍）。進而，在以硼酸為4質(zhì)量%和碘化鉀為6質(zhì)量%的比例含有硼 酸和碘化鉀的水溶液(拉伸?。┲薪n，并且向長度方向單軸拉伸至切斷為止，將切斷時的 長度相對于拉伸前的光學膜制造用初始膜的長度的倍率記作極限拉伸倍率。其中，針對拉 伸浴的溫度，自適當?shù)臏囟绕鹈看巫兏?°C來測定極限拉伸倍率，選擇極限拉伸倍率達到最 高的溫度。
[0069] 偏光膜的光學特性(二色性比) (1)透射率Ts的測定 從以下實施例或比較例中得到的偏光膜的中央部采取2片偏光膜的長度方向為2cm的 樣品，使用附帶積分球的分光光度計（日本分光株式會社制"V7100"），按照JIS Z 8722(物 體色的測定方法），進行C光源、2°視野的可見光區(qū)域的能見度校正，針對1片樣品，測定相對 于長度方向傾斜+45°時的光透射率和相對于長度方向傾斜-45°時的光透射率，求出它們的 平均值Ts 1 (%)。針對另1片樣品也同樣操作，測定傾斜+45°時的光透射率和傾斜-45°時的光 透射率，求出它們的平均值Ts2(%)。通過下述式(4)將Tsl和Ts2進行平均，記作偏光膜的透 射率Ts(%)。 Ts = (Tsl+Ts2)/2 (4)〇
[0070] (2)偏振度V的測定 針對將上述透射率Ts的測定中采取的2片樣品以其長度方向平行的方式進行重疊時的 光透射率T // (%)、以長度方向垂直的方式進行重疊時的光透射率T丄（％)，與上述"（1)透射 率Ts的測定"的情況同樣操作來測定，通過下述式(5)求出偏振度V(%)。 V = {(T//-T 丄）/(T//+T 丄）}1/2X100 (5)。
[0071] (3)透射率為44%時的二色性比的算出 在以下的各實施例和比較例中，將染色浴中的碘濃度在〇. 02~0.04質(zhì)量%的各范圍內(nèi)變 更4次并將碘化鉀的濃度在2.0~4.0質(zhì)量%的各范圍內(nèi)變更4次(其中，碘的濃度:碘化鉀的濃 度=1:100)，進行相同的操作，從而制造與各實施例或比較例中制造的偏光膜的二色性色素 吸附量不同的4片偏光膜。針對這些4片偏光膜，分別利用上述方法求出透射率Ts(%)和偏振 度V(%)，各實施例和比較例分別以透射率Ts(%)為橫軸、以偏振度V(%)為縱軸，將基于各實 施例或比較例中得到的偏光膜的透射率Ts (%)和偏振度V(%)的、包括1點在內(nèi)的共5點標繪 在圖上而求出近似曲線，由該近似曲線求出透射率Ts (%)為44%時的偏振度V44 (%)。
[0072] 通過下述式(6)由所得偏振度V44(%)求出透射率為44%時的二色性比，作為偏振光 性能的指標。應予說明，二色性比越高，則偏光膜的光學特性越良好，二色性比為66以上時 判定為"〇"（良好），小于66時判定為" X"（不良）。 透射率為44%時的二色性比=1 og(44/100-44/100 X V44/ 100)/log(44/100 +44/100 X V44/IOO) (6)〇
[0073] 偏光膜的色相(平行b值) 在上述"偏光膜的光學特性(二色性比)"中，求出二色性色素吸附量不同的4片偏光膜 的偏振度V時，在測定透射率T // (%)和透射率T丄（％)時測定Lab色空間，將測定透射率T // (%)時的b值作為平行b值，將測定透射率T丄（％)時的b值作為垂直b值。各實施例和比較例分 別以平行b值為橫軸、以垂直b值為縱軸，將基于各實施例或比較例中得到的偏光膜的平行b 值和垂直b值的、包括1點在內(nèi)的共5點標繪在圖上而求出近似曲線，由該近似曲線求出垂直 b值為_4時的平行b值。需要說明的是，平行b值越接近0,則視作偏光膜的色相越良好，平行b 值小于2.2時判定為"〇"（良好），為2.2以上時判定為1"（不良）。
[0074] 偏光膜的耐久性(吸光度殘存率) 在各實施例或比較例中，由上述"偏光膜的光學特性(二色性比)"中制造的二色性色素 的吸附量不同的4張偏光膜和各實施例或比較例中得到的偏光膜的總計5張偏光膜中，選擇 一張透過率為44~45%的范圍、且測定透過率T丄（％)時求出的波長61 Onm下的吸光度(垂直 吸光度)為2.95~3.05的偏光膜。
[0075] 將該偏光膜在60°C、90%RH的環(huán)境下暴露4小時，將初期的波長610nm下的垂直吸光 度作為A〇h及將4小時暴露后的波長610nm下的垂直吸光度作為A4h，將利用下述式(7)求出的 垂直吸光度的殘存率(吸光度殘存率)D(%)作為偏光膜的耐久性進行評價。需要說明的是， 吸光度殘存率越高則偏光膜的耐久性越良好，吸光度殘存率為33%以上時，判定為"〇"（良 好），小于33%時，判定為" X"（不良）。 D(%) = 100XA4h/A〇h (7)。
[0076] 偏光膜的收縮應力 由以下實施例或比較例中得到的偏光膜的中央部采取偏光膜的長度方向為12cm、寬度 方向為1.5cm的矩形樣品，在溫度20°C、相對濕度20%的條件下調(diào)濕16小時。接著，將該樣品 以卡盤間5cm固定在長度方向的方式固定于株式會社島津制作所制的autograph"AG-X"。在 溫度40°C、相對濕度5%的條件下、以1mm/分鐘的速度在長度方向拉伸，張力達到2N時停止拉 伸并保持，在該狀態(tài)下升溫至80°C，測定4小時后的張力，將其除以膜的截面積(單位:_ 2)， 由此求出該偏光膜的收縮應力（長度方向的收縮應力）。收縮應力為3 ? 5N/mm2以下時，判定 為"〇"（良好），超過3.5N/mm2時，判定為" X "（不良）。
[0077][實施例1] (1)將包含表1所示的含羥甲基PVA 100質(zhì)量份作為改性PVA、包含甘油10質(zhì)量份作為增 塑劑、以及包含聚氧乙烯月桂醚硫酸鈉0.1質(zhì)量份作為表面活性劑且改性PVA的含有率為10 質(zhì)量％的水溶液用作制膜原液，所述含羥甲基PVA是通過將乙酸乙烯酯與乙酸2-甲基-2-丙 烯酯的共聚物進行皂化而得到的，將所述制膜原液在80°C的金屬輥上進行干燥，將所得膜 在熱風干燥機中以規(guī)定的溫度熱處理1分鐘，從而將溶脹度調(diào)整至200%，從而制造厚度為30 Mi的光學膜制造用初始膜。
[0078]使用所得光學膜制造用初始膜，通過上述方法評價拉伸性。將結(jié)果示于表1。
[0079] (2)從上述（1)中得到的光學膜制造用初始膜的寬度方向中央部，以寬度5cmX長 度5cm的范圍能夠進行單軸拉伸的方式，切割寬度5cmX長度8cm的樣品。將該樣品浸漬于30 °C的純水，并且向長度方向單軸拉伸1.5倍。接著，在以碘為0.03質(zhì)量%和碘化鉀為3.0質(zhì)量％ 的比例含有碘和碘化鉀的水溶液(染色?。?溫度30°C)中浸漬60秒鐘，并且向長度方向單軸 拉伸1.6倍(全體計拉伸2.4倍)而使碘吸附。接著，在以硼酸為3質(zhì)量%和碘化鉀為3質(zhì)量％的 比例含有硼酸和碘化鉀的水溶液(交聯(lián)浴）（溫度30°C)中浸漬，并且向長度方向單軸拉伸 1.1倍(全體計拉伸2.6倍）。進而，在以硼酸為4質(zhì)量%和碘化鉀為6質(zhì)量％的比例含有硼酸和 碘化鉀的水溶液(拉伸浴）(上述"光學膜制造用初始膜的拉伸性"中求出的極限拉伸倍率達 到最高的溫度）中浸漬，并且向長度方向單軸拉伸至比極限拉伸倍率低0.2倍的倍率。其后， 在以3質(zhì)量％的比例含有碘化鉀的水溶液(清洗?。?溫度30 °C )中浸漬5秒鐘，最后以60 °C干 燥4分鐘，從而制造偏光膜。
[0080]使用所得偏光膜，通過上述方法評價偏光膜的光學特性(二色性比）、色相（平行b 值）、耐久性和收縮應力。將結(jié)果示于表1。
[0081 ][實施例2~5] 在實施例1中，作為改性PVA，使用將乙酸乙烯酯與乙酸2-甲基-2-丙烯基酯的共聚物進 行皂化而得到的表1所示的含羥甲基的PVA(實施例2~5)，除此之外，與實施例1同樣操作而 制造光學膜制造用初始膜和偏光膜，進行各測定或評價。將結(jié)果示于表1。
[0082] [比較例1~4和參考例1] 在實施例1中，分別使用將乙酸乙烯酯的均聚物進行皂化而得到的表1所示的未改性 PVA來代替改性PVA(比較例1);作為改性PVA，使用將乙酸乙烯酯與乙酸2-甲基-2-丙烯基酯 的共聚物進行皂化而得到的表1所示的含羥甲基的PVA(比較例2);作為改性PVA，使用將乙 酸乙烯酯與3,4_二乙酰氧基-1-丁烯的共聚物進行皂化而得到的表1所示的改性PVA(比較 例3);作為改性PVA，使用將乙酸乙烯酯與衣康酸的共聚物進行皂化而得到的表1所示的改 性PVA(比較例4);或者，作為改性PVA，使用將乙酸乙烯酯與7-乙酰氧基-1-庚烯的共聚物進 行皂化而得到的表1所示的改性PVA(參考例1)，除此之外，與實施例1同樣操作而制造光學 膜制造用初始膜和偏光膜，進行各測定或評價。將結(jié)果示于表1。
[0083] [表1]
[0084]由以上結(jié)果明確可知:通過滿足本發(fā)明規(guī)程的實施例1~5的光學膜制造用初始膜， 可容易地制造光學特性、色相和耐久性均優(yōu)異的收縮應力低的光學膜。
【主權(quán)項】
1. 光學膜制造用初始膜，其包含含徑甲基的乙締醇系聚合物，所述含徑甲基的乙締醇 系聚合物的下述式(1)所示的結(jié)構(gòu)單元的含有率為0.1~1.9摩爾％，[化1] (1 .) 式中，Ri表示碳原子數(shù)1~3的烷基。2. 權(quán)利要求1所述的光學膜制造用初始膜，其中，所述含徑甲基的乙締醇系聚合物的聚 合度超過2,000。3. 權(quán)利要求1或2所述的光學膜制造用初始膜，其中，所述含徑甲基的乙締醇系聚合物 的皂化度為95摩爾％W上。4. 權(quán)利要求1~3中任一項所述的光學膜制造用初始膜，其中，所述含徑甲基的乙締醇 系聚合物的1,2-二醇鍵量為1.5摩爾％W下。5. 權(quán)利要求1~4中任一項所述的光學膜制造用初始膜，其中，所述式（1)所示的結(jié)構(gòu)單 元的Ri為甲基。6. 權(quán)利要求1~5中任一項所述的光學膜制造用初始膜，其中，厚度為60wiiW下。7. 權(quán)利要求1~6中任一項所述的光學膜制造用初始膜，其為偏光膜制造用初始膜。8. 制造方法，其為使用權(quán)利要求1~7中任一項所述的光學膜制造用初始膜的光學膜的 制造方法，其具有單軸拉伸的工序。
【文檔編號】C08F16/06GK105917256SQ201580006076
【公開日】2016年8月31日
【申請日】2015年1月26日
【發(fā)明人】高藤勝啟, 磯崎孝德, 加藤雅己
【申請人】株式會社可樂麗