專利名稱：用于等離子顯示屏的后基板及其制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及平板顯示器領(lǐng)域，具體而言，涉及一種用于等離子顯示屏的后基板及
其制作方法。
背景技術(shù)：
近年來(lái)，在電腦和電視等圖像顯示所使用的彩色顯示裝置中，采用等離子顯示屏 (Plasma Display Panel, PDP)的顯示裝置作為能夠?qū)崿F(xiàn)大型和薄型輕量的彩色顯示裝置 而備受矚目。為了實(shí)現(xiàn)全色顯示，在等離子顯示屏內(nèi)涂敷有能發(fā)出三原色(紅(R)、綠(G) 和藍(lán)(B))的熒光粉層，構(gòu)成熒光粉層的熒光粉粒子受到PDP放電單元內(nèi)產(chǎn)生的真空紫外光 (VUV)的激發(fā)，產(chǎn)生紅、綠和藍(lán)三基色光，然后經(jīng)過(guò)空間和時(shí)間的調(diào)試實(shí)現(xiàn)彩色圖像的顯示。
就驅(qū)動(dòng)方式而言，等離子顯示屏可以分為AC型和DC型兩種，就放電方式而言，可 以分為表面放電型和對(duì)向放電型，目前AC型中表面放電型的等離子顯示屏占主流地位。目 前，標(biāo)準(zhǔn)的AC-PDP結(jié)構(gòu)是反射型(Reflection type display)的，即障壁和熒光粉都在后 基板上，熒光粉涂敷在障壁槽內(nèi)，依靠障壁和后板白色反射介質(zhì)的反射作用，實(shí)現(xiàn)對(duì)三原色 熒光粉產(chǎn)生的可見(jiàn)光的反射。各色熒光粉自身的性質(zhì)和其表面積的大小直接決定了發(fā)光強(qiáng) 度的高低。 等離子顯示屏的高清晰化要求增加單位面積內(nèi)的像素?cái)?shù)，即放電單元的個(gè)數(shù)。如 果畫面尺寸相同，像素?cái)?shù)的增加必然會(huì)導(dǎo)致單個(gè)像素面積的減小，而使每個(gè)像素內(nèi)吸收真 空紫外光的熒光粉的面積相應(yīng)減小，從而導(dǎo)致等離子顯示屏亮度的降低。為了提高等離子 顯示屏的亮度，現(xiàn)有技術(shù)是在放電單元內(nèi)的介質(zhì)層上設(shè)置高度比障壁小的凸起，通過(guò)在該 凸起上也涂敷熒光粉，使熒光粉表面積增加。 在實(shí)現(xiàn)本發(fā)明過(guò)程中，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)中至少存在如下問(wèn)題形成這些凸起 的工藝很復(fù)雜，并且這種凸起結(jié)構(gòu)會(huì)使放電空間減小。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在提供一種用于等離子顯示屏的后基板及其制作方法，能夠解決現(xiàn)有技 術(shù)中的凸起的制作工藝復(fù)雜，且會(huì)使放電空間減小的問(wèn)題。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，提供了一種用于等離子顯示屏的后基板，包括玻璃基板；
尋址電極，位于玻璃基板上；第一介質(zhì)層，位于尋址電極上；第二介質(zhì)層，位于第一介質(zhì)層
上，其上排列有多個(gè)障壁，且第二介質(zhì)層在多個(gè)障壁之間的區(qū)域上具有向內(nèi)凹陷的坑；第二
介質(zhì)層和多個(gè)障壁的表面涂敷有熒光粉。 其中，第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層為透明介質(zhì)。 優(yōu)選地，在上述的后基板中，每?jī)蓚€(gè)障壁之間的坑有一個(gè)。 優(yōu)選地，在上述的后基板中，每?jī)蓚€(gè)障壁之間的坑有多個(gè)。 在本發(fā)明的實(shí)施例中，還提供了一種用于等離子顯示屏的后基板的制作方法，包 括在后基板的玻璃基板上制作尋址電極和第一介質(zhì)層；第一介質(zhì)層干燥燒結(jié)后，在其上通過(guò)具有漏印版圖形的絲網(wǎng)印刷制作第二介質(zhì)層；第二介質(zhì)層干燥燒結(jié)后，在其上制作障 壁；在第二介質(zhì)層和障壁的表面涂敷熒光粉；其中，障壁有多個(gè)，第二介質(zhì)層在多個(gè)障壁之 間的區(qū)域上具有向內(nèi)凹陷的坑。 其中，第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層為透明介質(zhì)。 優(yōu)選地，在上述的制作方法中，每?jī)蓚€(gè)障壁之間的坑有一個(gè)。 優(yōu)選地，在上述的制作方法中，每?jī)蓚€(gè)障壁之間的坑有多個(gè)。 優(yōu)選地，在上述的制作方法中，在后基板的玻璃基板上制作尋址電極和第一介質(zhì) 層具體包括在后基板的玻璃基板上制作尋址電極；在尋址電極上通過(guò)絲網(wǎng)印刷制作第一 介質(zhì)層。 優(yōu)選地，在上述的制作方法中，采用噴砂或者濕法刻蝕的方法制作障壁。 在本發(fā)明中，由于在第一透明介質(zhì)層上又制作了一層具有多個(gè)向內(nèi)凹陷的坑的第
二透明介質(zhì)層，障壁位于其平滑區(qū)域，通過(guò)在第二透明介質(zhì)層和障壁的表面涂敷熒光粉，解
決了現(xiàn)有技術(shù)中的凸起的制作工藝復(fù)雜，且會(huì)使放電空間減小的問(wèn)題，在不減小放電空間
的前提下，增大了熒光粉的有效發(fā)光面積，提高了等離子顯示屏的亮度。


此處所說(shuō)明的附圖用來(lái)提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解，構(gòu)成本申請(qǐng)的一部分，本發(fā) 明的示意性實(shí)施例及其說(shuō)明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中
圖1示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于等離子顯示屏的后基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于等離子顯示屏的后基板的制作方法的流程 圖。
具體實(shí)施例方式
下面將參考附圖并結(jié)合實(shí)施例，來(lái)詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明。 圖1示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于等離子顯示屏的后基板的結(jié)構(gòu)示意圖，該后 基板包括玻璃基板1 ;尋址(ADD)電極2，位于玻璃基板上1 ;第一介質(zhì)層3，位于尋址電極 2上；第二介質(zhì)層4，位于第一介質(zhì)層3上，其上排列有多個(gè)障壁5，且第二介質(zhì)層4在多個(gè) 障壁5之間的區(qū)域上具有多個(gè)向內(nèi)凹陷的坑41 ;第二介質(zhì)層4和多個(gè)障壁5的表面涂敷有 熒光粉。 其中，第一介質(zhì)層3和第二介質(zhì)層4為透明介質(zhì)。 該優(yōu)選實(shí)施例由于在第一透明介質(zhì)層上又制作了一層具有多個(gè)向內(nèi)凹陷的坑的
第二透明介質(zhì)層，障壁位于其平滑區(qū)域，通過(guò)在第二透明介質(zhì)層和障壁的表面涂敷熒光粉，
解決了現(xiàn)有技術(shù)中的凸起的制作工藝復(fù)雜，且會(huì)使放電空間減小的問(wèn)題，在不減小放電空
間的前提下，增大了熒光粉的有效發(fā)光面積，提高了等離子顯示屏的亮度。 優(yōu)選地，如圖1所示，在上述的后基板中，每?jī)蓚€(gè)障壁5之間的坑41有一個(gè)。該優(yōu)
選實(shí)施例提供了在第二透明介質(zhì)層上設(shè)置坑的一種具體實(shí)施方案。 顯然，優(yōu)選地，在上述的后基板中，每?jī)蓚€(gè)障壁5之間的坑41還可以有多個(gè)。這樣，
可以進(jìn)一步增大熒光粉的涂敷面積以及有效發(fā)光面積。 該優(yōu)選實(shí)施例提供了在第二透明介質(zhì)層上設(shè)置坑的另一種具體實(shí)施方案。
圖2示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于等離子顯示屏的后基板的制作方法的流程 圖，包括 步驟S10，在后基板的玻璃基板上制作尋址電極和第一介質(zhì)層； 步驟S20，第一介質(zhì)層干燥燒結(jié)后，在其上通過(guò)具有漏印版圖形的絲網(wǎng)印刷制作第
二介質(zhì)層； 步驟S30，第二介質(zhì)層干燥燒結(jié)后，在其上制作障壁； 步驟S40，在第二介質(zhì)層和障壁的表面涂敷熒光粉；其中，障壁有多個(gè)，第二介質(zhì)
層在多個(gè)障壁之間的區(qū)域上具有向內(nèi)凹陷的坑。
其中，第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層為透明介質(zhì)。 優(yōu)選地，在上述的制作方法中，每?jī)蓚€(gè)障壁之間的坑有一個(gè)(如圖1所示)。該優(yōu) 選實(shí)施例提供了在第二透明介質(zhì)層上設(shè)置坑的一種具體實(shí)施方案。 顯然，優(yōu)選地，在上述的制作方法中，每?jī)蓚€(gè)障壁之間的坑還可以有多個(gè)。這樣，可 以進(jìn)一步增大了熒光粉的涂敷面積以及有效發(fā)光面積。該優(yōu)選實(shí)施例提供了在第二透明介 質(zhì)層上設(shè)置坑的另一種具體實(shí)施方案。 該優(yōu)選實(shí)施例由于在第一透明介質(zhì)層上又制作了一層具有多個(gè)向內(nèi)凹陷的坑的 第二透明介質(zhì)層，障壁位于其平滑區(qū)域，通過(guò)在第二透明介質(zhì)層和障壁的表面涂敷熒光粉， 解決了現(xiàn)有技術(shù)中的凸起的制作工藝復(fù)雜，且會(huì)使放電空間減小的問(wèn)題，在不減小放電空 間的前提下，增大了熒光粉的有效發(fā)光面積，提高了等離子顯示屏的亮度，且制作工藝簡(jiǎn)單。 優(yōu)選地，在上述的制作方法中，步驟S10具體包括在后基板的玻璃基板上制作尋 址電極；在尋址電極上通過(guò)絲網(wǎng)印刷制作第一介質(zhì)層。 該優(yōu)選實(shí)施例提供了在后基板的玻璃基板上制作尋址電極和第一介質(zhì)層的具體 實(shí)施方案。 優(yōu)選地，在上述的制作方法中，采用噴砂或者濕法刻蝕的方法制作障壁。無(wú)論采用 何種方法，制作出的障壁都要和第二透明介質(zhì)層的結(jié)構(gòu)進(jìn)行對(duì)位，使得坑位于第二透明介 質(zhì)層在多個(gè)障壁之間的區(qū)域，即障壁位于第二透明介質(zhì)層平滑區(qū)域(如圖1所示)。
優(yōu)選地，在上述的制作方法中，還包括在第二介質(zhì)層和障壁的表面涂敷熒光粉。 由于在設(shè)計(jì)的障壁位置有一個(gè)向內(nèi)凹陷的坑，第二透明介質(zhì)層燒結(jié)后再制作障壁，在障壁 制作的過(guò)程中，由于第二透明介質(zhì)層上具有的坑，最終熒光粉涂敷的位置底下有了一個(gè)具 有一定弧度的坑，從而有效地增大了熒光粉涂敷的面積。 從以上的描述中，可以看出，本發(fā)明上述的實(shí)施例實(shí)現(xiàn)了如下技術(shù)效果 由于在第一透明介質(zhì)層上又制作了一層具有多個(gè)向內(nèi)凹陷的坑的第二透明介質(zhì)
層，障壁位于其平滑區(qū)域，通過(guò)在第二透明介質(zhì)層和障壁的表面涂敷熒光粉，解決了現(xiàn)有技
術(shù)中的凸起的制作工藝復(fù)雜，且會(huì)使放電空間減小的問(wèn)題，在不減小放電空間的前提下，增
大了熒光粉的有效發(fā)光面積，提高了等離子顯示屏的亮度。 顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該明白，上述的本發(fā)明的各模塊或各步驟可以用通用 的計(jì)算裝置來(lái)實(shí)現(xiàn)，它們可以集中在單個(gè)的計(jì)算裝置上，或者分布在多個(gè)計(jì)算裝置所組成 的網(wǎng)絡(luò)上，可選地，它們可以用計(jì)算裝置可執(zhí)行的程序代碼來(lái)實(shí)現(xiàn)，從而，可以將它們存儲(chǔ) 在存儲(chǔ)裝置中由計(jì)算裝置來(lái)執(zhí)行，或者將它們分別制作成各個(gè)集成電路模塊，或者將它們中的多個(gè)模塊或步驟制作成單個(gè)集成電路模塊來(lái)實(shí)現(xiàn)。這樣，本發(fā)明不限制于任何特定的 硬件和軟件結(jié)合。 以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不用于限制本發(fā)明，對(duì)于本領(lǐng)域的技 術(shù)人員來(lái)說(shuō)，本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修 改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
一種用于等離子顯示屏的后基板，其特征在于，包括玻璃基板(1)；尋址電極(2)，位于所述玻璃基板(1)上；第一介質(zhì)層(3)，位于所述尋址電極(2)上；第二介質(zhì)層(4)，位于所述第一介質(zhì)層(3)上，其上排列有多個(gè)障壁(5)，且所述第二介質(zhì)層(4)在所述多個(gè)障壁(5)之間的區(qū)域上具有向內(nèi)凹陷的坑(41)；所述第二介質(zhì)層(4)和所述多個(gè)障壁(5)的表面涂敷有熒光粉。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的后基板，其特征在于，所述第一介質(zhì)層(3)和所述第二介質(zhì)層 (4)為透明介質(zhì)。
3. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的后基板，其特征在于，每?jī)蓚€(gè)所述障壁(5)之間的所述坑 (41)有一個(gè)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的后基板，其特征在于，每?jī)蓚€(gè)所述障壁(5)之間的所述坑 (41)有多個(gè)。
5. —種用于等離子顯示屏的后基板的制作方法，其特征在于，包括 在所述后基板的玻璃基板上制作尋址電極和第一介質(zhì)層；所述第一介質(zhì)層干燥燒結(jié)后，在其上通過(guò)具有漏印版圖形的絲網(wǎng)印刷制作第二介質(zhì)層；所述第二介質(zhì)層干燥燒結(jié)后，在其上制作障壁； 在所述第二介質(zhì)層和所述障壁的表面涂敷熒光粉；其中，所述障壁有多個(gè)，所述第二介質(zhì)層在所述多個(gè)障壁之間的區(qū)域上具有向內(nèi)凹陷 的坑。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述第一介質(zhì)層和所述第二介質(zhì)層 為透明介質(zhì)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的制作方法，其特征在于，每?jī)蓚€(gè)所述障壁之間的所述坑有一個(gè)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的制作方法，其特征在于，每?jī)蓚€(gè)所述障壁之間的所述坑有多個(gè)。
9. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的制作方法，其特征在于，在所述后基板的玻璃基板上制作尋址電極和第一介質(zhì)層具體包括在所述后基板的玻璃基板上制作尋址電極； 在所述尋址電極上通過(guò)絲網(wǎng)印刷制作所述第一介質(zhì)層。
10. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的制作方法，其特征在于，采用噴砂或者濕法刻蝕的方法制作 所述障壁。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種用于等離子顯示屏的后基板，包括玻璃基板；尋址電極，位于玻璃基板上；第一介質(zhì)層，位于尋址電極上；第二介質(zhì)層，位于第一介質(zhì)層上，其上排列有多個(gè)障壁，且第二介質(zhì)層在多個(gè)障壁之間的區(qū)域上具有向內(nèi)凹陷的坑；第二介質(zhì)層(4)和多個(gè)障壁(5)的表面涂敷有熒光粉。本發(fā)明還提供了一種用于等離子顯示屏的后基板的制作方法。本發(fā)明能夠在不減小放電空間的前提下，增大熒光粉的有效發(fā)光面積，提高等離子顯示屏的亮度。
文檔編號(hào)H01J9/24GK101719449SQ200910081029
公開(kāi)日2010年6月2日 申請(qǐng)日期2009年3月30日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月30日
發(fā)明者張志磊 申請(qǐng)人:四川虹歐顯示器件有限公司