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      柔性軟體物證照相裝置的制造方法

      文檔序號:10802259閱讀:536來源:國知局
      柔性軟體物證照相裝置的制造方法
      【專利摘要】本實(shí)用新型為一種柔性軟體物證照相裝置,涉及物證取證裝置,解決現(xiàn)有技術(shù)取證不方便的問題,本裝置包含:將柔性軟體物證展平的展平裝置;對展平后的柔性軟體物證進(jìn)行顯像光照的光源裝置,對顯像的物證進(jìn)行成像取證的物證照相機(jī);展平裝置包含:底部支架,固定于底部支架的固定支架,在固定支架上能轉(zhuǎn)動及定位的展平架,展平架由大小不等的數(shù)個中間鏤空的寬邊方框架利用磁性吸合可拆卸疊合而成,形成數(shù)個展平框架,柔性軟體物證根據(jù)其尺寸置放在與其對應(yīng)的一個展平框架上,并拆除之后比其小的框架,物證四周夾置在該展平框架的框架磁石與內(nèi)邊框磁條之間,利用磁力展平該物證。本實(shí)用新型能夠充分展現(xiàn)出柔性客體展平的形態(tài),提高了取證效率。
      【專利說明】
      柔性軟體物證照相裝置
      技術(shù)領(lǐng)域
      [0001]本實(shí)用新型涉及物證取證裝置,尤其是指一種柔性軟體物證照相裝置。
      【背景技術(shù)】
      [0002]物證照相機(jī)是公、檢、法、司等部門對物證進(jìn)行取證以進(jìn)一步進(jìn)行痕跡鑒定的重要設(shè)備,能為破案、定案提供依據(jù),對刑事、民事等案件的審理工作起著重要的作用。
      [0003]照相機(jī)對于柔性軟體物證上潛在的痕跡很難觀察到完整的痕跡圖像,尤其是褶皺程度很強(qiáng)的軟體物證上很難攝成人眼可視的完整痕跡照片,為解決此問題,必須配備物證照展平架,將褶皺的柔性客體先展平,以使褶皺的柔性客體形成充分展平的最佳照相狀態(tài),再配以所需的光源打光,就可清晰觀察到客體該位置下的痕跡信息,使物證照相機(jī)攝出人眼可視的完整痕跡照片,以便對該潛在痕跡進(jìn)行鑒定。
      [0004]現(xiàn)有的物證照相機(jī)中使用的展平方式均是將褶皺的柔性客體展平后用夾子或鉗子將其邊角固定于平板上進(jìn)行展平,這種展平方式用于固定堅(jiān)硬的客體時非常方便,而用于柔軟物體時很不方便,因?yàn)槿彳浳矬w的物理性質(zhì)特殊,使用夾子、鉗子等結(jié)構(gòu),很難固定出理想的完整痕跡的形狀,使取證人員很難拍攝出物證的真實(shí)圖像;對柔軟物體展平,多數(shù)情況下需兩個人分別拉住柔軟物體的四角,將物證展平為一個平面,再由兩名工作人員分別打光、照相,進(jìn)行拍照取證??傊瑐鹘y(tǒng)的物證展平方式進(jìn)行照相存在以下諸多缺點(diǎn):
      [0005]I,無法有效固定柔軟客體,使取證人員很難拍攝出物證的真實(shí)圖像,影響了照相取證質(zhì)量;
      [0006]2,取證人員無法獨(dú)立完成展平及照相的工作,需要多名工作人員配合才能完成取證,影響了照相取證效率;
      [0007]3,展平設(shè)備上沒有專用的照相光源,客體被展平后需要另外的工作人員進(jìn)行打光,取證人員才能照相取證,使用很不方便。
      【實(shí)用新型內(nèi)容】
      [0008]本實(shí)用新型的目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)存在的問題,提供一種柔性軟體物證照相裝置,該裝置能夠方便固定并有效展平柔性軟體物證,并僅需一名取證人員就能獨(dú)立完成展平、打光及照相的取證工作。
      [0009]本實(shí)用新型的目的是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
      [0010]一種柔性軟體物證照相裝置,其包含:
      [0011]將柔性軟體物證展平的展平裝置;對展平后的柔性軟體物證進(jìn)行顯像光照的光源裝置,對顯像的物證進(jìn)行成像取證的物證照相機(jī);
      [0012]所述展平裝置包含:
      [0013]底部支架,是平面型架;
      [0014]固定支架,由兩根豎架組成,兩根豎架相互平行并垂直固定于所述底部支架上,兩根豎架的上部在對稱位置分別設(shè)有向內(nèi)突出的固定銷;
      [0015]展平架,其由大小不等的數(shù)個中間鏤空的寬邊方框架利用磁性吸合可拆卸疊合而成,數(shù)個框架分別以大小次序命名為第一框架、第二框架……、第N框架,其中,第一框架的結(jié)構(gòu)為:其有一個大框架主體,所述大框架主體是中間鏤空的寬邊方框架,在大框架主體左右兩外側(cè)的中心分別設(shè)有一個凹槽,所述固定支架的兩個固定銷分別置于其中的一個凹槽內(nèi),使整個展平架可以沿兩個固定銷的軸線轉(zhuǎn)動,在大框架主體的左右兩外側(cè)與所述兩根豎架之間設(shè)有展平臺定位結(jié)構(gòu),在大框架主體的內(nèi)邊框部位的四周設(shè)有大框架內(nèi)磁條,在大框架內(nèi)磁條上設(shè)有數(shù)個大框架磁石,大框架磁石與大框架內(nèi)磁條的磁極性相反,所述第一框架形成一個最大框的展平框架;展平架中第二框架之后的框架結(jié)構(gòu)都相同,結(jié)構(gòu)均為:有一個框架主體,所述框架主體是中間鏤空的寬邊方框架,在框架主體的內(nèi)邊框部位的四周設(shè)有框架內(nèi)磁條,其與所述大框架內(nèi)磁條的磁極性相同,在框架內(nèi)磁條上設(shè)有數(shù)個框架磁石,該框架磁石與所述大框架磁石的磁極性相同,在框架主體的外邊框部位的四周設(shè)有框架外磁條,框架外磁條的尺寸與之前一個大的框架的框架內(nèi)磁條尺寸相同,并磁極性相同,兩者之間由之前一個框架的框架磁石夾在中間后磁性疊合連接,形成的展平框架小于之前一個框架所形成的展平框架;所述柔性軟體物證根據(jù)其尺寸置放在與其尺寸對應(yīng)的一個展平框架上,并拆除之后比其小的框架,所述柔性軟體物證四周夾置在該展平框架的框架磁石與內(nèi)邊框磁條之間,利用兩種磁體的相互吸引展平該物證;
      [0016]所述光源裝置包含:
      [0017]面光源,是一種由LED組成的面照射光源,其面積與所述展平架面積相同,固定于所述底部支架的上面,為置于所述展平架上的柔性軟體物證提供顯像配光,所述固定支架的兩根豎架是置于該面光源的左右兩側(cè);
      [0018]點(diǎn)光源,是一種由LED組成的點(diǎn)照射光源,固定在萬向桿的頂部,萬向桿的底部固定于所述底部支架一側(cè),形成一個萬向點(diǎn)光源,萬向點(diǎn)光源對置于所述展平架上的柔性軟體物證在不同角度時對其進(jìn)行配光控制。
      [0019]所述物證照相機(jī)采用對紫外線、可見光和紅外線均敏感的全光譜照相機(jī)。
      [0020]所述兩根豎架的底部分別用角鋼垂直固定于所述底部支架上。
      [0021]所述大框架的內(nèi)磁條上設(shè)有標(biāo)尺。
      [0022]所述框架內(nèi)、外磁條上分別設(shè)有標(biāo)尺。
      [0023]所述展平臺定位結(jié)構(gòu)為:
      [0024]所述兩根豎架上部以固定銷為圓心對稱設(shè)有一個圓盤,圓盤上面以該固定銷為圓心設(shè)有一圈均勻分布的數(shù)個圓盤磁鐵;
      [0025]在大框架主體的左右兩外側(cè)對應(yīng)所述固定支架的圓盤上一圈圓盤磁鐵的位置分別設(shè)有一個展平架磁鐵,其磁極性與圓盤磁鐵的磁極性相反,當(dāng)該展平架磁鐵與一圈圓盤磁鐵中的其中一個到達(dá)重合位置時,展平架通過磁力固定在該位置。
      [0026]所述第N框架中的N為四、五或六。
      [0027]本實(shí)用新型的有益效果:
      [0028]本實(shí)用新型的柔性軟體物證照相裝置,是在一個展平臺上設(shè)置數(shù)種不同尺寸規(guī)格的可拆卸框架,利用兩種不同磁極性的磁體相互吸引貼合,將柔性客體緊密壓合在展平臺上,充分展現(xiàn)出柔性客體展平的形態(tài),提供了理想的照相形態(tài)。另外,展平臺提供可以旋轉(zhuǎn)定位的結(jié)構(gòu),以提供多種照相角度,展平裝置底部提供了大面積面光源,為透射照相提供了理想的面光源,展平裝置一側(cè)固定有萬向點(diǎn)光源,為不同角度的照相提供了靈活的光照控制。另外,本實(shí)用新型的整個取證過程只要一人操作即可,提高了對柔性客體物證照相的取證效率,同時也提高了痕跡物證成像顯示的清晰度,有助于提高取證及辦案質(zhì)量。
      [0029]為進(jìn)一步說明本實(shí)用新型的上述目的、結(jié)構(gòu)特點(diǎn)和效果,以下將結(jié)合附圖對本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說明。
      【附圖說明】
      [0030]圖1為本實(shí)用新型的柔性軟體物證照相裝置結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0031]圖2為圖1中的展平裝置俯視圖;
      [0032]圖3為圖1中展平架的大框架結(jié)構(gòu)圖;
      [0033]圖4為圖1中展平架中除大框架外的其余框架結(jié)構(gòu)圖;
      [0034]圖5為圖1中展平架在固定支架上位置固定時的結(jié)構(gòu)圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0035]下面結(jié)合實(shí)施例的附圖對本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行詳細(xì)說明。
      [0036]參見圖1,本實(shí)用新型的柔性軟體物證照相裝置,包含:將柔性軟體物證展平的展平裝置10,對展平后的柔性軟體物證進(jìn)行顯像光照的光源裝置20,對顯像的物證進(jìn)行成像取證的物證照相機(jī)(未圖示)。下面詳細(xì)說明各部件的結(jié)構(gòu)。
      [0037]展平裝置10,同時參見圖1-圖2,其包含:
      [0038]底部支架I,是平面型架;
      [0039]固定支架2,由兩根豎架組成,兩根豎架相互平行并垂直固定于所述底部支架I上,本實(shí)施例用角鋼5將兩根豎架的底部垂直固定于所述底部支架I上,兩根豎架的上部在對稱位置分別設(shè)有向內(nèi)突出的固定銷3;參見圖5,兩根豎架上部以固定銷3為圓心對稱設(shè)有一個圓盤22,圓盤22上面以該固定銷3為圓心設(shè)有一圈均勻分布的數(shù)個圓盤磁鐵23;
      [0040]展平架4,其由大小不等的數(shù)個中間鏤空的寬邊方框架利用磁性吸合可拆卸疊合而成,數(shù)個框架分別以大小次序命名為第一框架、第二框架……、第N框架,一般N為四至六為宜,第二框架開始的每個框架的內(nèi)外邊框四周設(shè)有相同磁極性的磁條(參見圖4中框架外磁條73的位置就是該框架7的外邊框,框架內(nèi)磁條72的位置就是該框架7的內(nèi)邊框),每個框架的內(nèi)邊框四周磁條上設(shè)有數(shù)個磁極性與磁條相反的磁石,其中,后一個框架的外邊框磁條與前一個框架的內(nèi)邊框磁條尺寸相同,并利用磁條與磁石的磁性吸合相互疊合一起,根據(jù)柔性軟體物證的尺寸選用與其大小相適應(yīng)的框架作為展平框架,選用該展平框架后,比其小的框架拆除,將需展平的柔性軟體物證平放在該展平框架上,用數(shù)個磁石將該物證的周邊貼緊該展平框架的內(nèi)邊框磁條的四周邊,通過磁石與該內(nèi)邊框磁條兩種磁體的相互吸弓丨,展平該物證,便于照相取證。本實(shí)施例共采用3個框架(N為三),第一框架為大框架8、第二框架為中框架7,第三框架為小框架6 ο其中大框架8的結(jié)構(gòu)參見圖3,其結(jié)構(gòu)是:大框架主體81是中間鏤空的寬邊方框架,大框架主體81左右兩外側(cè)的中心分別設(shè)有一個凹槽85,所述固定支架2的兩個固定銷3分別置于其中的一個凹槽85內(nèi),使整個展平架4可以沿兩個固定銷3的軸線轉(zhuǎn)動;在大框架主體81左右兩外側(cè)對應(yīng)圓盤22上一圈圓盤磁鐵23的位置分別設(shè)有一個展平架磁鐵86,展平架磁鐵86與圓盤磁鐵23的磁極性相反,當(dāng)該展平架磁鐵86與一圈圓盤磁鐵23中的其中一個到達(dá)重合位置時,展平架4通過磁力固定在該位置(需離開該位置,只要再轉(zhuǎn)動展平架4即可),該結(jié)構(gòu)是提供展平臺旋轉(zhuǎn)時的定位結(jié)構(gòu),稱為展平臺定位結(jié)構(gòu)。在大框架主體81的內(nèi)邊框部位的四周設(shè)有大框架內(nèi)磁條82,大框架內(nèi)磁條82上設(shè)有標(biāo)尺83(為拍攝的圖像在后期1:1制圖時提供依據(jù)),在大框架內(nèi)磁條82上設(shè)有數(shù)個大框架磁石84(本實(shí)施例設(shè)在大框架內(nèi)磁條82的四角,這是必須設(shè)置的,為了均勻展平物證,可以在大框架內(nèi)磁條82上多放幾個大框架磁石84),大框架磁石84與大框架內(nèi)磁條82的磁極性相反,使兩者之間產(chǎn)生相吸的磁力,所述第一框架形成一個最大框的展平框架。展平架4中除所述大框架8以外的其余框架的結(jié)構(gòu)都相同(僅是尺寸不同),參見圖4(以中框架7為例),其結(jié)構(gòu)是:框架主體71是中間鏤空的寬邊方框架;在框架主體71的內(nèi)邊框部位的四周設(shè)有框架內(nèi)磁條72,其與所述大框架內(nèi)磁條82的磁極性相同;在框架主體71的外邊框部位的四周設(shè)有框架外磁條73,框架外磁條73的尺寸與之前一個大的框架(本實(shí)施例為大框架8)的框架內(nèi)磁條(本實(shí)施例為大框架內(nèi)磁條82)尺寸相同,并磁極性相同,兩者之間由大框架磁石84夾在中間后疊合,即,大框架磁石84將大框架內(nèi)磁條82與框架外磁條73吸合將二者磁性疊合連接,形成一個中框的展平框架(以后組成的展平框架依次縮小);所述框架內(nèi)、外磁條上設(shè)有標(biāo)尺;在框架內(nèi)磁條72上設(shè)有數(shù)個框架磁石74,所述框架磁石74與所述大框架磁石84的磁極性相同,該結(jié)構(gòu)使框架外磁條73進(jìn)一步與之后較小的一個框架的外磁條進(jìn)行磁性連接。
      [0041]上述結(jié)構(gòu)中,如果被展平的柔性軟體物證的面積較大,只需使用第一框架(大框架8)作為展平該物證的展平框架,此時拆除其它框架(拆除框架之間的磁性連接),將該物證平放在大框架主體81上,用數(shù)個大框架磁石84將該物證的周邊貼緊大框架內(nèi)磁條82的四周邊,通過大框架磁石84及大框架內(nèi)磁條82兩種磁體的相互吸引,展平該物證,便于取證;如果被展平的柔性軟體物證的面積較小一些,只需使用第二框架(中框架7)作為展平該物證的展平框架,此時拆除第三框架以后的框架,所述柔性軟體物證四周夾置在該展平框架的框架磁石與內(nèi)邊框磁條之間,利用兩種磁體的相互吸引展平該物證;其它更小的物證與上述操作步驟一樣。
      [0042]光源裝置20,其包含:
      [0043]面光源202,是一種由LED組成的大面積進(jìn)行面照射的光源,其面積與所述展平架4的面積相同或相似,固定于所述底部支架I的上面,為置于所述展平架4上的柔性軟體物證提供全方位的顯像配光,所述固定支架2的兩根豎架是置于該面光源202的左右兩側(cè),使用時,該面光源202照射固定在展平架4上的物證,然后轉(zhuǎn)動展平架4,在需要取證的位置定位展平架4,以提供多種照相角度進(jìn)行成像取證;
      [0044]點(diǎn)光源201,是一種由LED組成的點(diǎn)照射的光源,固定在萬向桿211的頂部,萬向桿211的底部固定于所述底部支架I 一側(cè)的上面,形成了一個萬向點(diǎn)光源,為不同角度照相時提供靈活的顯像光照控制。
      [0045]物證照相機(jī)(未圖示),采用對紫外線、可見光和紅外線均敏感的全光譜照相機(jī)。當(dāng)柔性軟體物證在展平架4上被展平后,開啟光源裝置20的光源,轉(zhuǎn)動展平架4并定位,提供多種照相角度的轉(zhuǎn)換,用該物證照相機(jī)進(jìn)行多角度成像取證。
      [0046]本展平裝置是在一個展平臺上設(shè)置數(shù)種不同尺寸規(guī)格的可拆卸框架,利用兩種不同磁極性的磁體相互吸引貼合,將柔性客體緊密壓合在展平臺上,充分展現(xiàn)出柔性客體展平的形態(tài),提供了理想的照相形態(tài)。另外,展平臺提供可以旋轉(zhuǎn)定位的結(jié)構(gòu),以提供多種照相角度,展平裝置底部提供了大面積面光源,為透射照相提供了理想的面光源,展平裝置一側(cè)固定有萬向點(diǎn)光源,為不同角度的照相提供了靈活的光照控制。
      [0047]本技術(shù)領(lǐng)域中的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)認(rèn)識到,以上的實(shí)施例僅是用來說明本實(shí)用新型的目的,而并非用作對本實(shí)用新型的限定,只要在本實(shí)用新型的實(shí)質(zhì)范圍內(nèi),對以上所述實(shí)施例的變化、變型都將落在本實(shí)用新型的權(quán)利要求的范圍內(nèi)。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種柔性軟體物證照相裝置,其特征在于包含: 將柔性軟體物證展平的展平裝置;對展平后的柔性軟體物證進(jìn)行顯像光照的光源裝置,對顯像的物證進(jìn)行成像取證的物證照相機(jī); 所述展平裝置包含: 底部支架,是平面型架; 固定支架,由兩根豎架組成,兩根豎架相互平行并垂直固定于所述底部支架上,兩根豎架的上部在對稱位置分別設(shè)有向內(nèi)突出的固定銷; 展平架,其由大小不等的數(shù)個中間鏤空的寬邊方框架利用磁性吸合可拆卸疊合而成,數(shù)個框架分別以大小次序命名為第一框架、第二框架……、第N框架,其中,第一框架的結(jié)構(gòu)為:其有一個大框架主體,所述大框架主體是中間鏤空的寬邊方框架,在大框架主體左右兩外側(cè)的中心分別設(shè)有一個凹槽,所述固定支架的兩個固定銷分別置于其中的一個凹槽內(nèi),使整個展平架可以沿兩個固定銷的軸線轉(zhuǎn)動,在大框架主體的左右兩外側(cè)與所述兩根豎架之間設(shè)有展平臺定位結(jié)構(gòu),在大框架主體的內(nèi)邊框部位的四周設(shè)有大框架內(nèi)磁條,在大框架內(nèi)磁條上設(shè)有數(shù)個大框架磁石,大框架磁石與大框架內(nèi)磁條的磁極性相反,所述第一框架形成一個最大框的展平框架;展平架中第二框架之后的框架結(jié)構(gòu)都相同,結(jié)構(gòu)均為:有一個框架主體,所述框架主體是中間鏤空的寬邊方框架,在框架主體的內(nèi)邊框部位的四周設(shè)有框架內(nèi)磁條,其與所述大框架內(nèi)磁條的磁極性相同,在框架內(nèi)磁條上設(shè)有數(shù)個框架磁石,該框架磁石與所述大框架磁石的磁極性相同,在框架主體的外邊框部位的四周設(shè)有框架外磁條,框架外磁條的尺寸與之前一個大的框架的框架內(nèi)磁條尺寸相同,并磁極性相同,兩者之間由之前一個框架的框架磁石夾在中間后磁性疊合連接,形成的展平框架小于之前一個框架所形成的展平框架;所述柔性軟體物證根據(jù)其尺寸置放在與其尺寸對應(yīng)的一個展平框架上,并拆除之后比其小的框架,所述柔性軟體物證四周夾置在該展平框架的框架磁石與內(nèi)邊框磁條之間,利用兩種磁體的相互吸引展平該物證; 所述光源裝置包含: 面光源,是一種由LED組成的面照射光源,其面積與所述展平架面積相同,固定于所述底部支架的上面,為置于所述展平架上的柔性軟體物證提供顯像配光,所述固定支架的兩根豎架是置于該面光源的左右兩側(cè); 點(diǎn)光源,是一種由LED組成的點(diǎn)照射光源,固定在萬向桿的頂部,萬向桿的底部固定于所述底部支架一側(cè),形成一個萬向點(diǎn)光源,萬向點(diǎn)光源對置于所述展平架上的柔性軟體物證在不同角度時對其進(jìn)行配光控制; 所述物證照相機(jī)采用對紫外線、可見光和紅外線均敏感的全光譜照相機(jī)。2.如權(quán)利要求1所述的柔性軟體物證照相裝置,其特征在于: 所述兩根豎架的底部分別用角鋼垂直固定于所述底部支架上。3.如權(quán)利要求1所述的柔性軟體物證照相裝置,其特征在于: 所述大框架的內(nèi)磁條上設(shè)有標(biāo)尺。4.如權(quán)利要求1所述的柔性軟體物證照相裝置,其特征在于: 所述框架內(nèi)、外磁條上分別設(shè)有標(biāo)尺。5.如權(quán)利要求1所述的柔性軟體物證照相裝置,其特征在于: 所述展平臺定位結(jié)構(gòu)為: 所述兩根豎架上部以固定銷為圓心對稱設(shè)有一個圓盤,圓盤上面以該固定銷為圓心設(shè)有一圈均勻分布的數(shù)個圓盤磁鐵; 在大框架主體的左右兩外側(cè)對應(yīng)所述固定支架的圓盤上一圈圓盤磁鐵的位置分別設(shè)有一個展平架磁鐵,其磁極性與圓盤磁鐵的磁極性相反,當(dāng)該展平架磁鐵與一圈圓盤磁鐵中的其中一個到達(dá)重合位置時,展平架通過磁力固定在該位置。6.如權(quán)利要求1所述的柔性軟體物證照相裝置,其特征在于: 所述第N框架中的N為四、五或六。
      【文檔編號】G03B15/02GK205485214SQ201620121747
      【公開日】2016年8月17日
      【申請日】2016年2月16日
      【發(fā)明人】蔡能斌, 黃曉春, 鄧南, 崔劉虎, 金楷淳, 劉文斌, 趙雪珺, 徐寶楨
      【申請人】上海市刑事科學(xué)技術(shù)研究院, 上海恒光警用器材有限公司
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