專利名稱：彩色顯象管蔭罩印相用原版的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及彩色顯像管蔭罩印相用原版，特別是涉及73厘米彩色顯像管蔭罩印相用原版。
彩色顯像管蔭罩是彩色顯像管的選色元件，也是決定彩色顯像管分辨率的主要部件。其制造方法是光刻方法。即在蔭罩基板的兩面涂敷感光膠，并把一對已形成與要形成的蔭罩槽孔相對應(yīng)的圖形的印相用原版與其兩面密合在一起然后印相，顯影，從而形成與原版圖形相對應(yīng)的保護圖形。最后通過從兩面對已形成保護圖形的蔭罩基板進行腐蝕而制成蔭罩。
蔭罩印相用原版上與蔭罩槽孔對應(yīng)的圖形為一矩形點陣(如


圖1所示)。使用于蔭罩兩面的印相用原版各一塊，其各點尺寸各不相同。點陣的排列與蔭罩槽孔的排列相同。各點的尺寸不僅與蔭罩的規(guī)格有關(guān)，而且直接影響蔭罩的質(zhì)量和制造合格率。
現(xiàn)有的73厘米彩色顯像管蔭罩通常中心部水平節(jié)距PH為0.75mm，蔭罩中心部孔徑DY為0.19mm。而改進的73厘米彩色顯像管蔭罩為了提高顯像分辨率，將中心部水平節(jié)距PH改為0.65mm，中心部孔徑DY改為0.167mm，即減小了槽孔的水平節(jié)距和大小，從而增加了槽孔密度。
通常槽孔密度越大，蔭罩越容易產(chǎn)生不均勻現(xiàn)象，導(dǎo)致彩色顯像管的均勻性及對比度下降。
本實用新型的目的是提出一種蔭罩印相用原版，使得在蔭罩的槽孔密度增加的情況下，保持原有的73厘米彩色顯像管蔭罩的質(zhì)量和制造合格率。
為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用的印相用原版，包含小孔側(cè)版和大孔側(cè)版，小孔側(cè)版中心點寬度D為65～70微米，最佳值為67微米，四角點寬度D為95～100微米，最佳值為97微米，大孔側(cè)版中心點寬度D’為310～340微米，最佳值為325微米，四角點寬度D’為430～470微米，最佳值為455微米，大孔側(cè)版相對于小孔側(cè)版在蔭罩短邊方向上偏移量為45～55微米，最佳值為50微米。
采用本實用新型的蔭罩印相用原版，能夠提高73厘米彩色顯像管蔭罩的分辨率，并且把73厘米蔭罩的的質(zhì)量和制造合格率保持在已有的彩色顯像管的水平上。
圖1是蔭罩印相用原版的矩形點陣的示意圖。
圖2是蔭罩槽孔結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3(a)和圖3(b)是蔭罩槽孔反射電子束的示意圖，圖3(b)是圖2所示的蔭罩槽孔L-L剖面的剖面圖。
圖4是蔭罩印相用原版的點陣的局部放大圖。
以下結(jié)合附圖對本實用新型的具體實施方式
加以說明。
實施例1如圖3所示，當電子束掃描到槽孔壁時，電子束發(fā)生反射和散射，從而造成對比度的下降。尤其是在蔭罩厚度不變而槽孔變小的情況下，這種現(xiàn)象更加嚴重。一般情況下，如圖3(b)所示，使蔭罩印相原版的大孔側(cè)版相對于小孔側(cè)版有一定的偏移量，以使制造的蔭罩槽孔背離蔭罩中心的斜坡寬度T1＞蔭罩中心方向的斜坡寬度T2，能夠減少電子束的反射和散射，但是偏移量取得過大會增加制造難度。
本實用新型的印相用原版，包含小孔側(cè)版和大孔側(cè)版，印相用原版的中心部分和周邊部分各點的尺寸取不同值。小孔側(cè)版中心點寬度D為65～70微米，四角點寬度D為95～100微米，大孔側(cè)版中心點寬度D’為310～340微米，四角點寬度D’為430～470微米，大孔側(cè)版相對于小孔側(cè)版在蔭罩短邊方向上的偏移量C為45～55微米。
實施例2本實用新型的印相用原版，小孔側(cè)版中心點寬度D取67微米，四角點寬度D取97微米，大孔側(cè)版中心點寬度D’取325微米，四角點寬度D’取455微米，大孔側(cè)版相對于小孔側(cè)版在蔭罩短邊方向上的偏移量C取50微米能夠得到更好的效果。
使用本實用新型的蔭罩印相用原版制造的蔭罩用于73厘米彩色顯像管，能夠得到高分辨率的73厘米彩色顯像管。
權(quán)利要求1．一種彩色顯像管蔭罩印相用原版，包含小孔側(cè)版和大孔側(cè)版，其特征在于，小孔側(cè)版中心點寬度D為65～70微米，四角點寬度D為95～100微米，大孔側(cè)版中心點寬度D’為310～340微米，四角點寬度D’為430～470微米，大孔側(cè)版相對于小孔側(cè)版在蔭罩短邊方向上的偏移量為45～55微米。
2．根據(jù)權(quán)利要求1所述的彩色顯像管蔭罩印相用原版，其特征在于，小孔側(cè)版中心點寬度D取67微米，四角點寬度D取97微米，大孔側(cè)版中心點寬度D’取325微米，四角點寬度D’取455微米，大孔側(cè)版相對于小孔側(cè)版在蔭罩短邊方向上的偏移量取50微米。
專利摘要本實用新型涉及一種彩色顯像管蔭罩印相用原版。其目的是提高顯像管分辨率。本實用新型采用的蔭罩印相用原版,小孔側(cè)版中心點寬度D為65～70微米,四角點寬度D為95～100微米；大孔側(cè)版中心點寬度D’為310～340微米,四角點寬度D’為430～470微米,大孔側(cè)版相對小孔側(cè)版在蔭罩短邊側(cè)偏移量達45～55微米。本實用新型提高了蔭罩的分辨率并且不降低其質(zhì)量和制造合格率。
文檔編號H01J9/14GK2454898SQ0025919
公開日2001年10月17日 申請日期2000年11月16日 優(yōu)先權(quán)日2000年11月16日
發(fā)明者陳穎明, 方軼樺 申請人:上海新芝電子有限公司