壓印裝置和方法、材料分配數(shù)據(jù)創(chuàng)建方法及物品制造方法
【專利摘要】這里提供了一種壓印裝置，所述壓印裝置通過(guò)使用模具和壓印材料而順序地在基體的多個(gè)區(qū)域上形成圖案。所述裝置包括：運(yùn)動(dòng)單元，所述運(yùn)動(dòng)單元構(gòu)造成可在承載基體的同時(shí)沿水平平面運(yùn)動(dòng)，壓印材料提供于所述基體上；以及施加單元，所述施加單元構(gòu)造成根據(jù)與壓印材料的狀態(tài)相關(guān)的信息和與圖案形成順序相關(guān)的信息而將壓印材料施加于基體上，與壓印材料的狀態(tài)相關(guān)的信息隨著運(yùn)動(dòng)單元的運(yùn)動(dòng)而變化。還提供了一種當(dāng)通過(guò)使用模具和壓印材料在基體上形成圖案時(shí)創(chuàng)建施加在基體上的壓印材料的分配數(shù)據(jù)的創(chuàng)建方法、壓印方法和物品制造方法。
【專利說(shuō)明】
壓印裝置和方法、材料分配數(shù)據(jù)創(chuàng)建方法及物品制造方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及一種壓印裝置、一種創(chuàng)建材料分配數(shù)據(jù)的方法、一種壓印方法以及一種物品制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]作為在基體上形成微觀圖案以便制造半導(dǎo)體器件等的方法，壓印方法是已知的。在壓印方法中，壓印材料(例如可光固化的樹(shù)脂)通過(guò)使用具有凹凸圖案的模具而鑄造成在基體上形成的圖案。當(dāng)承載圖案的基體在形成于圖案底部處的殘余層具有明顯不均勻厚度的狀態(tài)下(在殘余層的厚度不均勻性很明顯的狀態(tài)下)進(jìn)一步被處理時(shí)，形成的物品可能沒(méi)有所需的性能。
[0003]美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)N0.2007/0228593已經(jīng)公開(kāi)了一種減小殘余層的厚度不均勻性的方法。具體地說(shuō)，根據(jù)通過(guò)在由壓印材料形成的圖案的多個(gè)區(qū)域中測(cè)量殘余層而已經(jīng)獲得的、殘余層的厚度的不均勻性來(lái)創(chuàng)建要施加在基體上的壓印材料的分配的新數(shù)據(jù)。例如，已經(jīng)公開(kāi)了這樣一種創(chuàng)建材料分配數(shù)據(jù)的方法，其中，更大量的壓印材料施加在這樣的區(qū)域，在所述區(qū)域中殘余層預(yù)計(jì)會(huì)比其它區(qū)域薄。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明人已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，殘余層的厚度的不均勻性受到壓印材料的狀態(tài)的影響，所述壓印材料的狀態(tài)在承載未固化的壓印材料的基體沿水平平面運(yùn)動(dòng)時(shí)變化。在美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)N0.2007/0228593中并沒(méi)有涉及這一方面。
[0005]本發(fā)明提供了一種壓印裝置、一種創(chuàng)建材料分配數(shù)據(jù)的方法以及一種壓印方法，其中，將創(chuàng)建減小殘余層的厚度不均勻性的壓印材料分配數(shù)據(jù)。
[0006]根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供了一種壓印裝置，所述壓印裝置通過(guò)使用模具和壓印材料而順序地在基體的多個(gè)區(qū)域上形成圖案，所述裝置包括:運(yùn)動(dòng)單元，所述運(yùn)動(dòng)單元構(gòu)造成能夠在承載基體的同時(shí)沿水平平面運(yùn)動(dòng)，壓印材料提供于所述基體上；以及施加單元，所述施加單元構(gòu)造成根據(jù)與壓印材料的狀態(tài)相關(guān)的信息和與圖案形成順序相關(guān)的信息而將壓印材料施加于基體上，與壓印材料的狀態(tài)相關(guān)的信息隨著運(yùn)動(dòng)單元的運(yùn)動(dòng)而變化。
[0007]通過(guò)下面參考附圖對(duì)示例實(shí)施例的說(shuō)明，將清楚本發(fā)明的其它特征。
【附圖說(shuō)明】
[0008]圖1圖示了根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的壓印裝置。
[0009]圖2圖示了分配器。
[0010]圖3A和3B各自圖示了壓印順序。
[0011]圖4是圖示基體臺(tái)架與命令位置的位置偏差。
[0012]圖5A至5F圖示了在基體臺(tái)架的運(yùn)動(dòng)方向與基體臺(tái)架的傾斜度之間的關(guān)系。
[0013]圖6A至6D各自圖示了在壓印后形成的殘余層。
[0014]圖7是圖示創(chuàng)建液滴圖案的方法的流程圖。
[0〇15]圖8A至8C圖示了示例的液滴圖案。
[0016]圖9是圖示壓印處理的流程圖。
[0017]圖1OA至1E圖示了壓印處理的步驟。
[0018]圖11圖示了在壓印順序和殘余層厚度之間的關(guān)系。
[0019]圖12A和12B各自圖示了圖案形成的狀態(tài)。
[0020]圖13圖示了根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的液滴圖案。
【具體實(shí)施方式】
[0021 ] 第一實(shí)施例
[0022](裝置的結(jié)構(gòu))
[0023]圖1圖示了根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的壓印裝置I。參考圖1，基體臺(tái)架9承載基體3例如晶片，并沿水平平面運(yùn)動(dòng)。術(shù)語(yǔ)“水平平面”是指與重力方向垂直的平面。措辭“沿水平平面運(yùn)動(dòng)”包含基體臺(tái)架9在相對(duì)于水平平面傾斜小角度的同時(shí)運(yùn)動(dòng)的情況，所述小角度在控制誤差的范圍內(nèi)，所述控制誤差在驅(qū)動(dòng)基體臺(tái)架9時(shí)可能發(fā)生。在第一實(shí)施例中，術(shù)語(yǔ)“與壓印材料的狀態(tài)相關(guān)的信息”是指包含在由壓印材料形成的圖案中的殘余層2b(見(jiàn)圖6A至6D)的厚度的可能不均勻性，其從基體臺(tái)架9的運(yùn)動(dòng)方向來(lái)估計(jì)(下文中，所述信息稱為“可能的殘余層信息”)。可能的殘余層信息將在后面介紹。
[0024]壓印裝置I通過(guò)使用模具7和紫外光4來(lái)形成可紫外線固化的樹(shù)脂(壓印材料)2的凹凸圖案。光源5是例如鹵素?zé)艋虬l(fā)光二極管(LED)的裝置，并朝向基體3發(fā)射紫外光4。光源5提供于模具臺(tái)架6的豎直上方(在+Z側(cè))，并通過(guò)模具7向基體3上的壓印材料2施加紫外光4。
[0025]在面對(duì)基體3的一側(cè)(-Z側(cè))保持模具7的模具臺(tái)架6在保持模具7的同時(shí)定位所述模具7。模具7具有在中心部分8中的凹凸圖案。盡管第一實(shí)施例涉及模具7具有覆蓋一個(gè)投射區(qū)域20的凹凸圖案的情況(見(jiàn)圖3A和3B)，但是模具7也可以具有覆蓋多個(gè)投射區(qū)域20的凹凸圖案。
[0026]能夠在承載基體3(所述基體3具有施加(供給)于其上的壓印材料2)的同時(shí)運(yùn)動(dòng)的基體臺(tái)架(運(yùn)動(dòng)單元)9能夠沿三個(gè)軸向方向，包括水平平面延伸的方向，來(lái)定位基體3。
[0027]模具臺(tái)架6包括:粗調(diào)臺(tái)架10，所述粗調(diào)臺(tái)架10粗略調(diào)節(jié)模具7的位置;精調(diào)臺(tái)架U，所述精調(diào)臺(tái)架11以比粗調(diào)臺(tái)架10的長(zhǎng)度單位更小的長(zhǎng)度單位來(lái)精細(xì)地調(diào)節(jié)模具7的位置；以及保持部分12，所述保持部分12保持模具7;粗調(diào)臺(tái)架、精調(diào)臺(tái)架和保持部分以這樣的順序從頂部堆垛。模具7能夠通過(guò)粗調(diào)臺(tái)架10和精調(diào)臺(tái)架11而沿六個(gè)軸向方向定位。
[0028]粗調(diào)臺(tái)架10具有在其中心部分中的開(kāi)口1a。精調(diào)臺(tái)架11具有在其中心部分中的開(kāi)口 11a。模具7由透射紫外光4的材料(例如石英)來(lái)制造。因此，由光源5發(fā)射的紫外光4透射通過(guò)模具7，并落在基體3上的壓印材料2上。應(yīng)當(dāng)注意，透射紫外光4的板部件(未示出)提供于精調(diào)臺(tái)架11和保持部分12之間。
[0029]保持部分12能夠通過(guò)使用真空吸力或靜電力來(lái)保持模具7。保持部分12具有在其中心部分中的開(kāi)口，以便只保持凹凸圖案的周邊部分。開(kāi)口提供于模具7和板部件之間，從而提供空間13。[°03°] 壓力調(diào)節(jié)單元14與空間13連通。壓力調(diào)節(jié)單元14包括真空栗(未示出)，并調(diào)節(jié)空間13中的壓力。為了在基體3上形成圖案，模具7的形狀可變化，以使得模具7的相關(guān)部分沿豎直方向突出或下凹。
[0031]在下面的說(shuō)明中，為了使得在基體3上的壓印材料2與模具7相互接觸以及使得具有凹凸圖案的模具7填充有壓印材料2(該處理在下文中稱為“壓印”)，模具臺(tái)架6沿Z軸線方向運(yùn)動(dòng)。可選地，模具臺(tái)架6和基體臺(tái)架9中的至少一個(gè)可以沿Z軸線方向運(yùn)動(dòng)，只要能夠執(zhí)行壓印即可。
[0032]分配器(施加單元)15將壓印材料2施加至基體3的預(yù)定位置，同時(shí)從儲(chǔ)存未固化的壓印材料2的儲(chǔ)罐16接收壓印材料2的供給。圖2是分配器15的仰視圖。分配器15具有一排噴射口 15A，壓印材料2從所述噴射口 15A噴射。
[0033]各噴射口15A朝向基體3以預(yù)定量單位(下文中，所述單位定義為“滴”)噴射壓印材料2。每滴的噴射量的范圍為從子皮升(subpicol iters)至幾皮升。分配器15沿多條線將壓印材料2施加至基體3上，這些線間隔幾微米至幾十微米。分配器15噴射在單個(gè)投射區(qū)域20上執(zhí)行單個(gè)壓印動(dòng)作所需量的壓印材料2，同時(shí)基體3在分配器15下面運(yùn)動(dòng)。因此，未固化的壓印材料2(下文中簡(jiǎn)稱為“壓印材料2”)施加至單個(gè)投射區(qū)域20。
[0034]分配器15根據(jù)壓印材料液滴圖案(壓印材料2的分配數(shù)據(jù))而將壓印材料2施加至基體3上的區(qū)域，所述壓印材料液滴圖案由后面將介紹的創(chuàng)建單元18創(chuàng)建。液滴圖案也稱為施加地圖或液滴配方。液滴圖案是表示在單個(gè)壓印動(dòng)作中所需的液滴布局以及壓印材料2的量的數(shù)據(jù)(也稱為“材料分配數(shù)據(jù)”)。材料分配數(shù)據(jù)可通過(guò)增加或減少在單個(gè)壓印動(dòng)作中施加壓印材料2的位置的數(shù)目以及要噴射的壓印材料2的量當(dāng)中的至少一個(gè)而進(jìn)行調(diào)節(jié)。
[0035]下面參考圖1，控制單元17包括中央處理單元(CPU)、隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(RAM)、硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)器(HDD)等?？刂茊卧?7通常控制壓印裝置I的、為了形成由壓印材料2制造的凹凸圖案而執(zhí)行的一系列操作(下文中稱為“壓印處理” )ο例如，控制單元17通知模具臺(tái)架6的目標(biāo)位置和基體臺(tái)架9的目標(biāo)位置，命令光源5以預(yù)定定時(shí)朝向基體3發(fā)射紫外光4，從儲(chǔ)存不同的壓印材料液滴圖案的儲(chǔ)存單元19中讀取所需的液滴圖案，將液滴圖案發(fā)送給分配器15，以及向壓力調(diào)節(jié)單元14通知要在壓印處理過(guò)程中產(chǎn)生的目標(biāo)壓力。
[0036]儲(chǔ)存單元19儲(chǔ)存準(zhǔn)備用于模具7的凹凸圖案、與感興趣的模具7相關(guān)的模具信息以及由后面所述的創(chuàng)建單元18創(chuàng)建的液滴圖案。儲(chǔ)存單元19還儲(chǔ)存分配器信息、壓印環(huán)境信息、與基體臺(tái)架9的運(yùn)動(dòng)方向相關(guān)的信息、與壓印順序(根據(jù)所述壓印順序而順序地在基體3的多個(gè)投射區(qū)域20上執(zhí)行壓印)相關(guān)的信息(與圖案形成的順序相關(guān)的信息，參見(jiàn)圖3)等。
[0037]模具信息是與感興趣的模具7相關(guān)的一組信息，例如包括:模具7的線寬度、密度和凹凸圖案的任何缺陷;使用具體模具7的壓印處理的執(zhí)行次數(shù);關(guān)于具體模具7的清洗處理的執(zhí)行次數(shù)等。分配器信息是與分配器15相關(guān)的一組信息，例如包括:分配器15的噴射口15A的數(shù)目；每個(gè)噴射口 15A噴射的壓印材料2的平均量;從相應(yīng)噴射口 15A噴射的壓印材料2的實(shí)際量;壓印材料2從相應(yīng)噴射口 15A噴射到的實(shí)際位置等。壓印環(huán)境信息是與壓印處理相關(guān)的一組信息，例如包括:在執(zhí)行壓印的位置周?chē)沫h(huán)境溫度、空氣流和氧濃度;壓印材料2的種類;壓印材料2的揮發(fā)性等。
[0038]與基體臺(tái)架9的運(yùn)動(dòng)方向相關(guān)的信息表示已經(jīng)施加有壓印材料2的基體3從面對(duì)分配器15的位置向面對(duì)模具7的位置(壓印將在該位置進(jìn)行)(下文中稱為“壓印位置”)運(yùn)動(dòng)的方向。根據(jù)第一實(shí)施例的儲(chǔ)存單元19儲(chǔ)存可能的殘余層信息，所述可能的殘余層信息與關(guān)于基體臺(tái)架9的運(yùn)動(dòng)方向的信息相關(guān)聯(lián)。
[0039]儲(chǔ)存單元19儲(chǔ)存:用于創(chuàng)建液滴圖案的程序，所述程序概括為圖7中的流程圖；以及用于在基體3的全部投射區(qū)域20上執(zhí)行壓印處理的程序，所述程序概括為圖9中的流程圖。
[0040]創(chuàng)建液滴圖案的創(chuàng)建單元18包括CPU。當(dāng)創(chuàng)建單元18運(yùn)行圖7中概括的程序時(shí)，創(chuàng)建液滴圖案。創(chuàng)建單元根據(jù)模具信息、分配器信息和可能的殘余層信息來(lái)創(chuàng)建液滴圖案。[0041 ] 下面將參考圖3A、圖3B、圖4、圖5A至5F和圖6A至6D介紹基體臺(tái)架9怎樣運(yùn)動(dòng)。圖3A和3B各自圖示了壓印順序。壓印裝置I在多個(gè)投射區(qū)域(多個(gè)區(qū)域)20上順序地形成圖案，這些投射區(qū)域20分別是圖案形成目標(biāo)。在相應(yīng)投射區(qū)域20中給出的括號(hào)中的數(shù)字表示壓印的順序。具體地說(shuō)，在圖3A所示的實(shí)例中，開(kāi)始沿+X方向順序地在第一排的投射區(qū)域20上形成圖案，然后沿+X方向順序地在第二排的投射區(qū)域20上形成圖案。
[0042]在圖3B所示的實(shí)例中，開(kāi)始沿+X方向順序地在第一排的投射區(qū)域20上形成圖案，然后沿-X方向順序地在第二排的投射區(qū)域20上形成圖案。在完成在單個(gè)投射區(qū)域20上形成圖案的每個(gè)壓印動(dòng)作之后，基體臺(tái)架9從壓印位置運(yùn)動(dòng)至面對(duì)分配器15的位置。
[0043]下面將介紹基體臺(tái)架9的運(yùn)動(dòng)方向與可能的殘余層信息之間的關(guān)系。基體臺(tái)架9響應(yīng)發(fā)送給它的控制命令(指示目標(biāo)位置相對(duì)于時(shí)間的命令)而延遲地定位。在圖4所示的曲線圖中，水平軸線表示時(shí)間，豎直軸線表示基體臺(tái)架9的位置(實(shí)線)和基體臺(tái)架9相對(duì)于命令位置的位置偏差(基體臺(tái)架9相對(duì)于命令位置的位置誤差)(虛線)。例如，曲線圖圖示了盡管命令基體臺(tái)架9在時(shí)間tl開(kāi)始運(yùn)動(dòng)以及在時(shí)間t2停止，但是基體臺(tái)架9在時(shí)間t2并不穩(wěn)定，而是基體臺(tái)架9的位置偏差在時(shí)間t3落在可接受的偏差范圍內(nèi)。
[0044]圖5A至5F圖示了基體臺(tái)架9的運(yùn)動(dòng)方向和基體臺(tái)架9的傾斜度。圖5A和各自圖示了在從時(shí)間11至?xí)r間t2的時(shí)間段期間基體臺(tái)架9的狀態(tài)。圖5B和5E各自圖示了在從時(shí)間t2至?xí)r間t3的時(shí)間段期間基體臺(tái)架9的狀態(tài)。圖5C和5F各自圖示了在時(shí)間t3之后基體臺(tái)架9的狀態(tài)。如圖5B和5E中所示，沿+X方向運(yùn)動(dòng)的基體臺(tái)架9傾向于稍微傾斜成使得它的+X側(cè)定位成低于它的另一側(cè)，而沿-X方向運(yùn)動(dòng)的基體臺(tái)架9傾向于稍微傾斜成使得它的-X側(cè)定位成低于它的另一側(cè)。
[0045]在第一實(shí)施例中，控制單元17使得生產(chǎn)量?jī)?yōu)先，并控制模具臺(tái)架6，以使得壓印在從時(shí)間t2至?xí)r間t3的時(shí)間段期間進(jìn)行。在這種情況下，當(dāng)創(chuàng)建單元18沒(méi)有通過(guò)使用下面所述的方法來(lái)創(chuàng)建液滴圖案時(shí)，壓印材料2和模具7在基體3的前側(cè)向下傾斜的同時(shí)相互接觸(見(jiàn)圖6A或6B)。因此，厚度明顯不均勻的殘余層2b將形成于成圖案化的壓印材料2a(下文中稱為“壓印材料圖案2a”，見(jiàn)圖6C或6D)的底部處。殘余層2b是指在壓印處理中在壓印材料圖案2a的底部處(在谷部中)形成的一層壓印材料2。
[0046]在第一實(shí)施例中使用的、與基體臺(tái)架9的運(yùn)動(dòng)方向相關(guān)的信息是基體臺(tái)架9從面對(duì)分配器15的位置向執(zhí)行壓印的位置運(yùn)動(dòng)的方向。也就是，在壓印裝置I的實(shí)例中，基體臺(tái)架9的運(yùn)動(dòng)方向是+X方向。根據(jù)第一實(shí)施例，可能的殘余層信息是指示在單個(gè)投射區(qū)域20中殘余層2b很可能在前側(cè)(+X側(cè))比在后側(cè)(-X側(cè))更厚的信息，所述后側(cè)與前側(cè)相反(見(jiàn)圖5A至5F和6A至6D)。后側(cè)與前側(cè)相反。
[0047](創(chuàng)建液滴圖案的方法)
[0048]下面將參考圖7介紹根據(jù)第一實(shí)施例的、創(chuàng)建液滴圖案的方法100。執(zhí)行方法100以用于減小殘余層2b的厚度變化，即減小殘余層2b的厚度的不均勻性。也就是，創(chuàng)建這樣的液滴圖案，通過(guò)所述液滴圖案，包含在所形成的圖案中的殘余層2b的、根據(jù)基體臺(tái)架9的運(yùn)動(dòng)方向而可能出現(xiàn)的厚度不均勻性會(huì)減小。
[0049 ]圖7是圖示創(chuàng)建液滴圖案的方法100的流程圖。在步驟S1I中，創(chuàng)建單元18獲得創(chuàng)建液滴圖案所需的信息；即，模具信息、分配器信息、壓印環(huán)境信息等。在步驟S102中，創(chuàng)建單元18根據(jù)在步驟SlOl中獲得的信息來(lái)創(chuàng)建壓印材料2的分配數(shù)據(jù)，所述分配數(shù)據(jù)是對(duì)于單個(gè)投射區(qū)域20的各部分的壓印材料2所需量的估計(jì)。
[0050]在步驟S103中，創(chuàng)建單元18從指示從分配器15噴射的各液滴的尺寸的信息來(lái)計(jì)算對(duì)于單個(gè)壓印動(dòng)作所需的、壓印材料2的液滴數(shù)目。在步驟S104中，將計(jì)算出數(shù)目的液滴粗略地分配至投射區(qū)域20的多個(gè)部分中，從而創(chuàng)建初步的液滴圖案。初步的液滴圖案的實(shí)例在圖8A中圖示。在圖8A中所示的區(qū)域?qū)?yīng)于單個(gè)投射區(qū)域20。空矩形部分21對(duì)應(yīng)于不施加壓印材料2的部分。黑色矩形部分22對(duì)應(yīng)于要施加壓印材料2的部分。
[0051]參考圖7，在步驟S105中，創(chuàng)建單元18從儲(chǔ)存單元19獲得關(guān)于基體臺(tái)架9的運(yùn)動(dòng)方向的信息和與關(guān)于基體臺(tái)架9的運(yùn)動(dòng)方向的信息相對(duì)應(yīng)的可能的殘余層信息。在步驟S106中，創(chuàng)建單元18從已經(jīng)在步驟S104和S105中獲得的可能的殘余層信息和初步的液滴圖案來(lái)創(chuàng)建要在分配器15上設(shè)置的液滴圖案。在步驟S106中創(chuàng)建的液滴圖案由與初步液滴圖案相同數(shù)目的壓印材料2的液滴來(lái)組成，但是液滴以不同方式來(lái)分配。在步驟S107中，創(chuàng)建單元18將已經(jīng)在步驟S106中獲得的液滴圖案儲(chǔ)存至儲(chǔ)存單元19中。
[0052]例如，創(chuàng)建單元18創(chuàng)建在圖8B中所示的液滴圖案。在該液滴圖案中，要施加在前側(cè)(更靠近目的地的一側(cè))的壓印材料2的密度比要施加在后側(cè)(更遠(yuǎn)離目的地的一側(cè))的壓印材料2的密度低;殘余層2b傾向于在所述前側(cè)較厚，殘余層2b傾向于在所述后側(cè)較薄(要施加的壓印材料2的密度在下文中稱為“施加密度”)。當(dāng)壓印材料2根據(jù)在步驟S106中創(chuàng)建的液滴圖案施加時(shí)，包含在所形成的圖案中的殘余層2b的厚度不均勻性被減小。術(shù)語(yǔ)“施加密度”是指每單位面積的壓印材料2的量。通過(guò)增加或減少要在單個(gè)噴射動(dòng)作中從分配器15噴射的壓印材料2的量(每液滴的壓印材料2的量)和要施加壓印材料2的點(diǎn)數(shù)中的至少一個(gè)，可以調(diào)節(jié)施加密度。
[0053]當(dāng)分配器15相對(duì)于模具7在+X側(cè)，且具有壓印材料2的基體3沿-X方向朝著壓印位置運(yùn)動(dòng)時(shí)，創(chuàng)建另一液滴圖案。圖8C圖示在基體臺(tái)架9沿-X方向運(yùn)動(dòng)的情況下創(chuàng)建的示例性液滴圖案。在基體臺(tái)架9沿-X方向運(yùn)動(dòng)的情況下，也創(chuàng)建液滴圖案使得要施加在前側(cè)(更靠近目的地的一側(cè))的壓印材料2的密度比要施加在后側(cè)(更遠(yuǎn)離目的地的一側(cè))的壓印材料2的密度低;殘余層2b傾向于在所述前側(cè)較厚，而殘余層2b傾向于在所述后側(cè)較薄。
[0054]創(chuàng)建單元18對(duì)于一種模具信息創(chuàng)建多個(gè)液滴圖案。這樣做的原因如下。有時(shí)，在壓印處理中，模具7的凹凸圖案的一部分可能從基體3凸出。因此，還需要?jiǎng)?chuàng)建這樣的液滴圖案，通過(guò)該液滴圖案，防止壓印材料2朝向凹凸圖案的所述凸出部分噴射。
[0055](壓印處理的流程)
[0056]下面將參考圖9和圖1OA至1E介紹壓印處理的流程。圖9是圖示壓印處理的程序的流程圖。圖1OA至1E圖示壓印處理的步驟。當(dāng)控制單元17運(yùn)行圖9中所示的程序時(shí)，將執(zhí)行壓印處理。
[0057]首先，在步驟SlOO中，創(chuàng)建單元18根據(jù)上述方法100而創(chuàng)建液滴圖案。在步驟S200中，傳送機(jī)構(gòu)(未示出)將具有所需凹凸圖案的模具7安裝至模具臺(tái)架6上。
[0058]在步驟S300中，控制單元17獲得與感興趣的模具7相關(guān)的模具信息，并獲得與所述模具7相對(duì)應(yīng)的一組液滴圖案?？刂茊卧?7選擇要在其上形成圖案的投射區(qū)域20，并將液滴圖案當(dāng)中的與基體臺(tái)架9在所述投射區(qū)域20中的運(yùn)動(dòng)方向相對(duì)應(yīng)的一個(gè)液滴圖案設(shè)置在分配器15上。
[0059]在步驟S400中，分配器15根據(jù)已經(jīng)如上述設(shè)置的液滴圖案而將未固化的壓印材料2施加至基體3上(見(jiàn)圖10A)。在步驟S500中，當(dāng)基體3已經(jīng)從面對(duì)分配器15的位置運(yùn)動(dòng)至壓印位置時(shí)，將模具7在預(yù)定定時(shí)按壓在壓印材料2中(見(jiàn)圖10B)。所述預(yù)定定時(shí)是指在基體臺(tái)架9的位置偏差落在可接受的范圍內(nèi)之前的時(shí)間點(diǎn)(在時(shí)間t2和時(shí)間t3之間)。
[0060]在步驟S600中，在模具7的凹陷部充滿壓印材料2之后(見(jiàn)圖10C)，光源5發(fā)射紫外光4持續(xù)預(yù)定時(shí)間段，因此，將還沒(méi)有固化的壓印材料2固化(見(jiàn)圖10D)。在步驟S700中，模具臺(tái)架6移走模具7(見(jiàn)圖10E)。因此，壓印材料圖案2a形成于基體3上。
[0061]由創(chuàng)建單元18創(chuàng)建的液滴圖案基于可能的殘余層信息。因?yàn)榉峙淦?5根據(jù)為了降低殘余層2b的厚度不均勻性而創(chuàng)建的液滴圖案來(lái)施加壓印材料2，因此壓印材料圖案2a的殘余層2b的厚度變得基本均勻。在步驟S800中，控制單元17檢查是否基體3的全部投射區(qū)域20都提供有相應(yīng)圖案。如果是(YES)，則處理前進(jìn)至步驟S1000，在步驟S1000中，控制單元17允許輸出基體3。
[0062]如果還有任何投射區(qū)域20沒(méi)有提供有圖案(NO)，則處理前進(jìn)至步驟S900，在步驟S900中，控制單元17選擇一個(gè)這樣的投射區(qū)域20，并檢查在所述投射區(qū)域20上執(zhí)行壓印時(shí)是否需要改變液滴圖案。
[0063]例如如果在要進(jìn)行下一個(gè)壓印的投射區(qū)域20中，基體臺(tái)架9的運(yùn)動(dòng)方向與在上次已經(jīng)進(jìn)行壓印的另一投射區(qū)域20中基體臺(tái)架9的運(yùn)動(dòng)方向不同，或者如果模具7的凹凸圖案的一部分在壓印處理過(guò)程中從基體3凸出，則需要改變液滴圖案。當(dāng)需要改變液滴圖案時(shí)，處理返回至步驟S300，在步驟S300中，選擇另一合適的液滴圖案。然后再次執(zhí)行步驟S400至S900。當(dāng)不需要改變液滴圖案時(shí)，以相同的液滴圖案來(lái)執(zhí)行步驟S400至S900。對(duì)于下一個(gè)基體3以及包含在下一批中的基體3，圖案也根據(jù)由控制單元17選擇的合適液滴圖案來(lái)形成。
[0064]在圖案形成于預(yù)定數(shù)目的投射區(qū)域20上之后或者在處理單個(gè)基體3之后，通過(guò)獲得與從壓印裝置I的內(nèi)部或外部進(jìn)行的不規(guī)則圖案檢查相關(guān)的信息或者與任何缺陷圖案檢查相關(guān)的信息，可以重新選擇液滴圖案?？蛇x地，可以創(chuàng)建嶄新的液滴圖案。缺陷圖案信息是指由壓印材料2制造的圖案的轉(zhuǎn)印中的精度的任何測(cè)量結(jié)果，并通過(guò)檢查裝置(未示出)來(lái)獲得。與不規(guī)則圖案檢查相關(guān)的信息包括指示由分配器15噴射的液滴的布置的精度中的任何不規(guī)則性、按壓或釋放模具7的力的任何不規(guī)則性、在壓印處理過(guò)程中引入的任何雜質(zhì)的存在、模具7的使用次數(shù)超過(guò)預(yù)定數(shù)目等。
[0065]如上所述，在第一實(shí)施例中，創(chuàng)建單元18根據(jù)與基體臺(tái)架9的水平運(yùn)動(dòng)方向相關(guān)的信息以及可能的殘余層信息(所述可能的殘余層信息與關(guān)于基體臺(tái)架9的運(yùn)動(dòng)方向的信息相關(guān)聯(lián))來(lái)創(chuàng)建液滴圖案。然后，分配器15根據(jù)由創(chuàng)建單元18創(chuàng)建的液滴圖案來(lái)施加壓印材料2。即使當(dāng)生產(chǎn)量設(shè)置為優(yōu)先，并在基體3穩(wěn)定之前執(zhí)行壓印時(shí)，也能夠使壓印材料圖案2a的殘余層2b的厚度不均勻性比在不應(yīng)用第一實(shí)施例的情況下低(能夠使殘余層2b的厚度均勻性更高)。
[0066]可能的殘余層信息預(yù)先儲(chǔ)存在儲(chǔ)存單元19中。因此，即使當(dāng)基體臺(tái)架9沿新方向運(yùn)動(dòng)至壓印位置時(shí)，創(chuàng)建單元18也能夠創(chuàng)建減小殘余層2b的厚度不均勻性的液滴圖案，而并不執(zhí)行殘余層2b的厚度測(cè)量。因此，至少能夠節(jié)省在開(kāi)始?jí)河√幚頃r(shí)首先測(cè)量殘余層2b的厚度可能花費(fèi)的時(shí)間。
[0067]當(dāng)具有壓印材料2并且運(yùn)動(dòng)離開(kāi)面對(duì)分配器15的位置的基體3在沒(méi)有采用最短路線的情況下運(yùn)動(dòng)至壓印位置時(shí)，與基體臺(tái)架9的運(yùn)動(dòng)方向相關(guān)的信息可以指示基體臺(tái)架9從上次停止的位置運(yùn)動(dòng)至壓印位置的方向。
[0068]第二實(shí)施例
[0069]基體臺(tái)架9在壓印位置處的傾斜度隨著基體臺(tái)架9的速度而變化。在本發(fā)明的第二實(shí)施例中，創(chuàng)建單元18根據(jù)基體臺(tái)架9的運(yùn)動(dòng)方向、從所述基體臺(tái)架9的運(yùn)動(dòng)方向估計(jì)的可能的殘余層信息以及與基體臺(tái)架9沿水平平面運(yùn)動(dòng)的速度相關(guān)的信息來(lái)創(chuàng)建具有不同水平的施加密度不均勻性的液滴圖案。
[0070]與基體臺(tái)架9的速度相關(guān)的信息是指示基體臺(tái)架9的速度或加速度等的水平的信息。根據(jù)與基體臺(tái)架9的速度相關(guān)的所述信息來(lái)創(chuàng)建液滴圖案將提供具有基本均勻厚度的殘余層2b，即使基體臺(tái)架9在壓印位置處的傾斜度隨著基體臺(tái)架9的速度而變化。
[0071]在第一實(shí)施例中介紹的、圖7所示的流程圖的步驟S105中，根據(jù)第二實(shí)施例的創(chuàng)建單元18還獲得與基體臺(tái)架9的速度相關(guān)的信息，并根據(jù)這些信息來(lái)創(chuàng)建液滴圖案。例如，與對(duì)于更慢運(yùn)動(dòng)的基體臺(tái)架9而創(chuàng)建的液滴圖案相比，在對(duì)于快速運(yùn)動(dòng)的基體臺(tái)架9而創(chuàng)建的液滴圖案中，施加密度在基體3的區(qū)域當(dāng)中變化更大。
[0072]第三實(shí)施例
[0073]根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例，與壓印材料2的狀態(tài)相關(guān)的信息對(duì)應(yīng)于可能的殘余層信息，或者可以指示壓印材料2的狀態(tài)，所述狀態(tài)與可能的殘余層信息相關(guān)聯(lián)，并在基體臺(tái)架9運(yùn)動(dòng)時(shí)進(jìn)行觀察。例如，與壓印材料2的狀態(tài)相關(guān)的信息指示施加給基體3的各液滴的體積由于揮發(fā)而變化的方式。
[0074]根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例，與圖案形成的順序相關(guān)的信息對(duì)應(yīng)于壓印順序，也就是，如圖3A和3B中所示，指示各投射區(qū)域20進(jìn)行圖案形成的序號(hào)的信息。與圖案形成的順序相關(guān)的信息可以指示圖案在單個(gè)壓印動(dòng)作中形成于多個(gè)投射區(qū)域23上的情況中的壓印順序。
[0075]在根據(jù)第三實(shí)施例的壓印裝置I中，創(chuàng)建單元18根據(jù)壓印順序和可能的殘余層信息來(lái)創(chuàng)建液滴圖案。即使當(dāng)基體臺(tái)架9從面對(duì)分配器15的位置向壓印位置的運(yùn)動(dòng)方向恒定時(shí)，殘余層2b的狀態(tài)也可能受到多種因素，例如壓印裝置I中的空氣流或者隨著基體臺(tái)架9的運(yùn)動(dòng)而出現(xiàn)的空氣流的影響。第三實(shí)施例在殘余層2b的狀態(tài)并不恒定(由于壓印順序的不同)的情況中很有利。
[0076]圖11圖示了在以圖3B所示的壓印順序來(lái)形成壓印材料圖案2a的情況下在壓印順序與可能的殘余層信息之間的關(guān)系。在多個(gè)投射區(qū)域20的各投射區(qū)域20中畫(huà)出的圓的尺寸對(duì)應(yīng)于殘余層2b的厚度。具體地說(shuō)，圓越大，殘余層2b越厚。
[0077]圖12A和12B各自圖示了在壓印順序和圖案形成的狀態(tài)之間的關(guān)系。投射區(qū)域23(第一區(qū)域)具有壓印材料2，但是待經(jīng)受圖案形成。另一方面，投射區(qū)域24(第二區(qū)域)均具有壓印材料圖案2a。在圖12A和12B中，投射區(qū)域23上的壓印材料2的液滴的狀態(tài)在基體臺(tái)架9已經(jīng)運(yùn)動(dòng)的同時(shí)由于已經(jīng)發(fā)生的揮發(fā)而變化。
[0078]參考圖11，在第一排，圖案朝向基體臺(tái)架9的前側(cè)(+X側(cè))順序地形成。也就是，如圖12A中所示，基體臺(tái)架9在投射區(qū)域23相對(duì)于投射區(qū)域24處于基體臺(tái)架9的前側(cè)的情況下運(yùn)動(dòng)。在這種情況下，可能的殘余層信息指示殘余層2b傾向于在基體臺(tái)架9的前側(cè)比在與所述前側(cè)相反的后側(cè)更厚。
[0079]參考圖11，在第二排中，圖案朝向與前側(cè)相反的后側(cè)(-X側(cè))而順序地形成。也就是，如圖12B中所示，基體臺(tái)架9在投射區(qū)域24相對(duì)于投射區(qū)域23處于基體臺(tái)架9的前側(cè)的情況下運(yùn)動(dòng)。在這種情況下，可能的殘余層信息指示殘余層2b傾向于在基體臺(tái)架9的前側(cè)比在與所述前側(cè)相反的后側(cè)更薄。
[0080]下面將介紹根據(jù)第三實(shí)施例的壓印裝置I。根據(jù)第三實(shí)施例的儲(chǔ)存單元19儲(chǔ)存壓印順序和可能的殘余層信息，所述殘余層信息與壓印順序相關(guān)聯(lián)。根據(jù)第三實(shí)施例，可能的殘余層信息指示從壓印順序和基體臺(tái)架的運(yùn)動(dòng)方向來(lái)估計(jì)的、殘余層2b的厚度不均勻性的趨勢(shì)。在第三實(shí)施例中，壓印在基體臺(tái)架9已經(jīng)穩(wěn)定(其中，基體臺(tái)架的位置偏差在可接受的范圍內(nèi))的狀態(tài)中進(jìn)行。在第三實(shí)施例中執(zhí)行的壓印處理與在第一實(shí)施例中所述的壓印處理相同，除了由創(chuàng)建單元18創(chuàng)建液滴圖案的方法之外。因此，省略冗余說(shuō)明。
[0081]創(chuàng)建單元18根據(jù)壓印順序(與壓印材料2的狀態(tài)相關(guān)聯(lián)和隨著運(yùn)動(dòng)單元的運(yùn)動(dòng)而變化的信息)和可能的殘余層信息(所述可能的殘余層信息與壓印順序相關(guān)聯(lián))來(lái)創(chuàng)建液滴圖案。
[0082]下面將介紹朝向基體臺(tái)架9的前側(cè)順序地形成圖案的情況，如圖11中所示的第一排的情況。創(chuàng)建單元18創(chuàng)建液滴圖案，壓印材料2能夠通過(guò)所述液滴圖案而施加給投射區(qū)域23，使得壓印材料2的密度在前側(cè)將比在后側(cè)更低;殘余層2b傾向于在所述前側(cè)較厚，且殘余層2b傾向于在所述后側(cè)較薄(見(jiàn)圖SB)。換句話說(shuō)，創(chuàng)建單元18創(chuàng)建液滴圖案(第二數(shù)據(jù))，使得在投射區(qū)域23相對(duì)于投射區(qū)域24處于基體臺(tái)架9的后側(cè)的狀態(tài)中，施加在前側(cè)的壓印材料2的密度比施加在后側(cè)的壓印材料2的密度更低。
[0083]下面將介紹朝向基體臺(tái)架9的后側(cè)順序地形成圖案的情況，如圖11中所示的第二排的情況。創(chuàng)建單元18創(chuàng)建液滴圖案(第一數(shù)據(jù)，見(jiàn)圖13)，壓印材料2能夠通過(guò)所述液滴圖案而施加給投射區(qū)域23，使得壓印材料2的密度在前側(cè)將比在后側(cè)更高;殘余層2b傾向于在所述前側(cè)較薄，且殘余層2b傾向于在所述后側(cè)較厚。換句話說(shuō)，創(chuàng)建單元18創(chuàng)建液滴圖案，使得在投射區(qū)域23相對(duì)于投射區(qū)域24處于基體臺(tái)架9的前側(cè)的狀態(tài)中，施加在前側(cè)的壓印材料2的密度將比施加在后側(cè)的壓印材料2的密度更高。
[0084]因?yàn)閯?chuàng)建單元18根據(jù)壓印順序和可能的殘余層信息來(lái)創(chuàng)建液滴圖案，因此，即使殘余層2b的可能狀態(tài)隨著壓印順序而變化，也能夠創(chuàng)建減小殘余層的厚度不均勻性的液滴圖案。
[0085]與圖案形成順序相關(guān)的信息只需要是闡明投射區(qū)域23和投射區(qū)域24之間的位置關(guān)系的信息。也就是，也可以采用除了與壓印順序相關(guān)的信息之外的任何信息。
[0086]例如，比較以第η順序在其上形成圖案的投射區(qū)域20的位置以及以第n+1順序在其上形成圖案的投射區(qū)域20的位置，也可以采用指示從以第η順序在其上形成圖案的投射區(qū)域20朝向以第n+1順序在其上形成圖案的投射區(qū)域20的方向是否與基體臺(tái)架9的運(yùn)動(dòng)方向相同的信息(與在相繼形成的圖案之間的位置關(guān)系相關(guān)的信息)?？蛇x地，可以采用指示投射區(qū)域24是否存在于基體臺(tái)架9的前側(cè)的信息(指示相對(duì)于第一區(qū)域，第二區(qū)域存在于前側(cè)的信息)?？蛇x地，可以采用指示在XY平面中投射區(qū)域24存在于何處的信息(與第二區(qū)域的位置相關(guān)的信息)。
[0087]可選地，創(chuàng)建單元18可以根據(jù)向壓印位置周?chē)膮^(qū)域供給惰性氣體(以便推開(kāi)周?chē)諝?的部件(未示出)的位置來(lái)創(chuàng)建液滴圖案?？蛇x地，創(chuàng)建單元18可以根據(jù)基體臺(tái)架9至壓印位置的距離和運(yùn)動(dòng)方向來(lái)創(chuàng)建液滴圖案。與第二實(shí)施例中相同，創(chuàng)建單元可以根據(jù)與基體臺(tái)架9的速度相關(guān)的信息來(lái)創(chuàng)建液滴圖案。壓印的順序并不局限于圖3A和3B中所示的順序。壓印可以以隨機(jī)順序、之字形順序等來(lái)進(jìn)行。
[0088]其它實(shí)施例
[0089]下面將介紹本發(fā)明的其它實(shí)施例。
[0090]壓印裝置I可以包括多個(gè)分配器15。在這種情況下，從面對(duì)已經(jīng)向感興趣的投射區(qū)域20噴射壓印材料2的任何分配器15的位置朝向壓印位置的方向?qū)⒄J(rèn)為是基體臺(tái)架9的運(yùn)動(dòng)方向。創(chuàng)建單元18根據(jù)與壓印材料圖案2a相關(guān)的可能的殘余層信息來(lái)創(chuàng)建合適的液滴圖案，所述可能的殘余層信息從與基體臺(tái)架9的不同運(yùn)動(dòng)(所述不同運(yùn)動(dòng)基于不同分配器15)相關(guān)的信息來(lái)獲得。
[0091]因?yàn)楦鶕?jù)基體3的投射區(qū)域23的位置而使用不同的分配器15，因此，可能的殘余層信息的數(shù)量增加。即使在這種情況下，在單個(gè)投射區(qū)域20中的殘余層2b的厚度不均勻性和在多個(gè)投射區(qū)域20中的殘余層2b的厚度不均勻性都能夠減小。
[0092]基體臺(tái)架9的運(yùn)動(dòng)方向由在基體3上的感興趣的投射區(qū)域20的位置、分配器15的位置和壓印位置來(lái)識(shí)別?；w臺(tái)架9的運(yùn)動(dòng)方向可以通過(guò)創(chuàng)建單元18由前述信息來(lái)識(shí)別，或者可以由控制單元17來(lái)計(jì)算，并儲(chǔ)存在儲(chǔ)存單元19中以便以后使用。
[0093]創(chuàng)建單元18可以提供于壓印裝置I的外部。由創(chuàng)建單元18創(chuàng)建的液滴圖案的數(shù)據(jù)可以通過(guò)信息儲(chǔ)存介質(zhì)或者通過(guò)有線或無(wú)線通信而提供給儲(chǔ)存單元19?？刂茊卧?7、儲(chǔ)存單元19和創(chuàng)建單元18可以都設(shè)置于單個(gè)控制板上，或者設(shè)置在分開(kāi)的控制板上，只要單元
17、18和19具有上述相應(yīng)功能即可。
[0094]為了減小殘余層2b的厚度不均勻性，根據(jù)各第一至第三實(shí)施例的、創(chuàng)建液滴圖案的方法可以與調(diào)節(jié)模具7的傾斜度的方法組合。在這種情況下，當(dāng)模具7的傾斜度變化時(shí)，創(chuàng)建單元18改變?cè)谝旱螆D案中的、壓印材料2的施加密度的不均勻性。
[0095]盡管第一至第三實(shí)施例各自涉及光學(xué)壓印方法，其中，可通過(guò)光來(lái)固化的壓印材料2通過(guò)向其施加紫外光4而固化，但是本發(fā)明并不局限于這樣的壓印方法。壓印材料2可以是能夠通過(guò)任意類型電磁輻射(包括光)來(lái)固化的材料，或者是能夠通過(guò)熱量來(lái)固化的材料。
[0096]物品制造方法
[0097]根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的、制造物品(半導(dǎo)體集成電路裝置、液晶顯示裝置、成像裝置、磁頭、可重寫(xiě)光盤(pán)(CD-RW)、光學(xué)裝置、光掩膜等)的方法包括:通過(guò)使用壓印裝置I而在基體3(單晶硅晶片、絕緣體上的硅(S0I)、玻璃板等)上形成圖案的步驟；以及在具有圖案的基體3上執(zhí)行蝕刻和離子注入中的至少一種的步驟。所述方法還可以包括任意已知的處理步驟(氧化、膜形成、沉積、平面化、脫膠、劃刻、粘接、封裝等)。
[0098]盡管已經(jīng)參考示例實(shí)施例介紹了本發(fā)明，但是應(yīng)當(dāng)注意，本發(fā)明并不局限于所述的示例實(shí)施例。下面的權(quán)利要求的范圍將根據(jù)最廣義的解釋，以便包含所有這些變化形式以及等效的結(jié)構(gòu)和功能。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種壓印裝置，所述壓印裝置通過(guò)使用模具和壓印材料而順序地在基體的多個(gè)區(qū)域上形成圖案，所述裝置包括: 運(yùn)動(dòng)單元，所述運(yùn)動(dòng)單元構(gòu)造成能夠在承載基體的同時(shí)沿水平平面運(yùn)動(dòng)，壓印材料提供于所述基體上；以及 施加單元，所述施加單元構(gòu)造成根據(jù)與壓印材料的狀態(tài)相關(guān)的信息和與圖案形成順序相關(guān)的信息而將壓印材料施加于基體上，與壓印材料的狀態(tài)相關(guān)的信息隨著運(yùn)動(dòng)單元的運(yùn)動(dòng)而變化。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，還包括: 創(chuàng)建單元，所述創(chuàng)建單元構(gòu)造成創(chuàng)建要施加在基體上的壓印材料的分配數(shù)據(jù)，倉(cāng)il建單元從與壓印材料的狀態(tài)相關(guān)的信息和與圖案形成順序相關(guān)的信息來(lái)創(chuàng)建所述數(shù)據(jù)； 其中，施加單元根據(jù)由創(chuàng)建單元?jiǎng)?chuàng)建的數(shù)據(jù)來(lái)施加壓印材料。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中:與圖案形成順序相關(guān)的信息指示在多個(gè)區(qū)域上執(zhí)行的圖案形成的順序。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其中:創(chuàng)建單元還根據(jù)運(yùn)動(dòng)單元從面對(duì)施加單元的位置向面對(duì)模具的位置運(yùn)動(dòng)的方向來(lái)創(chuàng)建數(shù)據(jù)。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其中: 在多個(gè)區(qū)域中，將要在其上形成圖案的第一區(qū)域相對(duì)于已經(jīng)在其上形成圖案的第二區(qū)域在運(yùn)動(dòng)單元的前側(cè)； 由創(chuàng)建單元對(duì)于所述多個(gè)區(qū)域中的一個(gè)區(qū)域創(chuàng)建的數(shù)據(jù)是第一數(shù)據(jù)，所述第一數(shù)據(jù)指示在所述一個(gè)區(qū)域中的施加密度在前側(cè)比在后側(cè)更高，所述后側(cè)與前側(cè)相反；以及 施加單元根據(jù)第一數(shù)據(jù)來(lái)將壓印材料施加給第一區(qū)域。6.—種壓印裝置，所述壓印裝置通過(guò)使用模具和壓印材料而在基體上形成圖案，所述裝置包括: 運(yùn)動(dòng)單元，所述運(yùn)動(dòng)單元構(gòu)造成能夠在承載基體的同時(shí)沿水平平面運(yùn)動(dòng)，壓印材料提供于所述基體上；以及 施加單元，所述施加單元構(gòu)造成根據(jù)與壓印材料的狀態(tài)相關(guān)的信息和與運(yùn)動(dòng)單元的運(yùn)動(dòng)方向相關(guān)的信息而將壓印材料施加于基體上，與壓印材料的狀態(tài)相關(guān)的信息隨著運(yùn)動(dòng)單元的運(yùn)動(dòng)而變化。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，還包括: 創(chuàng)建單元，所述創(chuàng)建單元構(gòu)造成創(chuàng)建要施加在基體上的壓印材料的分配數(shù)據(jù)，倉(cāng)Il建單元從與壓印材料的狀態(tài)相關(guān)的信息和與運(yùn)動(dòng)單元的運(yùn)動(dòng)方向相關(guān)的信息來(lái)創(chuàng)建所述數(shù)據(jù)； 其中，施加單元根據(jù)由創(chuàng)建單元?jiǎng)?chuàng)建的數(shù)據(jù)來(lái)施加壓印材料。8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其中:運(yùn)動(dòng)單元的運(yùn)動(dòng)方向是運(yùn)動(dòng)單元從面對(duì)施加單元的位置向面對(duì)模具的位置運(yùn)動(dòng)的方向。9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其中:由創(chuàng)建單元?jiǎng)?chuàng)建的數(shù)據(jù)指示壓印材料在基體的區(qū)域上的施加密度在所述區(qū)域的前側(cè)比在所述區(qū)域的后側(cè)更低，所述后側(cè)與前側(cè)相反。10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其中:創(chuàng)建單元構(gòu)造成還根據(jù)與運(yùn)動(dòng)單元沿水平平面運(yùn)動(dòng)的速度相關(guān)的信息來(lái)創(chuàng)建數(shù)據(jù)。11.一種當(dāng)通過(guò)使用模具和壓印材料在基體上形成圖案時(shí)創(chuàng)建施加在基體上的壓印材料的分配數(shù)據(jù)的創(chuàng)建方法，所述方法包括: 獲得與基體上的壓印材料的狀態(tài)變化相關(guān)的信息，所述變化在基體運(yùn)動(dòng)時(shí)發(fā)生；以及 根據(jù)獲得的信息來(lái)創(chuàng)建數(shù)據(jù)。12.—種當(dāng)通過(guò)使用模具和壓印材料在多個(gè)區(qū)域上順序地形成圖案時(shí)創(chuàng)建施加在基體的所述多個(gè)區(qū)域上的壓印材料的分配數(shù)據(jù)的創(chuàng)建方法，所述方法包括: 獲得與壓印材料的狀態(tài)相關(guān)的信息以及與圖案形成順序相關(guān)的信息，與壓印材料的狀態(tài)相關(guān)的信息隨著基體的運(yùn)動(dòng)而變化;以及根據(jù)獲得的信息來(lái)創(chuàng)建數(shù)據(jù)。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，還包括: 獲得基體從面對(duì)施加單元的位置向面對(duì)模具的位置運(yùn)動(dòng)的方向，所述施加單元將壓印材料施加至基體上； 還根據(jù)獲得的基體的運(yùn)動(dòng)方向來(lái)創(chuàng)建數(shù)據(jù)。14.一種當(dāng)通過(guò)使用模具和壓印材料在多個(gè)區(qū)域上順序地形成圖案時(shí)創(chuàng)建將壓印材料分配在基體的多個(gè)區(qū)域上的數(shù)據(jù)的創(chuàng)建方法，所述方法包括: 獲得與壓印材料的狀態(tài)相關(guān)的信息以及與基體的運(yùn)動(dòng)方向相關(guān)的信息，與壓印材料的狀態(tài)相關(guān)的信息隨著基體的運(yùn)動(dòng)而變化;以及根據(jù)獲得的信息來(lái)創(chuàng)建數(shù)據(jù)。15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中:運(yùn)動(dòng)方向?qū)?yīng)于基體從面對(duì)施加單元的位置向面對(duì)模具的位置運(yùn)動(dòng)的方向，所述施加單元將壓印材料施加至基體上。16.—種壓印方法，包括: 基于通過(guò)根據(jù)權(quán)利要求11至15中任意一項(xiàng)所述的方法來(lái)創(chuàng)建的數(shù)據(jù)而將壓印材料施加至基體上；以及 通過(guò)使用模具和施加至基體上的壓印材料而在基體上形成圖案。17.—種物品制造方法，包括: 通過(guò)根據(jù)權(quán)利要求16的壓印方法而在基體上形成圖案；以及 在具有圖案的基體上執(zhí)行蝕刻和離子注入中的一種。
【文檔編號(hào)】G03F7/00GK106019824SQ201610195961
【公開(kāi)日】2016年10月12日
【申請(qǐng)日】2016年3月31日
【發(fā)明人】船吉智美, 山崎拓郎, 藤本正敬, 山口裕充
【申請(qǐng)人】佳能株式會(huì)社