光刻膠納米壓印復(fù)合模板的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種納米壓印器件，具體涉及一種光刻膠納米壓印復(fù)合模板。
【背景技術(shù)】
[0002]光刻膠又稱光致抗蝕劑，由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成分組成的對光敏感的混合液體。感光樹脂經(jīng)光照后，在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化反應(yīng)，使得這種材料的物理性能，特別是溶解性、親合性等發(fā)生明顯變化。經(jīng)適當(dāng)?shù)娜軇┨幚?，溶去可溶性部分，得到所需圖像，因此光刻膠被廣泛地應(yīng)用于電路板的制作之中。
[0003]對于目前的納米壓印復(fù)合模板，其壓印結(jié)構(gòu)都是印制與PDMS層上的。中國專利CN203630508U和CN203025473U便公開了兩種采用PDMS層印制壓印結(jié)構(gòu)的納米壓印復(fù)合模板。然而PDMS層的制作成本普遍偏高，并且其固化所需要的時間較長，一般需要3個小時左右，這樣的話對于納米壓印復(fù)合模板的制作來講，一定程度影響了其生產(chǎn)效率。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]為了解決上述技術(shù)問題，本實用新型提供了一種可以降低成本、提高生產(chǎn)效率的光刻膠納米壓印復(fù)合模板。
[0005]為了達(dá)到上述目的，本實用新型的技術(shù)方案如下:
[0006]光刻膠納米壓印復(fù)合模板，其包括:
[0007]基板；
[0008]光刻膠層，其設(shè)置于基板上，該光刻膠層的表面具有壓印結(jié)構(gòu)。
[0009]本實用新型通過設(shè)置光刻膠層，并在其上印制壓印結(jié)構(gòu)，用以替代現(xiàn)有技術(shù)中的具有壓印結(jié)構(gòu)的PDMS層，利用光刻膠的特性，相較于PDMS層可以降低制造成本，同時光刻膠由于對光敏感，其固化所需時間相較于PDMS層可以大大降低(光刻膠的固化時間大概需要10分鐘左右)，從而可以使得納米壓印復(fù)合模板的生產(chǎn)效率得到提高。同時，使用光刻膠層還可以省去膠黏層的使用，進(jìn)一步地降低制造成本。
[0010]在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上，本實用新型還可以作如下改進(jìn):
[0011]作為優(yōu)選的方案，上述的光刻膠層為UV膠層。
[0012]采用上述優(yōu)選的方案，利用UV膠的特性，可以進(jìn)一步地提高納米壓印復(fù)合模板的生產(chǎn)效率。
[0013]作為優(yōu)選的方案，上述的基板為塑料板或者玻璃板。
[0014]采用上述優(yōu)選的方案，可以提高整個納米壓印復(fù)合模板的穩(wěn)固性和使用壽命。
[0015]作為優(yōu)選的方案，上述的塑料板為PET或PC。
[0016]采用上述優(yōu)選的方案，可以進(jìn)一步地提高整個納米壓印復(fù)合模板的穩(wěn)固性和使用壽命O
【附圖說明】
[0017]圖1為本實用新型的光刻膠納米壓印復(fù)合模板的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0018]其中，1.基板2.光刻膠層21壓印結(jié)構(gòu)。
【具體實施方式】
[0019]下面結(jié)合附圖詳細(xì)說明本實用新型的優(yōu)選實施方式。
[0020]為了達(dá)到本實用新型的目的，如圖1所示，在本實用新型的光刻膠納米壓印復(fù)合模板的其中一些實施方式中，其包括:基板I ;光刻膠層2，其設(shè)置于基板I上，該光刻膠層2的表面具有壓印結(jié)構(gòu)21。本復(fù)合模板通過設(shè)置光刻膠層，并在其上印制壓印結(jié)構(gòu)，用以替代現(xiàn)有技術(shù)中的具有壓印結(jié)構(gòu)的PDMS層，利用光刻膠的特性，相較于PDMS層可以降低制造成本，同時光刻膠由于對光敏感，其固化所需時間相較于PDMS層可以大大降低(光刻膠的固化時間大概需要10分鐘左右)，從而可以使得納米壓印復(fù)合模板的生產(chǎn)效率得到提高。同時，使用光刻膠層還可以省去膠黏層的使用，進(jìn)一步地降低制造成本。
[0021]為了進(jìn)一步地優(yōu)化本實用新型的實施效果，在本實用新型的光刻膠納米壓印復(fù)合模板的另一些實施方式中，在上述內(nèi)容的基礎(chǔ)上，上述的光刻膠層2為UV膠層。采用該實施方式的方案，利用UV膠的特性，可以進(jìn)一步地提高納米壓印復(fù)合模板的生產(chǎn)效率。當(dāng)然，除了 UV膠層，我們也可以采用其他已知的光刻膠類型，在此不再一一列舉。
[0022]為了進(jìn)一步地優(yōu)化本實用新型的實施效果，在本實用新型的光刻膠納米壓印復(fù)合模板的另一些實施方式中，在上述內(nèi)容的基礎(chǔ)上，上述的基板為塑料板或者玻璃板，該塑料板具體可以為PET或者PC。采用該實施方式的方案，可以提高整個納米壓印復(fù)合模板的穩(wěn)固性和使用壽命。
[0023]本實用新型的光刻膠納米壓印復(fù)合模板的制作過程為:在基板上涂覆UV膠等光刻膠，然后采用柔性壓印的方式在上面壓印制作出微納結(jié)構(gòu)，脫模后即得到本實用新型的光刻膠納米壓印復(fù)合模板。
[0024]以上所述的僅是本實用新型的優(yōu)選實施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實用新型創(chuàng)造構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本實用新型的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項】
1.光刻膠納米壓印復(fù)合模板，其特征在于，包括: 基板； 光刻膠層，其設(shè)置于所述基板上，所述光刻膠層的表面具有壓印結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻膠納米壓印復(fù)合模板，其特征在于，所述光刻膠層為UV膠層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光刻膠納米壓印復(fù)合模板，其特征在于，所述基板為塑料板或者玻璃板。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光刻膠納米壓印復(fù)合模板，其特征在于，所述塑料板為PET或PC0
【專利摘要】本實用新型公開了一種光刻膠納米壓印復(fù)合模板，其包括：基板；光刻膠層，其設(shè)置于基板上，該光刻膠層的表面具有壓印結(jié)構(gòu)。本實用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，可以降低制造成本，并且提高納米壓印復(fù)合模板的生產(chǎn)效率。
【IPC分類】G03F7-00
【公開號】CN204287726
【申請?zhí)枴緾N201420812246
【發(fā)明人】史曉華
【申請人】蘇州光舵微納科技有限公司
【公開日】2015年4月22日
【申請日】2014年12月18日