包括光阻擋層的裝置以及圖案化所述光阻擋層的方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種包括光阻擋層的裝置以及圖案化所述光阻擋層的方法。所述裝置包括：基板、在基板上的光阻擋層、覆蓋在基板上的光阻擋層的鈍化膜、在鈍化膜上的薄膜晶體管、覆蓋薄膜晶體管的另一鈍化膜、在所述另一鈍化膜上的彩色濾光片以及在所述另一鈍化膜上且覆蓋彩色濾光片的絕緣層，其中使用包括耐熱聚合物、交聯(lián)劑、黑色著色劑以及溶劑的組成物來圖案化光阻擋層。所述包括光阻擋層的裝置可實現(xiàn)均勻精細(xì)的圖案。
【專利說明】
包括光阻擋層的裝置以及圖案化所述光阻擋層的方法
[0001]相關(guān)申請的交叉引用
[0002] 本發(fā)明主張于2015年3月6日向韓國智慧財產(chǎn)局提申的第10-2015-0031650號韓國 專利申請以及于2015年9月10日向韓國智慧財產(chǎn)局提申的第10-2015-0128444號韓國專利 申請的優(yōu)先權(quán)和益處，其全部內(nèi)容以引用方式結(jié)合于本文。
技術(shù)領(lǐng)域
[0003] 本發(fā)明涉及一種包括光阻擋層的裝置以及圖案化所述光阻擋層的方法。
【背景技術(shù)】
[0004] 黑色光敏樹脂組成物是用于制作用于彩色濾光片、液晶顯示材料、有機(jī)發(fā)光組件 (EL)、顯示面板材料等的顯示設(shè)備的光阻擋層所必需的。例如，彩色濾光片（例如彩色液晶 顯示器等)在彩色層(例如紅色、綠色、藍(lán)色等）中的邊界上需要光阻擋層來增強(qiáng)顯示對比度 或發(fā)色團(tuán)（chromophore)效果。此光阻擋層主要可以由黑色光敏樹脂組成物形成。做為黑色 顏料，碳黑為最廣泛使用的，但也可使用RGB混合的黑色、茈類化合物、氧化鈷、內(nèi)酰胺類有 機(jī)黑等。
[0005] 另一方面，通過曝光與顯影工藝來圖案化例如顯示設(shè)備的裝置內(nèi)的光阻擋層，但 存在問題為幾乎沒有均勻精細(xì)的圖案與良好且低的耐熱性。此外，此現(xiàn)有的光阻擋層是僅 由負(fù)型黑色光敏樹脂組成物形成，且因此存在有應(yīng)用于窄應(yīng)用范圍的問題。
[0006] 因此，已致力于發(fā)展新穎的圖案化光阻擋層的方法以實現(xiàn)精細(xì)的圖案，且已致力 于發(fā)展包括所述光阻擋層的裝置。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007] 本發(fā)明提供一種包括光阻擋層的裝置以及圖案化所述光阻擋層的方法。
[0008] -實施例提供包括能夠?qū)崿F(xiàn)精細(xì)圖案的光阻擋層的裝置。
[0009] 另一實施例提供圖案化光阻擋層的方法。
[0010] -實施例提供包括下述的裝置:基板、在基板上的光阻擋層、覆蓋在基板上的光阻 擋層的鈍化膜、在鈍化膜上的薄膜晶體管、覆蓋薄膜晶體管的另一鈍化膜、在所述另一鈍化 膜上的彩色濾光片以及在所述另一鈍化膜上且覆蓋彩色濾光片的絕緣層，其中使用包括耐 熱聚合物、交聯(lián)劑、黑色著色劑以及溶劑的組成物來圖案化光阻擋層。
[0011] 耐熱聚合物可以是聚苯并惡唑前驅(qū)物(polybenzoxazole precursor)、聚酰亞胺 前驅(qū)物(p〇Iyimide precursor)、酸醛清漆樹脂、雙酸A樹脂、雙酸F樹脂、丙稀酸酯樹脂、娃 氧燒類(siloxane-based)樹脂或其組合。
[0012] 交聯(lián)劑可包括至少一個由化學(xué)式1表示的官能團(tuán)。
[0013][化學(xué)式1]
[0014]
[0015] 交聯(lián)劑可還包括選自由化學(xué)式2至化學(xué)式4表示的官能團(tuán)中的至少一種。[化學(xué)式 2]
[0016]
[0017]
[0018]
[0019]
[0020]
[0021] 在化學(xué)式3和化學(xué)式4中，
[0022] R2和R3獨(dú)立地是氫原子或經(jīng)取代或未經(jīng)取代的Cl至ClO烷基。
[0023] 組成物可還包含堿產(chǎn)生劑。
[0024] 堿產(chǎn)生劑可由化學(xué)式5表示。
[0025] [化學(xué)式5]
[0026]
[0027] 在化學(xué)式5中，
[0028] X 是-CH2-或-NH-，
[0029] W 是-0-或-S-，
[0030] η是0或1的整數(shù)，
[0031] R1是氫原子或經(jīng)取代或未經(jīng)取代的Cl至ClO烷基，且
[0032] L1為單鍵或經(jīng)取代或未經(jīng)取代的Cl至ClO亞烷基。
[0033] 堿產(chǎn)生劑可由化學(xué)式6至化學(xué)式9中的一個表示。
[0034][化學(xué)式6]
[0035]
[0036]
[0037]
[0038][化學(xué)式8]
[0039]
[0040]
[0041]
[0042] 江札子工V〇王,Ki子工Vy1T，
[0043] X 是-CH2-或-NH-，
[0044] R1是氫原子或經(jīng)取代或未經(jīng)取代的Cl至ClO烷基，且
[0045] L1為單鍵或經(jīng)取代或未經(jīng)取代的Cl至ClO亞烷基。
[0046] 堿產(chǎn)生劑可包括選自化學(xué)式10至化學(xué)式22中的至少一種。
[0047] [化學(xué)式10]
[0048]
[0049]
[0050]
[0051]
[0052]
[0053]
[0054]
[0055]
[0056]
[0057] [化學(xué)式15]
[0058]
[0059]
[0060]
[0061]
[0062]
[0063]
[0064]
[0065]
[0066]
[0067]
[0068]
[0069]
[0070]
[0071]
[0072]
[0073] 黑色著色劑可以是碳黑、苯胺黑（aniline black)、二萘嵌苯黑（perylene black)、RGB黑(RGB black)、氧化鈷、氧化鈦或其組合。
[0074] 基于100重量份的耐熱聚合物，組成物可包括5重量份至40重量份的交聯(lián)劑、10重 量份至200重量份的黑色著色劑、150重量份至4000重量份的溶劑。
[0075] 基于100重量份的耐熱聚合物，可包括5重量份至40重量份的量的堿產(chǎn)生劑。
[0076] 組成物可還包括選自以下的添加劑:丙二酸、3-氨基-1，2-丙二醇、流平劑、氟類表 面活性劑、硅酮類表面活性劑、自由基聚合起始劑或其組合。
[0077] 另一實施例提供圖案化光阻擋層的方法，其包括在基板上涂布包括耐熱聚合物、 交聯(lián)劑、黑色著色劑以及溶劑的組成物、在所述組成物上涂布光刻膠接著將其加熱、曝光以 及顯影所得物、在顯影后蝕刻所得物、在蝕刻工藝后以剝除劑剝除所得物以及在剝除工藝 后加熱所得物。
[0078] 在剝除工藝后的加熱工藝中，可在200°C至600°C下進(jìn)行加熱。
[0079]將光刻膠涂布于組成物上以后的加熱工藝中，可在70°C至160°C下進(jìn)行加熱。
[0080] 剝除劑可包括丙二醇單甲基釀（propylene glycol monomethyl ether;PGME)、丙 二醇單甲釀醋酸酯（propylene glycol monomethyl ether acetate ;PGMEA)、乳酸乙酯 (ethyl lactate ;EL)、γ -丁內(nèi)酯（γ -butyro lac tone ;GBL)、氫氧化四甲基銨（tetramethyl ammonium hydroxide; TMAH)、氫氧化鉀（KOH)、二甲基亞諷（dimethylsulfoxide ;DMS0)、丁 基二甘醇（131^71(1丨815^〇1;1306)、單乙醇胺（1]1〇11〇61:11&11〇1&111；[116;]\^^)、1^-甲基吡略啶酮（1^-methylpyrroIidone ;NMP)、羥基癸酸（hydroxy decanoic acid;HDA)、兒茶HKcatechol)或 其組合。
[0081] 蝕刻可以是濕式蝕刻。
[0082] 在顯影后的蝕刻工藝之前，所述方法可還包括漂白工藝。
[0083] 在蝕刻工藝后的剝除工藝之前，所述方法可還包括漂白工藝。
[0084] 耐熱聚合物可以是聚苯并惡唑前驅(qū)物、聚酰亞胺前驅(qū)物、酚醛清漆樹脂、雙酚A樹 月旨、雙酚F樹脂、丙烯酸酯樹脂、硅氧烷類樹脂或其組合。
[0085] 交聯(lián)劑可包括至少一個由化學(xué)式1表示的官能團(tuán)。
[0086] 組成物可還包含堿產(chǎn)生劑。
[0087] 交聯(lián)劑以及堿產(chǎn)生劑與上述相同。
[0088] 黑色著色劑可以是碳黑、苯胺黑、茈黑、RGB黑、氧化鈷、氧化鈦或其組合。
[0089]基于100重量份的耐熱聚合物，組成物可包括5重量份至40重量份的交聯(lián)劑、10重 量份至200重量份的黑色著色劑、150重量份至4000重量份的溶劑。
[0090]組成物可還包括選自以下的添加劑:丙二酸、3-氨基-1，2-丙二醇、流平劑、氟類表 面活性劑、硅酮類表面活性劑、自由基聚合起始劑或其組合。
[0091] 本發(fā)明的其它實施例包括于以下實施方式中。
[0092] 根據(jù)一實施例，裝置具有與例如現(xiàn)有顯示設(shè)備的裝置的結(jié)構(gòu)不同的結(jié)構(gòu)，且包括 通過使用組成物形成的光阻擋層，其中所述組成物包括新穎的組成，且光阻擋層是通過新 穎的圖案化工藝來圖案化，其實現(xiàn)均勻精細(xì)的圖案、展現(xiàn)耐熱性且還可應(yīng)用于負(fù)型與正型 組成物兩種。
【附圖說明】
[0093] 圖1是示出根據(jù)本發(fā)明一實施例的圖案化光阻擋層的方法的流程圖。
[0094] 圖2是示出現(xiàn)有顯示設(shè)備結(jié)構(gòu)的示意圖。
[0095] 圖3是示出根據(jù)本發(fā)明一實施例的裝置結(jié)構(gòu)的示意圖。
【具體實施方式】
[0096] 下文中，將詳細(xì)描述本發(fā)明的實施例。然而，這些實施例是示例性的，而本發(fā)明不 限于此。
[0097] 如在本文中使用的，當(dāng)未另外提供具體定義時，術(shù)語"烷基"是指Cl至C20烷基，術(shù) 語"烯基"是指C2至C20烯基，術(shù)語"環(huán)烯基"是指C3至C20環(huán)烯基，術(shù)語"雜環(huán)烯基"是指C3至 C20雜環(huán)烯基，術(shù)語"芳基"是指C6至C20芳基，術(shù)語"芳烷基"是指C6至C20芳烷基，術(shù)語"亞烷 基"是指Cl至C20亞烷基，術(shù)語"亞芳基"是指C6至C20亞芳基，術(shù)語"亞烷基芳基"是指C6至 C20亞烷基芳基，術(shù)語"亞雜芳基"是指C3至C20亞雜芳基，以及術(shù)語"亞烷氧基"是指Cl至C20 亞烷氧基。
[0098] 如在本文中所使用的，當(dāng)未另外提供具體定義時，術(shù)語"經(jīng)取代的"是指用選自下 述的取代基取代，代替至少一個氫：鹵素原子$工13^1)、羥基、(：1至020烷氧基、硝基、氰 基、胺基、亞胺基、迭氮基、脒基、肼基、亞肼基、羰基、胺甲?；?、硫醇基、酯基、醚基、羧基或 其鹽、磺酸基或其鹽、磷酸或其鹽、Cl至C20烷基、C2至C20烯基、C2至C20炔基、C6至C20芳基、 C3至C20環(huán)烷基、C3至C20環(huán)烯基、C3至C20環(huán)炔基、C2至C20雜環(huán)烷基、C2至C20雜環(huán)烯基、C2 至C20雜環(huán)炔基、C3至C20雜芳基或其組合。
[0099] 如在本文中所使用的，當(dāng)未另外提供具體定義時，術(shù)語"雜"是指在化學(xué)式中包含 選自N、0、S和P的至少一個雜原子。
[0100] 如在本文中所使用的，當(dāng)未另外提供具體定義時，"(甲基)丙烯酸酯"是指"丙烯酸 酯"和"甲基丙烯酸酯"兩種，而"(甲基)丙烯酸"是指"丙烯酸"和"甲基丙烯酸"。
[0101] 如在本文中所使用的，當(dāng)未另外提供具體定義時，術(shù)語"組合"是指混合或共聚。
[0102] 如在本文中所使用的，當(dāng)未另外提供具體定義時，表示相同或不同原子或者化 學(xué)式被連接的點(diǎn)。
[0103] 根據(jù)一實施例的裝置包括:基板、在基板上的光阻擋層、覆蓋在基板上的光阻擋層 的鈍化膜、在鈍化膜上的薄膜晶體管、覆在所述薄膜晶體管上的另一鈍化膜、在所述另一鈍 化膜上的彩色濾光片以及在所述另一鈍化膜上且覆蓋彩色濾光片的絕緣層，其中使用包括 耐熱聚合物、交聯(lián)劑、黑色著色劑以及溶劑的組成物來圖案化光阻擋層。
[0104] -般而言，例如顯示設(shè)備等的裝置包括光阻擋層以防止光泄漏現(xiàn)象，且本文中，通 過曝光與顯影工藝來圖案化光阻擋層。然而，圖案化的方法很少實現(xiàn)均勻精細(xì)的圖案且?guī)?來低耐熱性與耐化性。此外，可通過僅使用負(fù)型組成物但幾乎不通過使用正型組成物來形 成光阻擋層。
[0105] 然而，根據(jù)一實施例的裝置包括通過新穎圖案化工藝由新穎組成物形成的光阻擋 層，其能夠?qū)崿F(xiàn)精細(xì)的圖案且因此可使用負(fù)型與正型組成物兩種且具有絕佳的耐熱性與耐 化性。
[0106] 所述裝置可為顯示設(shè)備（例如液晶顯示器）、發(fā)光二極管、電漿顯示器或有機(jī)發(fā)光 二極管(OLED)，但不限于此。
[0107] 圖2是示出現(xiàn)有裝置(例如顯示設(shè)備等）的結(jié)構(gòu)的示意圖，且圖3是示出根據(jù)一實施 例的裝置(例如顯示設(shè)備等)的結(jié)構(gòu)的示意圖。
[0108] 如圖2與圖3所示，現(xiàn)有的裝置200大多包括在基板210頂部(或在基板210頂部上的 鈍化膜230)上的薄膜晶體管240、覆蓋薄膜晶體管240的鈍化膜250、在鈍化膜250頂部上的 絕緣層270、在絕緣層270頂部上的光阻擋層220與彩色濾光片260以及在光阻擋層220與彩 色濾光片260頂部上的上基板280,但根據(jù)一實施例的裝置100包括在基板100上的光阻擋層 120以及覆蓋所述光阻擋層120的鈍化膜130。因此，所述裝置100可通過基板110(例如較低 玻璃側(cè))實現(xiàn)RGB光，且通過基板110 (例如較低玻璃側(cè))發(fā)射光，且因此最小化連接薄膜晶體 管140與PCB的空間，因此，獲得具有縮小的框架(bezel)或窄框架的面板。此外，根據(jù)一實施 例的裝置100包括覆蓋薄膜晶體管140的鈍化膜150、在鈍化膜150頂部上的彩色濾光片160、 覆蓋彩色濾光片160的絕緣層170以及在絕緣層170頂部上的上基板180。
[0109] 另一方面，根據(jù)一實施例的裝置可還包括ΙΤ0(未示出）。
[0110] 以下，可詳細(xì)說明根據(jù)一實施例的用于圖案化裝置中的光阻擋層的組成物中的各 成分。
[0111] 用于圖案化光阻擋層的組成物可包括耐熱聚合物，且所述耐熱聚合物可包括聚苯 并惡唑前驅(qū)物、聚酰亞胺前驅(qū)物、酚醛清漆樹脂、雙酚A樹脂、雙酚F樹脂、丙烯酸酯樹脂、硅 氧烷類樹脂或其組合。舉例來說，耐熱聚合物可以是聚苯并惡唑前驅(qū)物、聚酰亞胺前驅(qū)物或 其組合。
[0112] 聚苯并惡唑前驅(qū)物可包括由化學(xué)式23表示的結(jié)構(gòu)單元，且聚酰亞胺前驅(qū)物可包括 由化學(xué)式24表示的結(jié)構(gòu)單元。
[0113] [化學(xué)式 23]
[0114]
[0115] 在化學(xué)式23中，
[0116] X1是經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C6至C30芳香族有機(jī)基團(tuán)，且
[0117] Y1為經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C6至C30芳香族有機(jī)基團(tuán)、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的二價至 六價的Cl至C30脂肪族有機(jī)基團(tuán)或經(jīng)取代或未經(jīng)取代的二價至六價的C3至C30脂環(huán)族有機(jī) 基團(tuán)。
[0118] [化學(xué)式M]
[0119]
[0120] 在化學(xué)式24中，
[0121] X2是經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C6至C30芳香族有機(jī)基團(tuán)、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的二價至 六價Cl至C30脂肪族有機(jī)基團(tuán)或經(jīng)取代或未經(jīng)取代的二價至六價C3至C30脂環(huán)族有機(jī)基團(tuán)， 且
[0122] Y2為經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C6至C30芳香族有機(jī)基團(tuán)、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的四價至 六價的Cl至C30脂肪族有機(jī)基團(tuán)或經(jīng)取代或未經(jīng)取代的四價至六價的C3至C30脂環(huán)族有機(jī) 基團(tuán)。
[0123] 在化學(xué)式23中，X1是芳香族有機(jī)基團(tuán)，其可以是衍生自芳香族二胺的殘基。
[0124] 芳香族二胺的實例可以是選自以下中的至少一種:3，3'-二氨基-4，V -二羥基聯(lián) 苯、4，4/ -二氛基_3，3'-二羥基聯(lián)苯、雙(3_氛基_4_輕苯基)丙烷、雙(4_氛基_3_輕苯基)丙 燒、雙(3_氛基_4_輕苯基)諷、雙(4_氛基_3_輕苯基)諷、2,2_雙(3_氛基_4_輕苯基)_1，I，1， 3，3，3_六氣丙烷、2，2_雙(4_氛基_3_輕苯基)_1，I，1，3，3，3_六氣丙烷、2，2_雙(3_氛基_4_ 羥基 _5_二氣甲基苯基)六氣丙烷、2，2-雙(3-氨基_4_羥基_6_二氣甲基苯基)六氣丙烷、2， 2_雙(3_氛基_4_羥基_2_二氣甲基苯基)六氣丙烷、2，2_雙(4_氛基_3_羥基_5_二氣甲基苯 基)六氣丙烷、2，2-雙(4-氨基_3_羥基_6_二氣甲基苯基)六氣丙烷、2，2-雙(4-氨基_3_輕 基 _2_二氣甲基苯基)六氣丙烷、2，2_雙(3_氛基_4_羥基_5_五氣乙基苯基)六氣丙烷、2_(3_ 氨基-4-羥基_5_二氣甲基苯基)_2_( 3-氨基_4_羥基_5_五氣乙基苯基)六氣丙烷、2-(3-氨 基-4-羥基-5-三氟甲基苯基)-2- (3-羥基-4-氨基-5-三氟甲基苯基)六氟丙烷、2- (3-氨基- 4-羥基-5-三氟甲基苯基)-2-(3-羥基-4-氨基-6-三氟甲基苯基)六氟丙烷、2-(3-氨基-4-羥基-5-三氟甲基苯基)-2- (3-羥基-4-氨基-2-三氟甲基苯基)六氟丙烷、2- (3-氨基-4-羥 基-2-三氟甲基苯基）-2-(3-羥基-4-氨基-5-三氟甲基苯基）六氟丙烷和2-(3-氨基-4-羥 基_6_二氣甲基苯基)_2_( 3-羥基_4_氨基_5_二氣甲基苯基)六氣丙烷，但不限于此。
[0125] X1的實例可以是由化學(xué)式25和化學(xué)式26表示的官能團(tuán)，但不限于此。
[0126] [化學(xué)式四]
[0130] 在化學(xué)式25和化學(xué)式26中，
[0127]
[0128]
[0129]
[0131] A1是單鍵、0、⑶、CR47R48、S02或S，R 47和R48獨(dú)立地為氫原子或經(jīng)取代或未經(jīng)取代的 Cl至C30烷基，具體地為Cl至C30氟烷基，
[0132] R5q至R52各自獨(dú)立地為氫原子、經(jīng)取代或未經(jīng)取代的Cl至C30烷基、經(jīng)取代或未經(jīng) 取代的Cl至C30羧基、羥基或硫醇基，且
[0133] nlO是0至2的整數(shù)，且nil和nl2各自獨(dú)立地為0至3的整數(shù)。
[0134] 在化學(xué)式23中，Y1可以是芳香族有機(jī)基團(tuán)、二價至六價脂肪族有機(jī)基團(tuán)或二價至 六價脂環(huán)族有機(jī)基團(tuán)，其可以是二羧酸的殘基或二羧酸衍生物的殘基。具體地，Y 1可以是芳 香族有機(jī)基團(tuán)或二價至六價脂環(huán)族有機(jī)基團(tuán)。
[0135] 二羧酸衍生物的具體實例可以是4，4 ^ -氧二苯酰氯（4,4^-oxydibenzoylch lor i de )、二苯氧基二幾基二氯（diphenyloxydi carbonyl di chi or ide)、雙 (苯基羰基氯）砜（bis( phenyl carbonyl chloride )sulfone)、雙（苯基羰基氯）醚（bis (phenyl carbonyl chloride) ether)、雙(苯基幾基氣)苯酉同(bis (phenyl carbonyl chloride) phenone)、鄰苯二甲酰氯（phthaloyldichloride)、對苯二甲酰氯 (ter ephthaloy I dichloride)、間苯二甲酰氯（isophthaloy ldich loride)、二幾基二氯 (dicarbonyldichloride)、二苯氧基二駿酸酯二苯并三挫 (dipheny loxydicarboxy Iatedibenzotriazole)或其組合，但不限于此。
[0136] Y1的實例可以是由化學(xué)式27至化學(xué)式29表示的官能團(tuán)，但不限于此。
[0137] [化學(xué)式 27]
[0138]
[0139]
[0140]
[0141]
[0142]
[0143] 在化學(xué)式27至化學(xué)式29中，
[0144] R53至R56獨(dú)立地為氫原子或經(jīng)取代或未經(jīng)取代的Cl至C30烷基，
[0145] nl3和nl4各自獨(dú)立地為0至4的整數(shù)，nl5和nl6各自獨(dú)立地為0至3的整數(shù)，且
[0146] A2為單鍵、0、CO、CR47R48、CO、C0NH、S或SO 2，其中R47和R48獨(dú)立地為氫原子或經(jīng)取代 或未經(jīng)取代的Cl至C30烷基，具體地為Cl至C30氟烷基。
[0147]在化學(xué)式24中，X2可以是芳香族有機(jī)基團(tuán)、二價至六價脂肪族有機(jī)基團(tuán)或二價至 六價脂環(huán)族有機(jī)基團(tuán)。具體地，X2可以是芳香族有機(jī)基團(tuán)或二價至六價脂環(huán)族有機(jī)基團(tuán)。 [0148]具體地，X 2可以是衍生自芳香族二胺、脂環(huán)族二胺或娃二胺（silicon diamine)的 殘基。本文中，芳香族二胺、脂環(huán)族二胺與硅二胺可單獨(dú)或以二種或多種的混合物使用。 [0149]芳香族二胺的實例可為(但不限于）3,47-二氨基二苯基醚、4,47-二氨基二苯基 謎、3,4/ -二氛基二苯基甲焼、4,4/ -二氛基二苯基甲焼、4,4/ -二氛基二苯基諷、4,4/ -二氛 基二苯基硫醚、聯(lián)苯胺、間苯二胺、對苯二胺、1，5-萘二胺、2，6_萘二胺、雙[4-(4-氨基苯氧 基)苯基]砜、雙(3-氨基苯氧基苯基)砜、雙(4-氨基苯氧基)聯(lián)苯、雙[4-(4-氨基苯氧基)苯 基]醚、1，4_雙(4-氨基苯氧基)苯、包括其芳香環(huán)經(jīng)烷基或鹵素取代的化合物或其組合，但 不限于此。
[0150]脂環(huán)族二胺的實例可以是1，2_環(huán)己基二胺、1，3_環(huán)己基二胺或其組合，但不限于 此。
[0151] 硅二胺的實例可以為雙(4-氨基苯基）二甲基硅烷、雙(4-氨基苯基）四甲基硅氧 烷、雙(對氨基苯基）四甲基二硅氧烷、雙（γ-氨基丙基）四甲基二硅氧烷、1，4-雙（γ-氨基 丙基二甲基娃烷基）苯（I，4_bis( γ -aminopropyldimethylsilyl )benzene)、雙（4-氨基丁 基）四甲基二硅氧烷、雙（γ-氨基丙基）四苯基二硅氧烷、1，3-雙(氨基丙基）四甲基二硅氧 焼（I，3-bis(aminopropyl)tetramethyldisiloxane)或其組合，但不限于此D
[0152] 在化學(xué)式24中，Y2是芳香族有機(jī)基團(tuán)、四價至六價脂肪族有機(jī)基團(tuán)或四價至六價 脂環(huán)族有機(jī)基團(tuán)。具體地，Y 2可以是芳香族有機(jī)基團(tuán)或四價至六價脂環(huán)族有機(jī)基團(tuán)。
[0153] Y2可以是衍生自芳香族酸二酐(aromatic acid dianhydride)或脂環(huán)族酸二酐的 殘基。本文中，可單獨(dú)或以二種或多種的混合物使用芳香族酸二酐和脂環(huán)族酸二酐。
[0154] 芳香族酸二酐的實例可以是苯均四酸二酐(pyromelIitic dianhydride);二苯甲 酮四駿酸二酐（benzophenone tetracarboxylic dianhydride)，例如二苯甲酮_3,3'，4， 4/ -四駿酸二酐（benzophenone-3,3'，4,4/ -tetracarboxylic dianhydride);氧雙鄰苯二 甲酸酐（oxydiphthalic dianhydride)，例如4,47 -氧雙鄰苯二甲酸酐^斗7-oxydiphthalic dianhydride);二鄰苯二甲酸二酐，例如3,37，4,47 -二鄰苯二甲酸二酐（3， 37，4，47 - biphthalic dianhydride);(六氟異丙?。┒狒?((hexaf luoroisopropylidene)diphthalic dianhydride)，例如4，4/ -(六氣異丙?。┒?酸酐（4,4' - (hexaf luoroisopropyledene)diphthalic dianhydride);萘-1，4,5，8_四駿酸 二酐（naphthalene-1，4,5,8_tetracarboxylic dianhydride) ;3,4,9,10-二萘嵌苯四駿酸 二酐（3，4,9，l〇-perylenetetracarboxylic dianhydride)等，但不限于此D
[0155] 脂環(huán)族酸二酐的實例可以是1，2,3,4-環(huán)丁烷四羧酸二酐（1，2,3,4_ cyclobutanetetracarboxylic dianhydride)、1，2，3，4_環(huán)戊焼四駿酸二酐、5_(2，5_二氧 代四氫咲喃基）_3_甲基-環(huán)己焼-1，2_二羧酸酐（5-(2,5_(1;!_〇1(^6以&117(11'〇：[ >11^1)-3-methyl-cyclohexane-1，2_dicarboxylic anhydride)、4_(2,5_二氧代四氫咲喃_3_基）-四 氫萘-1，2_二駿酸酐（4_(2，5-dioxotetrahydrofuran_3-yl )_tetral in_l，2-dicarboxyl ic anhydride)、二環(huán)辛稀_2,3,5,6_四駿酸二酐（bicycIooctene-2,3,5,6_tetracarboxylie dianhydride)、二環(huán)辛稀-I，2,4,5_ 四駿酸二酐（bicyclooctene-1，2,4,5_ tetracarboxylic dianhydride)等，但不限于此D
[0156] 耐熱聚合物可具有3000g/mol到300000g/mol的重量平均分子量(Mw)，且具體地為 5000g/mol到30000g/mol的重量平均分子量。當(dāng)重量平均分子量(Mw)在所述范圍內(nèi)時，在以 堿性水溶液顯影期間在非曝光區(qū)中可獲得足夠的殘膜率(film residue ratio)，且可有效 率地執(zhí)行圖案化。
[0157] 用于圖案化光阻擋層的組成物包括交聯(lián)劑，且所述交聯(lián)劑可以是乙烯醚交聯(lián)劑。 舉例來說，交聯(lián)劑可包括一個或多個由化學(xué)式1表示的官能團(tuán)。
[0158] [化學(xué)式1]
[0159]
[0160] 舉例來說，除了化學(xué)式1表示的官能團(tuán)以外，交聯(lián)劑可還包括選自由化學(xué)式2至化 學(xué)式4表示的官能團(tuán)中的至少一種。
[0161] [化學(xué)式2]
[0162]
[0163]
[0164]
[0165]
[0166]
[0167] 在化學(xué)式3和化學(xué)式4中，
[0168] R2和R3獨(dú)立地是氫原子或經(jīng)取代或未經(jīng)取代的Cl至ClO烷基。
[0169] 舉例來說，交聯(lián)劑可由化學(xué)式A至化學(xué)式M中的一個表示。
[0170] [化學(xué)式A]
[0171]
[0172]
[0173]
[0174]
[0175]
[0176][化學(xué)式D]
[0177]
[0178]
[0179]
[0180]
[0181]
[0182]
[0183]
[0184]
[0185]
[0186]
[0187]
[0188]
[0189]
[0190]
[0191
[0192
[0193
[0194
[0195
[0196] 基于100重量份的耐熱聚合物，可包括5重量份至40重量份的量的交聯(lián)劑。本文中， 交聯(lián)劑可牢固膜且因此帶來針對溶劑與顯影溶液的抗性，且改善固化后的錐角（tapered angle)或耐熱性。
[0197] 用于圖案化光阻擋層的組成物包括黑色著色劑，且所述黑色著色劑可包括碳黑、 苯胺黑、二萘嵌苯黑、RGB黑、氧化鈷、氧化鈦或其組合。舉例來說，黑色著色劑可以是碳黑。
[0198] 可以與其一起使用分散劑以分散黑色著色劑。具體地，黑色著色劑可以在表面上 用分散劑進(jìn)行預(yù)處理或與其一起加入以制備組成物。
[0199] 分散劑可以是非離子型分散劑、陰離子型分散劑、陽離子型分散劑等。分散劑的具 體實例可以是聚亞烷基二醇及其酯、聚氧亞烷基、多元醇酯亞烷基氧化物加成產(chǎn)物、醇亞烷 基氧化物加成產(chǎn)物、磺酸酯、磺酸鹽、羧酸酯、羧酸鹽、烷基酰胺亞烷基氧化物加成產(chǎn)物、烷 基胺等，并且這些可以單獨(dú)地或做為兩種或更多種的混合物使用。
[0200] 具體地，黑色著色劑可用作包括分散劑以及后述溶劑的分散溶液，且所述分散溶 液可包括固體黑色著色劑、分散劑以及溶劑。
[0201] 基于100重量份的耐熱聚合物，可包括10重量份至200重量份的量的黑色著色劑， 例如20重量份至150重量份的黑色著色劑。當(dāng)黑色著色劑包括在所述范圍內(nèi)時，可獲得絕佳 的著色效果和顯影表現(xiàn)。
[0202] 用于圖案化光阻擋層的組成物可以還包括堿產(chǎn)生劑。由于還包括所述堿產(chǎn)生劑， 因此可促進(jìn)膜中的蝕刻劑的吸收，且由于所述蝕刻劑而可調(diào)整圖案化的時間。
[0203] 舉例來說，堿產(chǎn)生劑可由化學(xué)式5表示。
[0204] [化學(xué)式δ]
[0205]
[0206] 在以上化學(xué)式5中，
[0207] X 為-CH2-或-NH-，
[0208] W 為-〇-或-S-，
[0209] η為0或1的整數(shù)，
[0210] R1為氫原子或經(jīng)取代或未經(jīng)取代的Cl至ClO烷基，且
[0211] L1為單鍵或經(jīng)取代或未經(jīng)取代的Cl至ClO亞烷基。
[0212] 舉例來說，堿產(chǎn)生劑可由化學(xué)式6至化學(xué)式9中的一個表示。
[0213][化學(xué)式6]
[0214]
[0215]
[0216]
[0217]
[0218]
[0219]
[0220]
[0221] 在化學(xué)式6至化學(xué)式9中，
[0222] X 為-CH2-或-NH-，
[0223] R1為氫原子或經(jīng)取代或未經(jīng)取代的Cl至ClO烷基，且
[0224] L1為單鍵或經(jīng)取代或未經(jīng)取代的Cl至ClO亞烷基。
[0225] 舉例來說，堿產(chǎn)生劑可包括選自化學(xué)式10至化學(xué)式22中的至少一種，但不限于此。
[0226] [化學(xué)式10]
[0243]
[0244]
[0245]
[0246]
[0247]
[0248]
[0249]
[0250]
[0251]
[0252] 基于100重量份的耐熱聚合物，可使用5重量份至40重量份、例如7重量份至30重量 份的量的堿產(chǎn)生劑。當(dāng)在所述范圍內(nèi)包括堿產(chǎn)生劑時，圖案可快速形成至底部而不會掀離 (lifting)〇
[0253] 用于圖案化光阻擋層的組成物可包括能夠輕易地溶解各成分(例如耐熱聚合物、 交聯(lián)劑、黑色著色劑、堿產(chǎn)生劑等)的溶劑。
[0254] 溶劑可為(但不限于)有機(jī)溶劑，且具體地為N-甲基-2-吡咯啶酮、γ-丁內(nèi)酯、N，N-二甲基乙酰胺、二甲亞砜、二甘醇二甲醚、二甘醇二乙醚、二甘醇二丁醚、丙二醇單甲醚、二 丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚醋酸酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丁酯、甲基-1，3-丁二醇醋 酸酯、1，3-丁二醇-3-單甲醚、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯（ethy Ipyruvate )、3-甲氧基丙酸甲 酯（methyl-3-methoxy propionate)或其組合。
[0255] 可以依據(jù)例如旋涂、狹縫模涂布等的形成感旋光性樹脂膜的工藝來適當(dāng)?shù)剡x擇溶 劑。
[0256] 基于100重量份的耐熱聚合物，可以150重量份至4000重量份、例如200重量份至 3000重量份的量來使用溶劑。當(dāng)在所述范圍內(nèi)使用溶劑時，膜可具有足夠的厚度，且還具有 絕佳溶解度及涂布特性。
[0257] 用于圖案化光阻擋層的組成物可以還包括其它添加劑。
[0258] 舉例來說，用于圖案化光阻擋層的組成物可包括的添加劑為:丙二酸、3-氨基-1， 2-丙二醇、包含乙烯基或（甲基)丙烯酰氧基的交聯(lián)劑、流平劑、氟類表面活性劑、硅酮類表 面活性劑、表面活性劑、自由基聚合起始劑，以便防止涂布期間的污漬或斑點(diǎn)來調(diào)整流平， 或防止由于非顯影的圖案殘留物。取決于所要的特性，可控制添加劑的用量。
[0259] 此外，用于圖案化光阻擋層的組成物可還包括環(huán)氧化合物做為添加劑，以改善緊 密接觸力(close-contacting force)等。環(huán)氧化合物可包含環(huán)氧酸醛丙稀羧酸酯樹脂、鄰 甲酚醛環(huán)氧樹脂、苯酚酚醛環(huán)氧樹脂、四甲基聯(lián)苯環(huán)氧樹脂、雙酚A環(huán)氧樹脂、脂環(huán)族環(huán)氧樹 脂或其組合。
[0260]當(dāng)還包括環(huán)氧化合物時，可還包括例如過氧化物起始劑或偶氮二類（azobis-based)起始劑的自由基聚合起始劑。
[0261]基于100重量份的用于圖案化光阻擋層的組成物，可使用0.01重量份至5重量份的 量的環(huán)氧化合物。當(dāng)在所述范圍內(nèi)使用環(huán)氧化合物時，可經(jīng)濟(jì)地改善儲存能力、緊密接觸力 及其它性質(zhì)。
[0262]用于圖案化光阻擋層的組成物可還包括潛伏熱酸產(chǎn)生劑（thermal latent acid generator)。潛伏熱酸產(chǎn)生劑的實例可以是芳基磺酸，例如對甲苯磺酸或苯磺酸;全氟烷基 磺酸，例如三氟甲磺酸或三氟丁磺酸;烷基磺酸，例如甲磺酸、乙磺酸或丁磺酸；或其組合， 但不限于此。
[0263] 根據(jù)另一實施例，圖案化光阻擋層的方法包括:在基板上涂布包括耐熱聚合物、交 聯(lián)劑、黑色著色劑以及溶劑的組成物、在所述組成物上涂布光刻膠接著將其加熱、曝光以及 顯影所得物、在顯影后蝕刻所得物、在蝕刻工藝后以剝除劑剝除所得物以及在剝除工藝后 加熱所得物。
[0264] 不像圖案化光阻擋層的現(xiàn)有方法，根據(jù)實施例的圖案化光阻擋層的方法可通過曝 光與顯影工藝后的蝕刻與剝除工藝實現(xiàn)精細(xì)圖案。
[0265] 在剝除工藝后的加熱工藝中，可在200°C至600°C、例如220°C至450°C下進(jìn)行加熱。 現(xiàn)有地，在形成光阻擋層后可在120°C至240°C范圍的溫度下進(jìn)行后烤工藝，但根據(jù)實施例， 后烤工藝可將溫度維持在250°C至600°C、例如300°C至450°C的范圍中，且因此在形成光阻 擋層后，在TFT工藝期間的高溫下可減少逸氣且改善耐熱性。
[0266] 在將光刻膠涂布于組成物上以后的加熱工藝中，可在70°C至160°C下進(jìn)行加熱，例 如在80°C至150°C下。
[0267] 舉例來說，光刻膠可以是酚醛清漆類（novolac-based)或萘酚醌二迭氮類 (naphthoquinone diazide-based)。舉例來說，光刻膠可以是化學(xué)增幅型光刻膠。
[0268] 舉例來說，蝕刻可以是濕式蝕刻。本文中，蝕刻期間使用的蝕刻液可以是酸性的。
[0269] 舉例來說，剝除劑可包括丙二醇單甲基醚(PGME)、丙二醇單甲醚醋酸酯(PGMEA)、 乳酸乙酯（EL)、γ-丁內(nèi)酯（GBL)、氫氧化四甲基銨（TMAH)、氫氧化鉀（KOH)、二甲基亞砜 (DMSO)、丁基二甘醇(BDG)、單乙醇胺(MEA)、Ν-甲基吡咯啶酮(NMP)、羥基癸酸(HDA)、兒茶酚 或其組合。
[0270] 在顯影后的蝕刻工藝以前，所述方法可還包括漂白工藝?；蛘?，在蝕刻工藝后的剝 除工藝之前，所述方法可還包括漂白工藝。本文中，漂白工藝可促進(jìn)光刻膠的溶解或造成下 部膜中的光敏材料進(jìn)行反應(yīng)。
[0271 ]耐熱聚合物可以是聚苯并惡唑前驅(qū)物、聚酰亞胺前驅(qū)物、酚醛清漆樹脂、雙酚A樹 月旨、雙酚F樹脂、丙烯酸酯樹脂、硅氧烷類樹脂或其組合。耐熱聚合物與上述相同。
[0272] 交聯(lián)劑可包括至少一個由化學(xué)式1表示的官能團(tuán)。交聯(lián)劑與上述相同。
[0273] 組成物可還包括堿產(chǎn)生劑。所述堿產(chǎn)生劑與上述相同。
[0274] 黑色著色劑可以是碳黑、苯胺黑、二萘嵌苯黑、RGB黑、氧化鈷、氧化鈦或其組合。黑 色著色劑與上述相同。
[0275] 基于100重量份的耐熱聚合物，組成物可包括5重量份至40重量份的交聯(lián)劑、10重 量份至200重量份的黑色著色劑、150重量份至4000重量份的溶劑。
[0276] 組成物可還包括選自以下的添加劑:丙二酸、3-氨基-1，2-丙二醇、流平劑、氟類表 面活性劑、硅酮類表面活性劑、自由基聚合起始劑或其組合。
[0277] 在下文中，將參照實例更詳細(xì)地說明本發(fā)明。然而，這些實例不以任何意義被解釋 為限制本發(fā)明的范圍。
[0278](實例）
[0279](耐熱聚合物的制備）
[0280]在裝配有攪拌器、溫度控制器、氮?dú)庾⑸淦饕约袄淠鞯乃念i燒瓶中，將12.4克2， 2_雙(3-氨基-4-羥苯基)-1，I，1，3，3，3_六氟丙烷溶解于125克的N-甲基-2-吡咯啶酮(NMP) 中，同時將氮?dú)馔ㄟ^其中。
[0281] 當(dāng)固體完全溶解時，向其中添加4.2克做為催化劑的吡啶，且將溫度維持在(TC至5 °(：的通過將9.4克4, 氧基二苯甲酰氯溶解于100克NMP中獲得的溶液以逐滴方式添加到 四頸燒瓶中持續(xù)30分鐘。當(dāng)完成添加時，在(TC至5°C下反應(yīng)混合物1小時，且接著通過將溫 度升高將混合物在室溫（15 °C至25 °C)下反應(yīng)1小時。
[0282] 接著，向其中加入I. 1克的5-降冰片烯_2,3_二羧酸酐（5-norbornene_2,3-dicarboxyl anhydride)，并在70°C下攪拌所得混合物24小時，完成反應(yīng)。將反應(yīng)混合物加 入水/甲醇=10/1 (體積比）的混合溶液中以產(chǎn)生沉淀物，并過濾沉淀物，用水洗滌，然后在 真空中在80 °C下干燥24小時以上或24小時，獲得聚苯并惡唑前驅(qū)物。
[0283] 用于圖案化光阻擋層的組成物的制備
[0284] 實例 1
[0285] 將10克聚苯并惡唑前驅(qū)物加入10克的γ-丁內(nèi)酯(GBL)、140克的丙二醇單甲基醚 (PGME)與40克的乳酸乙酯(EL)的混合物且在其上溶解，將8克碳黑以及2.5克由化學(xué)式B表 示的交聯(lián)劑加入其中且在其中溶解，且通過〇.45μπι氟樹脂過濾器來過濾溶液，獲得用于圖 案化光阻擋層的組成物。
[0286] [化學(xué)式Β]
[0287]
[0288] 實例2
[0289] 根據(jù)與實例1相同的方法制備用于圖案化光阻擋層的組成物，差別在于，使用2.5 克的由化學(xué)式1 〇表示的堿產(chǎn)生劑以及碳黑與實例1中的交聯(lián)劑。
[0290] 「/Α? + ιη?
[0291]
[0292] 實例3
[0293] 根據(jù)與實例1相同的方法制備用于圖案化光阻擋層的組成物，差別在于，使用2.5 克的由化學(xué)式21表示的堿產(chǎn)生劑以及碳黑與實例1中的交聯(lián)劑。
[0294] 「化學(xué)式 21 ?
[0295]
[0296] 比較買例1
[0297] 根據(jù)與實例1相同的方法制備用于圖案化光阻擋層的組成物，差別在于，不使用實 例1中的交聯(lián)劑。
[0298](評估）
[0299] 評估1:耐化性
[0300] 通過使用做為旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)的K-旋轉(zhuǎn)器（由細(xì)美事公司（SEMES Co.)制），將根據(jù)實 例1至實例3以及比較實例1的用于圖案化光阻擋層的各組成物涂布在8時晶片上，且在140 °C的熱板上加熱3分鐘以形成1.5μπι厚的光阻擋層。通過將光阻擋層浸漬在PGMEA中1分鐘來 檢查光阻擋層的厚度變化，且結(jié)果提供在以下表1中。
[0301 ]耐化性評估的參考 [0302]無厚度變化：〇 [0303] 厚度變化：X
[0304] [表1]
[0305]
[0306]如表1中所示，與根據(jù)比較實例1的用于圖案化光阻擋層的組成物相比，根據(jù)實例I 至實例3的用于圖案化光阻擋層的組成物具有絕佳的耐化性，且因此提供能夠?qū)崿F(xiàn)精細(xì)圖 案的光阻擋層。
[0307](評估）
[0308]評估2:光阻擋層中的圖案的形成以及錐角
[0309]通過使用做為旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)的K-旋轉(zhuǎn)器（由細(xì)美事公司（SEMES Co.)制），將根據(jù)實 例1至實例3以及比較實例1的用于圖案化光阻擋層的各組成物涂布在8時晶片上，且接著在 140°C的熱板上加熱3分鐘以形成1.5μπι厚的光阻擋層。接著，以i-線PR(HKT-501)來涂布光 阻擋層，在l〇〇°C的熱板上加熱光阻擋層1分鐘，形成Ι.Ομπι厚的光刻膠層。然后，以ilOC(由 尼康公司（Nikon Co.)制)通過分裂能量來實現(xiàn)5μπι的精細(xì)圖案。經(jīng)圖案化的晶片在30°C下 暴露且浸泡于Al蝕刻劑300秒(伴隨漂白；lOOOmL/cm 2)。藉此，通過進(jìn)行TMAH攪煉處理200秒 來制成最終經(jīng)圖案化的光阻擋層。在350°C下固化經(jīng)圖案化的（玻璃)基板1小時，通過使用 S-4300(由日立有限公司(Hitachi，Ltd.)制)來測量其錐角，且將結(jié)果提供于表2中。
[0310][表 2]
[0313] 如表2中所示，與根據(jù)比較實例1的用于圖案化光阻擋層的組成物相比，根據(jù)實例1 至實例3的用于圖案化光阻擋層的組成物形成具有合適錐角的圖案。
[0314] 雖然已經(jīng)結(jié)合目前被認(rèn)為是實用的示例性實施例對本發(fā)明進(jìn)行了描述，但是應(yīng)當(dāng) 理解到，本發(fā)明并不限于所揭示的實施例，而是相反，旨在涵蓋包括在所附權(quán)利要求的精神 和范疇內(nèi)的各種修改和等同安排。因此，上述實施例應(yīng)該理解為是示例性的，但不以任何方 式限制本發(fā)明。
【主權(quán)項】
1. 一種包括光阻擋層的裝置，包括： 基板； 光阻擋層，在所述基板上； 純化膜，覆蓋在所述基板上的所述光阻擋層； 薄膜晶體管，在所述純化膜上； 另一純化膜，覆蓋所述薄膜晶體管； 彩色濾光片，在所述另一純化膜上；W及 絕緣層，在所述另一純化膜上且覆蓋所述彩色濾光片； 其中使用組成物來圖案化所述光阻擋層，所述組成物包括耐熱聚合物、交聯(lián)劑、黑色著 色劑W及溶劑。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的包括光阻擋層的裝置，其中所述耐熱聚合物為聚苯并惡挫前 驅(qū)物、聚酷亞胺前驅(qū)物、酪醒清漆樹脂、雙酪A樹脂、雙酪F樹脂、丙締酸醋樹脂、硅氧烷類樹 脂或其組合。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的包括光阻擋層的裝置，其中所述交聯(lián)劑包括至少一個由化學(xué) 式1表示的官能團(tuán)：4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的包括光阻擋層的裝置，其中所述交聯(lián)劑還包括選自由化學(xué)式2 至化學(xué)式4表示的官能團(tuán)中的至少一種：其中在化學(xué)式3和化學(xué)式4中， R2和R3獨(dú)立地為氨原子或經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1至CIO烷基。5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的包括光阻擋層的裝置，其中所述組成物還包括堿產(chǎn)生劑。6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的包括光阻擋層的裝置，其中所述堿產(chǎn)生劑由化學(xué)式5表示：其中在化學(xué)式5中， X為-C出-或-NH-， w 為-ο-或-s-， η為ο或1的整數(shù)， Ri為氨原子或經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1至CIO烷基，且 Li為單鍵或經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1至CIO亞烷基。7. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的包括光阻擋層的裝置，其中所述堿產(chǎn)生劑由化學(xué)式6至化學(xué)式 9中的一個表示：其中在化學(xué)式6至化學(xué)式9中， X為-C出-或-NH-， Ri為氨原子或經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1至CIO烷基，且 Li為單鍵或經(jīng)取代或未經(jīng)取代的C1至CIO亞烷基。8. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的包括光阻擋層的裝置，其中所述堿產(chǎn)生劑包括選自化學(xué)式10 至化學(xué)式21中的至少一種：9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的包括光阻擋層的裝置，其中所述黑色著色劑為碳黑、苯胺黑、 二糞嵌苯黑、RGB黑、氧化鉆、氧化鐵或其組合。10. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的包括光阻擋層的裝置，其中基于100重量份的所述耐熱聚合 物，所述組成物包括： 5重量份至40重量份的所述交聯(lián)劑； 10重量份至200重量份的所述黑色著色劑； 150重量份至4000重量份的所述溶劑。11. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的包括光阻擋層的裝置，其中基于100重量份的所述耐熱聚合 物，W5重量份至40重量份的量包括所述堿產(chǎn)生劑。12. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的包括光阻擋層的裝置，其中所述組成物還包括選自W下的添 加劑:丙二酸、3-氨基-1,2-丙二醇、流平劑、氣類表面活性劑、娃酬類表面活性劑、自由基聚 合起始劑或其組合。13. -種圖案化光阻擋層的方法，包括： 在基板上涂布組成物，其中所述組成物包括耐熱聚合物、交聯(lián)劑、黑色著色劑W及溶 劑； 在所述組成物上涂布光刻膠，接著將其加熱； 曝光及顯影所得物； 在顯影后進(jìn)行蝕刻工藝； 在所述蝕刻工藝后W剝除劑進(jìn)行剝除工藝；W及 在所述剝除工藝后，進(jìn)行加熱工藝。14. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的圖案化光阻擋層的方法，其中在所述剝除工藝后的所述加 熱工藝中，在200°C至600°C下進(jìn)行加熱。15. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的圖案化光阻擋層的方法，其中在將所述光刻膠涂布于所述 組成物上W后的所述加熱工藝中，在70°C至160°C下進(jìn)行加熱。16. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的圖案化光阻擋層的方法，其中所述剝除劑包括丙二醇單甲 基酸、丙二醇單甲酸醋酸醋、乳酸乙醋、丫-下內(nèi)醋、氨氧化四甲基錠、氨氧化鐘、二甲基亞 諷、下基二甘醇、單乙醇胺、N-甲基化咯晚酬、徑基癸酸、兒茶酪或其組合。17. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的圖案化光阻擋層的方法，其中在顯影后的所述蝕刻工藝之 前或在所述蝕刻工藝后的所述剝除工藝之前，所述圖案化光阻擋層的方法還包括漂白工 乙。18. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的圖案化光阻擋層的方法，其中所述交聯(lián)劑包括至少一個由 化學(xué)式1表示的官能團(tuán)：19. 根據(jù)權(quán)利要求13所述的圖案化光阻擋層的方法，其中所述組成物還包括堿產(chǎn)生劑。
【文檔編號】C08L63/00GK105938208SQ201511029859
【公開日】2016年9月14日
【申請日】2015年12月31日
【發(fā)明人】金尙洙, 姜眞熙, 金澯佑, 白好貞, 李范珍, 趙成徐
【申請人】三星Sdi株式會社