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      復(fù)合齒形的增光膜的制作方法

      文檔序號:10228412閱讀:242來源:國知局
      復(fù)合齒形的增光膜的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001 ]本實用新型發(fā)明涉及一種復(fù)合齒形的增光膜。
      【背景技術(shù)】
      [0002]增光膜也稱BEF,是在透明性非常好的PET表面,使用丙烯酸樹脂,精密成型一層均一的棱鏡圖案的光學(xué)薄膜,其廣泛用于光電產(chǎn)業(yè)用來匯聚光源所發(fā)出的光線,將其組裝在背光源前面,將光源發(fā)出的光向顯示設(shè)備使用者方向聚集,可將正面亮度提高。增光膜通常是由許多個棱鏡條按照一個方向排列構(gòu)成,組成一個棱鏡陣列,棱鏡陣列按照一定規(guī)律單調(diào)排列。由于棱鏡陣列僅僅按照單個方向排列,觀察者在可視角度內(nèi)由于無法進行適當?shù)恼{(diào)整,造成不能滿足不同要求的顯示。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0003]本實用新型發(fā)明的目的是提供一種均光性和亮度高的復(fù)合齒形的增光膜。
      [0004]本實用新型發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的:
      [0005]一種復(fù)合齒形的增光膜,所述增光膜的表面設(shè)有聚光結(jié)構(gòu)層,增光膜的聚光結(jié)構(gòu)層由兩種或兩種以上的折射面結(jié)構(gòu)和柱面鏡結(jié)構(gòu)組成,用UV光固化工藝一體成型;對上述技術(shù)方案作進一步限定,所述聚光結(jié)構(gòu)層的厚度為110微米,相鄰柱形間距為18微米,相鄰鋸齒狀間距為8?70微米。
      [0006]本實用新型具有勻光性好、亮度高和消除莫爾干涉等特點。
      【附圖說明】
      [0007]圖1為復(fù)合齒形的增光膜結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0008]圖2為復(fù)合聚光結(jié)構(gòu)層示意圖。
      [0009]圖中:增光膜1和復(fù)合聚光結(jié)構(gòu)層2。
      【具體實施方式】
      [0010]下面結(jié)合附圖對本實用新型發(fā)明的內(nèi)容做進一步的說明:
      [0011]如圖所示為復(fù)合齒形的結(jié)構(gòu)示意圖,包括增光膜1和復(fù)合聚光結(jié)構(gòu)層2。
      [0012]聚光層上表面設(shè)有兩種或兩種的聚光結(jié)構(gòu),聚光結(jié)構(gòu)由鋸齒狀和柱形折射面復(fù)合而成,附有鋸齒狀和柱形折射面聚光結(jié)構(gòu)的聚光層可消除莫爾干涉,提高增光膜的勻光性或亮度,聚光層的厚度為110微米,相鄰柱形間距為18微米,相鄰鋸齒狀間距為8?70微米。
      [0013]以上內(nèi)容是結(jié)合具體的實施方式對本實用新型所作的進一步詳細說明,不能認定本實用新型的具體實施只局限于這些說明。對于本實用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本實用新型構(gòu)思的前提下,還可以做出若干簡單推演或替換,都應(yīng)當視為屬于本實用新型的保護范圍。
      【主權(quán)項】
      1.一種復(fù)合齒形的增光膜,其特征在于:所述增光膜的表面設(shè)有聚光結(jié)構(gòu)層,增光膜的聚光結(jié)構(gòu)層由兩種或兩種以上的折射面結(jié)構(gòu)和柱面鏡結(jié)構(gòu)組成。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合齒形的增光膜,其特征在于:所述聚光結(jié)構(gòu)層的厚度為110微米,相鄰柱形間距為18微米,相鄰鋸齒狀間距為8?70微米。
      【專利摘要】本實用新型發(fā)明公開了一種復(fù)合齒形的增光膜,所述增光膜的表面設(shè)有聚光結(jié)構(gòu)層,增光膜的聚光結(jié)構(gòu)層由兩種或兩種以上的折射面結(jié)構(gòu)和柱面鏡結(jié)構(gòu)組成;所述聚光層的厚度為110微米,相鄰柱形間距為18微米,相鄰鋸齒狀間距為8~70微米。本實用新型具有勻光性好、亮度高和消除莫爾干涉等優(yōu)點。
      【IPC分類】G02B3/06
      【公開號】CN205139407
      【申請?zhí)枴緾N201520935564
      【發(fā)明人】邱曉華, 王新輝
      【申請人】南通天鴻鐳射科技有限公司
      【公開日】2016年4月6日
      【申請日】2015年11月23日
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