專利名稱：等離子體顯示器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及以等離子體顯示器、等離子體地址液晶顯示器為主的各種顯示器。此外，等離子體顯示器也可用于大型電視機或計算機監(jiān)視器。
背景技術(shù)：
近年來，在顯示器或電路材料領(lǐng)域，對用無機材料進行高精度圖案加工的技術(shù)有強烈需求。
具體地說，在顯示器領(lǐng)域，正在向小型、高精細化推進，隨之對圖案加工技術(shù)也期待著技術(shù)上的提高。例如，為了形成使等離子體顯示屏上各象素彼此隔離的隔壁，期待著能以高精度和高縱橫比(aspectratio)對玻璃等無機材料進行圖案加工的材料。
另一方面，在電路材料領(lǐng)域，也需要能對實裝集成電路(IC)的陶瓷基板進行精密加工的技術(shù)，目前是用漿狀物印刷或繪畫方式來形成圖案的，因而伴隨著電路材料小型化，需要與高精度圖案形成要求相對應(yīng)的技術(shù)。
以前，在進行無機材料圖案加工的情況下，多半采用在用無機微粒與有機粘結(jié)劑組成的膏狀物進行網(wǎng)板印刷后焙燒的方法。然而，網(wǎng)板印刷有不能形成高精度圖案這樣的缺點。而且，在形成高縱橫比圖案的情況下，需要進行多層印刷，也有工藝步驟多這樣的缺點。
作為這個問題的改進方法，美國專利No.4885963、美國專利No.5209688、特開平5-342992號公報中提出了用感光性膏狀物以光刻蝕技術(shù)進行圖案形成的方法。然而，由于感光性膏狀物的感度或解像度低，不能得到高縱橫比、高精細度的隔壁，因而，在諸如對超過80μm這樣的厚度進行圖案加工的情況下，需要多次重復(fù)加工步驟(涂布、曝光、顯影步驟)，從而有使工藝線變長的缺點。
此外，在美國專利No.5209688中提出了把感光性膏狀物涂布到轉(zhuǎn)印紙上之后把轉(zhuǎn)印薄膜轉(zhuǎn)印到玻璃基板上形成隔壁的方法，而在特開平3-57138號公報中則提出了在光刻膠層的溝中填充介電體膏狀物形成隔壁的方法。進而，在美國專利No.5116271中提出了用感光性有機薄膜形成隔壁的方法。然而，由于這些方法需要轉(zhuǎn)印薄膜或光刻膠或有機薄膜，因而有使工藝步驟增加這樣的問題。而且，根本不能得到有高精細度或高縱橫比的隔壁。
此外，在等離子體顯示器中，只是沒有隔壁，但也有必須進行絕緣體層或介電體層的圖案加工的情況，因而也有與隔壁同樣的問題。
發(fā)明公開本發(fā)明旨在通過進行感光膏狀物中有機成分和無機成分的折射率控制減少有機成分與無機成分界面上的反射和散射，從而提供使高縱橫比和高精度圖案加工成為可能的感光性膏狀物。另一個目的是提供高精細等離子體顯示器及其制造方法。
本發(fā)明的目的是用一種感光性膏狀物達到的，其特征在于它是以無機微粒和含有感光性化合物的有機成分為必需成分的感光性膏狀物，其中無機微粒的平均折射率N1與感光性有機成分的平均折射率N2滿足下式-0.1≤N1-N2≤0.2此外，本發(fā)明的目的是用一種感光性膏狀物達到的，其特征在于它是以無機微粒和含有感光性化合物的有機成分為必需成分的感光性膏狀物，其中使用了平均折射率范圍為1.5～1.7的無機微粒。
進而，本發(fā)明的目的是用等離子體顯示器及其制造方法達到的，其特征在于該膏狀物涂布在玻璃基扳上之后經(jīng)過曝光、顯影、焙燒等步驟形成隔壁。
實施本發(fā)明的最佳方式本發(fā)明的感光性膏狀物由無機微粒和含有感光性化合物的有機成分組成，借助于感光性有機成分，采用光刻蝕法(photolithography)形成圖案后進行焙燒，制成無機物的圖案。
膏狀物中無機微粒的含量較好是50～90％(重量)、更好的是70～95％(重量)，以使得焙燒時收縮率小、焙燒引起的形狀變化也小。
本發(fā)明等人進行了深入研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，使這種有機成分的平均折射率與無機微粒的平均折射率之差在0.1以下、更好的是在0.07以下，可以簡便地得到高縱橫比的圖案。
此外，通過使感光性膏狀物中無機微粒的平均折射率N1與感光性有機成分的平均折射率N2滿足下式，可以高精度地形成高縱橫比的圖案-0.05≤N1-N2≤0.1更好的是-0.01≤N1-N2≤0.07。
進而，如果考慮到有機成分通過聚合會提高折射率，則通過滿足下式就能形成縱橫比更高的圖案0≤N1-N2≤0.07再者，關(guān)于有機成分用光照射法聚合后的折射率N3與無機微粒的平均折射率N1，若能滿足下式，就能形成高縱橫比的圖案-0.03≤N1-N3≤0.03作為無機微粒，只要是通用的，就沒有特別限定?？梢圆捎貌ＡА⑻沾?氧化鋁、石英砂等)、金屬(金、鉑、銀、銅、鎳、鈀、鎢、氧化釕或這些的合金)等，但較好的是以硅氧化物、硼氧化物或鋁氧化物為必需成分的玻璃或陶瓷。這些是絕緣體，較好用來形成絕緣圖案，尤其是等離子體顯示器或等離子體液晶顯示器的隔壁。
無機微粒的粒徑選擇時要考慮到所要制作的圖案形狀，但較好是用粒徑0.1～10μm的占50％(重量)、粒徑0.4～2μm的占10％(重量)、粒徑4-10μm的占90％(重量)比表面積0.2～3m2/g的無機微粒來形成圖案。
此外，作為無機微粒，通過使用形狀為球形的無機微粒，有可能形成高縱橫比的圖案。具體地說，較好的是球形率80％(個數(shù))以上。更好的是平均粒徑1.5～4μm、比表面積0.5～1.5m2/g、球形率90％(個數(shù))以上。
球形率系指用顯微鏡觀察時有球形或橢球形形狀的顆粒的比例，即在光學(xué)顯微鏡下可以觀察到圓形、橢圓形。
通過采用波長為436nm的全光線透射率(3mm厚)在50％以上的玻璃粉碎得到的玻璃微粒，可以得到形狀更加準(zhǔn)確的圖案。
在用于等離子體顯示器或等離子體液晶顯示器的隔壁的情況下，為了在熱軟化點低的玻璃基板上形成圖案，作為無機微粒，較好采用60％(重量)以上的熱軟化溫度(Ts)350～600℃的玻璃微粒。
此外，為了在焙燒時不發(fā)生基板玻璃翹曲，較好的是采用線熱膨脹系數(shù)為50～90×10-7、較好為60～90×10-7的玻璃微粒。
此時，一般作為絕緣體使用的玻璃，其折射率約為1.5～1.9。在有機成分的平均折射率與無機微粒的平均折射率差異很大的情況下，在無機微粒與感光性有機成分的界面上的反射和散射增大，不能得到精細的圖案。由于一般有機成分的折射率為1.45～1.7，因而當(dāng)無機微粒的平均折射率為1.5～1.7時，就能使無機微粒與有機成分的折射率相匹配。較好的是，當(dāng)使折射率為1.55～1.65時，有機成分的選擇范圍廣，較為有利。
若采用氧化鋰、氧化鈉、氧化鉀等堿金屬氧化物的合計含量為3～20％(重量)的玻璃微粒，則不僅容易控制熱軟化溫度、熱膨脹系數(shù)，而且也可以降低玻璃的平均折射率，因而容易縮小其與有機物的折射率之差。堿金屬氧化物的添加量，就提高膏狀物的穩(wěn)定性而言，較好的是20％(重量)以下，更好的是15％(重量)。
尤其當(dāng)采用堿金屬中的氧化鋰時，能使膏狀物的穩(wěn)定性達到比較高的程度，而且在用氧化鉀的情況下即使較少量的添加也能控制折射率，由于這樣的優(yōu)點，因而即使在堿金屬氧化物中，氧化鋰和氧化鉀的添加也都是有效的。
作為玻璃微粒中的組成，氧化硅的配比范圍較好在3～60％(重量)，在不足3％(重量)的情況下玻璃層的致密性、強度或穩(wěn)定性會下降，而且熱膨脹系數(shù)會與預(yù)期值不一致，容易發(fā)生與玻璃基板不匹配。而在60％(重量)以下時，熱軟化點下降，有使燒結(jié)到玻璃基板上成為可能等優(yōu)點。
氧化硼的配比范圍為5～50％(重量)時，可以提高電絕緣性、強度、熱膨脹系數(shù)、絕緣層致密性等電性能、機械性能和熱性能。若超過50％(重量)，則玻璃的穩(wěn)定性會下降。
若采用氧化鉍、氧化鉛中至少一種的含量為5～50％(重量)，優(yōu)選5～30％(重量)的玻璃微粒，則可以得到具有能在玻璃基板上進行圖案加工的溫度特性的玻璃膏狀物。若超過50％(重量)，則由于玻璃的耐熱溫度變得太低，難以燒結(jié)到玻璃基板上。具體地說，當(dāng)采用氧化鉍含量為5～50％(重量)的玻璃時，有膏狀物的適用期(potlife)長等優(yōu)點。
作為優(yōu)選玻璃組成的實例，換算成氧化物表示如下氧化鉍/氧化鉛 5～50％(重量)氧化硅 3～60％(重量)氧化硼 5～50％(重量)在此玻璃中，含有以上成分的玻璃微粒達到50％(重量)以上。
雖然含有氧化鉛或氧化鉍的玻璃從提高熱軟化溫度或耐水性這一點來看較好，但氧化鉛或氧化鉍含量在10％(重量)以上的玻璃微粒的折射率多半在1.6以上。因此，通過組合使用氧化鋰、氧化鈉、氧化鉀等堿金屬氧化物與氧化鉛或氧化鉍，能夠容易地控制熱軟化溫度、熱膨脹系數(shù)、耐水性和折射率。
此外，通過在玻璃微粒中添加氧化鋁、氧化鋇、氧化鈣、氧化鎂、氧化鈦、氧化鋅、氧化鋯等，尤其添加氧化鋁、氧化鋇、氧化鋅，可改善其高度或加工性，但從控制熱軟化點、熱膨脹系數(shù)、折射率方面來看，其含量較好在40％(重量)以下。更好的是在30％(重量)以下，且這些氧化物的合計含量在50％(重量)以下。
因此，若能使之具有可在玻璃基板上燒結(jié)的熱軟化溫度、并使平均折射率為1.5～1.7，就可容易地縮小其與有機成分的折射率差。
按照本發(fā)明，優(yōu)選使用以下玻璃微粒優(yōu)選使用含有氧化鉍、氧化鉛中至少一種，并優(yōu)選使合計含量相對于玻璃微粒重量計為5～30％(重量)，另外氧化鋰、氧化鈉、氧化鉀中至少一種含量相對于玻璃微粒重量計為3～15％(重量)的玻璃微粒作為玻璃微粒；或優(yōu)選使用氧化硅含量以感光性膏狀物重量計為3～60％(重量)、氧化硼含量相對于玻璃微粒重量計為5～50％(重量)的玻璃微粒作為玻璃微粒；或優(yōu)選使用氧化硅含量相對于玻璃微粒重量計為3～60％(重量)、氧化硼含量相對于玻璃微粒重量計為5～50％(重量)、氧化鋇含量相對于玻璃微粒重量計為1～30％(重量)、氧化鋁含量相對于玻璃微粒重量計為1～30％(重量)的玻璃微粒作為玻璃微粒。
進而，在本發(fā)明所用的膏狀物中，當(dāng)以40％(重量)以下的范圍添加熱軟化點為600～900℃的玻璃微?；蛱沾晌⒘r，可以控制其焙燒時的收縮率。但這種情況下采用的無機微粒的折射率差為0.1以下、較好為0.05以下，對于高精度圖案形成來說是重要的。
另一方面，作為電路材料、尤其要用于多層基板的玻璃材料，就基板而言，由于除玻璃以外也可以使用陶瓷，因而沒有必要使熱軟化溫度達到600℃以下，而就材料而言，當(dāng)氧化鋁含量達到25～75％(重量)時便有可能形成強度更高的基扳。
本發(fā)明中無機微粒的折射率測定可以用貝克法進行。測定光的波長，是在膏狀物涂布之后曝光所用光的波長，以此波長進行測定來確認(rèn)其效果才是正確的。具體地說，較好用350～650nm范圍波長的光測定。更好的是，用i線(365nm)或g線(436nm)進行折射率測定。
通過添加各種金屬氧化物，可以使焙燒后的圖案著色。例如。使感光性膏狀物中含有1～10％(重量)的黑色金屬氧化物，可以形成黑色圖案。
作為此時所用的黑色金屬氧化物，若含有Cr、Fe、Co、Mn、Cu的氧化物中至少一種或三種以上，就有可以使之變黑。尤其當(dāng)分別含有0.5％(重量)以上的Fe和Mn的氧化物時，可以形成更加黑色的圖案。
進而，除黑色以外，還可以使用添加了能發(fā)出紅、藍、綠等顏色的無機顏料的膏狀物，來形成各種顏色的圖案。這些著色圖案可以較好地用于等離子體顯示器的濾色器。
此外，作為本發(fā)明中所用的無機微粒，也可以采用成分不同的微粒的組合。具體地說，通過使用熱軟化點不同的玻璃微?；蛱沾晌⒘?，可以控制焙燒時的收縮率。
不過，在這種情況下使用的成分不同的無機微粒，各自的折射率差在0.1以下、較好在0.05以下對于形成高精度的圖案是很重要的。
本發(fā)明中使用的有機成分，系指含有感光性有機物的膏狀物中的有機成分(膏狀物中除無機成分外的部分)。
對于本發(fā)明中所用的感光性膏狀物來說，就其對光的感度而言，較好的是感光性成分的含量占有機成分的10～90％(重量)以上、更好的是占30～90％(重量)以上。
有機成分包括選自感光性單體、感光性低聚物、感光性聚合物中至少一種的感光性成分，此外，如有必要，還可以加上粘結(jié)劑、光聚合引發(fā)劑、紫外線吸收劑、增敏劑、增敏助劑、阻聚劑、增塑劑、增粘劑、有機溶劑、抗氧劑、分散劑、有機或無機的沉淀防止劑、或流平劑等添加劑成分。
作為感光性成分，有光不溶型成分和光可溶型成分；作為光不溶型成分，包括(A)含有在分子內(nèi)有一個以上不飽和基等官能團的單體、低聚物、聚合物的成分。
(B)含有芳香族偶氮化合物、芳香族疊氮化合物、有機鹵化合物等感光性化合物的成分，(C)偶氮類胺與甲醛的縮合物等所謂偶氮樹脂的成分等。
而作為光可溶型成分，包括(D)含有偶氮化合物的無機鹽或與有機酸的配合物、醌偶氮類的成分，(E)醌偶氮類與適當(dāng)聚合物粘結(jié)劑結(jié)合的，例如苯酚、酚醛清漆樹脂的萘醌-1，2-二疊氮基-5-磺酸酯等。
本發(fā)明中使用的感光性成分，可以采用上述任何一種成分?？梢院啽愕赜糜谂c無機微粒混合成為感光性膏狀物的感光性成分，較好的是(A)的成分。
作為感光性單體，是含有碳-碳不飽和鍵的化合物，其具體實例可以列舉丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸異丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸仲丁酯、丙烯酸異丁酯、磷酸叔丁酯、丙烯酸正戊酯、丙烯酸烯丙酯、丙烯酸芐酯、丙烯酸丁氧乙酯、丙烯酸丁氧三甘醇酯、丙烯酸環(huán)己酯、丙烯酸二環(huán)戊酯、丙烯酸二環(huán)戊烯酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸甘油酯、丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸十七氟癸酯、丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸異冰片酯、丙烯酸2-羥基丙酯、丙烯酸異癸酯、丙烯酸異辛酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸2-甲氧基乙酯、丙烯酸甲氧乙二醇酯、丙烯酸甲氧二甘醇酯、丙烯酸八氟戊酯、丙烯酸苯氧乙酯、丙烯酸硬脂酯、丙烯酸三氟乙酯、二丙烯酸烯丙基化環(huán)己酯、二丙烯酸1，4-丁二醇酯、二丙烯酸1，3-丁二醇酯、二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸二甘醇酯、二丙烯酸三甘醇酯、二丙烯酸聚乙二醇酯、六丙烯酸二聚季戊四醇酯、(一羥基)五丙烯酸二聚季戊四醇酯、四丙烯酸二聚[三(羥甲基)丙烷]酯、二丙烯酸甘油酯、二丙烯酸甲氧基化環(huán)己酯、二丙烯酸新戊二醇酯、二丙烯酸丙二醇酯、二丙烯酸聚丙二醇酯、二丙烯酸三聚甘油酯、三丙烯酸三(羥甲基)丙烷酯、丙烯酰胺、丙烯酸氨基乙酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯酸芐酯、丙烯酸1-萘酯、丙烯酸2-萘酯、二丙烯酸雙酚A酯、二丙烯酸(雙酚A-環(huán)氧乙烷加成物)酯、二丙烯酸(雙酚A-環(huán)氧丙烷加成物)酯、丙烯酸硫代苯酚酯、丙烯酸芐硫醇酯等丙烯酸酯化合物，以及這些芳環(huán)氫原子中有1～5個由氯或溴原子所取代的單體，或者苯乙烯、對甲基苯乙烯、鄰甲基苯乙烯、間甲基苯乙烯、氯代苯乙烯、溴代苯乙烯、α-甲基苯乙烯、氯代α-甲基苯乙烯、溴代α-甲基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、羥甲基苯乙烯、羧甲基苯乙烯、乙烯基萘、乙烯基蒽、乙烯基咔唑，以及上述化合物分子內(nèi)的丙烯酸酯一部分或全部變成甲基丙烯酸酯的甲基丙烯酸酯化合物，γ-甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基甲硅烷，1-乙烯基-2-吡咯烷酮等。本發(fā)明可以使用其中1種或2種以上(包括2種)。
除這些以外，添加不飽和羧酸等不飽和酸，也可以提高感光后的可顯影性。作為不飽和羧酸的具體實例，可以列舉丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、馬來酸、富馬酸、乙烯基乙酸，或這些酸的酐等。
作為粘結(jié)劑，可以列舉聚乙烯醇、聚乙烯醇縮丁醛、甲基丙烯酸酯聚合物、丙烯酸酯聚合物、丙烯酸酯-甲基丙烯酸酯共聚物、α-甲基苯乙烯聚合物、甲基丙烯酸丁酯樹脂等。
此外，也可以用上述有碳-碳雙鍵的化合物中至少一種聚合得到的低聚物或聚合物。
聚合時，可以使這些單體以10％(重量)以上、較好35％(重量)以上的含量與其它感光性單體共聚。
作為共聚單體，若與不飽和羧酸等不飽和酸共聚，則可以提高感光后的可顯影性。作為不飽和數(shù)酸的具體實例，可以列舉丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、馬來酸、富馬酸、乙烯基乙酸，或這些酸的酐等。
這樣得到的，側(cè)鏈上有羧基等酸性基團的聚合物或低聚物的酸值(AV)較好在50～180、更好的是在70～140的范圍。若酸值不足50，則顯影允許的幅度變狹。而若酸值超過180，則未曝光部分對顯影液的溶解度降低，而若因此而提高顯影液濃度，則會發(fā)生連曝光部分一起剝落，從而難以得到高精細度圖案。
優(yōu)選的是，低聚物、聚合物的重均分子量達到500～10萬的范圍。
另一方面，作為低聚物、聚合物，優(yōu)選采用分子中含有羧基和不飽和雙鍵、重均分子量為500～10萬的低聚物、聚合物，在有機成分中的含量達到10～90％(重量)。
優(yōu)選的是，本發(fā)明提出的感光性膏狀物中的有機成分符合以下定義有機成分中含有10～90重量％低聚物或聚合物，其分子內(nèi)含有羧基、重均分子量為500～10萬；有機成分中含有10～90重量％低聚物或聚合物，其分子內(nèi)含有不飽和雙鍵、重均分子量為500～10萬；有機成分中含有10～90重量％低聚物或聚合物，其分子內(nèi)含有羧基和不飽和雙鍵、重均分子量為500～10萬；或有機成分中含有10～80重量％多官能丙烯酸酯化合物和/或甲基丙烯酸酯化合物。
對于以上所示的聚合物或低聚物，可以通過在側(cè)鏈或分子末端上連接光反應(yīng)性基團，而用來作為具有感光性的感光性聚合物或感光性低聚物。
較好的光反應(yīng)性基因是有烯鍵不飽和基的基團。作為烯鍵不飽和基，可以列舉乙烯基、烯丙基、丙烯酰基、甲基丙烯?；取?br> 在低聚物或聚合物上連接這樣的側(cè)鏈的方法，是使聚合物中的巰基、氨基、羥基或羧基，與具有縮水甘油基或異氰酸酯基的烯鍵不飽和化合物或丙烯酰氯、甲基丙烯酰氯或烯丙基氯發(fā)生加成反應(yīng)的制備方法。
作為具有縮水甘油基的烯鍵不飽和化合物，可以列舉丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、烯丙基縮水甘油醚、乙基丙烯酸縮水甘油酯、巴豆?？s水甘油醚、巴豆酸縮水甘油醚、異巴豆酸縮水甘油醚等。
作為具有異氰酸酯基的烯鍵不飽和化合物，是(甲基)丙烯酰異氰酸酯、(甲基)丙烯酰乙基異氰酸酯等。
此外，具有縮水甘油基或異氰酸酯基的烯鍵不飽和化合物或丙烯酰氯、甲基丙烯酰氯或烯丙基氯，相對于聚合物中的巰基、氨基、羥基或羧基而言，較好以0.05～1摩爾當(dāng)量進行加成。
作為光聚合引發(fā)劑的具體實例，可以列舉苯酰苯、鄰苯甲酰苯甲酸甲酯、4，4′-二(二甲胺基)苯酰苯、4，4′-二(二乙胺基)苯酰苯、4，4′-二氯苯酰苯、4-苯甲酰-4′-甲基二苯酮、二芐酮、芴酮、2，2-二乙氧基乙酰苯、2，2-二甲氧基-2-苯基乙酰苯、2-羥基-2-甲基丙酰苯、對叔丁基二氯乙酰苯、噻噸酮、2-甲基噻噸酮、2-氯噻噸酮、2-異丙基噻噸酮、二乙基噻噸酮、芐基、芐基二甲縮酮醇、芐基甲氧基乙基縮醛、苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻丁基醚、蒽醌、2-叔丁基蒽醌、2-戊基蒽醌、β-氯蒽醌、蒽酮、苯并蒽酮、二苯并環(huán)庚酮、亞甲基蒽酮、4-疊氮亞芐基乙酰苯、2，6-二(對疊氮亞芐基)環(huán)己酮、2，6-二(對疊氮亞芐基)-4-甲基環(huán)己酮、2-苯基-1，2-丁二酮-2-(O-甲氧碳酰)肟、1-苯基-丙二酮-2-(O-乙氧碳酰)肟、1，3-二苯基-丙三酮-2-(O-乙氧碳酰)肟、1-苯基-3-乙氧基-丙三酮-2-(O-苯甲酰)肟、米蚩酮、2-甲基-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉代-1-丙酮、萘磺酰氯、喹啉磺酰氯、N-苯硫基吖啶酮、4，4-偶氮二異丁腈、二苯基二硫化物、苯并噻唑二硫化物、三苯膦、樟腦醌、四溴化碳、三溴苯基砜、過氧化苯偶姻和曙紅、亞甲基藍等光還原性色素與抗壞血酸、三乙醇胺等還原劑的組合等。本發(fā)明中可以使用其中1種或2種以上。光聚合引發(fā)劑，相對于感光性成分而言。其添加范圍為0.05～10％(重量)、更好的是0.1～5％(重量)。若聚合引發(fā)劑的量太少，則感光度不良；若光聚合引發(fā)劑的量太多，則有曝光部分的殘存率太低之虞。
添加紫外線吸收劑也是有效的。通過添加紫外線吸收效果高的化合物，可以得到高縱橫比、高精細度、高解像度。作為紫外線吸收劑，可以使用有機染料或有機顏料，其中較好的是在350～450nm波長范圍內(nèi)有高UV吸收系數(shù)的紅色有機染料。具體地說，可以使用偶氮類染料、氨基酮類染料、黃嘌呤類染料、喹啉類染料、蒽醌類、苯酰苯類、二苯基氰基丙烯酸酯類、三嗪類、對氨基苯甲酸類染料等。即使是在有機染料作為吸光劑添加的情況下，較好的也是那些不殘存于焙燒后的絕緣膜中、能減少因吸光劑而引起的絕緣膜性能下降的染料。此類染料中，較好的是偶氮類和苯酰苯類染料。有機染料的添加量較好的是0.05～5％(重量)。在0.05％(重量)以下時，紫外線吸光劑的添加效果減少，若超過5％(重量)，則因焙燒后的絕緣膜性能下降而不好。更好的是0.05％-1％(重量)。若要舉一個關(guān)于由有機染料組成的紫外線吸光劑的添加方法的實例，則除事先將有機染料溶解在有機溶劑中制成溶液，然后在制作膏狀物時將其混煉的方法外，還可以列舉將無機微?；旌系皆撚袡C溶劑中、然后干燥的方法。用這種方法，可以制作每個無機微粒的顆粒表面上都涂布了有機膜的所謂膠囊狀微粒。
本發(fā)明中，無機微粒所包含的Pb、Fe、Cd、Mn、Co、Mg等金屬及其氧化物有時會與膏狀物中所含的感光性成分反應(yīng)，使膏狀物在短時間內(nèi)凝膠化而無法涂布。為防止這樣的反應(yīng)，較好是添加穩(wěn)定劑以防止凝膠化。作為所用的穩(wěn)定劑，較好使用三唑化合物。作為三唑化合物，較好能使用苯并三唑衍生物。其中，尤其苯并三唑能有效發(fā)揮作用。如果列舉本發(fā)明中所使用的、以苯并三唑進行玻璃微粒表面處理之一例，則將根據(jù)無機微粒確定的數(shù)量的苯并三唑溶解在乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙醇、甲醇等有機溶劑中之后，以使這些微粒能充分浸漬的方式在該溶液中浸漬1～24小時。浸漬后，較好在20～30℃的溫度下自然干燥，使溶劑蒸發(fā)，制備進行了三唑處理的微粒。所使用的穩(wěn)定劑的比例(穩(wěn)定劑/無機微粒)較好是0.05～5％(重量)。
增敏劑是為了提高感度而添加的。作為增敏劑的具體實例，可以列舉2，4-二乙基噻噸酮、異丙基噻噸酮、2，3-二(4-二乙胺基亞芐基)環(huán)戊酮、2，6-二(4-二甲胺基亞芐基)環(huán)己酮、2，6-二(4-二甲胺基亞芐基)-4-甲基環(huán)己酮、米蚩酮、4，4-二(二乙胺基)苯酰苯、4，4-二(二甲胺基)茜素藍黑、4，4-二(二乙胺基)茜素藍黑、對(二甲胺基)亞肉桂基-2，3-二氫-1-茚酮、對(二甲胺基)亞芐基-2，3-二氫-1-茚酮、2-(對(二甲胺基)苯基-1，2-亞乙烯基)異萘并噻唑、1，3-二(4-二甲胺基亞芐基)丙酮、1，3-碳酰-二(4-二乙胺基亞芐基)丙酮、3，3-碳酰-二(7-二乙胺基香豆素)、N-苯基-N-乙基乙醇胺、N-苯基乙醇胺、N-甲苯基二乙醇胺、N-苯基乙醇胺、二甲胺基苯甲酸異戊酯、二乙胺基苯甲酸異戊酯、3-苯基-5-苯甲酰硫四唑、1-苯基-5-乙氧碳酰硫四唑等。本發(fā)明中可以使用上述1種或2種以上。此外，增敏劑中也有可以作為光聚合引發(fā)劑使用的。在本發(fā)明的感光性膏狀物中添加增敏劑的情況下，相對于感光性成分而言，其添加量通常是0.05-10％(重量)、更好的是0.1～10％(重量)。如果增敏劑的量太少，則提高光感度的效果不能發(fā)揮；如果增敏劑的量太多，則有使曝光部分的殘存率變得太小之虞。
阻聚劑是為了提高存在時的熱穩(wěn)定性而添加的。作為阻聚劑的具體實例，可以列舉氫醌、氫醌單酯化物、N-亞硝基二苯胺、吩噻嗪、對叔丁基兒茶酚、N-苯基萘胺、2，6-二叔丁基-對甲基苯酚、氯醌、焦棓酚等。在添加阻聚劑的情況下，其添加量在感光性膏狀物中通常是0.001-1％(重量)。
作為增塑劑的具體實例，可以列舉鄰苯二甲酸二丁酯、鄰苯二甲酸二辛酯、聚乙二醇、甘油等。
抗氧劑是為了防止保存時丙烯酸類共聚物發(fā)生氧化而添加的。作為抗氧劑的具體實例，可以列舉2，6-二叔丁基對甲酚、丁基化羥基茴香醚、2，6-二叔丁基-4-乙基苯酚、2，2-亞甲基-二(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，2-亞甲基-二(4-乙基-6-叔丁基苯酚)、4，4-二(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、1，1，3-三(2-甲基-6-叔丁基苯酚)丁烷、1，1，3-三(2-甲基-4-羥基-叔丁基苯基)丁烷、二[3，3-二(4-羥基-3-叔丁基苯基)丁酸]乙二醇酯、硫二丙酸二月桂酯、三苯膦等。在添加抗氧劑的情況下，其添加量在膏狀物中通常是0.001～1％(重量)。
本發(fā)明的感光性膏狀物中，在要調(diào)整溶液粘度的情況下，也可以添加有機溶劑。作為此時使用的有機溶劑，可以使用甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、丁基溶纖劑、甲基·乙基酮、二尪烷、丙酮、環(huán)己酮、環(huán)戊酮、異丁醇、異丙醇、四氫呋喃、二甲基亞砜、γ-丁內(nèi)酯、溴苯、氯苯、二溴苯、二氯苯、溴苯甲酸、氯苯甲酸等或含有其中1種以上的有機溶劑混合物。
有機成分的折射率，系指通過曝光使感光性成分感光時膏狀物中有機成分的折射率。也就是說，在膏狀物涂布、干燥步驟后進行曝光的情況下，系指干燥步驟后膏狀物中有機成分的折射率。例如，膏狀物在玻璃基板上涂布后在50～100℃干燥1～30分鐘，然后測定折射率的方法等。
本發(fā)明中折射率的測定，較好用一般進行的橢圓偏光法或V-Block法，測定是用曝光時所用光的波長進行的，這對于確認(rèn)效果來說是正確的。具體地說，較好用波長在350～650nm范圍內(nèi)的光測定。更好的是用i線(365nm)或g線(436nm)進行的折射率測定。
此外，為了測定有機成分在用光照射聚合后的折射率，可以通過用與對膏狀物進行光照射的情況下相同的光只照射有機成分來測定。
可以在玻璃基扳上進行焙燒的、氧化鉍或氧化鉛含量在10％(重量)以上的玻璃微粒，若折射率在1.6以上，則在這種情況下有必要提高有機物的折射率。
在這種情況下，有機成分中有必要引進高折射率成分，有機成分中采用10％(重量)以上有硫原子、溴原子、碘原子、萘環(huán)、聯(lián)苯環(huán)、蒽環(huán)、咔唑環(huán)的化合物能有效地提高折射率。此外，若使之含有20％(重量)以上的苯環(huán)，也能提高折射率。
特別是，若使之含有10％(重量)以上的硫原子或萘環(huán)，或含有20％(重量)以上的苯環(huán)，則能更簡便地使有機成分提高折射率。但是，若含量達到60％(重量)以上，則會發(fā)生光感度下降這樣的問題，因而硫原子和萘環(huán)及苯環(huán)的合計含量較好在1～60％(重量)的范圍。
作為有機成分中引進硫原子、溴原子、萘環(huán)的方法，有效的是在感光性單體或粘結(jié)劑中使用有硫原子、萘環(huán)的化合物。作為分子內(nèi)含有硫原子的單體，可以列舉以下通式(a)、(b)或(c)所示的化合物。結(jié)構(gòu)式中的R表示氫原子或甲基。
此外，增敏劑采用的是在曝光波長有吸收的物質(zhì)，在這種情況下，在吸收波長附近，折射率會變得極端地高，因而大量添加增敏劑可以提高有機成分的折射率。作為這種情況下的增敏劑添加量，可以在膏狀物中添加0.5～10％(重量)。更好的是1～6％(重量)。
感光性膏狀物，通常是使無機微粒、紫外線吸光劑、感光性聚合物、感光性單體、光聚合引發(fā)劑、玻璃料和溶劑等各種成分按預(yù)定組成摻合后，用三輥輾片機或混煉機均勻混合分散來制作的。
膏狀物的粘度可以用無機微粒、增粘劑、有機溶劑、增塑劑和防沉淀劑等的添加比例加以適當(dāng)調(diào)整，但其范圍是2000～200,000cps(厘泊)。例如，在用旋轉(zhuǎn)涂布法(spin coating)涂布到玻璃基板上的情況下，較好的是200～5000cps。用網(wǎng)板印刷法一次涂布能達到10～20μm膜厚者，較好是5萬～20萬cps。在用刮刀涂布器法或模具涂布器法等的情況下，較好的是1000～20000cps。
以下說明用感光性膏狀物進行圖案加工的一個例子，但本發(fā)明不限于此。
在玻璃基板或陶瓷基板或者聚合物制成的薄膜上，全面涂布或部分涂布感光性膏狀物。作為涂布方法，可以用網(wǎng)板印刷、棒涂器、輥涂器、模涂器、刀涂器等一般方法。涂布厚度可以通過選擇涂布次數(shù)、涂布器間隙、網(wǎng)板目數(shù)、膏狀物粘度來調(diào)整。
在此，在膏狀物涂布到基板上的情況下，為了提高基板與涂布膜的粘合性，可以進行基板表面處理。作為表面處理液，可以用甲硅烷偶合劑，例如乙烯基三氯甲硅烷、乙烯基三甲氧基甲硅烷、乙烯基三乙氧基甲硅烷、三(2-甲氧基乙氧基)乙烯基甲硅烷、γ-(縮水甘油氧基)丙基三甲氧基甲硅烷、γ-(甲基丙烯酰氧基)丙基三甲氧基甲硅烷、γ-(2-氨基乙基)氨基丙基三甲氧基甲硅烷、γ-氯丙基三甲氧基甲硅烷、γ-巰基丙基三甲氧基甲硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基甲硅烷等，或有機金屬，例如有機鈦、有機鋁、有機鋯等。使用時，甲硅烷偶合劑或有機金屬用有機溶劑如乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等稀釋到0.1～5％的濃度。然后，可以通過用旋轉(zhuǎn)涂布機(spinner)等把這種表面處理液均勻涂布到基板上之后在80～140℃干燥10～60分鐘來進行表面處理。
此外，在涂布于薄膜上的情況下，有在薄膜上進行干燥后再進行曝光步驟的情況，和張貼在玻璃或陶瓷基板上之后再進行曝光步驟的方法。
把本發(fā)明的感光性膏狀物涂布在聚酯薄膜等上，可以得到可用于電路材料或顯示器上的感光性未固化薄板(green sheet)。把這種未固化薄板轉(zhuǎn)印到玻璃基板上，可以形成厚度均一的感光性膏狀物層。
涂布后，用曝光裝置進行曝光。曝光像通常的光刻蝕法那樣進行，一般是使用光掩膜的掩膜曝光方法。所用的掩膜因感光性有機成分的種類而異，可以選用負片型或正片型中任何一種。
此外，若不用光掩模，也可以采用以紅色或藍色可見光激光、氬離子激光等直接描繪的方法。
作為曝光裝置，可以使用步進曝光機、近程曝光機等。此外，在進行大面積曝光的情況下，可以利用在玻璃基板等基板上涂布感光性膏狀物之后邊傳送邊進行曝光的辦法，用曝光面積小的曝光機使大的面積曝光。
此時使用的活性光源，可以列舉諸如可見光線、近紫外線、紫外線、電子束、X射線、激光等，其中較好的是紫外線，作為其光源，可以使用諸如低壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、鹵素?zé)簟⒕鸁舻?。其中較好的是超高壓汞燈。曝光條件因涂布厚度而異，但若使用功率為1～100mW/cm2的超高壓汞燈，則可進行0.5～30分鐘曝光。
按照本發(fā)明，曝光步驟中可進行一次曝光。
在涂布的感光性膏狀物表面上設(shè)置氧阻擋膜，可以改善圖案形狀。作為氧阻擋膜的一個實例，可以列舉PVA或纖維素等的膜，或聚酯等的薄膜。
PVA膜的形成方法是把濃度0.5～5％(重量)的水溶液用旋轉(zhuǎn)涂布機(spinner)等方法均勻涂布到基板上之后在70～90℃干燥10～60分鐘使水分蒸發(fā)這樣進行的。此外，若在水溶液中添加少量醇類，則可以改善其與絕緣膜的涂著性，蒸發(fā)也變得容易，因而是較好的。進而，較好的PVA溶液濃度是1～3％(重量)。若處于這一范圍，則能進一步提高感度。涂布PVA之所以能提高感度，可以推測有如下理由。即，感光性成分發(fā)生光反應(yīng)時，若有空氣中的氧存在，則可以認(rèn)為光硬化的感度受到妨礙，但若有PVA膜存在，則能阻擋多余的氧，因而可以認(rèn)為曝光時的感度提高了。
在使用聚酯或聚丙烯、聚乙烯等透明薄膜的情況下，也有把這些薄膜張貼在涂布后的感光性膏狀物上使用的方法。
曝光后，利用感光部分與非感光部分對顯影液的溶解度的差異進行顯影，但在這種情況下，可以用浸漬法或噴霧法、刷洗法進行。
所用顯影液，可以使用能使感光性膏狀物中的有機成分溶解的有機溶劑。此外，該有機溶劑中，也可以在不使其溶解力受損失的范圍內(nèi)添加水。在感光性膏狀物中存在著有羧基等酸性基團的化合物的情況下，可以用堿性水溶液顯影。作為堿性水溶液，可以使用氫氧化鈉或碳酸鈉、氫氧化鈣水溶液等這樣的金屬堿水溶液，但若使用有機堿水溶液，則焙燒時堿成分容易去除，因而較好。
作為有機堿，可以使用一般的胺化合物。具體地說，可以列舉氫氧化四甲銨、氫氧化三甲基芐銨、單乙醇胺、二乙醇胺等。堿水溶液的濃度通常是0.01～10％(重量)、更好的是0.1～5％(重量)。若堿濃度太低，則不能除去可溶部分，而若堿濃度太高，則會使圖案部分剝離，而且有腐蝕不可溶部分之虞，因而不好。
此外，顯影時的顯影溫度在20～50℃進行，這從工藝管理角度來看是較好的。
然后，在焙燒爐中進行焙燒。焙燒氣氛或溫度因膏狀物或基板的種類而異，但可以在空氣中、氮氣、氫氣等氣氛中焙燒。作為焙燒爐，可以用間歇式焙燒爐或傳送帶式連續(xù)型焙燒爐。
焙燒溫度在400～1000℃進行。在玻璃基板上進行圖案加工的情況下，可以在520～610℃保護10～60分鐘進行焙燒。
此外，在以上的涂布或曝光、顯影、焙燒各步驟中，為了干燥。預(yù)反應(yīng)之目的，也可以引進50～300℃的加熱步驟。
通過以上步驟得到的有隔壁層的玻璃基板可以用于等離子體顯示器的前面?zhèn)然虮趁鎮(zhèn)?。此外，還可以用來作為等離子體地址液晶顯示器中地址部分用于進行放電的基板。
在所形成的隔壁層之間涂布了熒光體之后，把前面和背面的玻璃基板合起來、密封，并在其中封入氦、氖、氙等稀有氣體，就可以制造等離子體顯示器的屏幕部分。
進而，通過實裝驅(qū)動用的驅(qū)動器集成電路，就可以制造等離子體顯示器。
此外，為了使等離子體顯示器達到高精細化，也就是為了在一定的畫面尺寸上增加像素的數(shù)目，必須使單一像素的尺寸縮小。在這種情況下，必須使隔壁間的柵距縮小，但如果柵距縮小，則放電空間也會變小，而且由于熒光體的涂布面積減小。輝度也會下降。具體地說，如果要使42英寸的大屏幕電視機(1920×1035像素)或23英寸的OA監(jiān)視器(XGA1024×768像素)得以實現(xiàn)，則必須使像素尺寸達到450μm見方，使各種顏色隔開的隔壁也必須以150μm柵距形成。在這種情況下，如果隔壁的線寬增大，則不能確保用于放電的空間，或者會使熒光體的涂布面積縮小，因而，要使輝度提高就變得很困難。
本發(fā)明者等人，通過利用本發(fā)明的技術(shù)，發(fā)現(xiàn)能使隔壁的寬度變窄。
具體地說，可以得到形成了隔壁寬度20～40μm的條狀隔壁的等離子體顯示器，對于高精細化時的輝度提高是有效的。
本發(fā)明者等人發(fā)現(xiàn)，通過利用本發(fā)明的技術(shù)，能使隔壁的寬度變窄。
具體地說，本發(fā)明者等人發(fā)現(xiàn)，通過利用本發(fā)明的技術(shù)，即使一次曝光，也可形成高度為100～170μm的隔壁。
此外，通過形成高度100～170μm、柵距100～160μm的高精細隔壁，能提供可用于大屏幕電視機或計算機監(jiān)視器的高精細等離子體顯示器。
以下用實施例具體地說明本發(fā)明。但本發(fā)明不限于此。要注意的是，實施例、比較例中的濃度(％)，除非事先特別說明，否則均為重量％。
實施例制備了由無機微粒和有機成分組成的感光性膏狀物。制備順序是，首先使有機成分的各成分與γ-丁內(nèi)酯在80℃加熱直至溶解，然后添加無機微粒，用混煉機混煉，制成膏狀物。粘度是利用溶劑量調(diào)整的。溶劑量(γ-丁內(nèi)酯)調(diào)整得使之在膏狀物中達到10～40％。
然后，在30cm見方的堿玻璃基板或石英玻璃基板上，用網(wǎng)板印刷法多次涂布，使之達到100μm、150μm、200μm的涂布厚度，在進行這樣的涂布之后在80℃干燥30分鐘。
然后，經(jīng)由光掩膜進行曝光。使用以下2種掩模(1)柵距220μm、線寬50μm的鉻制負片掩模；(2)柵距150μm、線寬20μm的鉻制負片掩模。
曝光系用功率為50mW/cm2的超高壓汞燈以2～10J/cm2的光量進行一次紫外線曝光。
然后，用0.5％單乙醇胺水溶液浸漬，進行顯影。
進而，所得到的玻璃基板在80℃干燥1小時后，在最高溫度560℃或850℃(最高溫度保持30分鐘)進行焙燒。
將所得到的試樣切斷，用掃描型電子顯微鏡觀察斷面，其結(jié)果在形成良好隔壁圖案的情況下評價為○；圖案中有缺落、斷絕、因顯影不良而發(fā)生未曝光部分堵塞等，因而不能形成良好隔壁的情況者，評價為×。結(jié)果列于表3中。
此外，有機成分的折射率，是在只配制膏狀物中的有機成分、涂布和干燥步驟后，用橢圓偏光法在25℃以436nm波長的光測定的。
實施例1用表1的A1玻璃粉末75g和B3有機成分25g，制備膏狀物。使用的有機溶劑是10g。
圖案形成、在560℃進行30分鐘焙燒的結(jié)果列于表3中。
此外，在360×500mm尺寸的堿玻璃基板(厚度2.8mm)上、用感光性銀膏狀物、形成3072根線寬40μm、柵距150μm、厚度10μm的條狀銀配線后，用上述膏狀物全面進行200μm厚度的涂布，用柵距150μm、線寬20μm、線數(shù)3080根、線長350mm的光掩模曝光后、顯影、焙燒，形成隔壁層。然后，用網(wǎng)板印刷法涂布RGB熒光體膏狀物后，在450℃焙燒20分鐘，制作了23英寸用等離子體顯示器背面板。把這種背面板與前面板組合在一起，封入氣體，可以制成23英寸XGA(1024×768像素)監(jiān)視器。
實施例2用表1的A2玻璃粉末75g和B3的有機成分25g，制備膏狀物。使用的溶劑是15g。
進行圖案形成、在560℃焙燒10分鐘，結(jié)果列于表3中。
實施例3用表1的A3玻璃粉末70g和B4有機成分30g，制備膏狀物。使用的溶劑是15g。
進行圖案形成、在560℃焙燒10分鐘，結(jié)果列于表3中。
實施例4用表1的A4玻璃粉末80g和B4有機成分20g，制備膏狀物。使用的溶劑是7g。
進行圖案形成、在580℃焙燒15分鐘，結(jié)果列于表3中。
實施例5用表1的A4玻璃粉末80g和B2有機成分20g，制備膏狀物。使用的溶劑是11g。
進行圖案形成、在580℃焙燒15分鐘，結(jié)果列于表3中。
實施例6用表1的A5玻璃粉末75g和B1有機成分25g，制備膏狀物。使用的溶劑是12g。
進行圖案形成、在580℃焙燒15分鐘，結(jié)果列于表3中。
實施例7用表1的A6玻璃粉末75g和B3有機成分25g，制備膏狀物。使用的溶劑是10g。
進行圖案形成、在850℃焙燒15分鐘。結(jié)果列于表3中。
實施例8用表1的A1玻璃粉末60g和A6玻璃粉末15g混合后，用B3有機成分25g，制備膏狀物。使用的溶劑是10g。
進行圖案形成、在580℃焙燒30分鐘，結(jié)果列于表3中。
比較例1用表1的A3玻璃粉末75g和B2有機成分25g，制備膏狀物。使用的溶劑是10g。
進行圖案形成、在560℃焙燒10分鐘，結(jié)果列于表3中。
比較例2用表1的A4玻璃粉末75g和B4有機成分25g，制備膏狀物。使用的溶劑是10g。
進行圖案形成、在580℃焙燒15分鐘，結(jié)果列于表3中。
表1所用玻璃微粒的各種組成

表2所用有機成分的各種組成

*在玻璃基板上涂布、在80℃干燥40分鐘后的有機成分折射率表3 隔壁形成的結(jié)果

表中簡稱說明如下。
(聚合物1～3的結(jié)構(gòu)中的數(shù)字分別表示備單體的組成摩爾比)TMPTA三丙烯酸三(羥甲基)丙烷酯
TBPMA甲基丙烯酸三溴苯酯TBB-ADA二丙烯酸四溴雙酚A酯BMEXS-MA MPS-MA PVA聚乙烯醇思丹偶氮類紅色染料，C24H20N4O尤皮納爾D-50苯酰苯類染料(尤皮納爾D-50)C13H10O5MTPMP2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉代丙烷-1EPA對(二甲胺基)苯甲酸乙酯DET2，4-二乙基噻噸酮γ-BLγ-丁內(nèi)酯聚合物1 (重均分子量43000、酸值90)
聚合物2 (重均分子量32000、酸值95)聚合物3 (重均分子量30000、酸值101)產(chǎn)業(yè)上利用的可能性利用本發(fā)明的感光性膏狀物，使高縱橫比且高精度的圖案加工成為可能。因此，也使顯示器、電路材料等的厚膜、高精度圖案加工成為可能，從而有可能提高精細度和簡化工藝。
尤其可以簡便地制作高精細等離子體顯示器屏幕。
權(quán)利要求
1.等離子體顯示器或等離子地址液晶顯示器，其中包括在玻璃基板上形成的隔壁層，所述隔壁層包括平均折射率為1.5～1.7的無機成分。
2.按照權(quán)利要求1所述的等離子體顯示器或等離子體地址液晶顯示器，其中所述平均折射率范圍為1.5～1.65。
3.按照權(quán)利要求1所述的等離子體顯示器或等離子體地址液晶顯示器，其中所述平均折射率范圍為1.55～1.65。
4.按照權(quán)利要求1所述的等離子體顯示器或等離子體地址液晶顯示器，其中所述隔壁層具有350-600℃的熱軟化溫度。
5.按照權(quán)利要求1所述的等離子體顯示器或等離子體地址液晶顯示器，其中所述隔壁層具有50～90×10-7的線熱膨脹系數(shù)。
6.按照權(quán)利要求1所述的等離子體顯示器或等離子體地址液晶顯示器，其中所述隔壁層含有氧化鋰、氧化鈉或氧化鉀中的至少一種，其含量合計為3～20重量％。
7.按照權(quán)利要求1所述的等離子體顯示器或等離子體地址液晶顯示器，其中所述隔壁層含有3～20重量％的氧化鋰。
8.按照權(quán)利要求1所述的等離子體顯示器或等離子體地址液晶顯示器，其中所述隔壁層含有氧化鉍或氧化鉛中的至少一種，其含量合計為5～50重量％。
9.按照權(quán)利要求1所述的等離子體顯示器或等離子體地址液晶顯示器，其中所述隔壁層含有氧化鉍或氧化鉛的至少一種，其含量合計為5～30重量％并且還含有氧化鋰、氧化鈉或氧化鉀中的至少一種，其含量合計為3～15重量％。
10.按照權(quán)利要求1所述的等離子體顯示器或等離子體地址液晶顯示器，其中所述隔壁層含有3～60重量％的氧化硅和5～50重量％的氧化硼。
11.按照權(quán)利要求1所述的等離子體顯示器或等離子體地址液晶顯示器，其中所述隔壁層含有3～60重量％的氧化硅、5～50重量％的氧化硼、1～30重量％的氧化鋇和1～30重量％的氧化鋁。
12.按照權(quán)利要求1所述的等離子體顯示器或等離子體地址液晶顯示器，其中所形成的隔壁層呈線寬為20～35μm的條狀。
13.按照權(quán)利要求12所述的等離子體顯示器或等離子體地址液晶顯示器，其中所形成的隔壁層的線寬為20～40μm、高度為100～170μm、柵距為100～160μm。
全文摘要
本發(fā)明提供一種等離子體顯示器或等離子地址液晶顯示器，其中包括在玻璃基板上形成的隔壁層，所述隔壁層包括平均折射率為1.5～1.7的無機成分。
文檔編號H01J17/49GK1707735SQ20051008495
公開日2005年12月14日 申請日期1996年6月12日 優(yōu)先權(quán)日1995年6月12日
發(fā)明者井口雄一朗, 正木孝樹, 巖永慶二 申請人:東麗株式會社