壓印系統(tǒng)及物品的制造方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明提供壓印系統(tǒng)及物品的制造方法。所述壓印系統(tǒng)進(jìn)行通過(guò)使用模具來(lái)使基板上的壓印材料形成圖案的壓印處理，并且所述壓印系統(tǒng)包括：多個(gè)處理單元，其各自包括將所述壓印材料供給到所述基板上的分配器，并且被構(gòu)造為進(jìn)行所述壓印處理；庫(kù)，其被構(gòu)造為管理多個(gè)布局信息；以及控制單元，其被構(gòu)造為在由第一處理單元使用的模具被第二處理單元使用的情況下，基于所述第一處理單元與所述第二處理單元之間的所述壓印處理的條件的差異，通過(guò)使用具有與針對(duì)由所述第一處理單元使用的布局信息的所述壓印處理的條件的差異相對(duì)應(yīng)的差異的布局信息，來(lái)控制所述第二處理單元。
【專(zhuān)利說(shuō)明】
壓印系統(tǒng)及物品的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及壓印系統(tǒng)及物品的制造方法。【背景技術(shù)】
[0002]壓印技術(shù)是能夠形成納米級(jí)微細(xì)圖案的技術(shù)，并且作為用于半導(dǎo)體設(shè)備和磁存儲(chǔ)介質(zhì)的批量生產(chǎn)納米光刻技術(shù)中的一種，已引起關(guān)注。使用壓印技術(shù)的壓印裝置，根據(jù)例如示出壓印材料液滴在基板上的配置的分布圖(map)(也稱(chēng)為分配圖案、壓印配方或滴(drop) 配方)，將壓印材料供給到基板上。然后，通過(guò)在壓印材料與模具接觸的狀態(tài)下使供給到基板上的壓印材料固化，能夠在基板上形成壓印材料的圖案。
[0003]壓印裝置可以生成分布圖，以減少壓印材料在基板上形成的圖案的缺陷、RLT(殘留層厚度)異常等。日本特許第5214683號(hào)公報(bào)已提出了如下的方法，即考慮填充模具圖案的壓印材料的量、要在基板上形成的圖案的殘留層厚度、投射區(qū)域和基板的邊緣的位置、下層(基板)的凹凸分布以及在后處理中的加工尺寸的變化，來(lái)生成分布圖。日本特開(kāi)2012-114157號(hào)公報(bào)已提出了如下的方法，即通過(guò)組合針對(duì)構(gòu)成半導(dǎo)體集成電路的各個(gè)電路塊而生成的分布圖，來(lái)針對(duì)一個(gè)投射區(qū)域生成分布圖。
[0004]在包括多個(gè)壓印裝置(處理單元)的壓印系統(tǒng)中，由預(yù)定的壓印裝置使用的模具有時(shí)被其他壓印裝置使用。在這種情況下，期望以使通過(guò)使用模具而在基板上形成的壓印材料形狀的圖案之間不產(chǎn)生任何差異的方式來(lái)進(jìn)行壓印處理。然而，如果由預(yù)定的壓印裝置使用的分布圖被應(yīng)用到其他壓印裝置，則由于這些壓印裝置之間的個(gè)體差異，由壓印材料形成的圖案的缺陷、RLT(殘留層厚度)等會(huì)改變。另一方面，如果當(dāng)使用其他壓印裝置中的模具時(shí)生成新的分布圖，則由于在生成分布圖期間，該壓印裝置中的壓印處理被中斷，因此該壓印裝置的生產(chǎn)率(運(yùn)轉(zhuǎn)率)會(huì)降低。
【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明提供一種在例如生產(chǎn)率方面有利的壓印系統(tǒng)。
[0006]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供了一種壓印系統(tǒng)，其進(jìn)行通過(guò)使用模具來(lái)形成供給在基板上的壓印材料的圖案的壓印處理，所述壓印系統(tǒng)包括:多個(gè)處理單元，其各自包括將所述壓印材料供給到所述基板上的分配器，并且被構(gòu)造為進(jìn)行所述壓印處理;庫(kù)，其被構(gòu)造為管理彼此不同的多個(gè)布局信息，所述多個(gè)布局信息中的各個(gè)表示要從所述分配器供給的、所述基板上的所述壓印材料的布局；以及控制單元，其被構(gòu)造為當(dāng)由所述多個(gè)處理單元中的第一處理單元使用的模具，被與所述第一處理單元不同的第二處理單元使用時(shí)，基于所述第一處理單元與所述第二處理單元之間的用于所述壓印處理的條件的差異，通過(guò)使用具有與相對(duì)由所述第一處理單元使用的布局信息的用于所述壓印處理的條件的差異相對(duì)應(yīng)的差異的布局信息，來(lái)控制所述第二處理單元。
[0007]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供了一種物品的制造方法，所述方法包括:使用壓印系統(tǒng)在基板上形成圖案；并且處理其上已形成有所述圖案的基板，以制造所述物品，其中，所述壓印系統(tǒng)進(jìn)行通過(guò)使用模具來(lái)形成供給在所述基板上的壓印材料的圖案的壓印處理并且包括:多個(gè)處理單元，其各自包括將所述壓印材料供給到所述基板上的分配器，并且被構(gòu)造為進(jìn)行所述壓印處理;庫(kù)，其被構(gòu)造為管理彼此不同的多個(gè)布局信息，所述多個(gè)布局信息中的各個(gè)表示要從所述分配器供給的所述基板上的所述壓印材料的布局；以及控制單元，其被構(gòu)造為當(dāng)由所述多個(gè)處理單元中的第一處理單元使用的模具，被與所述第一處理單元不同的第二處理單元使用時(shí)，基于所述第一處理單元與所述第二處理單元之間的用于所述壓印處理的條件的差異，通過(guò)使用具有與相對(duì)由所述第一處理單元使用的布局信息的用于所述壓印處理的條件的差異相對(duì)應(yīng)的差異的布局信息，來(lái)控制所述第二處理單元。
[0008]通過(guò)以下參照附圖對(duì)示例性實(shí)施例的描述，本發(fā)明的其他特征將變得清楚。
【附圖說(shuō)明】
[0009]圖1是示出壓印系統(tǒng)的布置的示意圖；
[0010]圖2是示出壓印裝置的布置的示意圖；
[0011]圖3是示出主機(jī)服務(wù)器的布置的示意圖；
[0012I圖4是示出庫(kù)的布置的示意圖；
[0013]圖5是示出生成服務(wù)器的布置的示意圖；
[0014]圖6是用于說(shuō)明壓印處理的流程圖；
[00?5]圖7是用于說(shuō)明壓印處理的圖；
[0016]圖8是用于說(shuō)明壓印處理的圖；
[0017]圖9是用于說(shuō)明生成分布圖的處理的流程圖；
[0018]圖10是示出供給量分布信息的示例的圖；
[0019]圖11是示出分布圖的示例的圖；并且
[0020]圖12是用于說(shuō)明分布圖的選擇的流程圖。
【具體實(shí)施方式】
[0021]下面，將參照附圖描述本發(fā)明的示例性實(shí)施例。注意，在整個(gè)附圖中，相同的附圖標(biāo)記表示相同的部件，并且將不給出其重復(fù)說(shuō)明。
[0022]〈第一實(shí)施例〉
[0023]將描述根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的壓印系統(tǒng)10。圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面的壓印系統(tǒng)10的布置的示意圖。壓印系統(tǒng)10將壓印材料(例如，樹(shù)脂)供給到基板上，并且進(jìn)行通過(guò)使用模具來(lái)使供給到基板上的壓印材料形成圖案的壓印處理。作為使壓印材料固化的方法，該實(shí)施例使用通過(guò)利用紫外光照射來(lái)使壓印材料固化的光固化法。然而，實(shí)施例不限于此，還可以使用利用熱來(lái)使壓印材料固化的熱固化法。壓印系統(tǒng)10可以包括多個(gè)壓印裝置100(處理單元)、主機(jī)服務(wù)器200(控制單元)、庫(kù)300以及生成服務(wù)器400(生成單元)。
[0024]多個(gè)壓印裝置100中的各個(gè)包括用于將壓印材料供給到基板上的分配器(分配單元)，并且用作進(jìn)行壓印處理的處理單元。例如，各個(gè)壓印裝置100根據(jù)表示要從分配器供給的壓印材料液滴在基板上的布局的分布圖，來(lái)將壓印材料液滴供給到基板上。然后，壓印裝置100通過(guò)在壓印材料與模具接觸的狀態(tài)下使基板上的壓印材料固化，并且從固化后的壓印材料脫離模具，來(lái)使基板上的壓印材料形成圖案。分布圖也被稱(chēng)為布局信息、分配圖案、壓印配方、滴配方等。多個(gè)壓印裝置100中的各個(gè)具有將與壓印處理?xiàng)l件有關(guān)的信息和壓印裝置100的狀態(tài)發(fā)送到主機(jī)服務(wù)器200的功能I Oa。
[0025]主機(jī)服務(wù)器200由包括CPU、存儲(chǔ)器和HDD的計(jì)算機(jī)構(gòu)成，并且控制壓印系統(tǒng)10的各個(gè)單元，即，多個(gè)壓印裝置100、庫(kù)300以及生成服務(wù)器400。主機(jī)服務(wù)器200控制，例如，表示要從分配器供給的壓印材料液滴在基板上的的布局的分布圖。此外，主機(jī)服務(wù)器200控制當(dāng)進(jìn)行壓印處理時(shí)的壓印條件(壓印處理?xiàng)l件)。主機(jī)服務(wù)器200具有將用于壓印處理的分布圖(即適合于壓印處理的分布圖)發(fā)送到壓印裝置100的功能10b，以及參照由庫(kù)300管理的分布圖的功能10c。主機(jī)服務(wù)器200還具有將指示生成新的分布圖的作業(yè)和生成所述分布圖所需的信息，發(fā)送到主機(jī)服務(wù)器400的功能10e。在這種情況下，生成分布圖所需的信息可以包括，例如，模具圖案的尺寸、要在基板上形成的圖案(在壓印材料上形成的圖案)的殘留層厚度、基板表面的分布的信息以及基板上的投射區(qū)域的布局信息。此外，基板表面的分布的信息可以包括基板表面的壓印材料的蒸發(fā)量的分布、以及基板表面的氣流的分布。
[0026]庫(kù)300由包括CPU、存儲(chǔ)器和HDD的計(jì)算機(jī)構(gòu)成，并且管理(存儲(chǔ))表示要從分配器供給的壓印材料液滴在基板上的布局的分布圖(布局信息)。庫(kù)300具有將適合于壓印材料的分布圖發(fā)送到主機(jī)服務(wù)器200功能10d，以及將生成分布圖所需的信息發(fā)送到生成服務(wù)器400的功能1f。庫(kù)300還可以具有分析多個(gè)存儲(chǔ)的分布圖的生成歷史和選擇歷史的功能。
[0027]生成服務(wù)器400由包括CPU、存儲(chǔ)器和HDD的計(jì)算機(jī)構(gòu)成，并且根據(jù)來(lái)自主機(jī)服務(wù)器200的作業(yè)，生成表示要從分配器供給的壓印材料液滴在基板上的的布局(供給位置)的分布圖。在這種情況下，生成服務(wù)器400基于模具圖案的尺寸(模具的設(shè)計(jì)值或?qū)嶋H測(cè)量值)以及要在基板上形成的圖案的殘留層厚度，來(lái)生成分布圖。此外，生成服務(wù)器400可以基于基板表面的分布的信息(包括基板表面的壓印材料的蒸發(fā)量的分布以及基板表面的氣流的分布)以及基板上的投射區(qū)域的布局信息中的至少一者，來(lái)生成分布圖。如上所述，生成服務(wù)器400從主機(jī)服務(wù)器200或庫(kù)300，獲得生成這種分布圖所需的信息。生成服務(wù)器400還具有將生成的分布圖發(fā)送到庫(kù)300的功能10g。
[0028]在這種情況下，構(gòu)成壓印系統(tǒng)10的裝置、服務(wù)器以及庫(kù)之間的功能不限于圖1中示出的布置，并且可以在具有與圖1中示出的不同的布置的裝置、服務(wù)器、以及庫(kù)之間來(lái)實(shí)現(xiàn)。此外，主機(jī)服務(wù)器200、庫(kù)300以及生成服務(wù)器400可以配設(shè)在壓印系統(tǒng)10外部。然而，在這種情況下，主機(jī)服務(wù)器200、庫(kù)300和生成服務(wù)器400連接到多個(gè)壓印裝置100中的各個(gè)，以將適合于壓印處理的分布圖提供到壓印裝置100中的各個(gè)。
[0029]在具有這種布置的壓印系統(tǒng)10中，庫(kù)300預(yù)先存儲(chǔ)根據(jù)要在基板上形成的圖案以及殘留層厚度而生成的多個(gè)不同的分布圖。例如，能夠根據(jù)由壓印裝置100使用的模具的圖案形狀，從由庫(kù)300管理的多個(gè)分布圖中，選擇要由各個(gè)壓印裝置100使用的分布圖。在這種情況下，在壓印系統(tǒng)10中，有時(shí)由于多個(gè)壓印裝置之間的個(gè)體差異、多個(gè)模具的圖案形狀的制造誤差等，難以均衡由多個(gè)壓印裝置100獲得的壓印處理結(jié)果。為此，在根據(jù)該實(shí)施例的壓印系統(tǒng)10中，針對(duì)各個(gè)壓印裝置100和各個(gè)模具，分別設(shè)置識(shí)別信息(裝置ID和模具ID)。庫(kù)300將多個(gè)分布圖與壓印裝置100中的對(duì)應(yīng)壓印裝置100的識(shí)別信息以及模具1I中的對(duì)應(yīng)模具101的識(shí)別信息相關(guān)聯(lián)地管理。主機(jī)服務(wù)器200基于針對(duì)壓印裝置100和由壓印裝置100使用的模具分別設(shè)置的識(shí)別信息，從由庫(kù)300管理的多個(gè)分布圖中，選擇要由各個(gè)壓印裝置100使用的分布圖。這使得壓印系統(tǒng)10能夠適當(dāng)?shù)剡x擇與壓印裝置100和模具的組合相對(duì)應(yīng)的分布圖。這能夠減少由模具形成的壓印材料上的圖案之間的形狀和殘留層厚度的變化。
[0030]在這種情況下，主機(jī)服務(wù)器200將和各個(gè)壓印裝置100的壓印處理?xiàng)l件有關(guān)的信息與壓印裝置100的識(shí)別信息相關(guān)聯(lián)地管理。壓印處理?xiàng)l件可以包括例如以下條件中的至少一者:在壓印處理中液滴的每單位時(shí)間的蒸發(fā)量、供給到基板上的壓印材料量、以及由分配器供給到基板上的壓印材料液滴的量和位置精度。該信息還可以包括壓印材料的年齡(從壓印材料的使用開(kāi)始起的時(shí)段)。此外，主機(jī)服務(wù)器200將和各個(gè)模具的圖案形狀有關(guān)的信息與模具101的識(shí)別信息相關(guān)聯(lián)地管理。與各個(gè)模具的圖案形狀有關(guān)的信息可以包括，例如以下信息中的至少一者:在模具上形成的圖案的設(shè)計(jì)信息和實(shí)際尺寸、缺陷信息(缺陷的數(shù)量)、清潔的次數(shù)、以及壓印的次數(shù)。
[0031]在根據(jù)該實(shí)施例的壓印系統(tǒng)10中，由庫(kù)300管理的多個(gè)分布圖有時(shí)不包括與壓印裝置1〇〇和模具中的任何一者相對(duì)應(yīng)的分布圖。在這種情況下，基于與各個(gè)壓印裝置1〇〇的壓印處理?xiàng)l件有關(guān)的信息以及與各個(gè)模具的圖案形狀有關(guān)的信息，可以選擇能夠使其對(duì)壓印處理結(jié)果的影響落在可允許的范圍內(nèi)的分布圖。假設(shè)多個(gè)壓印裝置100中的第一壓印裝置100A和第二壓印裝置100B的壓印處理?xiàng)l件幾乎相同。在這種情況下，可以從與第一壓印裝置100A相關(guān)聯(lián)地管理的多個(gè)分布圖中，選擇要由第二壓印裝置100B使用的分布圖。[〇〇32]此外，如上所述，壓印系統(tǒng)10將和壓印處理?xiàng)l件有關(guān)的信息和與模具的圖案形狀有關(guān)的信息與壓印裝置100的識(shí)別信息和模具101的識(shí)別信息相關(guān)聯(lián)地管理。為此，庫(kù)300管理與壓印裝置100和模具的改變(例如，隨時(shí)間的改變)相對(duì)應(yīng)的多個(gè)分布圖(這將在下面描述)，使得根據(jù)該改變能夠選擇合適的分布圖。這能夠減少壓印裝置100和模具的改變對(duì)壓印處理結(jié)果的影響。即，這能夠使得由模具形成的壓印材料圖案的尺寸落在可允許的范圍內(nèi)。[0033 ]壓印裝置100的改變可以包括，在壓印處理中液滴的每單位時(shí)間的蒸發(fā)量的改變以及從分配器供給到基板的液滴的量和位置精度的改變。能夠通過(guò)進(jìn)行測(cè)試壓印處理等， 來(lái)獲得壓印裝置1〇〇的改變。此外，模具的改變可以包括，由壓印處理和模具清潔引起的圖案尺寸的改變，以及缺陷的數(shù)量和位置的改變。圖案的尺寸可以包括模具圖案的各個(gè)凹部的深度、圖案的線寬(CD:臨界尺寸)以及錐角。能夠在壓印處理之后，由測(cè)量模具的圖案形狀的結(jié)果，來(lái)獲得模具的改變。
[0034]下面，將描述與壓印裝置100和模具的改變相對(duì)應(yīng)的多個(gè)分布圖。例如，為了對(duì)應(yīng)于在壓印處理中液滴的蒸發(fā)量的1 %的改變，庫(kù)可以將在液滴的數(shù)量上相差1 %的多個(gè)分布圖與壓印裝置1〇〇相關(guān)聯(lián)地管理。此外，為了對(duì)應(yīng)于的從分配器排出的液滴的量的1%的改變，庫(kù)能夠?qū)⒃谝旱蔚臄?shù)量上相差1%的多個(gè)分布圖與壓印裝置1〇〇相關(guān)聯(lián)地管理。這使得能夠選擇與各個(gè)壓印裝置100的改變相對(duì)應(yīng)的分布圖。
[0035]同樣地，例如，為了對(duì)應(yīng)于模具圖案的凹部深度的lnm的改變，庫(kù)將在液滴的數(shù)量上相差與lnm的凹部深度相對(duì)應(yīng)的液滴的多個(gè)分布圖與模具相關(guān)聯(lián)地管理。此外，為了對(duì)應(yīng)于模具圖案的線寬的lnm的改變，庫(kù)將在液滴的數(shù)量上相差與lnm的線寬相對(duì)應(yīng)的液滴的數(shù)量的的多個(gè)分布圖與模具相關(guān)聯(lián)地管理。這使得能夠選擇與各個(gè)模具的改變相對(duì)應(yīng)的分布圖。[〇〇36][壓印裝置的布置]
[0037]圖2是示出壓印系統(tǒng)10中的各個(gè)壓印裝置100的布置的示意圖。壓印裝置100是在用于半導(dǎo)體設(shè)備等的制造處理中使用的光刻裝置，并且通過(guò)使用模具使基板上的壓印材料成型。壓印裝置100包括保持模具101的頭102、照射單元103、保持基板104的臺(tái)105、分配器 110、供給單元111、控制單元112以及存儲(chǔ)單元113。
[0038]模具101在其面對(duì)基板104的表面上，具有圖案區(qū)域101a，在圖案區(qū)域101a上，形成有要轉(zhuǎn)印到供給到基板104的壓印材料120的圖案。模具101具有例如矩形的外形形狀。能夠由透過(guò)用于使基板上的壓印材料120固化的紫外光的材料(例如石英)來(lái)形成模具101。此夕卜，模具101的圖案被轉(zhuǎn)印到基板上，并且基板包括例如單晶硅基板或S〇I(絕緣體上硅)基板。[〇〇39]頭102利用真空抽吸力或靜電力來(lái)保持(固定)模具101。頭102包括用于在Z軸方向上驅(qū)動(dòng)(移動(dòng))模具101的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。頭102具有使模具101壓印在供給到基板上的未固化的壓印材料120上的功能，以及從基板上的固化后的壓印材料120脫離模具101的功能。
[0040]臺(tái)105包括保持基板104的基板卡盤(pán)和用于將模具101與基板104對(duì)準(zhǔn)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。 該驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)由例如粗動(dòng)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)和微動(dòng)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)構(gòu)成，并且在X軸和Y軸方向上驅(qū)動(dòng)(移動(dòng)) 基板104。此外，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)可以具有在Z軸方向和0方向(繞Z軸的旋轉(zhuǎn)方向)上以及在X軸和Y 軸方向上驅(qū)動(dòng)基板104的功能，以及校正基板104的傾斜的傾斜功能。
[0041]照射單元103具有使基板上的壓印材料120固化的功能。照射單元103包括例如鹵素?zé)艋騆ED，并且利用穿過(guò)模具101的紫外光來(lái)照射基板上的樹(shù)脂。
[0042]供給單元111包括存儲(chǔ)未固化的壓印材料120的罐。供給單元111通過(guò)供給管向分配器110供給未固化的壓印材料120。分配器110包括將壓印材料120的液滴排出到基板104 的多個(gè)噴嘴(排出口)，并且將壓印材料120供給(分配)到基板上。在該實(shí)施例中，來(lái)自分配器110的壓印材料120的供給量的單位為“滴”，并且每滴壓印材料120的量的范圍為從亞皮升至數(shù)皮升。由各個(gè)噴嘴(各個(gè)排出口)的一個(gè)排出操作，將壓印材料120的一個(gè)液滴供給到基板上。每隔數(shù)Mi，設(shè)置壓印材料120的液滴被從分配器110滴到基板上的位置。通過(guò)在將來(lái)自供給單元111的壓印材料120供給到分配器110的同時(shí)驅(qū)動(dòng)臺(tái)105,并且從分配器110排出壓印材料120的液滴，從而在基板上形成壓印材料120的液滴的布局。
[0043]控制單元112包括CPU和存儲(chǔ)器，并且控制壓印裝置100的整體操作?？刂茊卧?12 控制壓印裝置100的各個(gè)單元以進(jìn)行壓印處理。此外，根據(jù)需要，控制單元112向主機(jī)服務(wù)器 200發(fā)送壓印處理結(jié)果、模具101和分配器110的使用歷史、與壓印材料120的蒸發(fā)有關(guān)的信息(諸如壓印環(huán)境中的溫度和濕度的改變)等?？刂茊卧?12將從主機(jī)服務(wù)器200獲得的分布圖，存儲(chǔ)在存儲(chǔ)單元113中。[〇〇44][主機(jī)服務(wù)器的布置][〇〇45]圖3是示出壓印系統(tǒng)10中的主機(jī)服務(wù)器200的布置的示意圖。主機(jī)服務(wù)器200可以包括結(jié)果管理單元201、結(jié)果確定單元202、分布圖選擇單元203、裝置信息管理單元204、圖案信息管理單元205、設(shè)計(jì)信息管理單元206、條件管理單元207、裝置歷史發(fā)送單元208以及生成指示單元209。[〇〇46]結(jié)果管理單元201獲得壓印結(jié)果信息并管理這些信息，壓印結(jié)果信息包括在壓印處理時(shí)的裝置條件、模具101的使用歷史、分配器110的使用歷史、以及來(lái)自各個(gè)壓印裝置 100的壓印處理結(jié)果。此外，結(jié)果管理單元201從檢查裝置獲得通過(guò)分析由壓印裝置100獲得的壓印處理結(jié)果而獲得的分析結(jié)果，并且管理分析結(jié)果。
[0047]結(jié)果確定單元202基于由結(jié)果管理單元201管理的壓印結(jié)果信息，確定是否有必要改變表示要從分配器供給的壓印材料120液滴在基板上的布局的分布圖。[〇〇48] 如果結(jié)果確定單元202確定有必要改變分布圖，則分布圖選擇單元203從由庫(kù)300 管理的多個(gè)分布圖中選擇最佳分布圖，并且將選擇的分布圖發(fā)送到對(duì)應(yīng)的壓印裝置100。分布圖選擇單元203基于壓印裝置100的識(shí)別信息和模具101的識(shí)別信息，來(lái)選擇分布圖。如果在壓印裝置100和模具1 〇 1中發(fā)生了改變(例如，隨時(shí)間的改變)，則分布圖選擇單元203能夠選擇與該改變相對(duì)應(yīng)的分布圖。如上所述，主機(jī)服務(wù)器200管理與壓印處理?xiàng)l件有關(guān)的信息和與模具101的圖案形狀有關(guān)的信息。為此，分布圖選擇單元203根據(jù)這些信息，能夠選擇與壓印裝置100和模具101的改變相對(duì)應(yīng)的分布圖。如果沒(méi)有最佳分布圖被庫(kù)300管理，貝ij分布圖選擇單元203向生成指示單元209發(fā)送指示生成新的分布圖(例如，最佳分布圖)的作業(yè)。 [〇〇49]裝置信息管理單元204從結(jié)果管理單元201獲得壓印結(jié)果信息，從壓印結(jié)果信息中提取裝置信息，并且管理提取的信息。這種裝置信息可以包括與壓印處理?xiàng)l件有關(guān)的信息。 同樣地，圖案信息管理單元205從結(jié)果管理單元201獲得壓印結(jié)果信息，從壓印結(jié)果信息中提取圖案信息，并且管理提取的信息。這種圖案信息可以包括與模具101的圖案形狀有關(guān)的信息。此外，裝置信息管理單元204和圖案信息管理單元205監(jiān)視管理的信息的改變，并且管理改變，作為時(shí)間改變信息。
[0050]設(shè)計(jì)信息管理單元206管理模具101的圖案的設(shè)計(jì)信息(設(shè)計(jì)值)以及模具101的圖案的檢查信息(實(shí)際測(cè)量值)。條件管理單元207管理要在基板上形成的圖案的殘留層厚度、 基板104上的投射區(qū)域的布局信息、壓印材料到模具101的圖案的填充時(shí)間、裝置設(shè)定等。 [〇〇51]裝置歷史發(fā)送單元208從裝置信息管理單元204和圖案信息管理單元205獲得時(shí)間改變信息，并且將時(shí)間改變信息發(fā)送到生成指示單元209。生成指示單元209根據(jù)來(lái)自分布圖選擇單元203的作業(yè)，從設(shè)計(jì)信息管理單元206、條件管理單元207和裝置歷史發(fā)送單元 208,獲得生成分布圖所需的信息，并且將該信息與指示生成分布圖的作業(yè)一起，發(fā)送到生成服務(wù)器400。生成指示單元209還參照由庫(kù)300的分布圖信息管理單元301管理的分布圖信息，來(lái)確定由庫(kù)300管理的分布圖是否不足或可能變得不足。在確定分布圖不足或可能變得不足時(shí)，生成指示單元209向生成服務(wù)器400發(fā)送指示生成新的分布圖的作業(yè)。[〇〇52][庫(kù)的布置][〇〇53]圖4是示出壓印系統(tǒng)10中的庫(kù)300的布置的示意圖。庫(kù)300可以包括分布圖信息管理單元301和分布圖保存單元302。[〇〇54]分布圖信息管理單元301管理與在生成由庫(kù)300管理的分布圖時(shí)的生成條件300有關(guān)的分布圖信息。這種分布圖信息可以包括與在生成分布圖時(shí)的壓印處理?xiàng)l件有關(guān)的信息、和與模具的圖案形狀有關(guān)的信息中的至少一者。根據(jù)來(lái)自主機(jī)服務(wù)器200的關(guān)于由庫(kù) 300管理的分布圖的詢(xún)問(wèn)，分布圖信息管理單元301參照分布圖信息，以確定是否管理對(duì)應(yīng)的分布圖。如果管理了對(duì)應(yīng)的分布圖，則分布圖信息管理單元301將該分布圖發(fā)送到主機(jī)服務(wù)器200。在從主機(jī)服務(wù)器200獲得指示生成分布圖的作業(yè)時(shí)，分布圖信息管理單元301將生成分布圖所需的信息，發(fā)送到生成服務(wù)器400。此外，分布圖信息管理單元301獲得由生成服務(wù)器400生成的新的分布圖的分布圖信息，并且管理該信息。
[0055]分布圖保存單元302以能夠?qū)⒎植紙D發(fā)送到壓印裝置100的文件格式，保存(存儲(chǔ))分布圖。分布圖保存單元302經(jīng)由分布圖信息管理單元301將分布圖發(fā)送到主機(jī)服務(wù)器200， 并且保存由生成服務(wù)器400生成的分布圖。[〇〇56][生成服務(wù)器的布置][〇〇57]圖5是示出壓印系統(tǒng)10中的生成服務(wù)器400的布置的示意圖。生成服務(wù)器400包括設(shè)計(jì)信息設(shè)定單元401、參數(shù)設(shè)定單元402、布局信息設(shè)定單元403、裝置歷史設(shè)定單元404、 裝置改變管理單元405、圖案改變管理單元406、液滴計(jì)數(shù)計(jì)算單元407、決定單元408以及輸出單元409。[〇〇58]設(shè)計(jì)信息設(shè)定單元401從主機(jī)服務(wù)器200獲得在模具101上形成的圖案的設(shè)計(jì)信息，并且設(shè)置(輸入)設(shè)計(jì)信息。參數(shù)設(shè)定單元402從主機(jī)服務(wù)器200獲得諸如模具101的各個(gè)凹部的深度(各個(gè)凸部的高度)以及在基板上形成的圖案的殘留層厚度等的設(shè)定信息，并且設(shè)置(輸入)設(shè)定信息。參數(shù)設(shè)定單元402還設(shè)置(輸入)約束條件(諸如與基板上的壓印材料 120的散布有關(guān)的信息、壓印材料120到模具101的圖案的填充時(shí)間、以及基板上所需的壓印材料120的液滴之間的間隔)。[〇〇59]布局信息設(shè)定單元403從主機(jī)服務(wù)器200獲得基板104上的投射區(qū)域的布局信息， 并且設(shè)置(輸入)布局信息。裝置歷史設(shè)定單元404從主機(jī)服務(wù)器200獲得壓印材料120的液滴校正量，壓印材料120的液滴校正量是根據(jù)模具101和分配器110的使用歷史等以及用于決定基板上的液滴的布局(供給位置)的分布信息而計(jì)算的。
[0060]裝置改變管理單元405管理(提供)根據(jù)分配器110的使用歷史以及用于決定基板上的液滴的布局的分布信息而計(jì)算出的壓印材料120的液滴校正量。圖案改變管理單元406 管理(提供)根據(jù)模具101的使用歷史以及用于決定基板上的液滴的布局的分布信息而計(jì)算的壓印材料120的液滴校正量。
[0061]液滴計(jì)數(shù)計(jì)算單元407計(jì)算要供給到進(jìn)行壓印處理的基板上的壓印區(qū)域的壓印材料120的供給量，S卩，壓印材料120的液滴的數(shù)量。液滴計(jì)數(shù)計(jì)算單元407基于由設(shè)計(jì)信息設(shè)定單元401和參數(shù)設(shè)定單元402設(shè)置的信息、由裝置改變管理單元405和圖案改變管理單元 406管理的信息以及液滴校正量等，來(lái)計(jì)算液滴的數(shù)量。[0〇62]決定單元408決定基板上的壓印材料120的液滴的布局(供給位置)。決定單元408 基于例如由設(shè)計(jì)信息設(shè)定單元401和參數(shù)設(shè)定單元402設(shè)置的信息、由裝置改變管理單元 405和圖案改變管理單元406管理的信息以及由液滴計(jì)數(shù)計(jì)算單元407計(jì)算的液滴的量，來(lái)決定液滴的布局。此外，輸出單元409基于由決定單元408決定的、基板上的壓印材料120的液滴的布局，來(lái)以指定的格式輸出分布圖。從輸出單元409輸出的分布圖被發(fā)送到庫(kù)300并被庫(kù)300管理。
[0063][壓印處理][〇〇64]將詳細(xì)描述壓印系統(tǒng)10中的壓印處理。圖6是用于說(shuō)明壓印系統(tǒng)10中的壓印處理的流程圖。如上所述，通過(guò)使主機(jī)服務(wù)器200全面控制各個(gè)壓印裝置100、庫(kù)300和生成服務(wù)器400,并且使控制單元112全面控制壓印裝置100的各個(gè)單元，來(lái)進(jìn)行壓印處理。如上所述， 在壓印裝置100中設(shè)置壓印裝置100的識(shí)別信息(裝置ID)。
[0065]在步驟S100中，能夠形成要在基板104上形成的圖案的模具101被裝載到壓印裝置 100中，并被頭102保持。通過(guò)例如形成與用作光掩模(photomask)的透明石英基板上的設(shè)計(jì)信息相對(duì)應(yīng)的凹凸圖案，來(lái)獲得模具101。如上所述，針對(duì)模具101設(shè)置模具101的識(shí)別信息(模具ID)。在步驟S101中，如由圖7中的“71”所示，基板104被裝載到壓印裝置100中并且被臺(tái)105保持。在步驟S102中，獲得進(jìn)行壓印處理的壓印裝置100的識(shí)別信息，以及由頭102保持的模具101的識(shí)別信息。[〇〇66] 步驟S103是從由庫(kù)300管理的多個(gè)分布圖中選擇要用于壓印處理的分布圖的步驟。在步驟S103a中，從由庫(kù)300管理的多個(gè)分布圖中，獲得與壓印裝置100的識(shí)別信息和模具101的識(shí)別信息相關(guān)聯(lián)地管理的分布圖組。在這種情況下，主機(jī)服務(wù)器200基于壓印裝置 100的識(shí)別信息和模具101的識(shí)別信息，獲得與壓印處理?xiàng)l件有關(guān)的信息和與模具101的圖案形狀有關(guān)的信息。與壓印處理?xiàng)l件有關(guān)的信息可以包括如下的信息，即諸如要使用的壓印裝置100的噴嘴的數(shù)量、從各個(gè)噴嘴排出的壓印材料的液滴的量的平均值或變化以及供給到基板上的液滴的位置精度(著落位置變化)。此外，與壓印處理?xiàng)l件有關(guān)的信息可以包括壓印環(huán)境中的溫度、氣流、氧濃度和蒸發(fā)量分布，樹(shù)脂類(lèi)型及壓印歷史。與模具101的圖案形狀有關(guān)的信息可以包括與實(shí)際測(cè)量值有關(guān)的信息(諸如線寬、密度及模具101的圖案的缺陷數(shù)量)，以及歷史信息(諸如壓印計(jì)數(shù)和清潔計(jì)數(shù)等)。[〇〇67]在步驟S103b中，基于與壓印處理?xiàng)l件有關(guān)的信息和與模具101的圖案形狀有關(guān)的信息，從在步驟S103a中獲得的分布圖組中，選擇用于使基板上形成的壓印材料的圖案形狀成為目標(biāo)形狀的最佳分布圖。然后，在對(duì)應(yīng)的壓印裝置1〇〇(分配器110)中，設(shè)置選擇的分布圖。如上所述，分布圖表示基板上的壓印材料120的液滴的布局。換言之，分布圖表示供給到基板104的壓印材料120的量。即，在步驟S103b中選擇的分布圖可以是能夠減少在基板104 上形成的壓印材料120的圖案中發(fā)生的缺陷和層厚度異常的分布圖。此外，如果在步驟 S103a中獲得的分布圖組不包括最佳分布圖，則能夠通過(guò)后述的處理過(guò)程來(lái)生成最佳分布圖。[〇〇68]在步驟S104中，基板104上的投射區(qū)域中的未經(jīng)歷壓印處理的投射區(qū)域被指定為目標(biāo)投射區(qū)域。在這種情況下，假設(shè)投射區(qū)域是指要由一個(gè)壓印處理在其上形成圖案的區(qū)域。此外，假設(shè)目標(biāo)投射區(qū)域是指要進(jìn)行壓印處理的投射區(qū)域。在該實(shí)施例中，例如，如由圖 7中的“72”所示，針對(duì)基板104上的連續(xù)投射區(qū)域S1、S2、S3、S4…，依次進(jìn)行壓印處理。然而， 注意，壓印處理序列不限于如由圖7中的“72”所示的單向序列，并且可以是往復(fù)式序列(之字形序列)、方格圖案序列或隨機(jī)。[〇〇69]在步驟S105中，分配器110將壓印材料120供給到基板上。在這種情況下，如由圖7 中的“73”所示，分配器110根據(jù)在步驟S104中選擇的分布圖之間的臺(tái)105的運(yùn)動(dòng)，來(lái)將壓印材料120的液滴依次排出到基板上。
[0070]在步驟S106中，進(jìn)行壓印處理。更具體地，首先，如由圖8中的“81”所示，使模具101 接近供給有壓印材料120基板104。隨后，如由圖8中的“82”所示，在模具101與基板104對(duì)準(zhǔn)的同時(shí)，使模具101與基板上的壓印材料120接觸。維持這種狀態(tài)，直到模具101的圖案被壓印材料120填充。在模具101與基板上的壓印材料120接觸的早期階段，由于模具101的圖案未被壓印材料120充分填充，因此，在圖案的角上發(fā)生了未填充缺陷。即，隨著時(shí)間流逝，模具101的圖案被壓印材料120填充直至角落，從而減少了未填充缺陷。[〇〇71]在步驟S107中，進(jìn)行固化處理。更具體地，由圖8中的“83”所示，在模具101的圖案被壓印材料120充分填充之后，通過(guò)使照射單元103從模具101的反面，用紫外光照射壓印材料120預(yù)定的時(shí)間段，來(lái)使基板上的壓印材料120固化。在步驟S108中，進(jìn)行模具分離處理。更具體地，由圖8中的“84”所示，從在基板上的固化后的壓印材料120脫離模具101。這使得能夠通過(guò)使用模具101使基板上的壓印材料120成型，來(lái)形成由基板上的壓印材料120形成的圖案。[〇〇72] 在步驟S109中，確定是否有必要改變?cè)诓襟ES103b中選擇的分布圖。用于該確定的標(biāo)準(zhǔn)是例如壓印處理結(jié)果的改變，即，在基板上形成的壓印材料120的圖案的線寬(CD)、殘留層厚度以及缺陷的數(shù)量等的改變。在這種情況下，確定標(biāo)準(zhǔn)可以包括壓印材料120的每單位時(shí)間的蒸發(fā)量的改變，以及目標(biāo)投射區(qū)域成為在基板104的周邊部分上布置的缺口投射區(qū)域。這種改變能夠由從分配器110排出的壓印材料120的液滴的數(shù)量和液滴的著落位置的改變、模具101的圖案的尺寸的改變、使用模具101的次數(shù)等而導(dǎo)致。此外，這種改變能夠由模具101的壓印力和分離力的變化、在壓印處理中模具101與基板104之間的滯塵等而導(dǎo)致。 各個(gè)壓印裝置100和外部檢測(cè)裝置能夠檢測(cè)壓印處理結(jié)果的改變。檢測(cè)壓印處理結(jié)果的改變表示導(dǎo)致圖案的轉(zhuǎn)印不良(產(chǎn)品不良)的可能性。因此，在這種情況下，可以停止壓印處理。[〇〇73] 如果有必要改變分布圖，則處理返回到步驟S103b，以選擇新的分布圖。在該步驟中，考慮到上面的改變，從在步驟S103a中獲得的分布圖組中，選擇最佳分布圖。如果分布圖組不包括最佳分布圖，則將已經(jīng)歷改變的項(xiàng)目和改變量發(fā)送到主機(jī)服務(wù)器200，以考慮到上面的改變，從由庫(kù)300管理的多個(gè)分布圖中，選擇最佳分布圖。如果由庫(kù)300管理的多個(gè)分布圖不包括最佳分布圖，則將已經(jīng)歷改變的項(xiàng)目和改變量發(fā)送到生成服務(wù)器400,使其生成新的分布圖。如果沒(méi)有必要改變分布圖，則處理轉(zhuǎn)移到步驟S110。[〇〇74]在步驟S110中，確定針對(duì)基板104上的所有投射區(qū)域是否進(jìn)行了壓印處理。如果針對(duì)基板104上的所有投射區(qū)域未進(jìn)行壓印處理，則處理返回到步驟S104,以將未經(jīng)歷壓印處理的投射區(qū)域指定為目標(biāo)投射區(qū)域。重復(fù)從步驟S104至步驟S110的處理，能夠在基板104上的所有投射區(qū)域上形成由壓印材料形成的圖案。另一方面，針對(duì)基板104上的所有投射區(qū)域進(jìn)行了壓印處理，則處理轉(zhuǎn)移到步驟S111。此外，在步驟S111中，從壓印裝置100卸載所有投射區(qū)域已經(jīng)歷壓印處理的基板104。使用由壓印材料120形成的圖案，處理(例如，蝕刻)從壓印裝置100卸載的基板104的下層側(cè)，當(dāng)制造半導(dǎo)體器件時(shí)，針對(duì)各處理層，重復(fù)這些處理。 [〇〇75]在這種情況下，當(dāng)確定(步驟S109)是否有必要改變分布圖時(shí)，還可以確定是否有必要清潔模具1 〇 1。如果沒(méi)有必要清潔模具101，則考慮到上面的改變，從在步驟S103a中獲得的分布圖組中選擇最佳分布圖。如果分布圖組不包括最佳分布圖，則將已經(jīng)歷改變的項(xiàng)目和改變量發(fā)送到主機(jī)服務(wù)器200,以考慮到上面的改變，從由庫(kù)300管理的多個(gè)分布圖中選擇最佳分布圖。如果由庫(kù)300管理的多個(gè)分布圖不包括最佳分布圖，則將已經(jīng)歷改變的項(xiàng)目和改變量發(fā)送到生成服務(wù)器400,使其生成新的分布圖。在這種情況下，將使用過(guò)的模具 101和基板104從壓印裝置100中移除，直到新的分布圖的生成完成為止，并且可以將其他模具101和其他基板104裝載到壓印裝置100中以繼續(xù)壓印處理。這使得能夠抑制壓印裝置100 的生產(chǎn)率的降低。即使當(dāng)使用其他模具101針對(duì)其他基板104進(jìn)行壓印處理時(shí)，也能夠從庫(kù) 300獲得與壓印裝置100的識(shí)別信息和模具101的識(shí)別信息相關(guān)聯(lián)的分布圖組。當(dāng)生成新的分布圖時(shí)，能夠與壓印裝置100的識(shí)別信息和模具101的識(shí)別信息相關(guān)聯(lián)地，將該分布圖存儲(chǔ)在庫(kù)300中。[〇〇76]另一方面，如果有必要清潔模具101，則壓印處理停止，并且將模具101從頭102移除。在這種情況下，為了抑制壓印裝置100的生產(chǎn)率的降低，也可以將其他模具101和其他基板104裝載到壓印裝置100中以繼續(xù)壓印處理。[〇〇77]從頭102移除的模具101被裝載到模具清潔裝置中以被清潔。模具清潔裝置可以是，例如，使用化學(xué)品或純凈水濕清潔附著到模具101的灰塵和污染的清潔裝置，或者通過(guò)使用準(zhǔn)分子激光器或等離子體進(jìn)行干清潔的清潔裝置。當(dāng)模具101的清潔完成時(shí)，表示模具 101已被清潔的信息被添加到模具101的使用歷史。
[0078]當(dāng)清潔模具101時(shí)，其圖案可能磨損，并且可能發(fā)生圖案形狀的改變。為此，在清潔模具101之后，可以測(cè)量清潔后的模具101的圖案的形狀(凹凸形狀)。更具體地，作為模具 101的圖案形狀，進(jìn)行以下測(cè)量:模具101的圖案的尺寸、各個(gè)凹部與各個(gè)凸部之間的體積比 (占空比)、各個(gè)凹部的深度(各個(gè)凸部的高度)、凹凸錐角、表面粗糙度(Ra)等。能夠通過(guò)一般的尺寸測(cè)定裝置、高度測(cè)量裝置和粗糙度測(cè)量裝置，來(lái)測(cè)量這種表示模具101的圖案形狀的物理量。
[0079]當(dāng)測(cè)量例如模具101的圖案的線寬和占空比時(shí)，可以使用電子束型尺寸測(cè)定裝置 (CD-SEM)。如果模具101的圖案是線(凹部)和空間(凸部)重復(fù)的圖案，則在多個(gè)部分測(cè)量線的寬度和空間的寬度。如果模具101在清潔前與清潔后之間存在差異，則模具101的圖案的線寬已改變。能夠從線與空間之間的比例來(lái)獲得占空比。
[0080]此外，當(dāng)測(cè)量各個(gè)凹部的深度、凹凸錐角及模具101的表面粗糙度時(shí)，可以使用AFM (原子力顯微鏡)或共焦顯微鏡。能夠通過(guò)直接測(cè)量模具101的圖案來(lái)獲得這些測(cè)量，或者可以通過(guò)測(cè)量模具101外部配設(shè)的測(cè)量圖案來(lái)間接獲得這些測(cè)量。
[0081]當(dāng)清潔模具101時(shí)，模具101的表面(圖案區(qū)域)磨損并且變薄預(yù)定的量，并且根據(jù)圖案生成磨損量分布。如果例如模具101的圖案是線(凹部)和空間(凸部)重復(fù)的圖案，則清潔增大了各個(gè)凹部的寬度且減小了各個(gè)凸部的寬度，導(dǎo)致凹部的體積比的增大。如果各個(gè)凸部磨損更多，則各個(gè)凸部的高度降低，并且凹凸錐角減小。如果模具101的表面上的凹凸部減少，則表面粗糙度降低。
[0082]代替通過(guò)直接測(cè)量模具101的圖案而獲得的測(cè)量結(jié)果，能夠由通過(guò)清潔之后的測(cè)試壓印處理獲得的壓印材料120的圖案的測(cè)量結(jié)果，獲得表示模具101的圖案(凹凸形狀)的物理量。當(dāng)測(cè)量通過(guò)測(cè)試壓印處理獲得的壓印材料120的圖案時(shí)，可以測(cè)量通過(guò)切割壓印材料120而獲得的截面。
[0083]以這種方式測(cè)量的模具101的圖案的尺寸，作為模具101的圖案的尺寸的實(shí)際測(cè)量值，被發(fā)送到主機(jī)服務(wù)器200,并且作為與模具101的圖案形狀有關(guān)的信息而被管理。這使得當(dāng)通過(guò)使用清潔后的模具進(jìn)行壓印處理時(shí)，能夠通過(guò)使用與清潔模具101之后的模具101的圖案形狀有關(guān)的信息，來(lái)選擇要用于壓印處理的分布圖。[〇〇84][分布圖的生成][〇〇85]將參照?qǐng)D9詳細(xì)描述生成表示要從分配器110供給的壓印材料120的液滴在基板上的的布局的分布圖的處理。在該實(shí)施例中，如上所述，生成服務(wù)器400生成由庫(kù)300管理的分布圖。然而，注意，可以由壓印系統(tǒng)10外部的信息處理裝置來(lái)生成分布圖，并且可以由庫(kù)300 來(lái)管理生成的分布圖。
[0086]在步驟S200中，通過(guò)從模具101的圖案的設(shè)計(jì)信息以及裝置信息，計(jì)算基板上的各個(gè)區(qū)域所需的樹(shù)脂的供給量(分配量)，來(lái)獲得供給量分布?；趬河⊙b置1〇〇的識(shí)別信息和模具101的識(shí)別信息，由從主機(jī)服務(wù)器200的裝置信息管理單元204、圖案信息管理單元205、 設(shè)計(jì)信息管理單元206及條件管理單元207獲得的信息，來(lái)計(jì)算供給量分布。在這種情況下， 這種信息包括模具101的圖案的尺寸、要在基板上形成的圖案的殘留層厚度、基板表面的分布的信息(包括壓印材料120的蒸發(fā)量分布和基板104的表面的氣流分布)以及基板104上的投射區(qū)域的布局信息。
[0087]在該實(shí)施例中，作為供給量分布信息，如圖10中所示，通過(guò)將基板上的壓印材料 120的供給量分布轉(zhuǎn)換成灰度多級(jí)信息，來(lái)獲得圖像數(shù)據(jù)。參照?qǐng)D10,區(qū)域130a至130c表示基于模具101的圖案的位置、形狀、深度等計(jì)算出的灰度等級(jí)。區(qū)域130a表示具有大的圖案深度并且需要大體積的壓印材料120的區(qū)域。區(qū)域130b是具有小的圖案深度并且需要比區(qū)域130a更小的壓印材料120的體積的區(qū)域。區(qū)域130c是不具有圖案并且需要比區(qū)域130b更小的壓印材料120的體積的區(qū)域。[〇〇88]在步驟S201中，基于在步驟S200中獲得的供給量分布信息以及從分配器110排出的壓印材料的各個(gè)液滴的大小(例如，液滴量)，來(lái)計(jì)算基板上的壓印區(qū)域所需的壓印材料 120的液滴的數(shù)量。[〇〇89]在步驟S202中，基于在步驟S200中獲得的供給量分布和在步驟S201中計(jì)算出的液滴的數(shù)量，來(lái)生成表不要從分配器11 〇供給的壓印材料120的液滴在基板上的的布局的分布圖。更具體地，首先，由在步驟S200中獲得的供給量分布信息，生成多級(jí)分布數(shù)據(jù)。然后，通過(guò)半色調(diào)處理將該多級(jí)分布數(shù)據(jù)二值化，以轉(zhuǎn)換成指定從分配器110排出/不排出壓印材料 120的信息。作為半色調(diào)處理，能夠使用作為已知技術(shù)的誤差擴(kuò)散法。圖11是示出在步驟 S202中生成的分布圖的示例的圖。參照?qǐng)D11，黑點(diǎn)140a表示基板上的壓印材料120的液滴的供給位置(排出液滴)，并且白點(diǎn)140b表示基板上的壓印材料120的液滴的非供給位置(不排出液滴)。
[0090] 在步驟S203中，將在步驟S202中生成的分布圖，即表示要從分配器110供給的壓印材料120的液滴在基板上的的布局的分布圖，發(fā)送到庫(kù)300。將該分布圖保存在庫(kù)300中的分布圖保存單元302中。
[0091]該實(shí)施例使用通過(guò)將多級(jí)分布數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成指定排出/不排出壓印材料120的液滴的二進(jìn)制信息而獲得的數(shù)據(jù)，作為分布圖。然而，不特別地限定數(shù)據(jù)的格式。例如，能夠使用通過(guò)使用基板上的相對(duì)位置坐標(biāo)來(lái)表示基板上的壓印材料120的液滴的供給位置的數(shù)值數(shù)據(jù)，作為分布圖。此外，可以將與基板上的壓印材料120的各個(gè)液滴的量(液滴量)有關(guān)的信息添加到分布圖。
[0092]在根據(jù)本實(shí)施例的壓印系統(tǒng)10中，庫(kù)300將多個(gè)分布圖與壓印裝置100的多個(gè)識(shí)別信息和模具101的多個(gè)識(shí)別信息相關(guān)聯(lián)地管理。因此，即使存在多個(gè)壓印裝置之間的個(gè)體差異或者多個(gè)模具101的圖案形狀的制造誤差，也能夠選擇與要使用的壓印裝置1〇〇和模具 101的組合相對(duì)應(yīng)的適當(dāng)?shù)姆植紙D。這使得能夠均衡由多個(gè)壓印裝置100獲得的壓印處理結(jié)果。[〇〇93]〈第二實(shí)施例〉[〇〇94]將描述根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例的壓印系統(tǒng)。在壓印系統(tǒng)中，由預(yù)定的壓印裝置 1〇〇(第一壓印裝置l〇〇A(第一處理單元))使用的模具101，有時(shí)被其他壓印裝置100(第二壓印裝置l〇〇B(第二處理單元))使用。在這種情況下，也能夠基于例如壓印裝置100的識(shí)別信息和模具101的識(shí)別信息，從由庫(kù)300管理的多個(gè)分布圖中，選擇要由第二壓印裝置100B使用的分布圖。另一方面，由庫(kù)300管理的多個(gè)分布圖，有時(shí)不包括與要使用的模具101的識(shí)別信息和第二壓印裝置100B的識(shí)別信息相關(guān)聯(lián)的分布圖。在這種情況下，可以基于與由壓印裝置100的識(shí)別信息和模具101的識(shí)別信息獲得的壓印處理?xiàng)l件有關(guān)的信息，以及與模具 101的圖案形狀有關(guān)的信息，來(lái)生成新的分布圖。然而，生成新的分布圖將停止第二壓印裝置100B中的壓印處理，因此將降低壓印裝置100的生產(chǎn)率(操作率)。此外，由于壓印裝置之間的個(gè)體差異，在沒(méi)有任何改變的情況下將由第一壓印裝置100A使用的分布圖應(yīng)用到第二壓印裝置100B，可能導(dǎo)致由壓印材料120形成的圖案的缺陷和RLT(殘留層厚度)等的改變。
[0095]為此，根據(jù)本實(shí)施例的壓印系統(tǒng)，在庫(kù)300中預(yù)先存儲(chǔ)，與壓印處理?xiàng)l件在壓印裝置(第一壓印裝置100A和第二壓印裝置100B)之間的的差異相對(duì)應(yīng)的多個(gè)不同的分布圖。當(dāng)由第一壓印裝置100A使用的模具101被第二壓印裝置100B使用時(shí)，主機(jī)服務(wù)器200從由庫(kù) 300管理的多個(gè)分布圖中，選擇要由第二壓印裝置100B使用的分布圖。在這種情況下，基于壓印裝置之間的壓印處理?xiàng)l件的差異，主機(jī)服務(wù)器200選擇具有與針對(duì)由第一壓印裝置 100A使用的分布圖的條件的差異相對(duì)應(yīng)的差異的分布圖。利用該操作，即使當(dāng)由第一壓印裝置100A使用的模具101要被第二壓印裝置100B使用時(shí)，也能夠在第二壓印裝置100B中設(shè)置適當(dāng)?shù)姆植紙D，而不生成任何新的分布圖。[〇〇96]在這種情況下，如果由庫(kù)300管理的多個(gè)分布圖不包括與壓印裝置之間的壓印處理?xiàng)l件的差異相對(duì)應(yīng)的適當(dāng)?shù)姆植紙D，則可以校正由第一壓印裝置100A使用的分布圖。此時(shí)，通過(guò)使用與基于壓印裝置100的識(shí)別信息和模具101的識(shí)別信息而獲得的壓印處理?xiàng)l件有關(guān)的信息以及與模具的圖案形狀有關(guān)的信息，來(lái)校正分布圖。然后，校正后的分布圖被確定為要由第二壓印裝置100B使用的分布圖。與(根據(jù)圖9的流程圖)生成要由第二壓印裝置 100B使用的新的分布圖相比，以這種方式校正分布圖，能夠降低計(jì)算負(fù)荷。這使得能夠縮短第二壓印裝置100B停止期間的時(shí)間，并且提高壓印裝置100的生產(chǎn)率。
[0097]將詳細(xì)描述根據(jù)第二實(shí)施例的壓印系統(tǒng)中的壓印處理。圖12是用于說(shuō)明根據(jù)第二實(shí)施例的壓印系統(tǒng)中的分布圖的選擇的流程圖，并且對(duì)應(yīng)于圖6的流程圖中的步驟S103。以下的描述關(guān)于當(dāng)?shù)诙河⊙b置100B使用由第一壓印裝置100A使用的模具101時(shí)，選擇要由第二壓印裝置100B使用的分布圖的處理。通過(guò)使主機(jī)服務(wù)器200全面控制各個(gè)壓印裝置 100、庫(kù)300和生成服務(wù)器400,并且使控制單元112全面控制壓印裝置100的各個(gè)單元，來(lái)進(jìn)行該處理。[〇〇98]在步驟S300中，確定由庫(kù)300管理的多個(gè)分布圖是否包括與第二壓印裝置100B的識(shí)別信息和模具101的識(shí)別信息相關(guān)聯(lián)地管理的目標(biāo)分布圖。在這種情況下，主機(jī)服務(wù)器 200基于第二壓印裝置100B的識(shí)別信息和模具101的識(shí)別信息，獲得與壓印處理?xiàng)l件有關(guān)的信息和與模具101的圖案形狀有關(guān)的信息。如果存在與第二壓印裝置100B的識(shí)別信息和模具101的識(shí)別信息相關(guān)聯(lián)地管理的分布圖，則處理轉(zhuǎn)移到步驟S301。[〇〇99]在步驟S301中，從由庫(kù)300管理的多個(gè)分布圖中，獲得與第二壓印裝置100B的識(shí)別信息和模具101的識(shí)別信息相關(guān)聯(lián)地管理的分布圖組。在步驟S302中，從在步驟S301中獲得的分布圖組中，選擇用于使由第二壓印裝置100B在基板上形成的壓印材料120的圖案形狀成為目標(biāo)形狀的最佳分布圖?；谂c壓印處理?xiàng)l件有關(guān)的信息和與模具的圖案形狀有關(guān)的信息，來(lái)選擇該分布圖。
[0100]如果在步驟S300中確定沒(méi)有與第二壓印裝置10B的識(shí)別信息和模具101的識(shí)別信息相關(guān)聯(lián)地管理的分布圖，則處理轉(zhuǎn)移到步驟S303。
[0101]在步驟S303中，確定在第一壓印裝置100A中的壓印處理與第二壓印裝置100B中的壓印處理之間是否存在任何顯著差異?；诶鐗河⊙b置之間的壓印處理?xiàng)l件的差異(第一壓印裝置100A與第二壓印裝置100B之間的壓印處理?xiàng)l件的差異)，來(lái)進(jìn)行是否存在任何顯著差異的確定。如果壓印裝置之間的壓印處理?xiàng)l件的差異等于或大于閾值，則確定存在顯著差異。如果差異小于閾值，則確定不存在顯著差異。與壓印處理?xiàng)l件有關(guān)的信息可以包括，例如，諸如從分配器110排出的壓印材料的液滴量的平均值或變化、供給到基板上的液滴的位置精度(著落位置變化)等的信息，以及壓印環(huán)境信息。壓印環(huán)境信息可以包括，例如，諸如壓印環(huán)境中的溫度、氣流、氧濃度和蒸發(fā)量分布等的信息，樹(shù)脂類(lèi)型以及壓印歷史。
[0102]還可以基于與模具101的圖案形狀隨時(shí)間的改變有關(guān)的信息，來(lái)進(jìn)行是否存在任何顯著差異的確定。這種信息可以包括，例如，與諸如模具101的圖案的各個(gè)凹部的深度、圖案的線寬(CD)、錐角以及缺陷的數(shù)量等的項(xiàng)目隨時(shí)間的改變有關(guān)的信息。這種項(xiàng)目隨時(shí)間的改變可以包括，例如，由第一壓印裝置10A中的壓印處理引起的模具的圖案形狀的改變和由用于模具101的清潔處理引起的模具101的圖案形狀的改變中的至少一者。能夠根據(jù)通過(guò)當(dāng)將模具101從第一壓印裝置100A移除時(shí)直接測(cè)量模具101的圖案形狀而獲得的測(cè)量結(jié)果，來(lái)獲得與模具101的圖案形狀隨時(shí)間的改變有關(guān)的信息。然而，這并不是窮舉的。例如，可以在測(cè)試壓印處理中由模具模制壓印材料120，并且可以由測(cè)量壓印材料120的形狀的結(jié)果(由壓印材料120形成的圖案形狀)，來(lái)獲得上述信息。
[0103]如果在步驟S303中確定在第一壓印裝置100A中的壓印處理與第二壓印裝置100B中的壓印處理之間不存在顯著差異，則處理轉(zhuǎn)移到步驟S304。在步驟S304中，獲得由庫(kù)300與要使用的模具101和第一壓印裝置100A相關(guān)聯(lián)地管理的分布圖組。在步驟S305中，基于與壓印處理?xiàng)l件有關(guān)的信息和與模具101的圖案形狀有關(guān)的信息，從獲得的分布圖組中，選擇要由第二壓印裝置100B使用的分布圖。
[0104]另一方面，如果在步驟S303中確定在第一壓印裝置100A中的壓印處理與第二壓印裝置100B中的壓印處理之間存在顯著差異，則處理轉(zhuǎn)移到步驟S306。在步驟S306中，基于壓印裝置之間的壓印處理?xiàng)l件的差異，從由庫(kù)300管理的多個(gè)分布圖中，選擇要由第二壓印裝置100B使用的分布圖。如上所述，壓印處理?xiàng)l件可以包括例如，在壓印處理中液滴的每單位時(shí)間的蒸發(fā)量、從分配器110排出的壓印材料120的液滴的量和位置精度中的至少一者。為此，當(dāng)液滴的蒸發(fā)量、液滴的量和位置等改變的同時(shí)，庫(kù)300能夠管理多個(gè)預(yù)先生成的分布圖。這使得主機(jī)服務(wù)器200能夠根據(jù)壓印裝置之間的壓印處理?xiàng)l件的差異，選擇在基板上的液滴的布局(液滴的數(shù)量和位置)方面，與由第一壓印裝置100A使用的分布圖不同的分布圖。例如，作為要由第二壓印裝置100B使用的分布圖，主機(jī)服務(wù)器200選擇具有與相對(duì)由第一壓印裝置100A使用的分布圖的條件差異相對(duì)應(yīng)的差異的分布圖。如果由庫(kù)300管理的多個(gè)分布圖不包括要由第二壓印裝置100B使用的最佳分布圖，則可以基于條件差異，校正由第一壓印裝置100A使用的分布圖。通過(guò)例如根據(jù)條件差異，增大或減小由第一壓印裝置100A使用的分布圖中的液滴的數(shù)量，來(lái)進(jìn)行分布圖校正。然后，校正后的分布圖被決定為要由第二壓印裝置100B使用的分布圖。
[0105]假設(shè)在從分配器110排出的液滴的量(例如，平均量)改變的同時(shí)，由庫(kù)300管理預(yù)先生成的多個(gè)分布圖。還假設(shè)從第二壓印裝置10B中的分配器排出的液滴的量(例如，平均量)比第一壓印裝置100A中的小0.05pL。如果液滴的量的閾值被設(shè)置為0.03pL，則在步驟S303中確定在第一壓印裝置100A與第二壓印裝置100B之間存在顯著差異。在這種情況下，作為要由第二壓印裝置100B使用的分布圖，主機(jī)服務(wù)器200選擇，表示液滴的數(shù)量比由第一壓印裝置100A使用的分布圖所表示的液滴的數(shù)量大了與0.05pL(從分配器110排出的液滴的量比從第一壓印裝置10A中的分配器排出的液滴的量小0.05pL)相對(duì)應(yīng)的值的分布圖。
[0106]在這種情況下，如果由庫(kù)300管理的多個(gè)分布圖不包括表示液滴的數(shù)量比由第一壓印裝置100A使用的分布圖所表示的液滴的數(shù)量大了與液滴的量的減少相對(duì)應(yīng)的值的分布圖，則可以校正由第一壓印裝置100A使用的分布圖。能夠基于第一壓印裝置100A與第二壓印裝置100B之間的壓印處理?xiàng)l件的差異，通過(guò)使液滴的數(shù)量增大與相對(duì)由第一壓印裝置100A使用的分布圖的液滴的量的減少相對(duì)應(yīng)的值，來(lái)進(jìn)行分布圖校正。校正后的分布圖被決定為要由第二壓印裝置100B使用的分布圖。
[0107]在步驟S306中，可以基于與模具101的圖案形狀隨時(shí)間的改變有關(guān)的信息，從由庫(kù)300管理的多個(gè)分布圖中，選擇要由第二壓印裝置100B使用的分布圖。這種信息可以包括，例如，與諸如模具101的圖案的各個(gè)凹部的深度、圖案的線寬(CD)、錐角以及缺陷的數(shù)量等的項(xiàng)目隨時(shí)間的改變有關(guān)的信息。為此，在這些項(xiàng)目改變的同時(shí)，庫(kù)300能夠管理預(yù)先生成的多個(gè)分布圖。這使得主機(jī)服務(wù)器200能夠根據(jù)模具101的圖案形狀隨時(shí)間的改變，選擇在基板上的液滴的布局(液滴的數(shù)量和位置)方面，與由第一壓印裝置100A使用的分布圖不同的分布圖。
[0108]假設(shè)在模具101的圖案的各個(gè)凹部的體積改變的同時(shí)，庫(kù)300管理預(yù)先生成的多個(gè)分布圖。還假設(shè)由于模具101的磨損，圖案的線寬(CD)已改變，并且模具101的圖案的各個(gè)凹部的體積增大了 0.7 %。在這種情況下，如果各個(gè)凹部的體積的閾值被設(shè)置為0.5%,則在步驟S303中確定在第一壓印裝置100A與第二壓印裝置100B之間存在顯著差異。在這種情況下，作為要由第二壓印裝置100B使用的分布圖，主機(jī)服務(wù)器200選擇，表示液滴的數(shù)量比由第一壓印裝置100A使用的分布圖所表示的液滴的數(shù)量大了與各個(gè)凹部的體積的增大相對(duì)應(yīng)的值的分布圖。
[0109]在這種情況下，如果由庫(kù)300管理的多個(gè)分布圖不包括表示液滴的數(shù)量比由第一壓印裝置100A使用的分布圖所表示的液滴的數(shù)量大了與各個(gè)凹部的體積的增大相對(duì)應(yīng)的值的分布圖，則可以校正由第一壓印裝置100A使用的分布圖。能夠基于與模具101的圖案形狀隨時(shí)間的改變有關(guān)的信息，通過(guò)使液滴的數(shù)量增大與相對(duì)由第一壓印裝置100A使用的分布圖的各個(gè)凹部的體積的增大相對(duì)應(yīng)的值，來(lái)進(jìn)行分布圖校正。校正后的分布圖被決定為要由第二壓印裝置100B使用的分布圖。
[0110]此外，假設(shè)由于模具101的圖案形狀隨時(shí)間的改變，在由第一壓印裝置100A進(jìn)行的壓印處理的開(kāi)始時(shí)等于目標(biāo)層厚度的壓印材料120的殘留層厚度，從目標(biāo)層厚度減小了
0.5nm。在這種情況下，能夠通過(guò)使用由第一壓印裝置100A進(jìn)行了壓印處理或測(cè)試壓印處理的基板，來(lái)測(cè)量壓印材料120的殘留層厚度。如果壓印材料120的殘留層厚度的閾值被設(shè)置為0.4nm，則在步驟S303中確定存在顯著差異。在這種情況下，主機(jī)服務(wù)器200選擇，表示液滴的數(shù)量比由第一壓印裝置100A使用的分布圖所表示的液滴的數(shù)量大了與壓印材料120的殘留層厚度的減小相對(duì)應(yīng)的值的分布圖，作為要由第二壓印裝置100B使用的分布圖。同樣地，當(dāng)壓印材料120的殘留層厚度局部減小時(shí)，主機(jī)服務(wù)器200選擇，表示液滴的數(shù)量比由第一壓印裝置100A使用的分布圖所表示的液滴的數(shù)量大了與殘留層厚度減小的部分處的減小值相對(duì)應(yīng)的值的分布圖。
[0111]在這種情況下，如果由庫(kù)300管理的多個(gè)分布圖不包括表示液滴的數(shù)量比由第一壓印裝置100A使用的分布圖所表示的液滴的數(shù)量大了與殘留層厚度的減少相對(duì)應(yīng)的值的分布圖，則可以校正由第一壓印裝置100A使用的分布圖。能夠基于與模具101的圖案形狀隨時(shí)間的改變有關(guān)的信息，通過(guò)使液滴的數(shù)量增大與殘留層厚度的減小相對(duì)應(yīng)的值，來(lái)進(jìn)行分布圖校正。校正后的分布圖被決定為要由第二壓印裝置100B使用的分布圖。
[0112]在根據(jù)該實(shí)施例的壓印系統(tǒng)中，在作為壓印處理?xiàng)l件的液滴的蒸發(fā)量、液滴的量和位置等改變的同時(shí)，庫(kù)300管理預(yù)先生成的多個(gè)分布圖?；趬河⊙b置之間的壓印處理?xiàng)l件的差異，從由庫(kù)300管理的多個(gè)分布圖中，選擇要由第二壓印裝置100B使用的分布圖。如果要由第二壓印裝置100B使用的最佳分布圖未被庫(kù)300管理，則根據(jù)壓印裝置之間的壓印處理?xiàng)l件的差異，來(lái)校正由第一壓印裝置100A使用的分布圖。這使得能夠縮短第二壓印裝置100B停止期間的時(shí)間，并且即使當(dāng)?shù)诙河⊙b置100B使用由第一壓印裝置100A使用的模具101時(shí)，也能夠提高壓印裝置100的生產(chǎn)率。
[0113]在這種情況下，如果在步驟S300中確定沒(méi)有與第二壓印裝置100B的識(shí)別信息和模具101的識(shí)別信息相關(guān)聯(lián)地管理的分布圖時(shí)，可以獲得僅與模具101的識(shí)別信息相關(guān)聯(lián)地管理的分布圖組。在這種情況下，從獲得的分布圖組中選擇最后使用的分布圖，并且獲得與當(dāng)與選擇的分布圖相關(guān)聯(lián)的壓印裝置100生成分布圖時(shí)的壓印處理?xiàng)l件有關(guān)的信息。此外，可以獲得所獲得的信息和與第二壓印裝置100B中的壓印處理?xiàng)l件有關(guān)的信息之間的差異。該差異對(duì)應(yīng)于壓印裝置之間的壓印處理?xiàng)l件的差異，并且能夠在后續(xù)處理中使用。
[0114]〈物品的制造方法的實(shí)施例〉
[0115]根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的物品的制造方法，適合于制造諸如微型設(shè)備(如半導(dǎo)體器件)或具有微型結(jié)構(gòu)的元件等的物品。根據(jù)本實(shí)施例的物品的制造方法，包括通過(guò)使用上述壓印裝置來(lái)使供給到基板上的壓印材料形成圖案的步驟(在基板上進(jìn)行壓印處理的步驟)，以及對(duì)在前述步驟中形成有圖案的基板進(jìn)行處理的步驟。此外，所述制造方法還包括其他已知步驟(氧化、成膜、沉積、摻雜、平面化、蝕刻、抗蝕劑去除、切割、鍵合和封裝等)。根據(jù)本實(shí)施例的物品的制造方法在物品的性能、質(zhì)量、生產(chǎn)率以及生產(chǎn)成本中的至少一個(gè)方面優(yōu)于傳統(tǒng)方法。
[0116]〈其他實(shí)施例〉
[0117]還可以通過(guò)讀出并執(zhí)行記錄在存儲(chǔ)介質(zhì)(也可更完整地稱(chēng)為“非暫時(shí)性計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)”)上的計(jì)算機(jī)可執(zhí)行指令(例如，一個(gè)或更多個(gè)程序)以執(zhí)行上述實(shí)施例中的一個(gè)或更多個(gè)的功能、并且/或者包括用于執(zhí)行上述實(shí)施例中的一個(gè)或更多個(gè)的功能的一個(gè)或更多個(gè)電路(例如，專(zhuān)用集成電路(ASIC))的系統(tǒng)或裝置的計(jì)算機(jī)，來(lái)實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的實(shí)施例，并且，可以利用通過(guò)由系統(tǒng)或裝置的計(jì)算機(jī)例如讀出并執(zhí)行來(lái)自存儲(chǔ)介質(zhì)的計(jì)算機(jī)可執(zhí)行指令以執(zhí)行上述實(shí)施例中的一個(gè)或更多個(gè)的功能、并且/或者控制一個(gè)或更多個(gè)電路以執(zhí)行上述實(shí)施例中的一個(gè)或更多個(gè)的功能的方法，來(lái)實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的實(shí)施例。計(jì)算機(jī)可以包括一個(gè)或更多個(gè)處理器(例如，中央處理單元(CPU)，微處理單元(MPU))，并且可以包括分開(kāi)的計(jì)算機(jī)或分開(kāi)的處理器的網(wǎng)絡(luò)，以讀出并執(zhí)行計(jì)算機(jī)可執(zhí)行指令。計(jì)算機(jī)可執(zhí)行指令可以例如從網(wǎng)絡(luò)或存儲(chǔ)介質(zhì)被提供給計(jì)算機(jī)。存儲(chǔ)介質(zhì)可以包括例如硬盤(pán)、隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(RAM)、只讀存儲(chǔ)器(ROM)、分布式計(jì)算系統(tǒng)的存儲(chǔ)器、光盤(pán)(諸如壓縮光盤(pán)(CD)、數(shù)字通用光盤(pán)(DVD)或藍(lán)光光盤(pán)(BD)?)、閃存裝置以及存儲(chǔ)卡等中的一個(gè)或更多個(gè)。
[0118]本發(fā)明的實(shí)施例還可以通過(guò)如下的方法來(lái)實(shí)現(xiàn)，S卩，通過(guò)網(wǎng)絡(luò)或者各種存儲(chǔ)介質(zhì)將執(zhí)行上述實(shí)施例的功能的軟件(程序)提供給系統(tǒng)或裝置，該系統(tǒng)或裝置的計(jì)算機(jī)或是中央處理單元(CPU)、微處理單元(MPU)讀出并執(zhí)行程序的方法。
[0119]雖然參照示例性實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了描述，但是應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明不限于所公開(kāi)的示例性實(shí)施例。應(yīng)當(dāng)對(duì)所附權(quán)利要求的范圍給予最寬的解釋?zhuān)允蛊浜w所有這些變型例以及等同的結(jié)構(gòu)和功能。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種壓印系統(tǒng)，其進(jìn)行通過(guò)使用模具來(lái)使供給在基板上的壓印材料形成圖案的壓印 處理，所述壓印系統(tǒng)包括:多個(gè)處理單元，其各自包括將所述壓印材料供給到所述基板上的分配器，并且被構(gòu)造 為進(jìn)行所述壓印處理；庫(kù)，其被構(gòu)造為管理彼此不同的多個(gè)布局信息，所述多個(gè)布局信息中的各個(gè)表示要從 所述分配器供給的所述壓印材料在所述基板上的布局；以及控制單元，其被構(gòu)造為在由所述多個(gè)處理單元中的第一處理單元使用的模具，被與所 述第一處理單元不同的第二處理單元使用的情況下，基于所述第一處理單元與所述第二處 理單元之間的所述壓印處理的條件的差異，通過(guò)使用具有與針對(duì)由所述第一處理單元使用 的布局信息的所述壓印處理的條件的差異相對(duì)應(yīng)的差異的布局信息，來(lái)控制所述第二處理 單元。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓印系統(tǒng)，其中，所述壓印處理的條件包括在壓印處理中壓印 材料的每單位時(shí)間的蒸發(fā)量、和從所述分配器供給到所述基板的壓印材料的量和位置精度 中的至少一者。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓印系統(tǒng)，其中，所述控制單元基于所述模具的圖案形狀隨時(shí) 間的改變，通過(guò)使用具有與針對(duì)由所述第一處理單元使用的布局信息的所述隨時(shí)間的改變 相對(duì)應(yīng)的差異的布局信息，來(lái)控制所述第二處理單元。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的壓印系統(tǒng)，其中，所述控制單元根據(jù)測(cè)量所述模具的圖案形狀 的結(jié)果，或者測(cè)量由所述模具成型的壓印材料的形狀的結(jié)果，獲得與所述隨時(shí)間的改變有 關(guān)的信息。5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的壓印系統(tǒng)，其中，所述隨時(shí)間的改變包括由所述第一處理單元 中的所述壓印處理引起的所述模具的圖案形狀的改變、和由所述模具的清潔處理引起的所 述模具的圖案形狀的改變中的至少一者。6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的壓印系統(tǒng)，其中，所述隨時(shí)間的改變包括在所述模具上形成的 凹凸圖案中包括的凹部中的各個(gè)的深度、錐角和線寬的改變中的至少一者。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓印系統(tǒng)，其中，所述庫(kù)將所述多個(gè)布局信息與處理單元和模 具相關(guān)聯(lián)地管理，并且在所述多個(gè)布局信息不包括與所述模具和所述第二處理單元相關(guān)聯(lián)地管理的布局信 息的情況下，所述控制單元基于所述壓印處理的條件的差異，從所述多個(gè)布局信息中，選擇 要由所述第二處理單元使用的布局信息。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓印系統(tǒng)，其中，在所述多個(gè)布局信息不包括，具有與針對(duì)由 所述第一處理單元使用的布局信息的所述壓印處理的條件的差異相對(duì)應(yīng)的差異的布局信 息的情況下，所述控制單元基于所述壓印處理的條件的差異，校正由所述第一處理單元使 用的布局信息，并且將所校正后的布局信息決定為要由所述第二處理單元使用的布局信息。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的壓印系統(tǒng)，其中，所述控制單元通過(guò)根據(jù)所述壓印處理的條件 的差異，增大或減小由所述第一處理單元使用的布局信息中的壓印材料的數(shù)量，來(lái)校正所 述布局信息。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓印系統(tǒng)，其中，基于在所述模具上形成的圖案的尺寸、在所述模具使所述壓印材料成型之后要在所述基板上形成的所述壓印材料的殘留層厚度，來(lái)生成所述多個(gè)布局信息。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的壓印系統(tǒng)，其中，在所述基板上形成的圖案的尺寸包括在所述模具上形成的圖案的期望值或?qū)嶋H測(cè)量值。12.一種物品的制造方法，所述方法包括以下步驟: 使用壓印系統(tǒng)在基板上形成圖案；以及 處理形成有所述圖案的基板，以制造所述物品， 其中，所述壓印系統(tǒng)進(jìn)行通過(guò)使用模具來(lái)使供給在所述基板上的壓印材料形成圖案的壓印處理，并且包括: 多個(gè)處理單元，其各自包括將所述壓印材料供給到所述基板上的分配器，并且被構(gòu)造為進(jìn)行所述壓印處理； 庫(kù)，其被構(gòu)造為管理彼此不同的多個(gè)布局信息，所述多個(gè)布局信息中的各個(gè)表示要從所述分配器供給的所述壓印材料的在所述基板上的布局；以及 控制單元，其被構(gòu)造為在由所述多個(gè)處理單元中的第一處理單元使用的模具，被與所述第一處理單元不同的第二處理單元使用的情況下，基于所述第一處理單元與所述第二處理單元之間的所述壓印處理的條件的差異，通過(guò)使用具有與針對(duì)由所述第一處理單元使用的布局信息的所述壓印處理的條件的差異相對(duì)應(yīng)的差異的布局信息，來(lái)控制所述第二處理單元。
【文檔編號(hào)】H01L21/027GK105988287SQ201610154452
【公開(kāi)日】2016年10月5日
【申請(qǐng)日】2016年3月17日
【發(fā)明人】山崎拓郎, 船吉智美, 藤本正敬, 山口裕充
【申請(qǐng)人】佳能株式會(huì)社