水晶涂布式光學(xué)低通濾波器及制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種水晶涂布式光學(xué)低通濾波器，包括：UV?IR截止膜、水晶片、油墨層和AR膜；其中所述UV?IR截止膜可以由IR膜替換。本發(fā)明通過在水晶片上涂布具備紅外吸收效果的油墨形成油墨層，在具備水晶自身雙折射特性的同時(shí)又擁有了類似于紅外吸收玻璃的效果；與傳統(tǒng)使用紅外吸收玻璃的OLPF相比，既降低了產(chǎn)品的厚度，又大大改善了傳統(tǒng)紅外吸收玻璃脆、抗跌落性差的情況；本發(fā)明可以廣泛應(yīng)用于智能手機(jī)、數(shù)碼相機(jī)、車載攝像頭、安防攝像頭等領(lǐng)域，具有廣闊的市場發(fā)展空間。
【專利說明】
水晶涂布式光學(xué)低通濾波器及制造方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及光學(xué)低通濾波器技術(shù)領(lǐng)域，更具體的說是涉及水晶涂布式光學(xué)低通濾波器及制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]光學(xué)低通濾波器大都是由兩塊或者多塊石英晶體薄板構(gòu)成的，放在CCD傳感器的前面。目標(biāo)圖像信息的光束經(jīng)過OLPF后產(chǎn)生雙折射，根據(jù)CCD像素尺寸的大小和總感光面積計(jì)算出抽樣截止頻率，同時(shí)也可以計(jì)算出ο光和e光分開的距離，改變?nèi)肷涔馐鴮?huì)形成差頻的目標(biāo)頻率，達(dá)到減弱或消除低頻干擾條紋的目的，特別是消除彩色CCD出現(xiàn)的偽彩色干擾條紋。
[0003]另外，在使用CCD或CMOS圖象傳感器拍攝彩色景物時(shí)，由于它們對顏色的反應(yīng)與人眼不同，所以必須將它們能檢測到而人眼無法檢測的紅外線部分除去，同時(shí)調(diào)整可見光范圍內(nèi)對顏色的反應(yīng)，使影像呈現(xiàn)的色彩符合人眼的感覺。因此，一般在OLPF晶片中間加上一片紅外吸收玻璃，能獲得極佳的效果。然而與此同時(shí)也增加了產(chǎn)品厚度。
[0004]因此，如何降低光學(xué)低通濾波器產(chǎn)品的厚度是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟需解決的問題。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0005]有鑒于此，本發(fā)明提供了一種水晶涂布式光學(xué)低通濾波器，通過在水晶片表面涂布油墨，達(dá)到了類似于紅外吸收玻璃的效果，同時(shí)在擁有水晶自身特性的基礎(chǔ)上，相較于傳統(tǒng)使用紅外吸收玻璃的0LPF，既降低了產(chǎn)品的厚度，又可以大大改善傳統(tǒng)紅外吸收玻璃易脆、抗跌落性差的情況。
[0006]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:
[0007]—種水晶涂布式光學(xué)低通濾波器，包括:UV_IR截止膜、水晶片、油墨層和AR膜;其中所述UV-1R截止膜可以由IR膜替換。
[0008]優(yōu)選的，在上述水晶涂布式光學(xué)低通濾波器中，所述水晶片針對不同型號(hào)的CCD與CMOS圖像傳感，以及兼顧不同方向所產(chǎn)生的雜訊可以由不同厚度、片數(shù)、角度的水晶片組合進(jìn)行替換;其中所述水晶片是通過紫外膠進(jìn)行貼合的。
[0009]優(yōu)選的，在上述水晶涂布式光學(xué)低通濾波器中，所述油墨層是通過旋涂設(shè)備在所述水晶片上進(jìn)行涂布的，并且采用的油墨具備紅外吸收效果。
[0010]優(yōu)選的，在上述水晶涂布式光學(xué)低通濾波器中，所述UV-1R截止膜、AR膜和所述IR膜均是通過真空鍍膜裝置蒸鍍的。
[0011]—種水晶涂布式光學(xué)低通濾波器的制造方法，包括如下步驟:
[0012](I)原石切割:與水晶Z軸約為45°夾角進(jìn)行切斷；
[0013](2)水晶的研磨:①粗研磨:在控制研磨壓力、磨削速度的條件下，將切斷后的水晶使用粗研磨材對水晶片厚度進(jìn)行加工，使水晶的厚度、平行度達(dá)到指定要求;②細(xì)研磨:在控制研磨壓力、磨削速度的條件下，使用細(xì)研磨材對經(jīng)過粗研磨的水晶片進(jìn)行厚度的加工，進(jìn)一步使水晶片的厚度、平行度達(dá)到指定標(biāo)準(zhǔn);③拋光:在控制拋光盤的壓力、拋光盤的轉(zhuǎn)速的條件下，使用拋光粉配比水對經(jīng)過細(xì)研磨的水晶片進(jìn)行厚度的加工，使水晶片的厚度、平行度、光圈達(dá)到指定指標(biāo)；
[0014](3)水晶片的清洗:將經(jīng)過步驟(2)處理的水晶片用自動(dòng)清洗機(jī)進(jìn)行外觀的清洗；
[0015](4)水晶片的涂布:在水晶片表面進(jìn)行油墨的涂布，首先通過調(diào)整旋涂設(shè)備的轉(zhuǎn)數(shù)和時(shí)間，控制水晶片上油墨的涂布量，然后進(jìn)行熱處理;最后進(jìn)行烘烤得到半成品；步驟(4)通過控制油墨的涂布量、烘烤溫度和烘烤時(shí)間使最終產(chǎn)品達(dá)到要求的光譜曲線，光譜的半值偏差精確控制在± I %以內(nèi)；
[0016](5)半成品的檢驗(yàn)和清洗:首先對步驟(4)制備的半成品進(jìn)行外觀、光學(xué)特性分布均一性的檢驗(yàn);然后再進(jìn)行無損傷清洗，此時(shí)油墨涂布式的水晶片制備完畢。
[0017](6)鍍膜:在油墨耐受范圍內(nèi)使用真空鍍膜裝置進(jìn)行水晶片常溫或高溫鍍膜，并達(dá)到用戶使用要求。
[0018]優(yōu)選的，在上述水晶涂布式光學(xué)低通濾波器的制造方法中，在上述步驟(4)中關(guān)于水晶片表面進(jìn)行油墨的涂布，其中根據(jù)產(chǎn)品可視光透過率、耐熱性等要求選擇是否需要進(jìn)行前處理過程;所述前處理過程為:首先調(diào)整旋涂設(shè)備轉(zhuǎn)數(shù)，然后在水晶片上進(jìn)行前處理液的涂布，再進(jìn)行熱處理;前處理過程完畢之后再進(jìn)行油墨的涂布。
[0019]優(yōu)選的，在上述水晶涂布式光學(xué)低通濾波器的制造方法中，在上述步驟(4)中關(guān)于旋涂設(shè)備轉(zhuǎn)數(shù)的設(shè)定范圍在500rpm?4000rpm之間。
[0020]優(yōu)選的，在上述水晶涂布式光學(xué)低通濾波器的制造方法中，在上述步驟(4)中烘烤的設(shè)定溫度在85 °C?400 °C之間。
[0021]優(yōu)選的，在上述水晶涂布式光學(xué)低通濾波器的制造方法中，在上述步驟(5)中的所述油墨涂布式的水晶片厚度可以達(dá)到0.1mm以下。
[0022]經(jīng)由上述的技術(shù)方案可知，與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明公開提供了一種水晶涂布式光學(xué)低通濾波器，一方面將油墨涂布在水晶片上替換傳統(tǒng)使用的紅外吸收玻璃，不僅降低了產(chǎn)品的厚度，而且大大改善了傳統(tǒng)紅外吸收玻璃易脆、抗跌落性較差的情況;另一方面油墨涂布式的水晶片在制作過程中根據(jù)產(chǎn)品可視光透過率、耐熱性等要求選擇是否需要進(jìn)行前處理過程，不僅可以確保表面涂布量的偏差在允許的范圍內(nèi)，使光譜的半值偏差能精確控制在±1%以內(nèi)，而且油墨涂布水晶片的過程中可以有效避免涂布過程中灰塵附著、翹曲等情況的發(fā)生。目前油墨涂布式的水晶片厚度最薄可以達(dá)到0.1mm以下，從整體上提高了產(chǎn)品質(zhì)量。
【附圖說明】
[0023]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。
[0024]圖1附圖為傳統(tǒng)水晶涂布式光學(xué)低通濾波器的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0025]圖2附圖為本發(fā)明實(shí)施例1的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0026]圖3附圖為本發(fā)明實(shí)施例2的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0027]圖4附圖為本發(fā)明原石切割原理圖。
[0028]圖5附圖為本發(fā)明與傳統(tǒng)產(chǎn)品性能比較示意圖。
[0029]圖6附圖為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0030]在圖1中:
[0031 ] I，為UV-1R截止膜或IR膜、21，為-45°水晶片、22，為O。水晶片、23，為+45°水晶片、4’為AR膜。
[0032]在圖2中:
[0033]I為UV-1R截止膜或IR膜、21為-45°水晶片、22為0°水晶片、23為+45°水晶片、3為油墨層、4為AR膜。
[0034]在圖3中:
[0035]I為UV-1R截止膜或IR膜、22為0°水晶片、3為油墨層、4為AR膜。
[0036]在圖6中:
[0037]I為UV-1R截止膜或IR膜、2為水晶片、4為AR膜。
【具體實(shí)施方式】
[0038]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0039]本發(fā)明實(shí)施例公開了一種水晶涂布式光學(xué)低通濾波器，采用油墨涂布水晶片替換了傳統(tǒng)的玻璃，在具備水晶自身雙折射特性的同時(shí)又擁有類似于紅外吸收玻璃的效果;與傳統(tǒng)使用紅外吸收玻璃的OLPF相比，既降低了產(chǎn)品的厚度，又大大改善了傳統(tǒng)紅外吸收玻璃脆、抗跌落性差的情況。
[0040]本發(fā)明提供了一種水晶涂布式光學(xué)低通濾波器，包括:UV_IR截止膜1、水晶片2、油墨層3和AR膜4;其中UV-1R截止膜I可以由IR膜替換。
[0041]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，水晶片2針對不同型號(hào)的CCD與CMOS圖像傳感，以及兼顧不同方向所產(chǎn)生的雜訊可以由不同厚度、片數(shù)、角度的水晶片組合進(jìn)行替換;其中水晶片2是通過紫外膠進(jìn)行貼合的。
[0042]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，油墨層3是通過旋涂設(shè)備在水晶片上進(jìn)行涂布的，并且采用的油墨具備紅外吸收效果。
[0043]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，UV-1R截止膜1、AR膜4和IR膜均是通過真空鍍膜裝置蒸鍍的。
[0044]一種水晶涂布式光學(xué)低通濾波器的制造方法，包括如下步驟:
[0045](I)原石切割:與水晶Z軸約為45°夾角進(jìn)行切斷；
[0046](2)水晶的研磨:①粗研磨:在控制研磨壓力、磨削速度的條件下，將切斷后的水晶使用粗研磨材對水晶片厚度進(jìn)行加工，使水晶的厚度、平行度達(dá)到指定要求;②細(xì)研磨:在控制研磨壓力、磨削速度的條件下，使用細(xì)研磨材對經(jīng)過粗研磨的水晶片進(jìn)行厚度的加工，進(jìn)一步使水晶片的厚度、平行度達(dá)到指定標(biāo)準(zhǔn);③拋光:在控制拋光盤的壓力、拋光盤的轉(zhuǎn)速的條件下，使用拋光粉配比水對經(jīng)過細(xì)研磨的水晶片進(jìn)行厚度的加工，使水晶片的厚度、平行度、光圈達(dá)到指定指標(biāo)；
[0047](3)水晶片的清洗:將經(jīng)過步驟(2)處理的水晶片用自動(dòng)清洗機(jī)進(jìn)行外觀的清洗；
[0048](4)水晶片的涂布:在水晶片表面進(jìn)行油墨的涂布，首先通過調(diào)整旋涂設(shè)備的轉(zhuǎn)數(shù)和時(shí)間，控制水晶片上油墨的涂布量，然后進(jìn)行熱處理;最后進(jìn)行烘烤得到半成品；步驟(4)通過控制油墨的涂布量、烘烤溫度和烘烤時(shí)間使最終產(chǎn)品達(dá)到要求的光譜曲線，光譜的半值偏差精確控制在± I %以內(nèi)；
[0049](5)半成品的檢驗(yàn)和清洗:首先對步驟(4)制備的半成品進(jìn)行外觀、光學(xué)特性分布均一性的檢驗(yàn);然后再進(jìn)行無損傷清洗，此時(shí)油墨涂布式的水晶片制備完畢。
[0050](6)鍍膜:在油墨耐受范圍內(nèi)使用真空鍍膜裝置進(jìn)行水晶片常溫或高溫鍍膜，并達(dá)到用戶使用要求。
[0051]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，在上述步驟(4)中關(guān)于水晶片表面進(jìn)行油墨的涂布，其中根據(jù)產(chǎn)品可視光透過率、耐熱性等要求選擇是否需要進(jìn)行前處理過程;所述前處理過程為:首先調(diào)整旋涂設(shè)備轉(zhuǎn)數(shù)，然后在水晶片上進(jìn)行前處理液的涂布，再進(jìn)行熱處理;前處理過程完畢之后再進(jìn)行油墨的涂布。
[0052]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，在上述步驟(4)中關(guān)于旋涂設(shè)備轉(zhuǎn)數(shù)的設(shè)定范圍在 500rpm ?4000rpm 之間。
[0053]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，在上述步驟(4)中烘烤的設(shè)定溫度在85°C?400°C之間。
[0054]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，在上述步驟(5)中的所述油墨涂布式的水晶片厚度可以達(dá)到0.1mm以下。
[0055]實(shí)施例1
[0056]請參閱相關(guān)附圖為本發(fā)明提供的一種水晶涂布式光學(xué)低通濾波器，包括:UV_IR截止膜1、水晶片2、油墨層3和AR膜4;其中UV-1R截止膜I可以由IR膜替換。
[0057]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，水晶片2包含-45°水晶片21、0°水晶片22和+45°水晶片23;在-45°水晶片21的外表面設(shè)置有UV-1R截止膜I或IR膜，在+45°水晶片23的外表面貼合有油墨層3;其中水晶片2是通過紫外膠進(jìn)行貼合的。
[0058]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，水晶片2針對不同型號(hào)的CCD與CMOS圖像傳感，以及兼顧不同方向所產(chǎn)生的雜訊可以由不同厚度、片數(shù)、角度的水晶片組合進(jìn)行替換。
[0059]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，油墨層3是通過旋涂設(shè)備在水晶片上進(jìn)行涂布的，并且采用的油墨具備紅外吸收效果。
[0060]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，UV-1R截止膜1、AR膜4和IR膜均是通過真空鍍膜裝置蒸鍍的。
[0061]一種水晶涂布式光學(xué)低通濾波器的制造方法，包括如下步驟:
[0062](I)原石切割:與水晶Z軸約為45°夾角進(jìn)行切斷；
[0063](2)水晶的研磨:①粗研磨:在控制研磨壓力、磨削速度的條件下，將切斷后的水晶使用粗研磨材對水晶片厚度進(jìn)行加工，使水晶的厚度、平行度達(dá)到指定要求;②細(xì)研磨:在控制研磨壓力、磨削速度的條件下，使用細(xì)研磨材對經(jīng)過粗研磨的水晶片進(jìn)行厚度的加工，進(jìn)一步使水晶片的厚度、平行度達(dá)到指定標(biāo)準(zhǔn);③拋光:在控制拋光盤的壓力、拋光盤的轉(zhuǎn)速的條件下，使用拋光粉配比水對經(jīng)過細(xì)研磨的水晶片進(jìn)行厚度的加工，使水晶片的厚度、平行度、光圈達(dá)到指定指標(biāo)；
[0064](3)水晶片的清洗:將經(jīng)過步驟(2)處理的水晶片用自動(dòng)清洗機(jī)進(jìn)行外觀的清洗；
[0065](4)水晶片的涂布:在水晶片表面進(jìn)行油墨的涂布，首先通過調(diào)整旋涂設(shè)備的轉(zhuǎn)數(shù)和時(shí)間，控制水晶片上油墨的涂布量，然后進(jìn)行熱處理;最后進(jìn)行烘烤得到半成品；步驟(4)通過控制油墨的涂布量、烘烤溫度和烘烤時(shí)間使最終產(chǎn)品達(dá)到要求的光譜曲線，光譜的半值偏差精確控制在± I %以內(nèi)；
[0066](5)半成品的檢驗(yàn)和清洗:首先對步驟(4)制備的半成品進(jìn)行外觀、光學(xué)特性分布均一性的檢驗(yàn);然后再進(jìn)行無損傷清洗，此時(shí)油墨涂布式的水晶片制備完畢。
[0067](6)鍍膜:在油墨耐受范圍內(nèi)使用真空鍍膜裝置進(jìn)行水晶片常溫或高溫鍍膜，并達(dá)到用戶使用要求。
[0068]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，在上述步驟(4)中關(guān)于水晶片表面進(jìn)行油墨的涂布，其中根據(jù)產(chǎn)品可視光透過率、耐熱性等要求選擇是否需要進(jìn)行前處理過程;前處理過程為:首先調(diào)整旋涂設(shè)備轉(zhuǎn)數(shù)，然后在水晶片上進(jìn)行前處理液的涂布，再進(jìn)行熱處理；前處理過程完畢之后再進(jìn)行油墨的涂布。
[0069]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，在上述步驟(4)中關(guān)于旋涂設(shè)備轉(zhuǎn)數(shù)的設(shè)定范圍在 500rpm ?4000rpm 之間。
[0070]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，在上述步驟(4)中烘烤的設(shè)定溫度在85°C?400 °C之間。
[0071]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，在上述步驟(5)中的油墨涂布式的水晶片厚度可以達(dá)到0.1mm以下。
[0072]實(shí)施例2
[0073]請參閱相關(guān)附圖為本發(fā)明提供的一種水晶涂布式光學(xué)低通濾波器，包括:UV_IR截止膜1、0°水晶片22、油墨層3和AR膜4;其中UV-1R截止膜I可以由IR膜替換。
[0074]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，0°水晶片22針對不同型號(hào)的CXD與CMOS圖像傳感，以及兼顧不同方向所產(chǎn)生的雜訊可以由不同厚度、片數(shù)、角度的水晶片組合進(jìn)行替換。
[0075]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，油墨層3是通過旋涂設(shè)備在水晶片上進(jìn)行涂布的，并且采用的油墨具備紅外吸收效果。
[0076]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，UV-1R截止膜1、AR膜4和IR膜均是通過真空鍍膜裝置蒸鍍的。
[0077]—種水晶涂布式光學(xué)低通濾波器的制造方法，包括如下步驟:
[0078](I)原石切割:與水晶Z軸約為45°夾角進(jìn)行切斷；
[0079](2)水晶的研磨:①粗研磨:在控制研磨壓力、磨削速度的條件下，將切斷后的水晶使用粗研磨材對水晶片厚度進(jìn)行加工，使水晶的厚度、平行度達(dá)到指定要求;②細(xì)研磨:在控制研磨壓力、磨削速度的條件下，使用細(xì)研磨材對經(jīng)過粗研磨的水晶片進(jìn)行厚度的加工，進(jìn)一步使水晶片的厚度、平行度達(dá)到指定標(biāo)準(zhǔn);③拋光:在控制拋光盤的壓力、拋光盤的轉(zhuǎn)速的條件下，使用拋光粉配比水對經(jīng)過細(xì)研磨的水晶片進(jìn)行厚度的加工，使水晶片的厚度、平行度、光圈達(dá)到指定指標(biāo)；
[0080](3)水晶片的清洗:將經(jīng)過步驟(2)處理的水晶片用自動(dòng)清洗機(jī)進(jìn)行外觀的清洗；[0081 ] (4)水晶片的涂布:在水晶片表面進(jìn)行油墨的涂布，首先通過調(diào)整旋涂設(shè)備的轉(zhuǎn)數(shù)和時(shí)間，控制水晶片上油墨的涂布量，然后進(jìn)行熱處理;最后進(jìn)行烘烤得到半成品；步驟(4)通過控制油墨的涂布量、烘烤溫度和烘烤時(shí)間使最終產(chǎn)品達(dá)到要求的光譜曲線，光譜的半值偏差精確控制在± I %以內(nèi)；
[0082](5)半成品的檢驗(yàn)和清洗:首先對步驟(4)制備的半成品進(jìn)行外觀、光學(xué)特性分布均一性的檢驗(yàn);然后再進(jìn)行無損傷清洗，此時(shí)油墨涂布式的水晶片制備完畢。
[0083](6)鍍膜:在油墨耐受范圍內(nèi)使用真空鍍膜裝置進(jìn)行水晶片常溫或高溫鍍膜，并達(dá)到用戶使用要求。
[0084]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，在上述步驟(4)中關(guān)于水晶片表面進(jìn)行油墨的涂布，其中根據(jù)產(chǎn)品可視光透過率、耐熱性等要求選擇是否需要進(jìn)行前處理過程;前處理過程為:首先調(diào)整旋涂設(shè)備轉(zhuǎn)數(shù)，然后在水晶片上進(jìn)行前處理液的涂布，再進(jìn)行熱處理；前處理過程完畢之后再進(jìn)行油墨的涂布。
[0085]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，在上述步驟(4)中關(guān)于旋涂設(shè)備轉(zhuǎn)數(shù)的設(shè)定范圍在 500rpm ?4000rpm 之間。
[0086]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，在上述步驟(4)中烘烤的設(shè)定溫度在85°C?400 °C之間。
[0087]為了進(jìn)一步優(yōu)化上述技術(shù)方案，在上述步驟(5)中的油墨涂布式的水晶片厚度可以達(dá)到0.1mm以下。
[0088]本說明書中各個(gè)實(shí)施例采用遞進(jìn)的方式描述，每個(gè)實(shí)施例重點(diǎn)說明的都是與其他實(shí)施例的不同之處，各個(gè)實(shí)施例之間相同相似部分互相參見即可。對于實(shí)施例公開的裝置而言，由于其與實(shí)施例公開的方法相對應(yīng)，所以描述的比較簡單，相關(guān)之處參見方法部分說明即可。
[0089]對所公開的實(shí)施例的上述說明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本發(fā)明。對這些實(shí)施例的多種修改對本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下，在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此，本發(fā)明將不會(huì)被限制于本文所示的這些實(shí)施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種水晶涂布式光學(xué)低通濾波器，其特征在于，包括:UV-1R截止膜、水晶片、油墨層和AR膜;其中所述UV-1R截止膜可以由IR膜替換。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的水晶涂布式光學(xué)低通濾波器，其特征在于，所述水晶片針對不同型號(hào)的CCD與CMOS圖像傳感，以及兼顧不同方向所產(chǎn)生的雜訊可以由不同厚度、片數(shù)、角度的水晶片組合進(jìn)行替換;其中所述水晶片是通過紫外膠進(jìn)行貼合的。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的水晶涂布式光學(xué)低通濾波器，其特征在于，所述油墨層是通過旋涂設(shè)備在所述水晶片上進(jìn)行涂布的，并且采用的油墨具備紅外吸收效果。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的水晶涂布式光學(xué)低通濾波器，其特征在于，所述UV-1R截止膜、AR膜和所述IR膜均是通過真空鍍膜裝置蒸鍍的。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述水晶涂布式光學(xué)低通濾波器的制造方法，其特征在于，包括如下步驟: (1)原石切割:與水晶Z軸約為45°夾角進(jìn)行切斷； (2)水晶的研磨:①粗研磨:在控制研磨壓力、磨削速度的條件下，將切斷后的水晶使用粗研磨材對水晶片厚度進(jìn)行加工，使水晶的厚度、平行度達(dá)到指定要求;②細(xì)研磨:在控制研磨壓力、磨削速度的條件下，使用細(xì)研磨材對經(jīng)過粗研磨的水晶片進(jìn)行厚度的加工，進(jìn)一步使水晶片的厚度、平行度達(dá)到指定標(biāo)準(zhǔn);③拋光:在控制拋光盤的壓力、拋光盤的轉(zhuǎn)速的條件下，使用拋光粉配比水對經(jīng)過細(xì)研磨的水晶片進(jìn)行厚度的加工，使水晶片的厚度、平行度、光圈達(dá)到指定指標(biāo)； (3)水晶片的清洗:將經(jīng)過步驟(2)處理的水晶片用自動(dòng)清洗機(jī)進(jìn)行外觀的清洗； (4)水晶片的涂布:在水晶片表面進(jìn)行油墨的涂布，首先通過調(diào)整旋涂設(shè)備的轉(zhuǎn)數(shù)和時(shí)間，控制水晶片上油墨的涂布量，然后進(jìn)行熱處理;最后進(jìn)行烘烤得到半成品；步驟(4)通過控制油墨的涂布量、烘烤溫度和烘烤時(shí)間使最終產(chǎn)品達(dá)到要求的光譜曲線，光譜的半值偏差精確控制在± I %以內(nèi)； (5)半成品的檢驗(yàn)和清洗:首先對步驟(4)制備的半成品進(jìn)行外觀、光學(xué)特性分布均一性的檢驗(yàn);然后再進(jìn)行無損傷清洗，此時(shí)油墨涂布式的水晶片制備完畢。 (6)鍍膜:在油墨耐受范圍內(nèi)使用真空鍍膜裝置進(jìn)行水晶片常溫或高溫鍍膜，并達(dá)到用戶使用要求。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的水晶涂布式光學(xué)低通濾波器的制造方法，其特征在于，在上述步驟(4)中關(guān)于水晶片表面進(jìn)行油墨的涂布，其中根據(jù)產(chǎn)品可視光透過率、耐熱性等要求選擇是否需要進(jìn)行前處理過程;所述前處理過程為:首先調(diào)整旋涂設(shè)備轉(zhuǎn)數(shù)，然后在水晶片上進(jìn)行前處理液的涂布，再進(jìn)行熱處理;前處理過程完畢之后再進(jìn)行油墨的涂布。7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的水晶涂布式光學(xué)低通濾波器的制造方法，其特征在于，在上述步驟(4)中關(guān)于旋涂設(shè)備轉(zhuǎn)數(shù)的設(shè)定范圍在500rpm?4000rpm之間。8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的水晶涂布式光學(xué)低通濾波器的制造方法，其特征在于，在上述步驟(4)中烘烤的設(shè)定溫度在85°C?400°C之間。9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的水晶涂布式光學(xué)低通濾波器的制造方法，其特征在于，在上述步驟(5)中的所述油墨涂布式的水晶片厚度可以達(dá)到0.1mm以下。
【文檔編號(hào)】G02B27/46GK106094241SQ201610471398
【公開日】2016年11月9日
【申請日】2016年6月22日
【發(fā)明人】葛文志, 葛文琴, 王懿偉, 矢島大和, 閃雷雷
【申請人】溫嶺市現(xiàn)代晶體有限公司