微流體裝置的制造方法、微流體裝置及微流體裝置制造用感光性樹脂組合物的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種微流體裝置的制造方法、微流體裝置及微流體裝置制造用感光性樹脂組合物，制造方法包括：由感光性樹脂組合物在支撐體上形成樹脂層的工序，感光性樹脂組合物含有具有至少兩個自由基聚合性基的化合物、光自由基產(chǎn)生劑、具有至少兩個陽離子反應(yīng)性基的化合物、光陽離子產(chǎn)生劑以及選自具有保護基的胺、光降解性堿、具有酰亞胺結(jié)構(gòu)的化合物、具有酰胺結(jié)構(gòu)的化合物及具有脲結(jié)構(gòu)的化合物中的至少一種化合物；對樹脂層的一部分進行紫外線曝光及顯影的工序；在顯影后的樹脂層上載置覆蓋材料而獲得層壓體的工序；及對所得的層壓體進行紫外線曝光的工序。由于光刻后的經(jīng)圖案化的樹脂層具有充分的強度與粘性，從而使微流體裝置具有良好的流路。
【專利說明】
微流體裝置的制造方法、微流體裝置及微流體裝置制造用感 光性樹脂組合物
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明設(shè)及一種微流體裝置的制造方法、微流體裝置及微流體裝置制造用感光性 樹脂組合物。
【背景技術(shù)】
[0002] 正開發(fā)作為在忍片基板內(nèi)形成有包含液體或氣體等的流體的微細流路、閥口、流 體的導(dǎo)入口、排出口等的小型元件的微流體裝置(也稱為微流路裝置、微流路忍片、微反應(yīng) 器等），謀求應(yīng)用于多種物質(zhì)的分離分析、傳感器、化學(xué)反應(yīng)等多種用途中。
[0003] 作為此種應(yīng)用的一例，近年來正關(guān)注醫(yī)藥品或農(nóng)藥等的高通量篩選（high- throughput screening)，其是通過利用微流體裝置進行蛋白質(zhì)、DNA或RNA等核酸、糖鏈等 生物相關(guān)物質(zhì)的分離分析或合成而進行的。
[0004] 微流體裝置具體而言是在玻璃或樹脂制基板等構(gòu)件中包含毛細管狀的微小流路 和為了輸送通過該流路內(nèi)的流體而設(shè)置的累元件及檢測元件等的裝置。
[0005] 作為此種微流體裝置的流路的制造方法，已知有包含如下工序的使用2階段硬化 機構(gòu)的制造方法，所述制造工序是在支撐體上，利用光蝕刻下簡稱為"光刻"），由能量線 硬化型樹脂組合物(感光性樹脂組合物)而制作經(jīng)圖案化的樹脂層，其后接合覆蓋材料(專 利文獻1~專利文獻3)。
[0006] [現(xiàn)有技術(shù)文獻]
[0007] [專利文獻]
[000引[專利文獻1]日本專利特開2009-134255號公報
[0009] [專利文獻2]日本專利特開2009-221370號公報
[0010] [專利文獻3]日本專利特開2010-070614號公報

【發(fā)明內(nèi)容】

[0011] [發(fā)明所欲解決的問題]
[0012] 在使用感光性樹脂組合物的微流體裝置中的流路的制造方法中，為了在光刻后的 經(jīng)圖案化的樹脂層上接合覆蓋材料而需要粘性與充分的強度。
[0013] 本發(fā)明的目的在于提供通過使光刻后的經(jīng)圖案化的樹脂層具有充分的強度與粘 性，制造具有良好的流路等的微流體裝置的方法。
[0014] [解決問題的技術(shù)手段]
[0015] 本發(fā)明人等人為了解決所述課題而進行了銳意研究。其結(jié)果發(fā)現(xiàn)通過W下的構(gòu) 成，可解決所述課題，從而完成了本發(fā)明。
[0016] 旨P，本發(fā)明例如設(shè)及W下的[1]~[6]。
[0017] [ 1 ] -種微流體裝置的制造方法，包括：
[0018]工序1，由感光性樹脂組合物在支撐體上形成樹脂層，所述感光性樹脂組合物含有 具有至少兩個自由基聚合性基的化合物、光自由基產(chǎn)生劑、具有至少兩個陽離子反應(yīng)性基 的化合物、光陽離子產(chǎn)生劑、W及選自具有保護基的胺、光降解性堿、具有酷亞胺結(jié)構(gòu)的化 合物、具有酷胺結(jié)構(gòu)的化合物及具有脈結(jié)構(gòu)的化合物中的至少一種化合物；
[0019] 工序2,對所述樹脂層的一部分進行紫外線曝光及顯影；
[0020] 工序3，在顯影后的樹脂層上載置覆蓋材料而獲得層壓體;及
[0021] 工序4,對所得的層壓體進行紫外線曝光。
[0022] [2]根據(jù)[1]所述的微流體裝置的制造方法，其中，所述感光性樹脂組合物進一步 含有堿可溶性樹脂。
[0023] [3]根據(jù)[1]或[2]所述的微流體裝置的制造方法，其中，所述工序2的紫外線曝光 的曝光量比所述工序4的紫外線曝光的曝光量少。
[0024] [4]根據(jù)[1]~[3]中任一項所述的微流體裝置的制造方法，其中，所述工序2的紫 外線曝光光源與所述工序4的紫外線曝光光源相同。
[0025] [引一種微流體裝置，其是在構(gòu)件內(nèi)部包含流路的微流體裝置，且所述流路包含：
[0026] 流路壁，使用感光性樹脂組合物而形成于支撐體上，所述感光性樹脂組合物含有 具有至少兩個自由基聚合性基的化合物、光自由基產(chǎn)生劑、具有至少兩個陽離子反應(yīng)性基 的化合物、光陽離子產(chǎn)生劑、W及選自具有保護基的胺、光降解性堿、具有酷亞胺結(jié)構(gòu)的化 合物、具有酷胺結(jié)構(gòu)的化合物及具有脈結(jié)構(gòu)的化合物中的至少一種化合物；W及、
[0027] 覆蓋材料，覆蓋由所述支撐體及所述流路壁而形成的溝。
[0028] [6]-種微流體裝置制造用感光性樹脂組合物，其含有具有至少兩個自由基聚合 性基的化合物、光自由基產(chǎn)生劑、具有至少兩個陽離子反應(yīng)性基的化合物、光陽離子產(chǎn)生 劑、W及選自具有保護基的胺、光降解性堿、具有酷亞胺結(jié)構(gòu)的化合物、具有酷胺結(jié)構(gòu)的化 合物及具有脈結(jié)構(gòu)的化合物中的至少一種化合物。
[0029] [發(fā)明的效果]
[0030] 根據(jù)本發(fā)明，通過使光刻后的經(jīng)圖案化的樹脂層具有充分的強度與粘性，可制造 具有如下良好的流路等的微流體裝置，所述流路并不產(chǎn)生可通過內(nèi)部的流體泄漏等現(xiàn)象 等。
【附圖說明】
[0031] 圖1(a)~圖1(f)是表示本發(fā)明的微流體裝置的制造方法的一例的剖面概略示意 圖。
[0032] [符號的說明]
[0033] 10:支撐體
[0034] 20:樹脂層
[00巧]21:經(jīng)圖案化的樹脂層
[0036] 22:(流路）壁
[0037] 30:覆蓋材料 [003引 40:溝
[0039] 41:流路
[0040] 50:掩模
[0041] 51:曝光光(第1階段）
[0042] 52:曝光光(第2階段）
【具體實施方式】
[00創(chuàng) 1.感光性樹脂組合物
[0044] 在本發(fā)明的微流體裝置的制造方法中使用感光性樹脂組合物下也簡稱為"組 合物"）。該組合物含有具有至少兩個自由基聚合性基的化合物下也稱為"自由基聚合性 化合物"）、具有至少兩個陽離子反應(yīng)性基的化合物（W下也稱為"陽離子反應(yīng)性化合物"）、 光自由基產(chǎn)生劑、光陽離子產(chǎn)生劑、W及選自具有保護基的胺、光降解性堿、具有酷亞胺結(jié) 構(gòu)的化合物、具有酷胺結(jié)構(gòu)的化合物及具有脈結(jié)構(gòu)的化合物中的至少一種化合物下也 稱為"具有保護基的胺等"）。
[0045] 通過使用此種組合物，在光刻后可形成具有粘性與充分的強度的經(jīng)圖案化的樹脂 層。因此，可W充分的接合強度接合覆蓋材料，可制造具有良好的流路等的微流體裝置。
[0046] 在將微流體裝置用于生物相關(guān)物質(zhì)的檢測、分離、分析、萃取等中的情況下，通常 使用巧光，因此微流體裝置、特別是樹脂層(流路壁)優(yōu)選為難W產(chǎn)生自身發(fā)光的樹脂層，優(yōu) 選為不含引起自身發(fā)光的芳香族環(huán)的樹脂層，優(yōu)選在成為該樹脂層的原料的所述感光性樹 脂組合物中也不含具有芳香族環(huán)的化合物。
[0047] 推斷所述組合物通過第1階段的曝光(下述工序(2))，由于自光自由基產(chǎn)生劑產(chǎn)生 的自由基而優(yōu)先地進行自由基聚合性化合物交聯(lián)，在顯影后進行的第2階段的曝光(下述工 序(4))中，由于自光陽離子產(chǎn)生劑產(chǎn)生的陽離子而進行陽離子反應(yīng)性化合物的交聯(lián)，形成 良好的(流路)壁。認為由于自由基聚合性化合物的交聯(lián)，可提高交聯(lián)密度，因此推斷光刻后 的經(jīng)圖案化的樹脂層具有充分的強度。
[0048] 另外，認為由于第1階段的曝光，自光陽離子產(chǎn)生劑產(chǎn)生陽離子。所述組合物中所 含的具有保護基的胺等可補足由于第1階段的曝光而產(chǎn)生的陽離子，因此可抑制由于第1階 段的曝光而產(chǎn)生的陽離子而進行陽離子反應(yīng)性化合物的交聯(lián)。其結(jié)果，認為在光刻后的經(jīng) 圖案化的樹脂層中殘存交聯(lián)前的陽離子反應(yīng)性化合物，推斷該樹脂層具有良好的粘性。
[00例 1-1.自由基聚合性化合物
[0050] 自由基聚合性化合物是具有至少兩個自由基聚合性基的化合物，優(yōu)選在光自由基 產(chǎn)生劑的存在下，由于通過照射紫外線而產(chǎn)生的自由基的聚合反應(yīng)而交聯(lián)的化合物。
[0051] 自由基聚合性化合物的聚合性良好，因此可提高所得的經(jīng)圖案化的樹脂層的交聯(lián) 密度。因此，可形成強度優(yōu)異的經(jīng)圖案化的樹脂層。
[0052] 自由基聚合性化合物可W單獨使用一種，還可W使用兩種W上。
[0053] 自由基聚合性化合物可列舉使脂肪族多徑基化合物與（甲基）丙締酸反應(yīng)而所得 的多官能（甲基)丙締酸醋、己內(nèi)醋改性多官能（甲基)丙締酸醋、環(huán)氧燒改性多官能（甲基） 丙締酸醋、使具有徑基的（甲基)丙締酸醋與多官能異氯酸醋反應(yīng)而所得的多官能（甲基)丙 締酸氨基甲酸醋、使具有徑基的多官能（甲基)丙締酸醋與酸酢反應(yīng)而所得的具有簇基的多 官能（甲基)丙締酸醋等。
[0054] 在本說明書中，所謂"（甲基)丙締酸基"是表示丙締酸基和/或甲基丙締酸基的記 載。
[005引自由基聚合性化合物的具體例可列舉：1，3-下二醇二（甲基）丙締酸醋、1，4-下二 醇二（甲基炳締酸醋、1,6-己二醇二（甲基)丙締酸醋、乙二醇二（甲基)丙締酸醋、二乙二醇 二（甲基）丙締酸醋、新戊二醇二（甲基）丙締酸醋、Ξ乙二醇二（甲基）丙締酸醋、丙二醇二 (甲基)丙締酸醋、下二醇二（甲基）丙締酸醋、四乙二醇二（甲基）丙締酸醋、聚乙二醇二（甲 基)丙締酸醋、雙酪A雙(丙締酷氧基乙基)酸、雙酪A二（甲基)丙締酷氧基甲基乙基酸、雙酪A 二（甲基)丙締酷氧基乙氧基乙基酸、乙氧基化雙酪A二（甲基)丙締酸醋、丙氧基化新戊二醇 二（甲基)丙締酸醋、丙氧基改性雙酪A二（甲基)丙締酸醋、乙氧基-丙氧基改性雙酪A二（甲 基)丙締酸醋、丙氧基改性雙酪F二（甲基)丙締酸醋、乙氧基化新戊二醇二（甲基)丙締酸醋、 3-甲基戊二醇二（甲基）丙締酸醋、Ξ徑甲基丙烷二（甲基）丙締酸醋、^(2-徑基乙基）異氯 尿酸醋二（甲基)丙締酸醋、Ξ環(huán)癸燒二甲醇二（甲基)丙締酸醋、雙酪A的二縮水甘油酸上加 成有（甲基)丙締酸的環(huán)氧（甲基)丙締酸醋等二官能丙締酸醋；
[0056] Ξ徑甲基丙烷Ξ(甲基）丙締酸醋、季戊四醇Ξ(甲基）丙締酸醋、四徑甲基丙烷四 (甲基)丙締酸醋、立(2-徑基乙基）異氯尿酸醋Ξ(甲基）丙締酸醋、乙氧基化Ξ徑甲基丙烷 Ξ(甲基）丙締酸醋、乙氧基化季戊四醇四（甲基）丙締酸醋、丙氧基化Ξ徑甲基丙烷Ξ(甲 基)丙締酸醋、季戊四醇四（甲基)丙締酸醋、二季戊四醇五（甲基)丙締酸醋、二季戊四醇六 (甲基)丙締酸醋、Ξ季戊四醇四（甲基)丙締酸醋、Ξ季戊四醇五（甲基)丙締酸醋、Ξ季戊四 醇六（甲基)丙締酸醋、Ξ季戊四醇屯（甲基)丙締酸醋、Ξ季戊四醇八（甲基)丙締酸醋、季戊 四醇Ξ(甲基)丙締酸醋與酸酢的反應(yīng)物、二季戊四醇五（甲基)丙締酸醋與酸酢的反應(yīng)物、 Ξ季戊四醇屯（甲基)丙締酸醋與酸酢的反應(yīng)物、丙氧基改性季戊四醇四（甲基)丙締酸醋、 丙氧基改性二季戊四醇聚（甲基)丙締酸醋、下氧基改性季戊四醇四（甲基)丙締酸醋、下氧 基改性二季戊四醇聚（甲基）丙締酸醋、己內(nèi)醋改性Ξ徑甲基丙烷Ξ(甲基）丙締酸醋、己內(nèi) 醋改性季戊四醇Ξ(甲基)丙締酸醋、己內(nèi)醋改性立(2-徑基乙基)異氯尿酸醋Ξ(甲基)丙締 酸醋、己內(nèi)醋改性季戊四醇四（甲基)丙締酸醋、己內(nèi)醋改性二季戊四醇五（甲基)丙締酸醋、 己內(nèi)醋改性二季戊四醇六（甲基）丙締酸醋、己內(nèi)醋改性Ξ季戊四醇四（甲基）丙締酸醋、己 內(nèi)醋改性Ξ季戊四醇五（甲基）丙締酸醋、己內(nèi)醋改性Ξ季戊四醇六（甲基）丙締酸醋、己內(nèi) 醋改性Ξ季戊四醇屯（甲基）丙締酸醋、己內(nèi)醋改性Ξ季戊四醇八（甲基）丙締酸醋、己內(nèi)醋 改性季戊四醇Ξ(甲基)丙締酸醋與酸酢的反應(yīng)物、己內(nèi)醋改性二季戊四醇五（甲基)丙締酸 醋與酸酢的反應(yīng)物、己內(nèi)醋改性Ξ季戊四醇屯（甲基)丙締酸醋與酸酢的反應(yīng)物等Ξ官能W 上的丙締酸醋，環(huán)氧（甲基)丙締酸醋與草酸、丙二酸、下二酸及氨化鄰苯二甲酸等簇酸、醇 性化合物或酪性化合物等反應(yīng)而所得的化合物，燒二醇二縮水甘油酸或聚燒二醇二縮水甘 油酸與（甲基)丙締酸的反應(yīng)物。
[0057] 運些化合物中，自經(jīng)圖案化的樹脂層的強度的方面考慮，優(yōu)選二季戊四醇五（甲 基）丙締酸醋、二季戊四醇六（甲基）丙締酸醋、Ξ季戊四醇六（甲基）丙締酸醋、己內(nèi)醋改性 二季戊四醇六（甲基)丙締酸醋、乙氧基化季戊四醇四（甲基)丙締酸醋、丙氧基改性季戊四 醇四（甲基)丙締酸醋、丙氧基改性二季戊四醇聚（甲基)丙締酸醋、下氧基改性季戊四醇四 (甲基）丙締酸醋、下氧基改性二季戊四醇聚（甲基）丙締酸醋、及己內(nèi)醋改性Ξ季戊四醇六 (甲基)丙締酸醋等立官能W上的丙締酸醋。而且，自曝光光的吸收、抑制(流路)壁的自身發(fā) 光的方面考慮，優(yōu)選不含芳香族環(huán)的（甲基)丙締酸醋。
[0058] 相對于所述組合物中所含的固體成分100質(zhì)量％，自由基聚合性化合物的含有比 例通常為1質(zhì)量％~60質(zhì)量％、優(yōu)選為5質(zhì)量％~50質(zhì)量％、更優(yōu)選為10質(zhì)量％~40質(zhì)量％。 所謂固體成分是指所述組合物中所含的溶劑W外的所有成分。
[0059] 通過W此種量含有自由基聚合性化合物，可形成具有粘性與充分的強度(充分的 自支撐性、形狀維持性)的經(jīng)圖案化的樹脂層。
[0060] 1-2.光自由基產(chǎn)生劑
[0061] 光自由基產(chǎn)生劑是由于光的照射而產(chǎn)生自由基，使自由基聚合性化合物的自由基 聚合開始的化合物。作為光自由基產(chǎn)生劑的最大吸收波長，自通過紫外線曝光而進行第1階 段的曝光的方面、及抑制(流路)壁的自身發(fā)光的方面而言，優(yōu)選紫外區(qū)域，優(yōu)選為150nm~ 380nm。
[0062] 光自由基產(chǎn)生劑可W單獨使用一種，還可W使用兩種W上。
[0063] 在本發(fā)明中，化合物的最大吸收波長例如能夠W在測定(光路長度為1cm)使該化 合物溶解于其良溶媒中而所得的溶液的透過率時吸收成為最大的波長的形式觀察。
[0064] 光自由基產(chǎn)生劑可列舉日本專利特開2008-276194號公報、日本專利特開2003- 241372號公報、日本專利特表2009-519991號公報、日本專利特表2009-531730號公報、國際 公開第2010/001691號、國際公開第2010/146883號、日本專利特開2011-132215號公報、日 本專利特表2008-506749號公報、日本專利特表2009-519904號公報等中所記載的化合物。
[0065] 光自由基產(chǎn)生劑例如可列舉:聯(lián)咪挫化合物、酷基氧化麟化合物、苯酬化合物、月虧 化合物、安息香化合物、二苯甲酬化合物、嚷噸酬化合物。
[0066] 聯(lián)咪挫化合物可列舉：2，2/ -雙（2，4-二氯苯基）-4，5，少，5/ -四苯基-1，2/ -聯(lián)咪 挫、2,2'-雙(2-氯苯基)-4,5,4'，5'-四苯基-1,2'-聯(lián)咪挫、2,2'-雙(2,4,6-Ξ氯苯基)-4， 少，5,5/-四苯基-1J/-聯(lián)咪挫、雙(2,4-二甲基苯基)-4,5，少，5/-四苯基-1J/-聯(lián)咪 挫、2,2'-雙(2-甲基苯基)-4,5,4' ,5'-四苯基-1,2'-聯(lián)咪挫、2,2'-二苯基-4,5,4' ,5'-四 苯基-1,2/-聯(lián)咪挫等。
[0067] 酷基氧化麟化合物可列舉2,4,6-Ξ甲基苯甲酯基二苯基氧化麟等。
[0068] 苯酬化合物可列舉:二乙氧基苯乙酬、2-徑基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酬、芐基二 甲基縮酬、2-徑基-1-[4-(2-徑基乙氧基)苯基]-2-甲基丙烷-1-酬、2-甲基-1-(4-甲基硫基 苯基)-2-嗎嘟代丙烷-1-酬、1-徑基環(huán)己基-苯基-酬、1-徑基-4-甲氧基苯基-苯基-酬、2-節(jié) 基-2-二甲基氨基-1-(4-嗎嘟代苯基)下燒-1-酬、2-(2-甲基芐基)-2-二甲基氨基-1-(4-嗎 嘟代苯基）下酬、2-(3-甲基芐基）-2-二甲基氨基-1-(4-嗎嘟代苯基）下酬、2-(4-甲基節(jié) 基)-2-二甲基氨基-1-( 4-嗎嘟代苯基)下酬、2-(2-乙基芐基)-2-二甲基氨基-1-( 4-嗎嘟代 苯基）下酬、2-(2-丙基芐基)-2-二甲基氨基-1-(4-嗎嘟代苯基）下酬、2-(2-下基芐基)-2- 二甲基氨基-1-(4-嗎嘟代苯基)下酬等。
[0069] 目虧化合物可列舉:N-苯甲酯氧基-1-(4-苯硫基苯基)下燒-1-酬-2-亞胺、N-乙氧基 幾氧基-1-苯基丙烷-1-酬-2-亞胺、N-苯甲酯氧基-1-(4-苯硫基苯基）辛燒-1-酬-2-亞胺、 N-乙酷氧基-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酯基)-9H-巧挫-3-基]乙燒-1-亞胺、N-乙酷氧基- 1-[9-乙基-6-{2-甲基-4-(3,3-二甲基-2,4-二氧雜環(huán)戊基甲氧基）苯甲酯基}-9H-巧挫-3- 基化燒-1-亞胺、1,2-辛二酬，1-[4-(苯基硫基）苯基]-,2-(0-苯甲酯朽）、乙酬，1-[9-乙 基-6-(2-甲基苯甲酯基）-9H-巧挫-3-基]-,1-(0-乙酷朽）、乙酬，1-[9-乙基-6-(2-甲基-4- 四氨巧喃基甲氧基苯甲酯基)-9H-巧挫-3-基]-,1-(0-乙酷朽）、乙酬，1-[9-乙基-6-{2-甲 基-4-(2,2-二甲基-1，3-二氧雜環(huán)戊烷基）甲氧基苯甲酯基}-9H-巧挫-3-基]-,1-(0-乙酷 月虧)等。
[0070] 安息香化合物可列舉:安息香、安息香甲酸、安息香乙酸、安息香異丙酸、安息香異 下酸等。
[0071] 二苯甲酬化合物可列舉:二苯甲酬、鄰苯甲酯苯甲酸甲醋、4-苯基二苯甲酬、4-苯 甲酯基-少-甲基二苯硫酸、3,3/，4，少-雙(二乙基氨基）二苯甲酬、4，少-四（叔下基過氧基 幾基)二苯甲酬、2,4,6-Ξ甲基二苯甲酬等。
[0072] 嚷噸酬化合物可列舉:嚷噸酬、2-氯嚷噸酬、2-甲基嚷噸酬、2-異丙基嚷噸酬、4-異 丙基嚷噸酬、2,4-二氯嚷噸酬、2,4-二甲基嚷噸酬、2,4-二乙基嚷噸酬、2,4-二異丙基嚷噸 酬等。
[0073] 運些化合物中，自抑制（流路)壁的自身發(fā)光的方面考慮，優(yōu)選1-徑基環(huán)己基-苯 基-酬、1 -徑基-4-甲氧基苯基-苯基-酬等苯酬化合物。
[0074] 相對于100質(zhì)量份的自由基聚合性化合物而言，所述組合物中的光自由基產(chǎn)生劑 的含量通常為0.1質(zhì)量份~40質(zhì)量份、優(yōu)選為0.5質(zhì)量份~30質(zhì)量份、更優(yōu)選為1質(zhì)量份~20 質(zhì)量份。如果光自由基產(chǎn)生劑的含量為所述范圍內(nèi)，則可形成具有粘性與充分強度的經(jīng)圖 案化的樹脂層。
[00巧]1-3.陽離子反應(yīng)性化合物
[0076] 陽離子反應(yīng)性化合物是具有至少兩個陽離子反應(yīng)性基的化合物，優(yōu)選為在光陽離 子產(chǎn)生劑的存在下，利用通過照射紫外線而產(chǎn)生的陽離子的反應(yīng)而進行交聯(lián)的化合物。在 下述工序(4)中，通過陽離子反應(yīng)性化合物的交聯(lián)反應(yīng)，使(流路)壁與覆蓋材料W高的接合 力進行接合，因此可形成并不產(chǎn)生可通過內(nèi)部的流體泄漏等的流路等。
[0077] 陽離子反應(yīng)性化合物可W單獨使用一種，還可W使用兩種W上。
[0078] 陽離子反應(yīng)性化合物例如可列舉:具有徑甲基化氨基的化合物、具有烷基酸化氨 基的化合物、含有徑甲基的芳香族化合物、烷基酸化芳香族化合物等具有活性亞甲基的化 合物;嗯挫嘟化合物;含有氧雜環(huán)丙烷環(huán)的化合物(環(huán)氧化合物）、含有氧雜環(huán)下燒環(huán)的化合 物、環(huán)狀硫酸化合物等環(huán)狀酸化合物;含有異氯酸醋基的化合物(包含嵌段化的）；含有醒基 的酪化合物；乙締酸化合物;二丙締基酸化合物。運些化合物中，自可形成與覆蓋材料的粘 著性優(yōu)異的經(jīng)圖案化的樹脂層的方面考慮，優(yōu)選為環(huán)狀酸化合物，更優(yōu)選為含有氧雜環(huán)丙 燒環(huán)的化合物及含有氧雜環(huán)下燒環(huán)的化合物。而且，自曝光光的吸收、抑制(流路)壁的自身 發(fā)光的方面考慮，優(yōu)選不含芳香族環(huán)的陽離子反應(yīng)性化合物。
[0079] 含有氧雜環(huán)丙烷環(huán)的化合物只要在分子內(nèi)含有氧雜環(huán)丙烷環(huán)（也稱為氧雜環(huán)丙 基）即可，例如可列舉:苯酪酪醒清漆型環(huán)氧樹脂、甲酪酪醒清漆型環(huán)氧樹脂、雙酪型環(huán)氧樹 月旨、Ξ苯酪型環(huán)氧樹脂、四苯酪型環(huán)氧樹脂、苯酪-苯二甲基型環(huán)氧樹脂、糞酪-苯二甲基型 環(huán)氧樹脂、苯酪-糞酪型環(huán)氧樹脂、苯酪-二環(huán)戊二締型環(huán)氧樹脂、脂環(huán)式環(huán)氧樹脂、脂肪族 環(huán)氧樹脂。
[0080] 含有氧雜環(huán)丙烷環(huán)的化合物的具體例例如可列舉：間苯二酪二縮水甘油酸、Ξ徑 甲基丙烷聚縮水甘油酸、甘油聚縮水甘油酸、新戊二醇二縮水甘油酸、乙締/聚乙二醇二縮 水甘油酸、丙締/聚丙二醇二縮水甘油酸、1,6-己二醇二縮水甘油酸、山梨糖醇聚縮水甘油 酸、丙二醇二縮水甘油酸、（3/，少-環(huán)氧環(huán)己燒）甲基-3,4-環(huán)氧環(huán)己基簇酸醋（商品名"賽羅 西德(Celloxide 2021ΡΓ、大賽踰股份有限公司制造）。
[0081] 含有氧雜環(huán)下燒環(huán)的化合物只要在分子內(nèi)含有氧雜環(huán)下燒環(huán)（也稱為氧雜環(huán)下 基）即可，具體例例如可列舉：1,4-雙{[(3-乙基氧雜環(huán)下燒-3-基）甲氧基]甲基}苯(商品名 "0ΧΤ-12Γ、東亞合成股份有限公司制造）、3-乙基-3-{[(3-乙基氧雜環(huán)下燒-3-基）甲氧基] 甲基}氧雜環(huán)下燒(商品名％ΧΤ-22Γ、東亞合成股份有限公司制造）、4，少-雙[(3-乙基-3- 氧雜環(huán)下基）甲氧基甲基]聯(lián)苯（宇部興產(chǎn)股份有限公司制造、商品名"埃特納克踰 化TERNACDLL)0XBP")、雙[(3-乙基-3-氧雜環(huán)下基甲氧基）甲基-苯基]酸、雙[(3-乙基-3-氧 雜環(huán)下基甲氧基）甲基-苯基]丙烷、雙[(3-乙基-3-氧雜環(huán)下基甲氧基）甲基-苯基]諷、雙 [(3-乙基-3-氧雜環(huán)下基甲氧基）甲基-苯基]酬、雙[(3-乙基-3-氧雜環(huán)下基甲氧基）甲基- 苯基]六氣丙烷、Ξ[(3-乙基-3-氧雜環(huán)下基甲氧基）甲基]苯、四[(3-乙基-3-氧雜環(huán)下基甲 氧基）甲基]苯、氧雜環(huán)下燒寡聚物（商品名"歐力多（Oligo)-OXr、東亞合成股份有限公司 制造）、式(b3-a)~式(b3-f)所表示的化合物。
[0082] [化1]
[0086](式(b3-e)~式(b3-f)中，q及S分別獨立為0~10000的整數(shù)，優(yōu)選為1~10的整數(shù)。 式(b3-e)中，Υ是亞乙基、亞丙基等燒二基，或-C此-Ph-C此-所表示的基（式中，化表示亞苯 基)）
[0087] 相對于所述組合物中所含的固體成分100質(zhì)量％，所述組合物中所含的陽離子反 應(yīng)性化合物的含有比例通常為1質(zhì)量％~60質(zhì)量％、優(yōu)選為5質(zhì)量％~50質(zhì)量％、更優(yōu)選為 10質(zhì)量％~40質(zhì)量％。
[0088] 相對于100質(zhì)量份的自由基聚合性化合物而言，陽離子反應(yīng)性化合物的含量通常 為20質(zhì)量份~250質(zhì)量份、優(yōu)選為50質(zhì)量份~200質(zhì)量份、更優(yōu)選為80質(zhì)量份~150質(zhì)量份。
[0089] 如果在該范圍內(nèi)使用陽離子反應(yīng)性化合物，則具有充分的強度、可容易地形成并 不產(chǎn)生可通過內(nèi)部的流體的泄漏等的流路等。
[0090] 1-4.光陽離子產(chǎn)生劑
[0091] 光陽離子產(chǎn)生劑是通過光的照射而產(chǎn)生陽離子，利用該陽離子的反應(yīng)而使陽離子 反應(yīng)性化合物的交聯(lián)開始的化合物。
[0092] 作為光陽離子產(chǎn)生劑的最大吸收波長，自通過紫外曝光進行第2階段的曝光的方 面、及可抑制(流路)壁的自身發(fā)光的方面考慮，優(yōu)選紫外區(qū)域，優(yōu)選為150nm~380nm。
[0093] 光陽離子產(chǎn)生劑可W單獨使用一種，還可W使用兩種W上。
[0094] 光陽離子產(chǎn)生劑例如可列舉:鐵鹽化合物、含面素化合物、諷化合物、橫酸化合物、 橫酷亞胺化合物、重氮甲燒化合物。
[0095] 鐵鹽化合物例如可列舉:艦鐵鹽、梳鐵鹽、鱗鐵鹽、重氮鐵鹽、化晚鐵鹽。優(yōu)選的鐵 鹽的具體例可列舉:二苯基艦鐵Ξ氣甲橫酸鹽、二苯基艦鐵對甲苯橫酸鹽、二苯基艦鐵六氣 錬酸鹽、二苯基艦鐵六氣憐酸鹽、二苯基艦鐵四氣棚酸鹽、Ξ苯基梳鐵Ξ氣甲橫酸鹽、Ξ苯 基梳鐵對甲苯橫酸鹽、Ξ苯基梳鐵六氣錬酸鹽、4-叔下基苯基-二苯基梳鐵Ξ氣甲橫酸鹽、 4-叔下基苯基-二苯基梳鐵對甲苯橫酸鹽、4,7-二-正下氧基糞基四氨嚷吩鐵Ξ氣甲橫酸 鹽、4,7-二-正下氧基糞基四氨嚷吩鐵九氣下橫酸鹽、4-(苯基硫基）苯基二苯基梳鐵Ξ(五 氣乙基)Ξ氣憐酸鹽、4-(苯基硫基)苯基二苯基梳鐵六氣憐酸鹽。
[0096] 含面素化合物例如可列舉含有面烷基的控化合物、含有面烷基的雜環(huán)式化合物。 優(yōu)選的含面素化合物的具體例可列舉：1，10-二漠-正癸燒;1，1-雙(4-氯苯基)-2，2，2-Ξ氯 乙燒;苯基-雙(Ξ氯甲基)-均Ξ嗦、4-甲氧基苯基-雙(Ξ氯甲基)-均Ξ嗦、苯乙締基-雙(Ξ 氯甲基)-均Ξ嗦、糞基-雙(Ξ氯甲基)-均Ξ嗦、2-[2-(5-甲基巧喃-2-基）乙締基]-4,6-雙- (Ξ氯甲基)-1，3，5-Ξ嗦等均Ξ嗦衍生物。
[0097] 諷化合物例如可列舉:β-酬諷化合物、β-橫酷基諷化合物及運些化合物的α-重氮 化合物。優(yōu)選的諷化合物的具體例可列舉:4-Ξ苯甲酯甲基諷、均Ξ甲苯基苯甲酯甲基諷、 雙(苯甲酯甲基橫酷基）甲燒。
[0098] 橫酸化合物例如可列舉:烷基橫酸醋類、面烷基橫酸醋類、芳基橫酸醋類、亞氨基 橫酸醋類。優(yōu)選的橫酸化合物的具體例可列舉:安息香甲苯橫酸醋、鄰苯Ξ酪Ξ(Ξ氣甲橫 酸醋）、鄰硝基芐基Ξ氣甲橫酸醋、鄰硝基芐基對甲苯橫酸醋。
[0099] 橫酷亞胺化合物例如可列舉:Ν-(Ξ氣甲基橫酷氧基)班巧酷亞胺、Ν-(Ξ氣甲基橫 酷氧基)鄰苯二甲酯亞胺、Ν-(Ξ氣甲基橫酷氧基）二苯基馬來酷亞胺、Ν-(Ξ氣甲基橫酷氧 基)雙環(huán)[2.2.1 ]庚-5-締-2，3-二簇基酷亞胺、Ν-( Ξ氣甲基橫酷氧基)糞基酷亞胺。
[0100] 重氮甲燒化合物例如可列舉:雙(Ξ氣甲基橫酷基）重氮甲燒、雙(環(huán)己基橫酷基） 重氮甲燒、雙(苯基橫酷基)重氮甲燒。
[0101] 運些化合物中，自具有充分的強度、與覆蓋材料的粘著性優(yōu)異、可容易地形成并不 產(chǎn)生可通過內(nèi)部的流體的泄漏等的流路等考慮，優(yōu)選為鐵鹽化合物。
[0102] 在所述組合物中，相對于100質(zhì)量份的陽離子反應(yīng)性化合物而言，光陽離子產(chǎn)生劑 的含量通常為0.1質(zhì)量份~40質(zhì)量份、優(yōu)選為0.5質(zhì)量份~30質(zhì)量份、更優(yōu)選為1質(zhì)量份~20 質(zhì)量份。如果光陽離子產(chǎn)生劑的含量處于所述范圍，則具有充分的強度、與覆蓋材料的粘著 性優(yōu)異、可容易地形成并不產(chǎn)生可通過內(nèi)部的流體的泄漏等的流路等。
[?！?-5.具有保護基的胺等
[0104] 推斷具有保護基的胺等具有如下功能:在第1階段的曝光中補足自光陽離子產(chǎn)生 劑產(chǎn)生的陽離子，防止陽離子反應(yīng)性化合物交聯(lián)。通過防止陽離子反應(yīng)性化合物在第1階段 的曝光中交聯(lián)，可形成具有充分的粘性的經(jīng)圖案化的樹脂層，可良好地接合覆蓋材料。自更 顯著地表現(xiàn)出運些效果等方面考慮，具有保護基的胺等優(yōu)選為具有保護基的胺。
[0105] 具有保護基的胺等可W單獨使用一種，還可W使用兩種W上。
[0106] 所謂具有保護基的胺是指具有氨基與保護基的化合物。
[0107] 保護基是具有如下功能的基:使胺的堿性減低、防止胺作為陽離子反應(yīng)性化合物 的交聯(lián)促進劑而起作用。因此，在感光性樹脂組合物中，可防止具有保護基的胺與陽離子反 應(yīng)性化合物反應(yīng)，其結(jié)果成為保存穩(wěn)定性優(yōu)異的感光性樹脂組合物。
[0108] 而且，具有保護基的胺具有由于在第1階段的曝光中自光陽離子產(chǎn)生劑產(chǎn)生的陽 離子而使保護基脫離，補足陽離子的功能，因此可選擇性地補足自曝光部選擇性產(chǎn)生的陽 離子，即使是少量的胺，也可W有效率地補足陽離子。
[0109] 保護基例如可列舉:叔下氧基幾基、節(jié)氧基幾基、9-巧基甲氧基幾基、氯 乙氧基幾基、締丙氧基幾基、鄰苯二甲酯基、甲苯橫酷基及2-硝基苯橫酷基。運些保護基中， 自可形成具有充分的粘性的經(jīng)圖案化的樹脂層、可良好地接合覆蓋材料考慮，優(yōu)選叔下氧 基幾基。
[0110] 具有保護基的胺例如可列舉:Ν-叔下氧基幾基二正辛基胺、Ν-叔下氧基幾基二正 壬基胺、Ν-叔下氧基幾基二正癸基胺、Ν-叔下氧基幾基二環(huán)己基胺、Ν-叔下氧基幾基-1-金 剛烷基胺、Ν-叔下氧基幾基-Ν-甲基-1-金剛烷基胺、Ν，Ν-二叔下氧基幾基-1-金剛烷基胺、 Ν，Ν-二叔下氧基幾基-Ν-甲基-1-金剛烷基胺、Ν-叔下氧基幾基-4，少-二氨基二苯基甲燒、 N，N/-二叔下氧基幾基己二胺、N，N，N/，N/-四叔下氧基幾基己二胺、N，N-二叔下氧基幾基- 1,7-二氨基庚燒、Ν，Ν^ -二叔下氧基幾基-1,8-二氨基辛燒、Ν，Ν^ -二叔下氧基幾基-1,9-二 氨基壬燒、Ν，Ν/ -二叔下氧基幾基-1，10-二氨基癸燒、Ν，Ν/ -二叔下氧基幾基-1，12-二氨基 十二燒、Ν，Ν/-二叔下氧基幾基-4，少-二氨基二苯基甲燒、Ν-叔下氧基幾基苯并咪挫、Ν-叔 下氧基幾基-2-甲基苯并咪挫、Ν-叔下氧基幾基-2-苯基苯并咪挫、Ν-叔下氧基幾基-化咯 晚、Ν-叔下氧基幾基-贓晚、Ν-叔下氧基幾基-4-?基-贓晚、Ν-叔下氧基幾基-嗎嘟等含有Ν- 叔下氧基幾基的胺化合物。
[0111] 相對于100質(zhì)量份的光陽離子產(chǎn)生劑而言，具有保護基的胺的含量通常為1質(zhì)量份 ~50質(zhì)量份、優(yōu)選為5質(zhì)量份~40質(zhì)量份、更優(yōu)選為10質(zhì)量份~30質(zhì)量份。如果具有保護基 的胺的含量為所述范圍內(nèi)，則可形成具有充分的粘性的經(jīng)圖案化的樹脂層，可良好地接合 覆蓋材料。
[ο…]1-6.其他成分
[0113] 在所述組合物中，除了所述成分W外，也可W在不損及本發(fā)明的目的及特性的范 圍內(nèi)調(diào)配堿可溶性樹脂、酸擴散控制劑(其中，具有保護基的胺等除外）、溶劑、W使組合物 的保存穩(wěn)定性提高等為目的的熱聚合抑制劑、W使樹脂層或(流路)壁等與支撐體的粘著性 提高等為目的的密接助劑、均化劑、表面活性劑、增感劑、W使樹脂層的強度提高等為目的 的無機粒子等各種成分。
[0114] 1-6-1.堿可溶性樹脂
[0115] 作為所述組合物，自顯影性優(yōu)異、可容易地制造具有所期望的形狀的微流體裝置 等方面考慮，優(yōu)選在下述工序(2)中，用堿性顯影液進行顯影，在運種情況下，優(yōu)選包含堿可 溶性樹脂。
[0116] 另外，在本發(fā)明中，所謂堿可溶性是表示可溶解于堿性溶液、例如2.38質(zhì)量％的氨 氧化四甲基錠水溶液中。
[0117] 堿可溶性樹脂可W單獨使用一種，還可W使用兩種W上。
[0118] 堿可溶性樹脂優(yōu)選為在1分子中具有一個W上酸性基的樹脂。酸性基例如可列舉： 簇基、酸酢基、酪性徑基及橫基。自抑制(流路)壁的自身發(fā)光的方面考慮，酸性基優(yōu)選為不 含芳香族環(huán)的簇基、酸酢基及橫基。
[0119] 此種樹脂優(yōu)選為具有一個W上酸性基的乙締性不飽和單體下稱為"不飽和單 體（1Γ)和可與該單體進行自由基共聚的乙締性不飽和單體下稱為"不飽和單體(2Γ) 的共聚物。
[0120] 不飽和單體（1)例如可列舉：（甲基)丙締酸、馬來酸、馬來酸酢、環(huán)己締二簇酸、環(huán) 己締二簇酸酢、班巧酸單[2-(甲基)丙締酷氧基乙基]醋、ω-簇基聚己內(nèi)醋單（甲基)丙締酸 醋、對異丙締基苯酪、徑基苯乙締。
[0121] 運些不飽和單體(1)可單獨使用一種或者使用兩種W上。
[0122] 不飽和單體(2)例如可列舉:Ν-苯基馬來酷亞胺、Ν-環(huán)己基馬來酷亞胺等Ν-取代馬 來酷亞胺；
[0123] 苯乙締、α-甲基苯乙締、對徑基-α-甲基苯乙締等芳香族乙締基化合物；
[0124] (甲基）丙締酸甲醋、（甲基）丙締酸正下醋、（甲基）丙締酸-2-乙基己醋、（甲基）丙 締酸-2-徑基乙醋、（甲基)丙締酸締丙醋、（甲基)丙締酸節(jié)醋、聚乙二醇(η = 2~10)甲酸（甲 基)丙締酸醋、聚丙二醇(η = 2~10)甲酸（甲基)丙締酸醋、聚乙二醇(η = 2~10)單（甲基)丙 締酸醋、聚丙二醇(η = 2~10)單（甲基)丙締酸醋、（甲基)丙締酸環(huán)己醋、（甲基)丙締酸異冰 片醋、（甲基）丙締酸Ξ環(huán)[5.2.1.02'6]癸燒-8-基醋、（甲基)丙締酸二環(huán)戊締基醋、甘油單 (甲基)丙締酸醋、對枯基苯酪環(huán)氧乙燒改性（甲基)丙締酸醋等不飽和簇酸醋；
[0125] 在聚苯乙締、聚（甲基)丙締酸甲醋、聚（甲基)丙締酸正下醋、聚硅氧烷等聚合物分 子鏈的末端具有單（甲基)丙締酷基的大分子單體。
[01%]運些不飽和單體(2)可單獨使用一種或者使用兩種W上。
[0127] 在不飽和單體（1)與不飽和單體(2)的共聚物中，該共聚物中的不飽和單體（1)的 共聚比例優(yōu)選為5質(zhì)量％~50質(zhì)量％，更優(yōu)選為10質(zhì)量％~40質(zhì)量％。通過在此種范圍內(nèi)使 不飽和單體(1)共聚，可獲得保存穩(wěn)定性、堿顯影性優(yōu)異的組合物。
[0128] 不飽和單體（1)與不飽和單體(2)的共聚物例如可列舉日本專利特開平7-140654 號公報、日本專利特開平8-259876號公報、日本專利特開平10-31308號公報、日本專利特開 平10-300922號公報、日本專利特開平11-174224號公報、日本專利特開平11-258415號公 報、日本專利特開2000-56118號公報、日本專利特開2004-101728號公報等中所掲示的共聚 物。
[0129] 堿可溶性樹脂還可W使用例如日本專利特開平5-19467號公報、日本專利特開平 6-230212號公報、日本專利特開平7-207211號公報、日本專利特開平11-140144號公報、日 本專利特開2008-181095號公報等中所掲示的在側(cè)鏈具有（甲基)丙締酷基等自由基聚合性 基的堿可溶性樹脂。另外，在本發(fā)明中，自所述自由基聚合性化合物中除去具有自由基聚合 性基的堿可溶性樹脂。
[0130] 自抑制(流路)壁的自身發(fā)光的方面考慮，堿可溶性樹脂優(yōu)選為不含芳香族環(huán)的樹 月旨。而且，自可形成具有充分強度的經(jīng)圖案化的樹脂層考慮，優(yōu)選在側(cè)鏈具有（甲基)丙締酷 基等自由基聚合性基的堿可溶性樹脂。
[0131] 自獲得顯影性等優(yōu)異的組合物等方面考慮，堿可溶性樹脂的利用凝膠滲透色譜法 而測定的聚苯乙締換算的重量平均分子量通常為1，〇〇〇~1，〇〇〇,〇〇〇,優(yōu)選為2，000~50， 000，更優(yōu)選為 3，000 ~20，000。
[0132] 自獲得顯影性、微流體裝置的制造容易性等優(yōu)異的組合物等方面考慮，相對于所 述組合物中所含的固體成分100質(zhì)量％，堿可溶性樹脂的含有比例通常為10質(zhì)量％~80質(zhì) 量％，優(yōu)選為20質(zhì)量％~70質(zhì)量％。
[。。引 1-6-2.溶劑
[0134] 所述組合物還可使組合物的操作性提高、調(diào)節(jié)粘度及保存穩(wěn)定性為目的而含 有溶劑。
[0135] 溶劑可W單獨使用一種，還可W使用兩種W上。
[0136] 溶劑例如可列舉：
[0137] 乙二醇單甲酸乙酸醋、乙二醇單乙酸乙酸醋、乙二醇單甲酸、乙二醇單乙酸、乙二 醇單下酸、丙二醇單甲酸、丙二醇單乙酸、丙二醇單丙酸、丙二醇單下酸、丙二醇二甲酸、丙 二醇二乙酸、丙二醇二丙酸、丙二醇二下酸、丙二醇單甲酸乙酸醋、丙二醇單乙酸乙酸醋、丙 二醇單丙酸乙酸醋、丙二醇單下酸乙酸醋等燒二醇烷基酸類；
[0138] 下基卡必醇等卡必醇類；
[0139] 乳酸甲醋、乳酸乙醋、乳酸正丙醋、乳酸異丙醋等乳酸醋類；
[0140] 乙酸乙醋、乙酸正丙醋、乙酸異丙醋、乙酸正下醋、乙酸異下醋、乙酸正戊醋、乙酸 異戊醋、丙酸異丙醋、丙酸正下醋、丙酸異下醋等脂肪族簇酸醋類；
[0141] 3-甲氧基丙酸甲醋、3-甲氧基丙酸乙醋、3-乙氧基丙酸甲醋、3-乙氧基丙酸乙醋、 丙酬酸甲醋、丙酬酸乙醋等其他醋類；
[0142] 2-庚酬、3-庚酬、4-庚酬、環(huán)己酬等酬類；
[0143] N，N-二甲基甲酯胺、N-甲基乙酷胺、N，N-二甲基乙酷胺、N-甲基化咯燒酬等酷胺 類；
[0144] 丫-下內(nèi)醋等內(nèi)醋類；
[0145] 甲苯、二甲苯等芳香族控類。
[0146] 運些溶劑中，優(yōu)選為乳酸醋類、丙二醇單烷基酸乙酸醋類、乙二醇單烷基酸類、丙 二醇單烷基酸類，更優(yōu)選乳酸乙醋、丙二醇單甲酸乙酸醋、乙二醇單甲酸、丙二醇單甲酸。 [0147]所述組合物中所含的溶劑的含量是該組合物中的固體成分濃度成為通常為1質(zhì) 量％~80質(zhì)量％、優(yōu)選為10質(zhì)量％~75質(zhì)量％、更優(yōu)選為20質(zhì)量％~70質(zhì)量％的范圍。
[014引 1-6-3.密接助劑
[0149] 在所述組合物中，為了使樹脂層或(流路)壁與支撐體的密接性提高，可進一步含 有密接助劑。
[0150] 密接助劑可W單獨使用一種，還可W使用兩種W上。
[0151] 密接助劑優(yōu)選為官能性硅烷偶聯(lián)劑，例如可列舉具有簇基、（甲基)丙締酷基、乙締 基、異氯酸醋基、環(huán)氧基等反應(yīng)性取代基的硅烷偶聯(lián)劑，具體而言可列舉:Ξ甲氧基娃烷基 苯甲酸、丫-甲基丙締酷氧基丙基二甲氧基硅烷、乙締基二乙酷氧基硅烷、乙締基二甲氧基 硅烷、丫-異氛酸基丙基二乙氧基硅烷、丫-縮水甘油氧基丙基二甲氧基硅烷、0-(3,4-環(huán)氧 環(huán)己基）乙基二甲氧基硅烷、1，3,5-N-二(二甲氧基娃烷基丙基)異氛尿酸醋。
[0152] 在所述組合物中，相對于所述組合物中所含的固體成分100質(zhì)量％，密接助劑的含 量優(yōu)選為0.5質(zhì)量％~30質(zhì)量％、更優(yōu)選為0.5質(zhì)量％~20質(zhì)量％。
[。巧引1-7.感光性樹脂組合物的制造
[0154]所述組合物可通過將所述各成分均一地混合而制造。而且，為了將組合物中的臟 物除去，還可W在將所述各成分均一地混合后，用過濾器等對所得的混合物進行過濾。
[01巧]2.微流體裝置
[0156] 本發(fā)明的微流體裝置在玻璃或樹脂制基板等構(gòu)件的內(nèi)部具有流路，該流路包含由 所述組合物所形成的流路壁。所述流路包含覆蓋由支撐體及所述流路壁而形成的溝的覆蓋 材料，優(yōu)選為由支撐體、流路壁及覆蓋材料而形成，即由支撐體、流路壁及覆蓋材料所圍的 空間。
[0157] 所述支撐體優(yōu)選為能夠W均一的膜厚形成樹脂層、且并不產(chǎn)生變形等并不與在流 路內(nèi)流動的流體反應(yīng)的材質(zhì)。支撐體例如可列舉包含娃、石英、碳化娃等無機材料的基材， 包含丙締酸樹脂、聚苯乙締、聚碳酸醋、聚環(huán)締控等有機聚合物材料的基材。而且，支撐體的 表面還W用國際公開第2009/121944號中所記載的具有重氮基的化合物等進行表面處理。 在用光觀察流路內(nèi)的情況下，使用對于該光而言透明性優(yōu)異的支撐體即可。而且，為了觀察 在流路內(nèi)流動的流體的反應(yīng)，還可W使用包含互補金屬氧化物半導(dǎo)體（C 0 m P1 e m e η t a巧 Metal Oxide Semiconductor,CMOS)圖像傳感器等檢測元件的支撐體。通過使用包含檢測 元件的支撐體，可制造比其后對檢測元件進行模塊化的情況更小的微流體裝置。另外，在支 撐體上還可W設(shè)置用W供給或排出在流路內(nèi)流動的流體的供給口和/或排出口。
[0158] 支撐體的厚度可根據(jù)所期望的用途而適宜選擇，通常為10皿~10mm。
[0159] 所述樹脂層是由所述組合物所形成的層，可為單層也可W層壓而成。
[0160] 樹脂層的膜厚可根據(jù)所期望的用途而適宜選擇，通常為0.01皿~1000皿、優(yōu)選為 10皿~100皿。
[0161] 所述覆蓋材料優(yōu)選為并不產(chǎn)生變形等、并不與流路內(nèi)流動的流體反應(yīng)的材質(zhì)，例 如可列舉與所述支撐體同樣的基材。在用光觀察流路內(nèi)的情況下，使用對于該光而言透明 性優(yōu)異的覆蓋材料即可。而且，為了觀察在流路內(nèi)流動的流體的反應(yīng)，還可W使用包含CMOS 圖像傳感器等檢測元件的覆蓋材料。通過使用包含檢測元件的覆蓋材料，可制造比其后對 檢測元件進行模塊化的情況更小的微流體裝置。另外，在覆蓋材料上還可w設(shè)置用w供給 或排出在流路內(nèi)流動的流體的供給口和/或排出口。
[0162] 覆蓋材料的厚度可根據(jù)所期望的用途而適宜選擇，與支撐體為同等程度即可，通 常為10皿~10mm。
[0163] 所述流路的大小(流路壁間的距離）可根據(jù)所期望的目的而適宜選擇，通常為1皿 ~100μπι，優(yōu)選為ΙΟμπι~60μπι。根據(jù)本發(fā)明，即使是此種微細形狀的流路，也可W容易地形 成。
[0164] 所述流路可通過使其大小變小而迅速、有效率地進行流體內(nèi)的基質(zhì)等反應(yīng)物的反 應(yīng)。
[0165] 在相對于所述流路的長度方向而大致垂直的方向上切斷時的剖面形狀可為圓形， 也可W是多邊形，通常為圓形或四邊形。
[0166] 在所述流路內(nèi)還可W具有蓄積流體的儲存部。流路的兩端部分別與流入口與排出 口連結(jié)。流路可W在內(nèi)部分支，也可W合流。另外，流入口及排出口也可W存在多個，而且流 入口數(shù)與排出口數(shù)也可W不同。
[0167] 微流體裝置的具體構(gòu)成可根據(jù)所期望的用途等而決定，例如可列舉在玻璃或樹脂 制基板等構(gòu)件中包含微米程度的微小的流路、為了輸送該流路內(nèi)流動的流體而設(shè)置的累要 素等要素的裝置。作為所述要素的其他例，可列舉在使流體流入至流路直至流出的路徑內(nèi) 對流體進行加熱或冷卻的要素，進行稀釋或濃縮的要素，使其化學(xué)反應(yīng)的要素，控制流動的 流速或流動的分支等流動狀態(tài)的要素，控制混合、溶解、分離等的要素，進行電氣、光學(xué)測定 的檢測要素。
[0168] 本發(fā)明的微流體裝置還根據(jù)該裝置的使用用途而定，自可容易地進行被測定物質(zhì) 的檢測、分離、分析、萃取等，可制造更小的微流體裝置等方面考慮，理想的是在所述流路的 內(nèi)壁、優(yōu)選所述支撐體或覆蓋材料的至少一個具有檢測元件。
[0169] 另外，在所述支撐體或覆蓋材料包含所述檢測元件的情況下，還可W設(shè)有用W與 檢測元件連接的電極或?qū)w單元。所述電極或?qū)w單元例如W與讀取單元電性連接的方式 而設(shè)計，所述讀取單元與存儲本發(fā)明的微流體裝置的外殼卡合。所述電極或?qū)w單元可列 舉利用金、氧化銅錫(Indium Tin Oxide，ΙΤ0)、銀、銷、鈕、侶、銅、氮化鐵等導(dǎo)電性材料而制 作，通過光蝕刻、絲網(wǎng)印刷或瓣鍛法等已知的方法而形成的金屬膜。
[0170] 本發(fā)明的微流體裝置例如可作為化學(xué)、生物化學(xué)等的微小反應(yīng)元件(微忍片、微反 應(yīng)器）、DNA分析元件、微小電泳元件、微小色譜法元件、質(zhì)譜或液相色譜法等分析試樣制備 用微小元件、萃取、膜分離、透析等物理化學(xué)處理元件、及微陣列制造用測位儀(spotter)而 使用。
[0171] 3.微流體裝置的制造方法
[0172] 本發(fā)明的微流體裝置的制造方法包含如下工序：
[0173] 工序（1 )，由所述組合物而在支撐體上形成樹脂層；
[0174] 工序(2)，對所述樹脂層的一部分進行紫外線曝光及顯影；
[0175] 工序(3)，在顯影后的樹脂層上載置覆蓋材料而獲得層壓體;及
[0176] 工序(4)，對工序(3)中所得的層壓體進行紫外線曝光。
[0177] 根據(jù)此種方法，通過使經(jīng)圖案化的樹脂層具有充分的強度與粘性，可制造具有良 好的流路等的微流體裝置。
[0178] 將本發(fā)明的制造方法的一例的剖面示意圖表示于圖1(a)~圖1(f)中。W下，參照 該圖1(a)~圖1(f)而加 W說明。
[0179] 3-1.工序（1)
[0180] 工序(1)是在支撐體10上，由所述組合物而形成樹脂層20的工序(圖1(a))。
[0181] 支撐體10的具體例如所述"2.微流體裝置"一欄中的說明所示。
[0182] 作為形成樹脂層20的方法，例如可列舉:在支撐體10上直接形成樹脂層20的方法； 在實施了脫模處理的聚對苯二甲酸乙二醋(polyethylene ter邱hthalate，陽T)膜等有機 膜上，使用所述組合物而形成涂膜，制成干膜后，通過層壓方式而轉(zhuǎn)印于支撐體10上的方 法。特別是在形成流路的大小(流路直徑、在相對于流路的長度方向而大致垂直的方向上切 斷時的剖面直徑)較小的流路時，優(yōu)選樹脂層20的膜厚均一，優(yōu)選在支撐體10上直接形成膜 厚的均一性優(yōu)異的樹脂層20的方法。
[0183] 作為在支撐體10上直接形成樹脂層20的方法及在有機膜上形成涂膜的方法，例如 可列舉使用旋涂法、噴墨法、噴涂法、棒涂法等涂布方法，將所述組合物涂布于支撐體10或 有機膜上的方法。運些方法中，自獲得膜厚均一性優(yōu)異的樹脂層等方面考慮，優(yōu)選為旋涂 法。而且，在涂布于支撐體10上時，自所述組合物在支撐體10上的涂布性或支撐體10與樹脂 層20的密接性等方面考慮，還可W預(yù)先在支撐體10的涂布面涂布六甲基二娃氮燒等表面處 理劑。
[0184] 在將所述組合物涂布于支撐體10上后，例如可用加熱板等進行加熱而使涂膜均一 化。加熱條件通常在60 °C~250 °C下為10秒~10分鐘。
[01 化]3-2.工序（2)
[0186] 工序(2)是對所述樹脂層20的一部分進行曝光(第1階段的曝光)及顯影，形成經(jīng)圖 案化的樹脂層21的工序。另外，此處所謂一部分是W獲得所期望的圖案的方式，介隔對例如 與流路等對應(yīng)的部分進行遮光的掩模50而進行曝光（圖1(b))。利用曝光光51，在樹脂層20 的曝光部，由于自樹脂層20中所含的光自由基產(chǎn)生劑產(chǎn)生的自由基而使自由基聚合性化合 物進行交聯(lián)反應(yīng)。其次，利用顯影液對樹脂層20的未曝光部進行溶解、除去，形成經(jīng)圖案化 的樹脂層21。
[0187] 作為所述曝光光51，使用紫外線、優(yōu)選為波長150nm~38化m(例如i射線（365nm)) 的紫外線。曝光光51的累計照射量例如在曝光光使用高壓水銀燈的情況下，通常為lOmJ/ cm2~10，000mJ/cm2，優(yōu)選為 50mJ/cm2~5，000mJ/cm2。
[0188] 通過將工序(2)中的照射量設(shè)為所述范圍的量，可容易地獲得具有充分的耐顯影 液性、且平衡良好地具有粘性與充分的強度的經(jīng)圖案化的樹脂層。
[0189] 為了調(diào)整曝光部分的硬化程度，也可W在曝光后進行加熱處理。該加熱處理的條 件通常是在60°C~180°C下為30秒~300秒。
[0190] 在所述曝光后所進行的顯影通常是使用堿性顯影液，將樹脂層20的未曝光部溶 解、除去，由此而在支撐體10上形成經(jīng)圖案化的樹脂層(半硬化狀態(tài))21(圖1(c))。
[0191] 所謂半硬化狀態(tài)是硬化為并不失去粘性(粘著力）的程度的狀態(tài)，是凝膠分率為 5%~90%左右的狀態(tài)。所述凝膠分率可將利用可溶解所述樹脂層的未硬化部分的溶劑進 行萃取后所殘留的凝膠的質(zhì)量相對于半硬化狀態(tài)的經(jīng)圖案化的樹脂層的質(zhì)量的比設(shè)為百 分率而算出。
[0192] 作為使用顯影液的顯影方法，可列舉:噴淋顯影法、噴射顯影法、浸潰顯影法、旋覆 浸沒式顯影法等。顯影條件通常是在20°C~40°C下為1分鐘~10分鐘。
[0193] 堿性顯影液例如可列舉將氨氧化鋼、氨氧化鐘、氨水、四甲基氨氧化錠、膽堿等堿 性化合物W成為1質(zhì)量％~1〇質(zhì)量％的濃度的方式溶解于水中而成的堿性水溶液。所述堿 性水溶液例如還可W適量添加甲醇、乙醇等水溶性的有機溶劑或表面活性劑等。
[0194] 而且，在顯影后，還可W用水進行清洗，并使其干燥。
[0195] 經(jīng)圖案化的樹脂層21的圖案形狀例如在柱型微流體裝置的情況下，為柱狀圖案 等，可根據(jù)所述組合物而形成各種形狀的樹脂層，因此可根據(jù)使用微流體裝置的用途而適 宜選擇。
[0196] 所形成的圖案形狀例如可W是日本專利特表2009-501908號公報、日本專利特開 2005-329479號公報、日本專利特開2004-130219號公報、日本專利特開2010-237053號公報 中所記載的形狀。
[0197] 經(jīng)圖案化的樹脂層21間的距離通常為1皿~100皿，可根據(jù)目的而適宜選擇。
[01側(cè) 2-3.工序（3)
[0199] 工序（3)是在經(jīng)圖案化的樹脂層21上載置覆蓋材料30而獲得層壓體的工序（圖1 (d) )〇
[0200] 在載置覆蓋材料30時，還可W介隔現(xiàn)有公知的粘著劑等而載置，但經(jīng)圖案化的樹 脂層21具有粘性，因此即使不使用此種粘著劑，也可W利用本發(fā)明的制造方法而形成具有 充分的粘著強度的(流路)壁，而且可使制造微流體裝置時的管線簡略化。
[0201] 覆蓋材料30的具體例如所述"2.微流體裝置"一欄中的說明所示。
[020。2-4 工序(4)
[0203]工序（4)是對工序（3)中所得的層壓體進行曝光（第2階段的曝光）的工序（圖1 (e) )。通過該工序，可使(流路)壁22與覆蓋材料30-體化(接合），在構(gòu)件的內(nèi)部形成具有所 期望的形狀的流路等（圖1(f))。
[0204]在工序(4)中，優(yōu)選W經(jīng)圖案化的樹脂層21充分硬化（凝膠々率Η 100% )的方式 進行曝光。
[0205] 作為此種曝光的條件，使用紫外線、優(yōu)選為波長150nm~380nm(例如i射線 (365nm))的紫外線，累計照射量例如在曝光光使用高壓水銀燈的情況下，通常為lOmJ/cm2~10，000mJ/cm2，優(yōu)選為 50mJ/cm2~5，000mJ/cm2。
[0206] 而且，優(yōu)選工序(2)的紫外線曝光的曝光量比工序(4)的紫外線曝光的曝光量少， 即工序(4)的紫外線曝光的曝光量比工序（2)的紫外線曝光的曝光量多。通過設(shè)為所述形 態(tài)，與第1階段的曝光的光陽離子產(chǎn)生劑分解為陽離子的分解量相比而言，可在第2階段的 曝光的接合時使用更多的陽離子，可使光刻后的經(jīng)圖案化的樹脂層具有充分的強度與粘 性，且第2階段的曝光后的(流路)壁W高的接合力與覆蓋材料接合而可形成良好的流路。
[0207] 而且，所述工序(2)的紫外線曝光的光源如果與所述工序(4)的紫外線曝光的光源 相同，則可抑制制造成本，因此優(yōu)選。
[0208] 可自支撐體側(cè)或覆蓋材料側(cè)進行曝光。
[0209] 在曝光時，還可W進行加壓。通過進行加壓，變得可使覆蓋材料30與經(jīng)圖案化的樹 脂層21的接合可靠。
[0210] 為了使(流路)壁22充分硬化，還可W在曝光后進行加熱處理。作為此種加熱處理 的條件，通常在l〇〇°C~250°C、優(yōu)選為150°C~230°C下為30分鐘~10小時。另外，該加熱處 理為了防止變形等，還可二階段進行加熱，作為此種情況下的條件，例如可列舉:在第 一階段中，在50°C~250°C的溫度下進行30秒~2小時加熱，在第二段階中，在與第一階段同 溫或比第一階段更高的溫度下進行20分鐘~8小時的加熱。
[0211] (流路)壁22還可W W防止在流路內(nèi)流動的流體的附著等為目的，對成為流路等的 內(nèi)面的部分進行電沉積處理或無電鍛處理等表面處理。
[0212] [實施例]
[0213] W下，通過實施例對本發(fā)明加 W更詳細的說明，但本發(fā)明并不限定于運些實施例。 在W下的實施例等的記載中，只要沒有特別提及，則"份"表示"質(zhì)量份"。
[0214] 〈感光性樹脂組合物的審雌〉
[0215] [實施例1A~實施例9A及比較例1A]
[0216] 將如表1所示的種類及量的調(diào)配成分均一地混合而制造實施例1A~實施例9A及比 較例1A的感光性樹脂組合物。
[0217] 表1中的各成分的詳細情況如下所示。
[0218] ?自由基聚合性化合物(A1):卡亞拉得化AYARAD)DPHA(產(chǎn)品名、日本化藥股份有 限公司制造）
[0219] ?自由基聚合性化合物(A2):下二醇二丙締酸醋
[0220] .自由基聚合性化合物(A3):下述式(A3)中所示的化合物
[0221] ?自由基聚合性化合物(A4):下述式(A4)中所示的化合物
[0222] ?自由基聚合性化合物(A5):氨化鄰苯二甲酸與環(huán)氧丙締酸醋的反應(yīng)物(商品名 "代那考爾(DENAC0L)DA-722"、長懶化成股份有限公司制造）
[0223] .光自由基產(chǎn)生劑(B1):下述式(B1)所表示的化合物
[0224] .光自由基產(chǎn)生劑(Β2):2,4,6-Ξ甲基苯甲酯基二苯基氧化麟
[0225] ?陽離子反應(yīng)性化合物(C1):代那考爾(DENAC0UEX321L(產(chǎn)品名、長懶化成股份 有限公司制造）
[0226] ?陽離子反應(yīng)性化合物(C2):雙酪型環(huán)氧樹脂(商品名巧P-4000L"、艾迪科股份有 限公司制造）
[0227] .光陽離子產(chǎn)生劑(D1):下述式(D1)所表示的化合物
[0228] .具有保護基的胺化1) :Ν-叔下氧基幾基-2-苯基苯并咪挫
[0229] .堿可溶性樹脂(F1):具有下述式(F1)所表示的結(jié)構(gòu)單元的聚合物
[0230] ?密接助劑(G1): 3-縮水甘油氧基丙基Ξ乙氧基硅烷
[0231] ?溶劑化1):丙二醇單甲酸乙酸醋
[0232] [化 3]
[0240] (式中，"Bu"表示正下基）
[0241] [化7]
[0245] ~<微流體裝置的制造〉
[0246] [實施例1B]
[0247] 在玻璃基板(支撐體)上，利用旋涂法涂布實施例1A的感光性樹脂組合物，用加熱 板在110°C下進行3分鐘加熱，形成樹脂層。介隔具有遮光部的掩模對樹脂層進行部分曝光 (蘇斯微技術(shù)(Suss MicroTec)公司制造、裝置名"MA8"、高壓水銀燈、照射量為500mJ/cm2)。 其后，用堿性顯影液(產(chǎn)品名為"〇?〇5262"、富±膠片股份有限公司制造)對所得的樹脂層進 行顯影，其次用水進行清洗，形成經(jīng)圖案化的樹脂層。經(jīng)圖案化的樹脂層的寬度為40μπι、經(jīng) 圖案化的樹脂層間為40皿、經(jīng)圖案化的樹脂層的高度(膜厚)為15皿。
[0248] 在所述經(jīng)圖案化的樹脂層上載置玻璃基板(覆蓋材料），用忍片焊接機(芝浦電機 股份有限公司制造、裝置名"FTD-1940") W40N的力進行2秒的加壓而形成層壓體。其次，自 覆蓋材料側(cè)，使用與所述相同的裝置對層壓體進行紫外線曝光（高壓水銀燈、照射量為 3000mJ/cm2)，制造包含支撐體、流路壁及覆蓋材料的微流體裝置。
[0249] 用萬能粘結(jié)試驗器評價微流體裝置的流路壁與覆蓋材料是否接合。具體而言，使 用萬能粘結(jié)試驗器(商品名"諾信4000"、諾信公司制造），在相對于覆蓋材料(玻璃基板)面 而平行的方向上施加剪切力(2MPa、500皿/sec的速度、23°C)，用此時的結(jié)果進行評價。W如 下基準進行評價。
[0250] A:即使施加2MPa的剪切力，流路壁與覆蓋材料也不剝落。
[0251] B:如果施加2MPa的剪切力，則流路壁與覆蓋材料剝落。
[0252] 用帝肯(TECAN)公司制造的產(chǎn)品名"因菲特（Infinite)MlOO(T評價微流體裝置的 自身發(fā)光的有無。W如下基準進行評價。
[0253] A:在用激發(fā)波長為35化m、365皿、436nm、470皿、500nm、550皿及65化m的光進行激 發(fā)的情況下的全部情況中，巧光強度均不足20,000L/g · cm
[0254] B:在用激發(fā)波長為35化m、365皿、436nm、470皿、500nm、550皿及65化m的光進行激 發(fā)的情況下的任意情況中，巧光值為20,000L/g · cmW上
[0巧日][實施例2B~實施例9B及比較例1B]
[0256]分別使用實施例2A~實施例9A及比較例1A的感光性樹脂組合物，除此W外用與實 施例1B同樣的方法制造實施例2B~實施例9B及比較例1B的微流體裝置。關(guān)于所制造的微流 體裝置，進行與實施例1B同樣的評價。將評價結(jié)果表示于表2中。
[0 巧 7][表 2]
[0巧引
【主權(quán)項】
1. 一種微流體裝置的制造方法，其特征在于，包括： 工序1，由感光性樹脂組合物在支撐體上形成樹脂層，所述感光性樹脂組合物含有具有 至少兩個自由基聚合性基的化合物、光自由基產(chǎn)生劑、具有至少兩個陽離子反應(yīng)性基的化 合物、光陽離子產(chǎn)生劑以及選自具有保護基的胺、光降解性堿、具有酰亞胺結(jié)構(gòu)的化合物、 具有酰胺結(jié)構(gòu)的化合物及具有脲結(jié)構(gòu)的化合物中的至少一種化合物； 工序2,對所述樹脂層的一部分進行紫外線曝光及顯影； 工序3，在顯影后的樹脂層上載置覆蓋材料而獲得層壓體;及 工序4，對所得的層壓體進行紫外線曝光。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的微流體裝置的制造方法，其特征在于:所述感光性樹脂組合物 進一步含有堿可溶性樹脂。3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的微流體裝置的制造方法，其特征在于:所述工序2的紫外線 曝光的曝光量比所述工序4的紫外線曝光的曝光量少。4. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的微流體裝置的制造方法，其特征在于:所述工序2的紫外線 曝光光源與所述工序4的紫外線曝光光源相同。5. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的微流體裝置的制造方法，其特征在于:所述工序2的紫外線曝 光光源與所述工序4的紫外線曝光光源相同。6. -種微流體裝置，其是在構(gòu)件內(nèi)部包含流路的微流體裝置，其特征在于，所述流路包 含： 流路壁，使用感光性樹脂組合物而形成于支撐體上，所述感光性樹脂組合物含有具有 至少兩個自由基聚合性基的化合物、光自由基產(chǎn)生劑、具有至少兩個陽離子反應(yīng)性基的化 合物、光陽離子產(chǎn)生劑以及選自具有保護基的胺、光降解性堿、具有酰亞胺結(jié)構(gòu)的化合物、 具有酰胺結(jié)構(gòu)的化合物及具有脲結(jié)構(gòu)的化合物中的至少一種化合物；以及、 覆蓋材料，覆蓋由所述支撐體及所述流路壁而形成的溝。7. -種微流體裝置制造用感光性樹脂組合物，其特征在于，含有:具有至少兩個自由基 聚合性基的化合物、光自由基產(chǎn)生劑、具有至少兩個陽離子反應(yīng)性基的化合物、光陽離子產(chǎn) 生劑以及選自具有保護基的胺、光降解性堿、具有酰亞胺結(jié)構(gòu)的化合物、具有酰胺結(jié)構(gòu)的化 合物及具有脲結(jié)構(gòu)的化合物中的至少一種化合物。
【文檔編號】G03F7/004GK106066575SQ201610246881
【公開日】2016年11月2日
【申請日】2016年4月20日 公開號201610246881.4, CN 106066575 A, CN 106066575A, CN 201610246881, CN-A-106066575, CN106066575 A, CN106066575A, CN201610246881, CN201610246881.4
【發(fā)明人】西村功, 星子賢二, 金子將寛
【申請人】Jsr株式會社