一種陣列基板的制備方法、顯示面板及顯示裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種陣列基板的制備方法、顯示面板及顯示裝置，屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明通過在會導(dǎo)致顯示器出現(xiàn)周邊發(fā)黃現(xiàn)象的第一陣列基板的邊緣區(qū)域形成至少一個修復(fù)過孔組圖案得到第二陣列基板，將第二陣列基板上的全部或部分修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案形成一個隔墊單元容腔圖案，得到第三陣列基板，將第三陣列基板上的每個隔墊單元容腔圖案蝕刻成一個隔墊單元容腔，得到第四陣列基板，使得將第四陣列基板應(yīng)用于液晶盒時，與每個隔墊單元容腔圖案對應(yīng)的隔墊單元失去在第四陣列基板上的著力點而無法支撐第四陣列基板，從而減小液晶盒邊緣區(qū)域的厚度，避免顯示器出現(xiàn)周邊發(fā)黃的現(xiàn)象。
【專利說明】
一種陣列基板的制備方法、顯示面板及顯示裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種陣列基板的制備方法、顯示面板及顯示
目.0
【背景技術(shù)】
[0002]IXD因具有輕、薄、功耗低、亮度高以及畫質(zhì)高等優(yōu)點，在平板顯示領(lǐng)域占據(jù)了重要的地位。其中，LCD的液晶盒包括陣列基板、彩膜基板和液晶，通過陣列基板和彩膜基板對盒而將液晶封裝在陣列基板和彩膜基板之間形成液晶盒。
[0003]在目前的液晶盒中，彩膜基板上形成有多個隔墊單元，每個隔墊單元遠(yuǎn)離彩膜基板的一端均頂在陣列基板上，液晶填充在多個隔墊單元之間，通過隔墊單元支撐陣列基板和彩膜基板，以保持陣列基板和彩膜基板之間存在一定距離。
[0004]在實現(xiàn)本發(fā)明的過程中，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)至少存在以下問題:
[0005]在設(shè)計過程中，可能會出現(xiàn)彩膜基板邊緣區(qū)域的隔墊單元的密度偏高的情形，在陣列基板和彩膜基板對盒后，容易造成在液晶盒的邊緣區(qū)域，陣列基板與彩膜基板之間的距離大于在液晶盒的中部區(qū)域的陣列基板與彩膜基板之間的距離，導(dǎo)致背光源的光線透過液晶盒時經(jīng)過不同位置的光程差不同，出現(xiàn)顯示器周邊發(fā)黃的現(xiàn)象。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]為了解決現(xiàn)有技術(shù)中由于彩膜基板邊緣區(qū)域的隔墊單元的密度偏高，導(dǎo)致在陣列基板和彩膜基板對盒后，背光源的光線透過液晶盒時經(jīng)過不同位置的光程差不同，出現(xiàn)顯示器周邊發(fā)黃的現(xiàn)象的問題，本發(fā)明實施例提供了一種陣列基板的制備方法、顯示面板及顯示裝置。所述技術(shù)方案如下:
[0007]第一方面，提供了一種陣列基板的制備方法，所述陣列基板的制備方法包括:
[0008]形成第一陣列基板；
[0009]在所述第一陣列基板出光側(cè)的邊緣區(qū)域形成至少一個修復(fù)過孔組圖案得到第二陣列基板，每個修復(fù)過孔組圖案包括至少兩個虛化過孔圖案；
[0010]將所述第二陣列基板上的全部或部分修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案形成一個隔墊單元容腔圖案，得到第三陣列基板，每個隔墊單元容腔圖案分別與彩膜基板上的一個隔墊單元對應(yīng)，每個隔墊單元在所述第三陣列基板上的投影區(qū)域位于其對應(yīng)的隔墊單元容腔圖案內(nèi)；
[0011]將所述第三陣列基板上的每個隔墊單元容腔圖案蝕刻成一個隔墊單元容腔，得到第四陣列基板。
[0012]進一步地，所述將所述第二陣列基板上的全部或部分修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案形成一個隔墊單元容腔圖案，得到第三陣列基板之前，還包括:
[0013]將所述第二陣列基板上的每個修復(fù)過孔組圖案蝕刻成修復(fù)過孔組，得到第五陣列基板，每個修復(fù)過孔組包括至少兩個虛化過孔；
[0014]如果所述第五陣列基板能夠?qū)е嘛@示器出現(xiàn)周邊發(fā)黃現(xiàn)象，則執(zhí)行所述將所述第二陣列基板上的全部或出現(xiàn)周邊發(fā)黃區(qū)域的修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案形成一個隔墊單元容腔圖案，得到第三陣列基板的步驟。
[0015]進一步地，所述將所述第二陣列基板上的全部或部分修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案蝕刻成修復(fù)過孔組，得到第五陣列基板之后，還包括:
[0016]形成一組顯示器，所述一組顯示器中的每個顯示器包括所述第五陣列基板；
[0017]如果所述一組顯示器中出現(xiàn)周邊發(fā)黃的顯示器數(shù)目達(dá)到預(yù)設(shè)閾值，則確定所述第五陣列基板能夠?qū)е嘛@示器出現(xiàn)周邊發(fā)黃現(xiàn)象。
[0018]具體地，所述第五陣列基板上的每個修復(fù)過孔組對應(yīng)所述彩膜基板上的一個隔墊單元，每個隔墊單元與其對應(yīng)的修復(fù)過孔組接觸。
[0019]具體地，所述至少兩個虛化過孔中的相鄰兩個虛化過孔之間的距離為3到3.5微米。
[0020]具體地，所述相鄰兩個虛化過孔之間的距離為3微米。
[0021]具體地，所述在所述第一陣列基板出光側(cè)的邊緣區(qū)域形成至少一個修復(fù)過孔組圖案得到第二陣列基板，包括:
[0022]使用光照掩膜板，按照第一曝光量對涂有光刻膠的第一陣列基板進行光照處理，以在所述第一陣列基板的邊緣區(qū)域形成至少一個修復(fù)過孔組圖案得到第二陣列基板。
[0023]具體地，所述將所述第二陣列基板上的全部或部分修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案形成一個隔墊單元容腔圖案，得到第三陣列基板，包括:
[0024]使用所述光照掩膜板，按照第二曝光量對所述第二陣列基板進行光照處理，以將所述第二陣列基板上的全部或部分修復(fù)過孔組中的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案形成一個隔墊單元容腔圖案，得到第三陣列基板，所述第二曝光量大于所述第一曝光量。
[0025]具體地，所述將所述第三陣列基板上的每個隔墊單元容腔圖案蝕刻成一個隔墊單元容腔，包括:將所述第三陣列基板上的每個隔墊單元容腔圖案在其有機膜層上蝕刻成一個隔墊單元容腔，得到第四陣列基板。
[0026]第二方面，提供了一種顯示面板，所述顯示面板包括按照所述陣列基板的制備方法制備的陣列基板。
[0027]第三方面，提供了一種顯示裝置，所述顯示裝置包括所述顯示面板。
[0028]本發(fā)明實施例提供的技術(shù)方案帶來的有益效果是:
[0029]本發(fā)明通過在會導(dǎo)致顯示器出現(xiàn)周邊發(fā)黃現(xiàn)象的第一陣列基板的邊緣區(qū)域形成至少一個修復(fù)過孔組圖案得到第二陣列基板，將第二陣列基板上的全部或部分修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案形成一個隔墊單元容腔圖案，得到第三陣列基板，將第三陣列基板上的每個隔墊單元容腔圖案蝕刻成一個隔墊單元容腔，得到第四陣列基板，第四陣列基板的邊緣區(qū)域上形成至少一個隔墊單元容腔，由于每個隔墊單元容腔圖案分別與彩膜基板上的一個隔墊單元對應(yīng)，每個隔墊單元在第三陣列基板上的投影區(qū)域位于其對應(yīng)的隔墊單元容腔圖案內(nèi)，使得將第四陣列基板應(yīng)用于液晶盒時，與每個隔墊單元容腔圖案對應(yīng)的隔墊單元失去在第四陣列基板上的著力點而無法支撐第四陣列基板，從而減小液晶盒邊緣區(qū)域的厚度，避免顯示器出現(xiàn)周邊發(fā)黃的現(xiàn)象。
【附圖說明】
[0030]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0031 ]圖1是本發(fā)明一實施例提供的陣列基板的制備方法的流程圖；
[0032]圖2是本發(fā)明又一實施例提供的第一陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0033]圖3是本發(fā)明又一實施例提供的第四陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0034]圖4是本發(fā)明又一實施例提供的第四陣列基板的使用狀態(tài)示意圖；
[0035]圖5是本發(fā)明又一實施例提供的陣列基板的制備方法的流程圖；
[0036]圖6是本發(fā)明又一實施例提供的第五陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0037]圖7是本發(fā)明又一實施例提供的第五陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0038]圖8是本發(fā)明又一實施例提供的第五陣列基板的使用狀態(tài)示意圖。
[0039]其中:
[0040]I第一陣列基板，
[0041 ]11襯底基板，12薄膜晶體管層，13鈍化層，14有機膜層，
[0042]2第四陣列基板，
[0043]21隔墊單元容腔，
[0044]3第五陣列基板，
[0045]31修復(fù)過孔組，311虛化過孔，
[0046]4彩膜基板，
[0047]5隔墊單元。
【具體實施方式】
[0048]為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明實施方式作進一步地詳細(xì)描述。
[0049]在本發(fā)明實施例描述中所述的出光側(cè)，均是指靠近顯示器的顯示屏而背離背光模塊的一側(cè)，邊緣區(qū)域是指顯示面板上位于顯示區(qū)域周邊的非顯示區(qū)域。
[0050]實施例一
[0051]如圖1所示，本發(fā)明實施例提供了一種陣列基板的制備方法，該陣列基板的制備方法包括:
[0052]在步驟101中，形成第一陣列基板；
[0053]如圖2所示，在本發(fā)明實施例中，第一陣列基板I包括襯底基板11、薄膜晶體管層
12、像素電極(圖中未示出)、鈍化層13和有機膜層14，薄膜晶體管層12形成在襯底基板11的出光側(cè)，像素電極形成在薄膜晶體管層12的薄膜晶體管之間，鈍化層13形成在薄膜晶體管層12的出光側(cè)且覆蓋薄膜晶體管層12，有機膜層14覆蓋在鈍化層13的出光側(cè)，通過薄膜晶體管層12中的薄膜晶體管控制使用該第一陣列基板I的液晶盒內(nèi)的液晶分子偏轉(zhuǎn)。
[0054]在步驟102中，在第一陣列基板出光側(cè)的邊緣區(qū)域形成至少一個修復(fù)過孔組圖案得到第二陣列基板，每個修復(fù)過孔組圖案包括至少兩個虛化過孔圖案。
[0055]在本發(fā)明實施例中，在第一陣列基板的出光側(cè)的邊緣區(qū)域形成至少一個修復(fù)過孔組圖案具體為:使用光照掩膜板，按照第一曝光量對涂有光刻膠的第一陣列基板進行光照處理，以在第一陣列基板的邊緣區(qū)域形成至少一個修復(fù)過孔組圖案得到第二陣列基板。更具體地，在第一陣列基板上的有機膜層上涂光刻膠，形成光阻層，光照掩膜板上設(shè)有修復(fù)過孔組圖案，將光照掩膜板置于光阻層的出光側(cè)，按照第一曝光量對第一陣列基板進行曝光，形成第二陣列基板。
[0056]在步驟103中，將第二陣列基板上的全部或部分修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案形成一個隔墊單元容腔圖案，得到第三陣列基板，每個隔墊單元容腔圖案分別與彩膜基板上的一個隔墊單元對應(yīng)，每個隔墊單元在第三陣列基板上的投影區(qū)域位于其對應(yīng)的隔墊單元容腔圖案內(nèi)。
[0057]在本發(fā)明實施例中，將第二陣列基板上的全部或部分修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案形成一個隔墊單元容腔圖案，得到第三陣列基板具體為:使用光照掩膜板，按照第二曝光量對第二陣列基板進行光照處理，以將第二陣列基板上的全部或部分修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案形成一個隔墊單元容腔圖案，得到第三陣列基板，第二曝光量大于第一曝光量。更具體地，保持光照掩膜板位于第二陣列基板上，按照第二曝光量對第二陣列基板進行曝光，第二陣列基板上的全部或部分修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案中包括的至少兩個虛化過孔圖案連成一個隔墊單元容腔圖案。
[0058]在步驟104中，將第三陣列基板上的每個隔墊單元容腔圖案蝕刻成一個隔墊單元容腔，得到第四陣列基板。
[0059]在本發(fā)明實施例中，將第三陣列基板上的每個隔墊單元容腔圖案蝕刻成一個隔墊單元容腔，得到第四陣列基板具體為:將第三陣列基板上的每個隔墊單元容腔圖案在其有機膜層上蝕刻成一個隔墊單元容腔，得到第四陣列基板。更具體地，在對第三陣列基板進行顯影操作后，通過蝕刻使得第三陣列基板的周邊區(qū)域形成至少一個隔墊單元容腔，得到第四陣列基板，其中，第四陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖如圖3所示，結(jié)合圖4進行說明，至少一個隔墊單元容腔21形成在第四陣列基板2的有機膜層14上，其中，至少一個隔墊單元容腔21中的每個隔墊單元容腔21與彩膜基板4上的一個隔墊單元5對應(yīng)，與隔墊單元容腔21對應(yīng)的隔墊單元5在第四陣列基板2上的投影位于隔墊單元容腔21中，使用本發(fā)明實施例提供的第四陣列基板2時，由于隔墊單元容腔21的存在，與隔墊單元容腔21對應(yīng)的隔墊單元5在第四陣列基板2上失去著力點而懸空于隔墊單元容腔21的出光側(cè)，無法支撐第四陣列基板2，從而減小第四陣列基板2與彩膜基板3之間的距離。
[0060]本發(fā)明通過在會導(dǎo)致顯示器出現(xiàn)周邊發(fā)黃現(xiàn)象的第一陣列基板的邊緣區(qū)域形成至少一個修復(fù)過孔組圖案得到第二陣列基板，將第二陣列基板上的全部或部分修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案形成一個隔墊單元容腔圖案，得到第三陣列基板，將第三陣列基板上的每個隔墊單元容腔圖案蝕刻成一個隔墊單元容腔，得到第四陣列基板，第四陣列基板的邊緣區(qū)域上形成至少一個隔墊單元容腔，由于每個隔墊單元容腔圖案分別與彩膜基板上的一個隔墊單元對應(yīng)，每個隔墊單元在第三陣列基板上的投影區(qū)域位于其對應(yīng)的隔墊單元容腔圖案內(nèi)，使得將第四陣列基板應(yīng)用于液晶盒時，與每個隔墊單元容腔圖案對應(yīng)的隔墊單元失去在第四陣列基板上的著力點而無法支撐第四陣列基板，從而減小液晶盒邊緣區(qū)域的厚度，避免顯示器出現(xiàn)周邊發(fā)黃的現(xiàn)象。
[0061 ] 實施例二
[0062]如圖5所示，本發(fā)明實施例提供了一種陣列基板的制備方法，該方法包括:
[0063]在步驟201中，形成第一陣列基板。
[0064]如圖2所示，在本發(fā)明實施例中，第一陣列基板I包括襯底基板11、薄膜晶體管層
12、像素電極(圖中未示出)、鈍化層13和有機膜層14，薄膜晶體管層12形成在襯底基板11的出光側(cè)，像素電極形成在薄膜晶體管層12的薄膜晶體管之間，鈍化層13形成在薄膜晶體管層12的出光側(cè)且覆蓋薄膜晶體管層12，有機膜層14覆蓋在鈍化層13的出光側(cè)，通過薄膜晶體管層12中的薄膜晶體管控制使用該第一陣列基板I的液晶盒內(nèi)的液晶分子偏轉(zhuǎn)。
[0065]在步驟202中，在第一陣列基板出光側(cè)的邊緣區(qū)域形成至少一個修復(fù)過孔組圖案，得到第二陣列基板，每個修復(fù)過孔組圖案包括至少兩個虛化過孔圖案。
[0066]在本發(fā)明實施例中，在第一陣列基板的出光側(cè)的邊緣區(qū)域形成至少一個修復(fù)過孔組圖案具體為，在第一陣列基板的出光側(cè)形成一層有機膜，并在該陣列基板的有機膜層上涂光刻膠，形成光阻層，將設(shè)有修復(fù)過孔組圖案的光照掩膜板置于光阻層的出光側(cè)，按照第一曝光量對第一陣列基板進行曝光，形成第二陣列基板。
[0067]在步驟203中，將第二陣列基板上的全部或部分修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案蝕刻成修復(fù)過孔組，得到第五陣列基板，每個修復(fù)過孔組包括至少兩個虛化過孔。
[0068]如圖6所示，且結(jié)合圖7和圖8進行說明，在本發(fā)明實施例中，對第二陣列基板進行顯影和蝕刻操作，得到第五陣列基板3，第五陣列基板3的邊緣區(qū)域形成有至少一個修復(fù)過孔組31，至少一個修復(fù)過孔組31中的每個修復(fù)過孔組31包括至少兩個虛化過孔311。將第五陣列基板3應(yīng)用于顯示器時，第五陣列基板3上的每個修復(fù)過孔組31對應(yīng)彩膜基板4上的一個隔墊單元5，每個隔墊單元5與其對應(yīng)的修復(fù)過孔組31接觸。
[0069]具體地，彩膜基板4上的隔墊單元5通常為圓柱形結(jié)構(gòu)，在本發(fā)明實施例中，每個修復(fù)過孔組31包括的至少兩個虛化過孔311中的每個虛化過孔311均為直徑小于與該修復(fù)過孔組31對應(yīng)的隔墊單元5的直徑的圓孔，每個修復(fù)過孔組31包括的至少兩個虛化過孔311中的任意兩個虛化過孔311之間的間隔與其對應(yīng)的隔墊單元5接觸，也即每個修復(fù)過孔組31包括的至少兩個虛化過孔311均與其對應(yīng)的隔墊單元5接觸，以使該隔墊單元5可以支撐第五陣列基板3，也即第五陣列基板3與彩膜基板4對盒后，隔墊單元5可以以虛化過孔311之間的間隔為支撐，保持第五陣列基板3和彩膜基板4之間的距離。
[0070]當(dāng)然，本領(lǐng)域技術(shù)人員可知，隔墊單元5的橫截面形狀也可為方形、三角形等其他多邊形或橢圓形，且每個修復(fù)過孔組31包括的至少兩個虛化過孔311的橫截面尺寸的大小以與該修復(fù)過孔組31對應(yīng)的隔墊單元5在第五陣列基板3上的投影位于該修復(fù)過孔組31包括的所有虛化過孔311上為準(zhǔn)，保證每個修復(fù)過孔組31包括的至少兩個虛化過孔311均與其對應(yīng)的隔墊單元5接觸。
[0071]在本發(fā)明實施例中，優(yōu)選地，每個修復(fù)過孔組31包括的至少兩個虛化過孔311中的相鄰兩個虛化過孔311之間的距離為3到3.5微米，避免在第一曝光量下相鄰兩個虛化過孔圖案連通，優(yōu)選地，相鄰兩個虛化過孔311之間的距離為3微米。且在本發(fā)明實施例中，相鄰兩個修復(fù)過孔組31之間的距離大于每組修復(fù)過孔組31中的任意兩個相鄰的虛化過孔311之間的距離，避免在曝光過程中相鄰兩個修復(fù)過孔組31之間發(fā)生影響。
[0072]當(dāng)然，本領(lǐng)域技術(shù)人員可知，由于邊緣區(qū)域的陣列基板和彩膜基板4之間的距離與顯示器出現(xiàn)周邊發(fā)黃現(xiàn)象的嚴(yán)重程度息息相關(guān)，故在本申請中，至少一個修復(fù)過孔組31也可分為N(N= 2,3,4,……)次曝光組，每次曝光組包括至少一個修復(fù)過孔組31，且第N次曝光組包括的修復(fù)過孔組31中的每個修復(fù)過孔組31的相鄰兩個虛化過孔311之間的距離大于第N-1次曝光組包括的修復(fù)過孔組31中的每個修復(fù)過孔組31的相鄰兩個虛化過孔311之間的距離，如N等于3，第一次曝光組包括的至少一個修復(fù)過孔組31中的每個修復(fù)過孔組31的相鄰兩個虛化過孔311之間的距離為3微米，第二次曝光組包括的至少一個修復(fù)過孔組31中的每個修復(fù)過孔組31的相鄰兩個虛化過孔311之間的距離為3.2微米，第三次曝光組包括的至少一個修復(fù)過孔組31中的每個修復(fù)過孔組31的相鄰兩個虛化過孔311之間的距離為3.4微米。第一次曝光組包括的至少一個修復(fù)過孔組31的圖案在第二曝光量下形成隔墊單元容腔圖案，第二次曝光組和第三次曝光組包括的修復(fù)過孔組的圖案在高于第二曝光量的曝光量下形成隔墊單元容腔圖案，工作人員可根據(jù)第五陣列基板3應(yīng)用于顯示器出現(xiàn)周邊發(fā)黃現(xiàn)象的嚴(yán)重程度選擇按第一次曝光組、第二次曝光組或第三次曝光組需要的曝光量進行曝光，當(dāng)按第三次曝光組需要的曝光量進行曝光時，第一次曝光組、第二次曝光組和第三次曝光組包括的修復(fù)過孔組的圖案均形成隔墊單元容腔圖案，也即第二陣列基板上的全部修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案均形成隔墊單元容腔圖案，當(dāng)按第二次曝光組需要的曝光量進行曝光時，第一次曝光組和第二次曝光組包括的修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案均形成隔墊單元容腔圖案，但第三次曝光組包括的修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案不會形成隔墊單元容腔圖案，當(dāng)按照第一次曝光組需要的曝光量進行曝光時，第一次曝光組包括的修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案形成隔墊單元容腔圖案，但第二次曝光組和第三次曝光組包括的修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案不會形成隔墊單元容腔圖案，按第二次曝光組需要的曝光量和第一次曝光組需要的曝光量進行曝光也即使第二陣列基板上的部分修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案形成一個隔墊單元容腔圖案，得到第三陣列基板的情形。
[0073]當(dāng)然，本領(lǐng)域技術(shù)人員可知，對第二陣列基板上的部分修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案形成一個隔墊單元容腔圖案，得到第三陣列基板也可以為，通過使用光照掩膜板以使部分修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案形成一個隔墊單元容腔圖案，得到第三陣列基板。
[0074]在步驟204中，形成一組顯示器，一組顯示器中的每個顯示器均包括第五陣列基板。
[0075]在本發(fā)明實施例中，由于陣列基板和彩膜基板一旦對盒完成，陣列基板和彩膜基板的結(jié)構(gòu)都無法改變，而在顯示器生產(chǎn)完成投入檢測之前，本領(lǐng)域技術(shù)人員無法得知依據(jù)某一設(shè)計圖紙生產(chǎn)出的顯示器是否會出現(xiàn)周邊發(fā)黃的現(xiàn)象。故在本發(fā)明實施例中，通過先生產(chǎn)一組包括第五陣列基板的顯示器來判斷第五陣列基板是否會導(dǎo)致顯示器出現(xiàn)周邊發(fā)黃的現(xiàn)象，而后以第五陣列基板的設(shè)計為基礎(chǔ)，通過調(diào)節(jié)曝光過程中的曝光量以實現(xiàn)對陣列基板的結(jié)構(gòu)的改進，操作簡單，且生產(chǎn)成本較低。
[0076]在步驟205中，根據(jù)一組顯示器中出現(xiàn)周邊發(fā)黃的顯示器數(shù)目是否達(dá)到預(yù)設(shè)閾值，判斷第五陣列基板是否能夠?qū)е嘛@示器出現(xiàn)周邊發(fā)黃現(xiàn)象；
[0077]如果是，則執(zhí)行步驟206;
[0078]如果不是，則不再執(zhí)行步驟206，該第五陣列基板可以直接用于顯示器。
[0079]在本發(fā)明實施例中，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解，當(dāng)顯示器出現(xiàn)周邊發(fā)黃的現(xiàn)象是由陣列基板導(dǎo)致時，出現(xiàn)周邊發(fā)黃現(xiàn)象的概率可達(dá)百分之百，但陣列基板與彩膜基板對盒過程中，工作人員的操作失誤也可能改變邊緣區(qū)域的陣列基板與彩膜基板之間的距離，為避免因出現(xiàn)周邊發(fā)黃現(xiàn)象的數(shù)量不達(dá)百分之百而判斷錯誤，在本發(fā)明實施例中，通過一組顯示器中出現(xiàn)周邊發(fā)黃現(xiàn)象的數(shù)量來判斷第五陣列基板是否會導(dǎo)致顯示器出現(xiàn)周邊發(fā)黃的現(xiàn)象。如，一組顯示器的數(shù)量為10臺，若出現(xiàn)周邊發(fā)黃現(xiàn)象的顯示器的數(shù)量大于8臺，即可判斷出該第五陣列基板會導(dǎo)致顯示器出現(xiàn)周邊發(fā)黃現(xiàn)象，其中，預(yù)設(shè)閾值的大小可根據(jù)工作人員加工產(chǎn)品的產(chǎn)品良率來確定。
[0080]本發(fā)明通過在形成第三陣列基板之前，先判斷第五陣列基板是否會導(dǎo)致顯示器出現(xiàn)周邊發(fā)黃的現(xiàn)象，如果第五陣列基板不會導(dǎo)致顯示器出現(xiàn)周邊發(fā)黃的現(xiàn)象，則在后續(xù)生產(chǎn)的顯示器中可直接使用第五陣列基板，如果第五陣列基板會導(dǎo)致顯示器出現(xiàn)周邊發(fā)黃的現(xiàn)象，則在后續(xù)生產(chǎn)的顯示器中不能繼續(xù)使用第五陣列基板，而需要對第二陣列基板進行改進，以保證顯示器能正常顯示，避免在第五陣列基板不會導(dǎo)致顯示器出現(xiàn)周邊發(fā)黃現(xiàn)象的前提下開發(fā)第四陣列基板，畫蛇添足，浪費人力物力。且根據(jù)出現(xiàn)周邊發(fā)黃現(xiàn)象的顯示器的數(shù)量判斷第五陣列基板是否會導(dǎo)致顯示器出現(xiàn)周邊發(fā)黃的現(xiàn)象，判斷結(jié)果較為準(zhǔn)確。
[0081]在步驟206中，將第二陣列基板上的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案形成一個隔墊單元容腔圖案，得到第三陣列基板，每個隔墊單元容腔圖案分別與彩膜基板上的一個隔墊單元對應(yīng)，每個隔墊單元在第三陣列基板上的投影區(qū)域位于其對應(yīng)的隔墊單元容腔圖案內(nèi)。
[0082]在本發(fā)明實施例中，將第二陣列基板上的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案形成一個隔墊單元容腔圖案，得到第三陣列基板具體為:保持光照掩膜板位于第二陣列基板上，按照第二曝光量對第二陣列基板進行曝光，第二曝光量大于第一曝光量，第二陣列基板上的每個修復(fù)過孔組圖案中包括的至少兩個虛化過孔圖案連成一個隔墊單元容腔圖案。
[0083]本發(fā)明通過同一塊光照掩膜板形成第二陣列基板和第三陣列基板，通過調(diào)節(jié)曝光量以改變形成在陣列基板上的圖案，操作簡單，大大降低生產(chǎn)成本。
[0084]在步驟207中，將第三陣列基板上的每個隔墊單元容腔圖案蝕刻成一個隔墊單元容腔，得到第四陣列基板。
[0085]在本發(fā)明實施例中，將第三陣列基板上的每個隔墊單元容腔圖案蝕刻成一個隔墊單元容腔，得到第四陣列基板具體為:在對第三陣列基板進行顯影操作后，通過蝕刻使得第三陣列基板的周邊區(qū)域形成至少一個隔墊單元容腔，得到第四陣列基板。
[0086]其中，第四陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖3所示，結(jié)合圖4進行說明，其中，第四陣列基板2的結(jié)構(gòu)示意圖如圖3所示，結(jié)合圖4進行說明，至少一個隔墊單元容腔21形成在第四陣列基板2的有機膜層14上，其中，至少一個隔墊單元容腔21中的每個隔墊單元容腔21與彩膜基板4上的一個隔墊單元5對應(yīng)，與隔墊單元容腔21對應(yīng)的隔墊單元5在第四陣列基板2上的投影位于隔墊單元容腔21中，使用本發(fā)明實施例提供的第四陣列基板2時，由于隔墊單元容腔21的存在，與隔墊單元容腔21對應(yīng)的隔墊單元5在第四陣列基板2上失去著力點而懸空于隔墊單元容腔21的出光側(cè)，無法支撐第四陣列基板2，從而減小第四陣列基板2與彩膜基板3之間的距離。
[0087]其中，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解，在可以支撐第四陣列基板2的隔墊單元5的密度越高的位置，第四陣列基板2與彩膜基板4之間的距離越大，為了保證在各個位置處第四陣列基板2與彩膜基板4之間的距離一致，隔墊單元容腔21沿第四陣列基板2的邊緣區(qū)域均勻分布O
[0088]當(dāng)然，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解，在有機膜層14的出光側(cè)也形成有鈍化層13，且鈍化層13覆蓋有機膜層14和隔墊單元容腔21的內(nèi)壁。
[0089]實施例三
[0090]本發(fā)明實施例提供了一種顯示面板，該顯示面板包括通過實施例一或?qū)嵤├兴龅年嚵谢宓闹苽浞椒ㄖ苽涞年嚵谢濉?br>[0091]本發(fā)明通過在會導(dǎo)致顯示器出現(xiàn)周邊發(fā)黃現(xiàn)象的第一陣列基板的邊緣區(qū)域形成至少一個修復(fù)過孔組圖案得到第二陣列基板，將第二陣列基板上的全部或部分修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案形成一個隔墊單元容腔圖案，得到第三陣列基板，將第三陣列基板上的每個隔墊單元容腔圖案蝕刻成一個隔墊單元容腔，得到第四陣列基板，第四陣列基板的邊緣區(qū)域上形成至少一個隔墊單元容腔，由于每個隔墊單元容腔圖案分別與彩膜基板上的一個隔墊單元對應(yīng)，每個隔墊單元在第三陣列基板上的投影區(qū)域位于其對應(yīng)的隔墊單元容腔圖案內(nèi)，使得將第四陣列基板應(yīng)用于液晶盒時，與每個隔墊單元容腔圖案對應(yīng)的隔墊單元失去在第四陣列基板上的著力點而無法支撐第四陣列基板，從而減小液晶盒邊緣區(qū)域的厚度，避免顯示器出現(xiàn)周邊發(fā)黃的現(xiàn)象。
[0092]實施例四
[0093]本發(fā)明實施例提供了一種顯示裝置，該顯示裝置包括實施例三中所述的顯示面板。
[0094]本發(fā)明通過在會導(dǎo)致顯示器出現(xiàn)周邊發(fā)黃現(xiàn)象的第一陣列基板的邊緣區(qū)域形成至少一個修復(fù)過孔組圖案得到第二陣列基板，將第二陣列基板上的全部或部分修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案形成一個隔墊單元容腔圖案，得到第三陣列基板，將第三陣列基板上的每個隔墊單元容腔圖案蝕刻成一個隔墊單元容腔，得到第四陣列基板，第四陣列基板的邊緣區(qū)域上形成至少一個隔墊單元容腔，由于每個隔墊單元容腔圖案分別與彩膜基板上的一個隔墊單元對應(yīng)，每個隔墊單元在第三陣列基板上的投影區(qū)域位于其對應(yīng)的隔墊單元容腔圖案內(nèi)，使得將第四陣列基板應(yīng)用于液晶盒時，與每個隔墊單元容腔圖案對應(yīng)的隔墊單元失去在第四陣列基板上的著力點而無法支撐第四陣列基板，從而減小液晶盒邊緣區(qū)域的厚度，避免顯示器出現(xiàn)周邊發(fā)黃的現(xiàn)象。
[0095]上述本發(fā)明實施例序號僅僅為了描述，不代表實施例的優(yōu)劣。
[0096]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種陣列基板的制備方法，其特征在于，所述陣列基板的制備方法包括: 形成第一陣列基板； 在所述第一陣列基板出光側(cè)的邊緣區(qū)域形成至少一個修復(fù)過孔組圖案得到第二陣列基板，每個修復(fù)過孔組圖案包括至少兩個虛化過孔圖案； 將所述第二陣列基板上的全部或部分修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案形成一個隔墊單元容腔圖案，得到第三陣列基板，每個隔墊單元容腔圖案分別與彩膜基板上的一個隔墊單元對應(yīng)，每個隔墊單元在所述第三陣列基板上的投影區(qū)域位于其對應(yīng)的隔墊單元容腔圖案內(nèi)； 將所述第三陣列基板上的每個隔墊單元容腔圖案蝕刻成一個隔墊單元容腔，得到第四陣列基板。2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述將所述第二陣列基板上的全部或部分修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案形成一個隔墊單元容腔圖案，得到第三陣列基板之前，還包括: 將所述第二陣列基板上的每個修復(fù)過孔組圖案蝕刻成修復(fù)過孔組，得到第五陣列基板，每個修復(fù)過孔組包括至少兩個虛化過孔； 如果所述第五陣列基板能夠?qū)е嘛@示器出現(xiàn)周邊發(fā)黃現(xiàn)象，則執(zhí)行所述將所述第二陣列基板上的全部或出現(xiàn)周邊發(fā)黃區(qū)域的修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案形成一個隔墊單元容腔圖案，得到第三陣列基板的步驟。3.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述將所述第二陣列基板上的全部或部分修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案蝕刻成修復(fù)過孔組，得到第五陣列基板之后，還包括: 形成一組顯示器，所述一組顯示器中的每個顯示器包括所述第五陣列基板； 如果所述一組顯示器中出現(xiàn)周邊發(fā)黃的顯示器數(shù)目達(dá)到預(yù)設(shè)閾值，則確定所述第五陣列基板能夠?qū)е嘛@示器出現(xiàn)周邊發(fā)黃現(xiàn)象。4.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述第五陣列基板上的每個修復(fù)過孔組對應(yīng)所述彩膜基板上的一個隔墊單元，每個隔墊單元與其對應(yīng)的修復(fù)過孔組接觸。5.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述至少兩個虛化過孔中的相鄰兩個虛化過孔之間的距離為3到3.5微米。6.如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述相鄰兩個虛化過孔之間的距離為3微米。7.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述第一陣列基板出光側(cè)的邊 緣區(qū)域形成至少一個修復(fù)過孔組圖案得到第二陣列基板，包括: 使用光照掩膜板，按照第一曝光量對涂有光刻膠的第一陣列基板進行光照處理，以在所述第一陣列基板的邊緣區(qū)域形成至少一個修復(fù)過孔組圖案，得到第二陣列基板。8.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述將所述第二陣列基板上的全部或部分修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案形成一個隔墊單元容腔圖案，得到第三陣列基板，包括: 使用所述光照掩膜板，按照第二曝光量對所述第二陣列基板進行光照處理，以將所述第二陣列基板上的全部或部分修復(fù)過孔組圖案中的每個修復(fù)過孔組圖案包括的至少兩個虛化過孔圖案形成一個隔墊單元容腔圖案，得到第三陣列基板，所述第二曝光量大于所述第一曝光量。9.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述將所述第三陣列基板上的每個隔墊單元容腔圖案蝕刻成一個隔墊單元容腔，包括:將所述第三陣列基板上的每個隔墊單元容腔圖案在其有機膜層上蝕刻成一個隔墊單元容腔，得到第四陣列基板。10.—種顯示面板，其特征在于，所述顯示面板包括按照權(quán)利要求1-9任一項權(quán)利要求所述的陣列基板的制備方法制備的陣列基板。11.一種顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置包括權(quán)利要求10所述的顯示面板。
【文檔編號】G02F1/1339GK105929613SQ201610534951
【公開日】2016年9月7日
【申請日】2016年7月7日
【發(fā)明人】姜文博, 薛艷娜, 王世君
【申請人】京東方科技集團股份有限公司, 北京京東方光電科技有限公司