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      一種工業(yè)膠片洗片架組裝置的制造方法

      文檔序號(hào):8681358閱讀:350來源:國知局
      一種工業(yè)膠片洗片架組裝置的制造方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本實(shí)用新型涉及射線檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域,更具體地說,涉及一種用于化工工藝管道射線檢測(cè)的工業(yè)膠片洗片架組裝置。
      【背景技術(shù)】
      [0002]通常,化工工藝管道射線檢測(cè)主要過程如下:1.射線機(jī)的搬運(yùn)及固定、2.焊縫清刷透照、3.位置的標(biāo)記編號(hào)、4.底片中號(hào)碼的編排、5.底片的固定、6.開機(jī)拍照、7.暗室處理、8.底片鑒定、9.技術(shù)報(bào)告。其中暗室處理是射線照相檢驗(yàn)的一道重要工藝,被射線曝光的帶有潛影的膠片經(jīng)過暗室處理后變?yōu)閹в锌梢娪跋竦牡灼?,底片質(zhì)量好壞與暗室工作的技術(shù)水平及操作正確與否密切相關(guān),以往的單張底片洗片費(fèi)時(shí)費(fèi)力且可能同一焊口同一透照條件在顯定影處理環(huán)節(jié)不同步導(dǎo)致底片質(zhì)量不能統(tǒng)一,影響檢測(cè)效果。
      [0003]中國專利號(hào):ZL91224899.8,公開公告日:1992年5月13日,專利名稱:感光膠片沖洗籃,該專利采用框架結(jié)構(gòu)保護(hù)膠片,多規(guī)格多張膠片同時(shí)沖洗,顯像均勻一致,是一種介于傳統(tǒng)感光膠片沖洗方法和感光膠片自動(dòng)沖洗機(jī)之間的新型洗片系統(tǒng)。該專利所屬技術(shù)領(lǐng)域雖然不是射線檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域,但是其提出的裝置也能解決射線檢測(cè)的工業(yè)膠片一張張洗片帶來的洗片質(zhì)量不均的問題,但是該技術(shù)方案中抽取底片并不方便,會(huì)因操作人員水平參差不齊操作不當(dāng)而出現(xiàn)劃傷片基、底片顯影粘貼、手紋損傷底片等的情況。
      【實(shí)用新型內(nèi)容】
      [0004]1.實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題
      [0005]本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中工業(yè)射線照相檢測(cè)操作人員水平參差不齊,而導(dǎo)致在暗室手動(dòng)洗片中有些人操作不當(dāng)易發(fā)生的劃傷片基、底片顯影粘貼、同一焊口同一透照條件在顯定影處理環(huán)節(jié)不同步導(dǎo)致底片質(zhì)量不能統(tǒng)一、手紋污染底片等問題,且采用本實(shí)用新型的技術(shù)方案,同時(shí)也解決了洗片效率低下的問題。
      [0006]2.技術(shù)方案
      [0007]為達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案為:
      [0008]本實(shí)用新型一種工業(yè)膠片洗片架組裝置,包括框架、承插座架和升降機(jī)構(gòu);所述的框架為籃狀長方體框架結(jié)構(gòu),框架內(nèi)均勻設(shè)置有若干組承插座架,承插座架用于垂直插入洗片架;所述的升降機(jī)構(gòu)位于框架內(nèi)部下方,用于控制膠片共同升降,升降機(jī)構(gòu)包括卡槽、升降平臺(tái)、桿扣和支撐桿,所述的升降平臺(tái)位于框架內(nèi)部洗片架的下方,所述的升降平臺(tái)底部設(shè)有支撐桿用于支撐升降平臺(tái),所述的框架與洗片架平行的一側(cè)設(shè)有卡槽,所述的支撐桿一端設(shè)有桿扣,所述的桿扣延伸出卡槽,桿扣可以卡在卡槽不同位置從而控制支撐桿的升降;所述的洗片架插口下方設(shè)有橫梁,所述的橫梁上設(shè)有一熒光層。
      [0009]作為本實(shí)用新型更進(jìn)一步的改進(jìn),所述的承插座架每兩組之間間隔3?10mm。
      [0010]作為本實(shí)用新型更進(jìn)一步的改進(jìn),還包括提手,所述提手的設(shè)置于框架上端兩側(cè)。
      [0011]作為本實(shí)用新型更進(jìn)一步的改進(jìn),所述的升降平臺(tái)上開有第一排水孔,第一排水孔為長條孔;所述的洗片架上開有第二排水孔和第三排水孔,所述的第二排水孔為方孔,所述的第三排水孔為長條孔。
      [0012]3.有益效果
      [0013]采用本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案,與現(xiàn)有技術(shù)相比,具有如下有益效果:
      [0014](I)本實(shí)用新型的一種工業(yè)膠片洗片架組裝置,洗片架數(shù)量可以根據(jù)不同工藝管道管徑所需不同底片數(shù)量來調(diào)節(jié),同時(shí)洗多張底片,對(duì)于同一焊口同一透照條件的底片的處理過程能保持同步,不會(huì)過度依賴操作人員的技術(shù)水平,能夠統(tǒng)一洗片質(zhì)量,檢測(cè)結(jié)果判斷更為準(zhǔn)確;也減少因?yàn)閱螐埾雌^多的手續(xù),減少底片污染的機(jī)會(huì),在洗片質(zhì)量提高的同時(shí)也能提高效率。
      [0015](2)本實(shí)用新型的一種工業(yè)膠片洗片架組裝置,升降機(jī)構(gòu)位于框架內(nèi)部洗片架下方,能夠批量控制洗片架的同步升降,將洗片架從框架中升出后,手持洗片架外框抽取出膠片,避免直接從框架中抽取洗片架時(shí)手與膠片的過多接觸,影響膠片質(zhì)量。
      [0016](3)本實(shí)用新型的一種工業(yè)膠片洗片架組裝置,洗片架插口下方設(shè)有橫梁,橫梁上設(shè)有一熒光層,提高操作人員在暗室環(huán)境中的作業(yè)速度,提高效率。
      [0017](4)本實(shí)用新型的一種工業(yè)膠片洗片架組裝置,承插座架每組之間間隔3?10mm,能保證洗片架與洗片架之間保持距離,防止底片在顯影與定影過程中會(huì)粘在一起,可以克服底片在顯影過程中相互碰撞劃傷、粘貼、化學(xué)反應(yīng)不充分等問題。
      [0018](5)本實(shí)用新型的一種工業(yè)膠片洗片架組裝置,第一排水孔、第二排水孔和第三排水孔的設(shè)置,不僅減輕了裝置的自身重量,同時(shí)方便顯定影過程中化學(xué)殘留的快速流出,防止顯定影殘留影響底片以及參與反應(yīng)的化學(xué)藥劑。
      [0019](6)本實(shí)用新型的一種工業(yè)膠片洗片架組裝置,結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理,原理簡(jiǎn)單,便于推廣使用。
      【附圖說明】
      [0020]圖1為本實(shí)用新型的一種工業(yè)膠片洗片架組裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0021]圖2為本實(shí)用新型的一種工業(yè)膠片洗片架組裝置的俯視圖;
      [0022]圖3為本實(shí)用新型的一種工業(yè)膠片洗片架組裝置的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)圖;
      [0023]圖4為本實(shí)用新型中插入式洗片架的結(jié)構(gòu)示意圖。
      [0024]不意圖中的標(biāo)號(hào)說明:
      [0025]1、框架;2、承插座架;3、提手;4、卡槽;5、升降平臺(tái);51、桿扣;52、第一排水孔;6、洗片架;61、插口 ;62、橫梁;63、第二排水孔;64、第三排水孔;8、支撐桿。
      【具體實(shí)施方式】
      [0026]為進(jìn)一步了解本實(shí)用新型的內(nèi)容,結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作詳細(xì)描述。
      [0027]實(shí)施例1
      [0028]如圖1、圖2、圖3、圖4所示,本實(shí)施例的一種工業(yè)膠片洗片架組裝置,包括框架1、承插座架2、提手3、洗片架6、支架7和升降機(jī)構(gòu);所述的框架I為籃狀長方體框架結(jié)構(gòu),框架I內(nèi)均勻設(shè)置有若干組承插座架2,承插座架2為4個(gè)槽,分別位于框架的4個(gè)長度方向的桿上,每組承插座架2的4個(gè)槽對(duì)應(yīng)用于垂直插入洗片架6,承插座架2每組之間間隔3?10mm,具體在本實(shí)施例中,兩組座架2之間間隔4_,所述的洗片架6插口 61下方設(shè)有橫梁62,所述的橫梁62上設(shè)有一熒光層,膠片插入洗片架6的插口 61,洗片架6承插入承插座架2中,能夠根據(jù)不同工藝管道管徑所需不同底片數(shù)量同時(shí)洗多張底片,保證質(zhì)量統(tǒng)一,提高洗片效率。
      [0029]所述的升降機(jī)構(gòu)位于框架I內(nèi)部下方,用于控制膠片共同升降,升降機(jī)構(gòu)包括卡槽4、升降平臺(tái)5、桿扣51和支撐桿8,所述的升降平臺(tái)5位于框架I內(nèi)部洗片架6的下方,所述的升降平臺(tái)5底部設(shè)有支撐桿8用于支撐升降平臺(tái)5,所述的框架I與洗片架6平行的一側(cè)設(shè)有卡槽4,所述的支撐桿8 一端設(shè)有桿扣51,所述的桿扣51延伸出卡槽4,桿扣51可以卡在卡槽4不同位置從而控制支撐桿8的升降,支撐桿8的升降帶動(dòng)升降平臺(tái)5的升降使得位于升降平臺(tái)5上方的洗片架6同時(shí)升降,底片被同時(shí)升起后再行抽取,避免直接從框架中抽取洗片架手與膠片的過多接觸,影響膠片質(zhì)量。所述的升降平臺(tái)5上開有第一排水孔52,第一排水孔52為長條孔;所述的洗片架6上開有第二排水孔63和第三排水孔64,所述的第二排水孔63為方孔,所述的第三排水孔64為長條孔,不僅減輕了裝置的自身重量,同時(shí)方便顯定影過程中化學(xué)殘留的快速流出,防止顯定影殘留影響底片以及參與反應(yīng)的化學(xué)藥劑。
      [0030]以上示意性的對(duì)本實(shí)用新型及其實(shí)施方式進(jìn)行了描述,該描述沒有限制性,附圖中所示的也只是本實(shí)用新型的實(shí)施方式之一,實(shí)際的結(jié)構(gòu)并不局限于此。所以,如果本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員受其啟示,在不脫離本實(shí)用新型創(chuàng)造宗旨的情況下,不經(jīng)創(chuàng)造性的設(shè)計(jì)出與該技術(shù)方案相似的結(jié)構(gòu)方式及實(shí)施例,均應(yīng)屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種工業(yè)膠片洗片架組裝置,包括框架(I),其特征在于:還包括承插座架(2)、洗片架(6)和升降機(jī)構(gòu);所述的框架(I)為籃狀長方體框架結(jié)構(gòu),框架(I)內(nèi)均勻設(shè)置有若干組承插座架(2),承插座架(2)用于垂直承插洗片架(6);所述的升降機(jī)構(gòu)位于框架(I)內(nèi)部下方,用于控制膠片共同升降,升降機(jī)構(gòu)包括卡槽(4)、升降平臺(tái)(5)、桿扣(51)和支撐桿(8),所述的升降平臺(tái)(5)位于框架⑴內(nèi)部洗片架(6)的下方,所述的升降平臺(tái)(5)底部設(shè)有支撐桿(8)用于支撐升降平臺(tái)(5),所述的框架(I)與洗片架(6)平行的一側(cè)設(shè)有卡槽(4),所述的支撐桿⑶一端設(shè)有桿扣(51),所述的桿扣(51)延伸出卡槽(4),桿扣(51)可以卡在卡槽(4)不同位置從而控制支撐桿(8)的升降;所述的洗片架(6)插口 ¢1)下方設(shè)有橫梁(62),所述的橫梁¢2)上設(shè)有一熒光層。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種工業(yè)膠片洗片架組裝置,其特征在于:所述的承插座架(2)每兩組之間間隔3?10mm。
      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種工業(yè)膠片洗片架組裝置,其特征在于:還包括提手(3),所述的提手(3)設(shè)置于框架(I)上端兩側(cè)。
      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種工業(yè)膠片洗片架組裝置,其特征在于:所述的升降平臺(tái)(5)上開有第一排水孔(52),第一排水孔(52)為長條孔;所述的洗片架(6)上開有第二排水孔¢3)和第三排水孔(64),所述的第二排水孔¢3)為方孔,所述的第三排水孔¢4)為長條孔。
      【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種工業(yè)膠片洗片架組裝置,屬于射線檢測(cè)領(lǐng)域。本實(shí)用新型的框架為籃狀長方體框架結(jié)構(gòu),框架內(nèi)均勻設(shè)置有若干組承插座架,用于垂直插入洗片架;升降機(jī)構(gòu)位于框架內(nèi)部洗片架下方的升降平臺(tái),設(shè)于升降平臺(tái)底部用于支撐升降平臺(tái)的支撐桿,設(shè)于框架與洗片架平行一側(cè)的卡槽,設(shè)于支撐桿一端的桿扣;桿扣延伸出卡槽,可以卡在卡槽不同位置從而控制支撐桿的升降;洗片架插口下方設(shè)有橫梁,橫梁上設(shè)有一熒光層。本實(shí)用新型可以同時(shí)洗多張底片,統(tǒng)一洗片質(zhì)量,不易發(fā)生因技術(shù)人員操作不當(dāng)發(fā)生的劃傷片基、底片顯影粘貼、手紋污染底片等問題,且洗片效率大大提高。
      【IPC分類】G03D13-12
      【公開號(hào)】CN204389873
      【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520112135
      【發(fā)明人】孫樹楠, 景衛(wèi)東, 嚴(yán)恒靜, 徐德偉, 馬鳳毅, 魏民, 繆育, 吳懷明, 黃求軍
      【申請(qǐng)人】中國化學(xué)工程第三建設(shè)有限公司, 安徽三興檢測(cè)有限公司
      【公開日】2015年6月10日
      【申請(qǐng)日】2015年2月15日
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