專利名稱：發(fā)光屏和圖像顯示設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于圖像顯示設(shè)備的發(fā)光屏。
背景技術(shù)：
常規(guī)上，已知場發(fā)射型顯示器(FED)作為一種圖像顯示設(shè)備。 FED具有真空容器，所述真空容器是通過經(jīng)由框架部件接合后板和發(fā) 光屏而形成的。另外，多個(gè)電子發(fā)射器件以矩陣方式布置在后板上。 此外，在發(fā)光屏上布置有紅色(R)、綠色(G)和藍(lán)色(B)發(fā)光部 件；黑色部件；以及陽極電極，所述紅色(R)、綠色(G)和藍(lán)色(B) 發(fā)光部件分別響應(yīng)電子發(fā)射器件發(fā)射的電子而發(fā)射可見光，所述黑色 部件中的每一個(gè)位于所述發(fā)光部件之間，所述陽極電極要對電子進(jìn)行 加速。在此，由諸如Al等的金屬膜構(gòu)成的金屬背一般已知作為陽極電 極。
在具有這種構(gòu)造的FED中，已確i人這樣一種現(xiàn)象，即，在從電子 發(fā)射器件發(fā)射的電子進(jìn)入發(fā)光屏上的金屬背和發(fā)光部件的情況下，被 發(fā)射的電子的一部分被反射。也就是說，由于陽極電極和電子發(fā)射器 件之間的電壓，由金屬背和發(fā)光部件反射的電子(此后被稱為反射電 子)被朝發(fā)光屏側(cè)再次加速，并且被加速的電子再次進(jìn)入發(fā)光部件， 從而發(fā)生被稱為光暈(halation)的現(xiàn)象。
在此，應(yīng)注意，光暈是這樣一種現(xiàn)象，即，由金屬背和發(fā)光部件 反射的電子進(jìn)入相鄰的另一區(qū)域中的發(fā)光部件。更具體地說，如果發(fā) 生光暈，則由于未被選中的區(qū)域中的發(fā)光部件發(fā)光，因此對比度和顏 色純度完全劣化，從而圖像質(zhì)量劣化。為此，至今已考慮了針對光暈 的對策。
順便提及，日本專利申請?zhí)亻_第2008-097861號(對應(yīng)于美國專利公告第2008/084160號)公開了 在發(fā)光屏上的發(fā)光部件之間設(shè)置 肋(rib)，以便通過阻斷反射電子而控制光暈的發(fā)生。
然而，對于日本專利申請?zhí)亻_第2008-097861號中公開的肋，已 要求進(jìn)一步減少由反射電子導(dǎo)致發(fā)生的光暈。關(guān)于這一點(diǎn)，本發(fā)明旨 在提供一種能夠減少由反射電子導(dǎo)致發(fā)生的光暈的新的發(fā)光屏，以及 使用所述新的發(fā)光屏的圖像顯示設(shè)備。

發(fā)明內(nèi)容
解決上述這種問題的本發(fā)明的特征在于一種發(fā)光屏，所述發(fā)光屏 包括基板；位于所述基板上的陽極電極；多個(gè)發(fā)光部件，適于響應(yīng) 電子的照射而發(fā)光；以及肋部件，位于所述多個(gè)發(fā)光部件之間，適于 將所述多個(gè)發(fā)光部件相互分隔開，其中所述肋部件在由所述肋部件相 互分隔開的相鄰的發(fā)光部件之間具有開口部分。
根據(jù)本發(fā)明，能夠進(jìn)一步減少由反射電子導(dǎo)致發(fā)生的光暈，從而 能夠顯示高質(zhì)量圖像。
參照附圖閱讀以下對示例性實(shí)施例的描述，本發(fā)明的其他特征將 變得清晰。


圖1A和1B是分別示出根據(jù)本發(fā)明的發(fā)光屏的結(jié)構(gòu)的示例的視圖。
圖2A和2B是分別示出根據(jù)本發(fā)明的發(fā)光屏的結(jié)構(gòu)的另一示例的 視圖。
圖3是沿圖1A中指示的線3-3的截面圖。
圖4是沿圖2A中指示的線4-4的截面圖。
圖5是部分切除根據(jù)本發(fā)明的圖像顯示設(shè)備的概念透視圖。
圖6是沿圖5中指示的線6-6的截面圖。
圖7是指示肋部件的開口部分的開口率和反射電子量之間的關(guān)系 的視圖。
4圖8A、 8B和8C是指示根據(jù)本發(fā)明的發(fā)光屏的制造過程的視圖。 圖9A、 9B和9C是指示根據(jù)本發(fā)明的發(fā)光屏的制造過程的視圖。 圖IOA和IOB是指示根據(jù)本發(fā)明的發(fā)光屏的制造過程的視圖。 圖IIA和IIB是指示根據(jù)本發(fā)明的發(fā)光屏的制造過程的視圖。
具體實(shí)施例方式
此后，將參照圖1A、 1B、 2A、 2B、 3、 4、 5、 6和7來描述本發(fā) 明的示例性實(shí)施例。圖1A是本實(shí)施例的發(fā)光屏的平面圖，圖1B是在 沿圖1A中指示的線1B-1B切割本實(shí)施例的發(fā)光屏的情況下的截面圖。 圖5和6是分別示出本實(shí)施例的圖像顯示設(shè)備的整體概況的視圖，圖 5是部分切除圖像顯示設(shè)備的整體透視圖，圖6是沿圖5中指示的線 6-6的截面圖。首先，將描述作為特征部分的發(fā)光屏。
在本實(shí)施例中，如圖1A和1B所示，在面基板l上形成用于構(gòu) 成陽極電極的作為導(dǎo)電部件的金屬膜11、用于顯示圖像的作為多個(gè)發(fā) 光部件的熒光體層10、以及將各個(gè)熒光體層10分隔開的肋部件21。 本實(shí)施例中的發(fā)光屏由面基板1、用于構(gòu)成陽極電極的作為導(dǎo)電部件 的金屬膜11、作為所述多個(gè)發(fā)光部件的熒光體層10、以及肋部件21 構(gòu)成。對于發(fā)光屏，如圖1A和1B所示，根據(jù)圖像顯示設(shè)備的結(jié)構(gòu)， 進(jìn)一步具有用作黑色部件的黑底(black matrix ) 12的構(gòu)造是優(yōu)選的。
在圖1B中，作為發(fā)光部件的熒光體層10由位于基板上的肋部件 21彼此分隔開。肋部件21在作為被所述肋部件彼此分隔開的相鄰發(fā) 光部件的熒光體層10之間具有開口部分23。在本實(shí)施例中，如圖1B 所示，在金屬膜11或熒光體層10處產(chǎn)生的反射電子之中的不能由肋 部件21遮蔽的電子再次入射到面基板1，以產(chǎn)生新的反射電子(由圖 1B中的點(diǎn)線箭頭指示的二次反射電子)。然而，二次反射電子可被開 口部分23遮蔽。詳細(xì)說來，雖然入射到開口部分23的電子產(chǎn)生二次 反射電子，但是因?yàn)樵陂_口部分23中電子與肋部件21碰撞這一事實(shí) 導(dǎo)致電子能量損失，所以二次反射電子逐漸消失而不從開口部分23 離開到外部。因此，由于可以通過借助肋部件在開口部分遮蔽新的反射電子(二次反射電子)來減小光暈，從而可以顯示具有高對比度的 圖像。
注意，可以根據(jù)圖像顯示設(shè)備的規(guī)格來適當(dāng)設(shè)定肋部件21的高 度。優(yōu)選地，將肋部件21的高度設(shè)定在熒光體層的寬度(圖1A中的 X或Y方向上的長度)的1/2至IO倍的范圍內(nèi)，例如，如果發(fā)光區(qū)域 的寬度為50pm，則優(yōu)選地，將肋部件21的高度設(shè)定在25fim至500nm 的范圍內(nèi)。在肋部件21之間設(shè)置的開口部分的形狀不具體局限于矩 形，而是可以是多邊形或圓形。此外，優(yōu)選地，構(gòu)造為使得肋部件的 寬度在X方向和Y方向上具有相同長度。為了在開口部分23處有效 遮蔽反射電子，優(yōu)選地，設(shè)置在肋部件21之間的開口部分23的開口 深度(圖1B中的Z方向上的長度)變?yōu)楸葟淖鳛榘l(fā)光部件的熒光體 層10的表面到肋部件21的頂部22的長度長。根據(jù)此構(gòu)造，在開口部 分處可以更加確實(shí)地遮蔽反射電子。
在圖7中指示了開口部分23投影到面基板1的投影面積相對于通 過計(jì)算當(dāng)熒光體層10、肋部件21和開口部分23被投影到面基板1上 時(shí)所形成的投影面積的總和獲得的投影面積的比率(下文中稱為開口 率)與反射電子量之間的關(guān)系。注意，圖7指示了肋部件21的高度為 120nm并且焚光體層10的投影面積相對于熒光體層10、肋部件21和 開口部分23的總計(jì)投影面積所占的比率等于30%的情況下的數(shù)據(jù)。 如圖7所指示的，當(dāng)開口率變?yōu)榈扔诨虼笥?0%時(shí)，二次反射電子的 量顯著減少。然而，由于熒光體層所占據(jù)的比率影響發(fā)光量，而肋部 件所占據(jù)的比率影響反射電子的遮蔽效果，因此必須考慮這些部件所 占據(jù)的比率。因而，優(yōu)選地，開口部分23的開口率等于或大于20% 并且等于或小于40%。如圖1B所示，在本構(gòu)造中，在面基板l和開 口部分23之間包括用作黑色部件的黑底的一部分。在這種構(gòu)造的情況 下，可以防止由于設(shè)置開口部分23這一事實(shí)而導(dǎo)致的對比度劣化，并 且這種構(gòu)造是更加優(yōu)選的。
此外，將詳細(xì)描述用于構(gòu)成發(fā)光屏的各個(gè)構(gòu)成部件。
優(yōu)選地，肋部件21由這樣的材料構(gòu)成，即該材料由諸如含有如氧化鉛、氧化鋅、氧化鉍、氧化硼、氧化鋁、氧化硅和氧化鈦之類的金 屬氧化物的玻璃材料之類的、電阻幾乎等于電介質(zhì)電阻的無機(jī)混合物 組成。諸如噴砂法、感光膏法、蝕刻法等的方法可用于包括開口部分
23的形成的對肋部件21的構(gòu)圖。
通過電子束激發(fā)而發(fā)光的熒光體晶體可用于構(gòu)成發(fā)光部件的熒光 體層。作為熒光體層的具體材料，例如，可以使用在"Phosphor Handbook" ( Phosphor Research Society, Ohmsha， Ltd.)中描述的常 規(guī)CRT中使用的熒光體材料等。可根據(jù)加速電壓、熒光體的粒度大 小以及熒光體填充密度來適當(dāng)?shù)卦O(shè)定熒光體層的厚度。在加速電壓的 電平為5kV到15kV的情況下，熒光體層的厚度孚皮設(shè)定為4.5nm到 30nm的厚度，其是與一般熒光體的平均粒度大小對應(yīng)的3jLim到10nm 的1.5到3倍，并且更優(yōu)選地被設(shè)定為5nm到15pm的厚度。作為在 肋部件21之間的部分上形成熒光體層的方法，可以使用絲網(wǎng)印刷法、 沉降法、噴墨法、或微分配器法(micro-dispenser method )等?？梢詷?gòu)圖。
優(yōu)選地，通過如金屬背所代表的金屬膜來形成陽極電極。構(gòu)成陽 極電極的金屬膜具有用作陽極電極的功能和光反射功能兩者，所述陽 極電極用于施加加速電壓，所述加速電壓用于通過使電子加速而將電 子噴射到熒光體層，所述光反射功能將在熒光體層處無方向性地產(chǎn)生 的光束之中的發(fā)射到電子發(fā)射器件側(cè)的光反射到大氣側(cè)。因此，金屬 膜被放置得比熒光體層更接近電子發(fā)射器件側(cè)。由于電子需要經(jīng)過金 屬膜而到達(dá)熒光體層，因此，在考慮了電子的能量損失、設(shè)定的加速 電壓和光的反射效率的情況下，適當(dāng)?shù)卦O(shè)定金屬層的厚度。對于電平 為5kV到15kV的加速電壓，金屬膜的厚度被設(shè)定在50nm到300nm 的范圍內(nèi)。作為金屬膜的材料， 一般使用鋁。出于氣體吸收的目的， 允許將鋇或鈦層疊在金屬膜的表面上，或者出于減少反射電子的目的， 允許層疊碳(石墨)或氮化硼。在通過旋涂法、絲網(wǎng)印刷法、噴涂法 或微分配器法等將丙烯酸樹脂膜、纖維素樹脂膜或混合了丙烯酸樹脂和纖維素樹脂二者的膜淀積到焚光體層上之后，通過真空氣相淀積法 或'減射法來淀積金屬膜。根據(jù)一種形成樹脂膜的方法，在形成樹脂膜 之前，有時(shí)伴隨有將水膜涂敷到熒光體層上的處理。在形成金屬膜之 后的烘焙處理中，將樹脂膜燒盡或者分解而將其除去。應(yīng)注意，陽極 電極不限于位置比熒光體層更靠近電子發(fā)射器件側(cè)的鋁，而是也可由
布置在焚光體層和面基板之間的透明電極諸如ITO (銦錫氧化物)構(gòu) 成。
作為陽極電極，如圖2A和2B所示，這樣的構(gòu)造是優(yōu)選的，即該 構(gòu)造具有被肋部件21分隔開地定位的用作導(dǎo)電部件的多個(gè)金屬膜11， 以及將用作所述導(dǎo)電部件的所述多個(gè)金屬膜彼此連接的電阻部件24。 在陽極電極具有這種構(gòu)造的情況下，發(fā)光屏和利用這種發(fā)光屏的圖像 顯示設(shè)備的操作被穩(wěn)定化，并且此構(gòu)造更加優(yōu)選。詳細(xì)說來，即使過 量電流在發(fā)光屏與稍后將描述的后板之間流動，該電流的量可以由連 接彼此分開的金屬膜11的電阻部件24限制。由于對上述的電流量的 限制，圖像顯示設(shè)備的操作的穩(wěn)定性得到改善，并且在長時(shí)間段中保 持此穩(wěn)定操作。
根據(jù)光吸收物質(zhì)的種類，用作黑色部件的黑底12的膜厚度(圖 1B中指示的Z方向上的厚度)被設(shè)定在lpm到10pm的范圍內(nèi)。黑 底具有幾乎等于電介質(zhì)電阻的電阻。用于黑底12的黑色材料一般為黑 色金屬、黑色金屬氧化物或碳。作為黑色金屬氧化物，例如，可以列 舉出氧化釕、氧化鉻、氧化鐵、氧化鎳、氧化鉬、氧化鈷或氧化銅等。 作為黑底12,可以使用諸如通過在利用真空淀積法淀積上述材料之后 利用光刻法執(zhí)行構(gòu)圖形成所獲得的這種部件，或者通過在電淀積上述 材料之后執(zhí)行構(gòu)圖形成所獲得的這種部件。此外，也可以使用通過印 刷處理對上述材料進(jìn)行構(gòu)圖形成所獲得的這種部件，或者通過在印刷 具有感光性的上述材料之后利用光刻方法執(zhí)行構(gòu)圖形成所獲得的這種 部件。
接著，將參照圖5和6描述后板的構(gòu)造。在后基板4的內(nèi)表面上 設(shè)置多個(gè)電子發(fā)射器件8，所述多個(gè)電子發(fā)射器件8用于發(fā)射用于激發(fā)熒光體層10以發(fā)光的電子。作為電子發(fā)射器件8，例如，可優(yōu)選地 使用表面?zhèn)鲗?dǎo)型電子發(fā)射器件。這些電子發(fā)射器件8被布置為與各個(gè) 熒光體層相對應(yīng)的多個(gè)列和多個(gè)行，并且電子發(fā)射器件8中的每一個(gè) 由未示出的電子發(fā)射部分以及用于將電壓施加到此電子發(fā)射部分的一 對器件電極構(gòu)成。此外，在后基板4的內(nèi)表面上設(shè)置用于將驅(qū)動電壓 提供給各個(gè)電子發(fā)射器件8的多個(gè)行方向布線5和多個(gè)列方向布線6， 并且這些布線的邊緣部分被拉出到真空包殼的外部。后板由后基板4、 電子發(fā)射器件8、行方向布線5和列方向布線6構(gòu)成。
上述的發(fā)光屏和后板相對地布置，并且由于距離限定部件3的插 入而具有預(yù)定距離(例如在0.5nm到2.0nm的范圍內(nèi)的距離)。發(fā)光 屏的面基板1的周邊和后板的后基板4的周邊由于矩形側(cè)壁7的插入 而彼此接合，以構(gòu)成內(nèi)部被減壓的真空容器。
在利用上述真空容器的圖像顯示設(shè)備15中，在顯示圖像的情況 下，電壓通過行方向布線5和列方向布線6被提供給電子發(fā)射器件8 以發(fā)射電子，所述電子被施加到陽極電極的陽極電壓加速，以照射到 熒光體層10上。由此，所希望的焚光體層IO被激發(fā)以發(fā)光，并且圖 像被顯示。
在上述的圖像顯示設(shè)備中，發(fā)光部件被肋部件彼此分隔開，并且 所述肋部件在位于發(fā)光部件之間的部分上具有開口部分。根據(jù)此構(gòu)造， 如圖1B和2B所示，可以在開口部分處確實(shí)地遮蔽當(dāng)反射電子再次入 射到發(fā)光屏上時(shí)產(chǎn)生的新的反射電子(二次反射電子)。因此，可以 減少光暈，并且可以顯示具有高對比度的圖像。
示例1
此后，將描述本發(fā)明的示例。圖1A和1B是示出此示例的圖像顯 示設(shè)備中的發(fā)光屏的構(gòu)造的視圖。圖8A、 8B、 8C，圖9A、 9B、 9C， 圖IOA和10B以及圖IIA是用于描述此示例的圖像顯示設(shè)備中的發(fā) 光屏的制造過程的視圖。注意，指示制造過程的圖中的每一個(gè)都是截 面圖，其中的截面方向與沿圖1A中所示的線1B-1B的截面的方向相
9同。由于電子源的構(gòu)造和圖像顯示設(shè)備的構(gòu)造與上述的實(shí)施例中的構(gòu) 造相同，將省略對它們的描述。
(過程-a )
在清潔后的鈉鈣玻璃的表面上，通過絲網(wǎng)印刷法在發(fā)光區(qū)域中的 所需區(qū)域印刷黑色感光膏(photo-paste)。此后，在90'C的溫度下執(zhí) 行干燥處理，并且通過利用光刻技術(shù)將黑色感光膏以最優(yōu)的圖案曝光。 接著，通過濃度為0.4Wt。/c的碳酸鈉溶液使曝光的黑色感光膏顯影， 除去未曝光部分，并且保留曝光部分。接著，使執(zhí)行顯影之后的產(chǎn)物 材料干燥。
(過程-b )
將在(過程-a)中形成的圖案在550。C的溫度下進(jìn)行烘焙，并且 形成厚度為2jtm的作為黑色部件的黑底層12。黑底層的形狀被制成 為與之后要形成的作為發(fā)光部件的熒光體層的形狀相對應(yīng)。特別地， 黑底被形成在熒光體層之間的位置上以與熒光體層接觸，使得熒光體 層的間距在X方向上(在頁空間的深度方向上)為615nm，并且在Y 方向上為205nm,并且各個(gè)熒光體層的尺寸在Y方向上為295nm,并 且在X方向上為145nm (圖8A)。 (過程-c )
接著，通過狹縫涂敷器涂敷氧化鋅絕緣膏，并且在120'C的溫度 下將其烘焙十分鐘，以使得在烘焙處理之后的膜厚度為150nm，并且 形成肋材料層30 (圖8B)。 (過程-d )
接著，通過使用層壓機(jī)設(shè)備粘貼干膜抗蝕劑(DFR)31。此外， 將要用于曝光的鉻掩模對準(zhǔn)預(yù)定位置，然后對DFR進(jìn)行圖案曝光。要 用于曝光的掩模的形狀被設(shè)定為與上述的黑底中的圖案形式相似的圖 案形式，并且進(jìn)一步設(shè)置在Y方向上尺寸為210nm并且在X方向上 尺寸為155nm的、與開口部分23相對應(yīng)的開口 ，使得黑底的一部分 被露出。
通過使用要用于曝光的此掩模進(jìn)一步執(zhí)行DFR的曝光、顯影處理、漂洗液的噴淋處理、以及干燥處理，并且形成要用于噴砂的、在
所希望的位置具有開口的掩模(DFR掩模)(圖8C和圖9A)。 (過程-e )
接著，通過噴砂法除去不必要的肋材料層的部分，以便對應(yīng)于 DFR的開口，在所述噴石少法中，SUS顆粒被作為研磨顆粒(圖9B)。 (過程-f)
接著，使用去除液剝除DFR，并且對肋材料層進(jìn)行清潔。 (過程-g)
接著，將肋材料層在530'C的溫度下進(jìn)行烘焙，并且形成具有開 口 23的肋部件21。 (過程-h )
接著，利用用于CRT技術(shù)領(lǐng)域的熒光體P22被散布于其中的膏， 通過絲網(wǎng)印刷法將熒光體層印刷到肋部件21之間的部分上(圖9C )。 在此示例中，在Y方向上分別涂布三種顏色R、 G和B的熒光體層， 以便提供彩色顯示。每個(gè)熒光體層的厚度被設(shè)定為15pm。在印刷之 后，三種顏色R、 G和B的熒光體層在120。C的溫度下被干燥。此后，
(silicate alkali)的溶液(圖10A)。 (過程-i)
接著，通過噴涂法涂敷丙烯酸乳劑并使其干燥，并且用丙烯酸樹 脂填充粉末熒光體中的空間(圖10B)。 (過程-j)
接著，將鋁氣相淀積在被執(zhí)行了上述(過程-i)的面基板的整個(gè) 表面上，作為構(gòu)成陽極電極的金屬膜ll。在這種情況下，鋁的厚度被 設(shè)定為300nm (圖11A) (過程-k)
接著，通過在450'C的溫度下烘焙丙烯酸樹脂層，丙烯酸樹脂層 被分解以被除去。
通過將如上所述地形成的發(fā)光屏與上述實(shí)施例中描述的電子源一
ii起密封，形成圖像顯示設(shè)備。并且，通過經(jīng)由行方向布線和列方向布 線驅(qū)動電子發(fā)射器件而發(fā)射電子，顯示圖像。在本示例中，由于肋部
部分處具有開口的事實(shí)，如圖1B所指示，可遮蔽由入射到開口的反 射電子導(dǎo)致的新的反射電子(二次反射電子)。由此，與不具有開口 的情況相比，可以顯示光暈減少更多的高對比度圖像。
示例2
在本示例中，采用圖2A和2B所示的構(gòu)造作為發(fā)光屏這一點(diǎn)與示 例1中的情況不同。在本示例中，在執(zhí)行示例1中描述的從(過程-a) 到(過程-i)的過程之后，執(zhí)行以下過程。 (過程-j)
在肋部件21的頂部形成構(gòu)成陽極電極的電阻部件24，該電阻部 件24位于在圖中的X方向上彼此相鄰的熒光體層IO之間，并且位于 在圖中的Y方向上延伸的部分上。此構(gòu)造在圖2A中示出。作為電阻 部件24，通過絲網(wǎng)印刷法形成其中包含氧化釕的高電阻膏，使得烘焙 過程之后的膜厚度成為10pm，并且在使高電阻膏在120。C的溫度下干 燥十分鐘之后，在530。C的溫度下烘焙所述高電阻膏。 (過程-k)
接著，氣相淀積鋁，作為用作構(gòu)成陽極電極的導(dǎo)電部件的金屬膜 11。在這種情況下，使用具有開口部分的掩模，以使得從形成有用作 發(fā)光部件的熒光體層10的區(qū)域到肋部件21的側(cè)表面和電阻部件24 的上表面氣相淀積鋁，并且從對角線方向?qū)γ婊?執(zhí)行氣相淀積處 理。鋁的膜厚度被設(shè)定為300nm (圖11B )。 (過程-1)
接著，通過在450。C的溫度下烘焙丙烯酸樹脂層，丙烯酸樹脂層 被分解以被除去。還在本示例中，與另一示例相似，由于肋部件在位 于用作由肋部件彼此分隔開的相鄰發(fā)光部件的熒光體層之間的部分具 有開口的事實(shí)，如圖2B所指示，可遮蔽由入射到該開口的反射電子導(dǎo)致的新的反射電子(圖2B中的點(diǎn)線箭頭指示的二次反射電子)。 由此，與不具有開口的情況相比，可以顯示光暈減小更多的高對比度 圖像。此外，在此示例中確認(rèn)，通過采用這樣的構(gòu)造，即用作導(dǎo)電部 件的金屬膜在多個(gè)部分彼此分隔開，作為由電阻部件連接的陽極電極， 與示例1的情況相比，當(dāng)發(fā)生放電時(shí)在發(fā)光屏和后板之間流動的電流 減小更多。
在上述各個(gè)示例中，雖然描述了發(fā)光部件之間的肋部件中的每一 個(gè)在沿圖1A中指示的線1B-1B的截面中以及在沿圖2A中指示的線 2B-2B的截面中具有開口的配置，但是不限于這種情況，而是可以構(gòu) 造成，肋部件21中的每一個(gè)在沿圖1A和2A中指示的線3-3和4-4 的方向的截面具有開口 23 (分別參照圖3和圖4)。在這種情況下， 在改善對比度的同時(shí)，還可以獲得改善顏色純度(防止顏色混合)的 效果，并且這種結(jié)果是更優(yōu)選的。此外，可以構(gòu)造成，發(fā)光部件之間 的肋部件中的每一個(gè)在沿圖1A和2A中指示的線1B-1B的方向、線 2B-2B的方向以及線3-3和線4-4的方向的截面中均具有開口 。在這 種情況下，可以獲得更加改善的對比度和顏色純度。
雖然已參照示例性實(shí)施例描述了本發(fā)明，但是應(yīng)理解，本發(fā)明不 限于公開的示例性實(shí)施例。以下權(quán)利要求的范圍應(yīng)被給予最寬的解釋， 以包含所有這樣的變型以及等同結(jié)構(gòu)和功能。
權(quán)利要求
1.一種發(fā)光屏，所述發(fā)光屏包括基板；位于所述基板上的陽極電極；多個(gè)發(fā)光部件，適于響應(yīng)電子的照射而發(fā)光；以及肋部件，位于所述多個(gè)發(fā)光部件之間，適于將所述多個(gè)發(fā)光部件相互分隔開，其中，所述肋部件在由所述肋部件相互分隔開的相鄰的發(fā)光部件之間具有開口部分。
2. 如權(quán)利要求1所述的發(fā)光屏，其中，所述開口部分的開口深度 比從所述發(fā)光部件到所述肋部件的頂部的長度長。
3. 如權(quán)利要求1所述的發(fā)光屏，進(jìn)一步包括在所述基板與所述開 口部分之間的黑色部件。
4. 如權(quán)利要求1所述的發(fā)光屏，其中，所述陽極電極具有由所述 肋部件分別分隔開并定位的多個(gè)導(dǎo)電部件，和用于將所述導(dǎo)電部件相 互連接起來的電阻部件。
5. —種圖像顯示設(shè)備，包括 后板，具有電子發(fā)射器件；以及 與所述后板相對地設(shè)置的發(fā)光屏，其中，所述發(fā)光屏是根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光屏。
全文摘要
本發(fā)明涉及發(fā)光屏和圖像顯示設(shè)備。為了防止由于光暈現(xiàn)象導(dǎo)致的圖像劣化，該光暈現(xiàn)象是由用于中斷反射電子的在發(fā)光部件之間設(shè)置的肋部件的頂部處的二次反射電子引起的，在用于分隔開所述發(fā)光部件的肋部件上在位于發(fā)光部件之間的部分處設(shè)置用于捕獲二次反射電子的開口部分。
文檔編號H01J29/18GK101615555SQ200910150570
公開日2009年12月30日 申請日期2009年6月26日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月27日
發(fā)明者豐口銀二郎, 大西智也 申請人:佳能株式會社