高密度積層板制程中一種酸性蝕刻機(jī)顯影段噴淋裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及酸性蝕刻機(jī)顯影段噴淋系統(tǒng)改造，尤其是高密度積層板制程中一 種酸性蝕刻機(jī)顯影段噴淋裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] 在工藝流程"前處理一覆干膜一曝光一顯影一蝕刻一去膜"中，其中"曝光一顯影" 是干膜發(fā)生聚合反應(yīng)后并形成線路的過程，"曝光"工藝流程是通過曝光燈管的平行光照射 在底片上，對需要形成線路的部分進(jìn)行照射使干膜發(fā)生聚合反應(yīng)，再通過"顯影"工藝流程 中顯影液與干膜相互作用，溶解未發(fā)生聚合反應(yīng)的干膜部分，使干膜在進(jìn)入"蝕刻"工藝流 程前完成對需要形成線路部分銅面的保護(hù)作用。
[0003] "顯影"工藝流程中的主要影響參數(shù)為：噴淋壓力、顯影液濃度和溫度。在三者滿足 工藝設(shè)定的前提下加工出適合"蝕刻"工藝流程需求的線路保護(hù)層。其中"噴淋壓力"對于 干膜邊緣的粗糙度和顯影后干膜的尺寸起著至關(guān)重要的作用，同時(shí)也影響蝕刻后形成線路 的尺寸。"噴淋壓力"與設(shè)備噴盤距離傳送X軸中心的距離和噴嘴的設(shè)計(jì)有關(guān)。噴嘴的設(shè)計(jì) 包含噴嘴角度和開口尺寸。錐形噴嘴與噴盤連接處為密閉十字設(shè)計(jì)且不能拆卸，對于保養(yǎng) 難度很大，且容易堵塞，堵塞后噴淋壓力降低影響顯影后形成的線路間距。 【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004] 針對上述存在的問題，本實(shí)用新型的目的是提供一種提高顯影上下面一致性的酸 性蝕刻機(jī)顯影段噴淋裝置。
[0005] 本實(shí)用新型的技術(shù)方案是：高密度積層板制程中一種酸性蝕刻機(jī)顯影段噴淋裝 置，包括槽體1、連接裝置2、上噴淋裝置3、傳送帶4、下噴淋裝置5、噴盤6,所述傳送帶4 與槽體1連接，所述噴盤6以傳送帶4為軸通過連接裝置2與槽體1對稱連接，所述上噴淋 裝置3和下噴淋裝置5與噴盤6連接，所述上噴淋裝置3和下噴淋裝置5均采用扇形噴嘴。
[0006] 所述上噴淋裝置3與下噴淋裝置5之間的距離在25-27cm之間。
[0007] 與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是：
[0008] (1)本實(shí)用新型采用扇形噴嘴，提高上下噴淋面形成線路后線寬和間距一致性。
[0009] (2)本實(shí)用新型的扇形噴嘴較錐形噴嘴更容易保養(yǎng)和維護(hù)，方便員工操作。
[0010] (3)本實(shí)用新型的扇形噴嘴較錐形噴嘴不容易堵塞，降低設(shè)備維修率。
【附圖說明】
[0011] 圖1為本實(shí)用新型的示意圖。
[0012] 圖2為扇形噴嘴示意圖。
[0013] 圖3為錐形噴嘴示意圖。
[0014] 圖4為改造前上噴淋效果示意圖。
[0015] 圖5為改造后上噴淋效果示意圖。
[0016] 圖6為改造前下噴淋效果示意圖。
[0017] 圖7為改造后下噴淋效果示意圖。
[0018] 圖中：1-槽體，2-連接裝置，3-上噴淋裝置，4-傳送帶，5-下噴淋裝置，6-噴盤。
【具體實(shí)施方式】
[0019] 下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說明。
[0020] 如圖所示，高密度積層板制程中一種酸性蝕刻機(jī)顯影段噴淋裝置，包括槽體1、連 接裝置2、上噴淋裝置3、傳送帶4、下噴淋裝置5、噴盤6,傳送帶4與槽體1連接，噴盤6以 傳送帶4為軸通過連接裝置2與槽體1對稱連接，上噴淋裝置3和下噴淋裝置5與噴盤6 連接，上噴淋裝置3與下噴淋裝置5之間的距離在25-27cm之間，上噴淋裝置3和下噴淋裝 置5均采用扇形噴嘴。
[0021] 使用時(shí)，待處理物件通過傳送帶4勻速移動，通過上噴淋裝置3和下噴淋裝置5對 其進(jìn)行噴淋。原顯影段噴淋系統(tǒng)中噴嘴的設(shè)計(jì)方式為上噴淋為扇形噴嘴，下噴淋為錐形噴 嘴，實(shí)際加工產(chǎn)品中帶來了問題，下噴淋面所形成的線路較上噴淋面所形成的線路間距小， 導(dǎo)致在加工中兩面存在差異，蝕刻后易出現(xiàn)上板面線細(xì)，下板面毛邊大甚至欠腐等缺陷問 題。通過顯影后線寬間距測量和顯影點(diǎn)測試，較之前的噴淋設(shè)計(jì)有一定的改善，顯影上下面 一致性更好（見表1)。
[0022] 表1改造前后噴淋設(shè)計(jì)顯影點(diǎn)測試結(jié)果。
[0023]表 1
[0024]
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 高密度積層板制程中一種酸性蝕刻機(jī)顯影段噴淋裝置，其特征在于，包括槽體（1)、 連接裝置（2)、上噴淋裝置（3)、傳送帶（4)、下噴淋裝置（5)、噴盤（6)，所述傳送帶（4)與 槽體（1)連接，所述噴盤（6)以傳送帶（4)為軸通過連接裝置（2)與槽體（1)對稱連接，所 述上噴淋裝置（3)和下噴淋裝置（5)與噴盤（6)連接，所述上噴淋裝置（3)和下噴淋裝置 (5)均采用扇形噴嘴。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的高密度積層板制程中一種酸性蝕刻機(jī)顯影段噴淋裝置，其特 征在于，所述上噴淋裝置（3)與下噴淋裝置（5)之間的距離在25-27cm之間。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了高密度積層板制程中一種酸性蝕刻機(jī)顯影段噴淋裝置，包括槽體(1)、連接裝置(2)、上噴淋裝置(3)、傳送帶(4)、下噴淋裝置(5)、噴盤(6)，所述傳送帶(4)與槽體(1)連接，所述噴盤(6)以傳送帶(4)為軸通過連接裝置(2)與槽體(1)對稱連接，所述上噴淋裝置(3)和下噴淋裝置(5)與噴盤(6)連接，所述上噴淋裝置(3)和下噴淋裝置(5)均采用扇形噴嘴，所述上噴淋裝置(3)與下噴淋裝置(5)之間的距離在25-27cm之間。本實(shí)用新型能夠提高上下噴淋面形成線路后線寬和間距一致性，采用扇形噴嘴更容易保養(yǎng)和維護(hù)，方便員工操作。
【IPC分類】G03F7/30
【公開號】CN205067963
【申請?zhí)枴緾N201520748646
【發(fā)明人】劉斌
【申請人】天津普林電路股份有限公司
【公開日】2016年3月2日
【申請日】2015年9月23日