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      可提高光刻精度的遮罩的制作方法

      文檔序號(hào):10593130閱讀:510來(lái)源:國(guó)知局
      可提高光刻精度的遮罩的制作方法
      【專利摘要】本發(fā)明公開了一種可提高光刻精度的遮罩,包括透鏡組;深紫外光經(jīng)由透鏡組射出;透鏡組的光射出方向固定有光刻遮罩;所述光刻遮罩;所述光刻遮罩下方設(shè)置有待處理晶片;待處理晶片之上粘貼有光刻膠;所述光刻膠有多個(gè),相鄰的光刻膠之間為第一空檔;多塊光刻膠組成光刻圖案;光刻遮罩也有多個(gè),每個(gè)光刻遮罩的位置與光刻膠的位置嚴(yán)格對(duì)應(yīng);相鄰的光刻遮罩之間為第二空檔;每?jī)蓚€(gè)相鄰的光刻遮罩為一組,組成一組的兩個(gè)光刻遮罩下方安裝有一個(gè)移向透鏡;每個(gè)光刻遮罩只有一個(gè)邊緣被光刻遮罩覆蓋。本發(fā)明通過(guò)增加移向透鏡,改變了深紫外光在光刻膠邊緣的相位,使得光刻邊緣的深紫外光分辨率更高,有利于提高半導(dǎo)體器件的關(guān)鍵寬度。
      【專利說(shuō)明】
      可提高光刻精度的遮罩
      技術(shù)領(lǐng)域
      [0001]本發(fā)明涉及集成電路制造領(lǐng)域,具體涉及一種可提高光刻精度的遮罩?!颈尘凹夹g(shù)】
      [0002]光刻是集成電路制造領(lǐng)域常會(huì)用到的一種工藝流程,隨著集成電路的制造工藝的提升,
      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0003]針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明公開了一種可提高光刻精度的遮罩。
      [0004]本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
      [0005]—種可提高光刻精度的遮罩,包括透鏡組;深紫外光經(jīng)由透鏡組射出;透鏡組的光射出方向固定有光刻遮罩;所述光刻遮罩;所述光刻遮罩下方設(shè)置有待處理晶片;待處理晶片之上粘貼有光刻膠;所述光刻膠有多個(gè),相鄰的光刻膠之間為第一空檔;多塊光刻膠組成光刻圖案;光刻遮罩也有多個(gè),每個(gè)光刻遮罩的位置與光刻膠的位置嚴(yán)格對(duì)應(yīng);相鄰的光刻遮罩之間為第二空檔;每?jī)蓚€(gè)相鄰的光刻遮罩為一組,組成一組的兩個(gè)光刻遮罩下方安裝有一個(gè)移向透鏡;每個(gè)光刻遮罩只有一個(gè)邊緣被光刻遮罩覆蓋。
      [0006]本發(fā)明的有益技術(shù)效果是:
      [0007]本發(fā)明通過(guò)增加移向透鏡,改變了深紫外光在光刻膠邊緣的相位,使得光刻邊緣的深紫外光分辨率更高,有利于提高半導(dǎo)體器件的關(guān)鍵寬度。【附圖說(shuō)明】
      [0008]圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)圖。
      [0009]圖2是本發(fā)明的原理圖。
      [0010]圖3是現(xiàn)有技術(shù)的深紫外線相位圖?!揪唧w實(shí)施方式】
      [0011]圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)圖。如圖1所示,本發(fā)明包括透鏡組4。深紫外光經(jīng)由透鏡組4射出。透鏡組4的光射出方向固定有光刻遮罩。光刻遮罩3。光刻遮罩3下方設(shè)置有待處理晶片 1。待處理晶片1之上粘貼有光刻膠2。光刻膠2有多個(gè),相鄰的光刻膠2之間為第一空檔21。多塊光刻膠2組成光刻圖案。光刻遮罩3也有多個(gè),每個(gè)光刻遮罩3的位置與光刻膠2的位置嚴(yán)格對(duì)應(yīng)。相鄰的光刻遮罩3之間為第二空檔31。每?jī)蓚€(gè)相鄰的光刻遮罩3為一組,組成一組的兩個(gè)光刻遮罩下方安裝有一個(gè)移向透鏡32。每個(gè)光刻遮罩3只有一個(gè)邊緣被光刻遮罩3覆蓋。
      [0012]圖2是本發(fā)明的原理圖,如圖2所示,由于移向透鏡32的存在,此處的深紫外光的相位會(huì)被移為相反方向,則相鄰的光刻膠對(duì)于深紫外光的分辨率提高。此分辨率的提高可以參照?qǐng)D3,圖3是現(xiàn)有技術(shù)的深紫外線相位圖。與現(xiàn)有技術(shù)相比,顯然,本發(fā)明可大大提高光刻精度,有利于減小集成電路的關(guān)鍵尺寸。
      [0013]以上所述的僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式,本發(fā)明不限于以上實(shí)施例??梢岳斫?,本領(lǐng)域技術(shù)人員在不脫離本發(fā)明的精神和構(gòu)思的前提下直接導(dǎo)出或聯(lián)想到的其他改進(jìn)和變化,均應(yīng)認(rèn)為包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種可提高光刻精度的遮罩,其特征在于,包括透鏡組(4);深紫外光經(jīng)由透鏡組(4) 射出;透鏡組(4)的光射出方向固定有光刻遮罩;所述光刻遮罩(3);所述光刻遮罩(3)下方 設(shè)置有待處理晶片(1);待處理晶片(1)之上粘貼有光刻膠(2);所述光刻膠(2)有多個(gè),相鄰 的光刻膠(2)之間為第一空檔(21);多塊光刻膠(2)組成光刻圖案;光刻遮罩(3)也有多個(gè), 每個(gè)光刻遮罩(3)的位置與光刻膠(2)的位置嚴(yán)格對(duì)應(yīng);相鄰的光刻遮罩(3)之間為第二空 檔(31);每?jī)蓚€(gè)相鄰的光刻遮罩(3)為一組,組成一組的兩個(gè)光刻遮罩下方安裝有一個(gè)移向 透鏡(32);每個(gè)光刻遮罩(3)只有一個(gè)邊緣被光刻遮罩(3)覆蓋。
      【文檔編號(hào)】G03F7/20GK105954981SQ201610586299
      【公開日】2016年9月21日
      【申請(qǐng)日】2016年7月22日
      【發(fā)明人】呂耀安
      【申請(qǐng)人】無(wú)錫宏納科技有限公司
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