專利名稱：等離子體顯示面板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明的各實(shí)施例涉及等離子體顯示面板(PDP)。
背景技術(shù)：
等離子體顯示面板(PDP)是一種平板顯示裝置，該平板顯示裝置通過 利用將放電氣體密封在基板之間的方法來(lái)顯示圖像，其中在基板中多個(gè)放電 電極被圖案化。；故電氣體可以通過將電壓施加到放電電極和尋址電極來(lái)發(fā)出光。
常規(guī)三電極交流電式表面放電型PDP可以包括第一基板；第二基板； 在第一基板的內(nèi)表面上的各具有X電極和Y電極的放電維持電極對(duì)；在放電 維持電極對(duì)上的第一介電層；在第一介電層的表面上的保護(hù)膜層；在第二基 板的內(nèi)表面上并以交叉放電維持電極對(duì)的方向被設(shè)置的多個(gè)尋址電極；在尋 址電極上的第二介電層；在第 一基板與第二基板之間以限定放電單元的障 肋；以及形成在放電單元中的紅、綠和藍(lán)熒光物質(zhì)層。
常規(guī)X電極可以包括包含例如氧化銦錫(ITO)薄膜的透明材料的X透 明電極，以及凈皮電連接到X透明電極并包含例如銀漿體的金屬材料的X總 線電極。常規(guī)Y電極可以包括Y透明電極和被電連接到Y(jié)透明電極的Y總 線電極。
放電區(qū)域可以通過在第 一基板與第二基板之間注入放電氣體而被形成， 并且為了從外面密封該放電空間，玻璃料可以沿第一、第二基板的彼此相對(duì) 的表面的邊緣被涂覆。
在具有以上結(jié)構(gòu)的常規(guī)三電極交流電式表面放電型PDP中，放電單元 可以通過將電信號(hào)施加到Y(jié)電極和尋址電極而被選擇。然后，紫外線可以通過將電信號(hào)交替施加到X電極和Y電極而從第一基板的表面產(chǎn)生。因此，
由于紅、綠和藍(lán)熒光物質(zhì)層可以在外部展示出白色，因此紅、綠和藍(lán)熒 光物質(zhì)層可以具有對(duì)于可見光線的高反射率?？梢酝ㄟ^第一基板進(jìn)入以入射 到放電單元上的外部光，可以被展示出白色的紅、綠和藍(lán)焚光物質(zhì)層反射，
可以通過X透明電極和Y透明電極被傳送，然后可以通過第一基板被傳送 到PDP的外部。如此，由于所反射的光可以與從面板中發(fā)出的光一起被觀 看到，因此當(dāng)在亮室中被觀看時(shí)，PDP的亮室對(duì)比度可能被降低。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的各實(shí)施例指向一種等離子體顯示面板，其基本克服了由 于相關(guān)現(xiàn)有技術(shù)的局限性和缺點(diǎn)而導(dǎo)致的一個(gè)或多個(gè)問題。
因此，實(shí)施例的一特征在于提供一種具有改進(jìn)的亮室對(duì)比度的PDP。 因此，實(shí)施例的另一特征在于提供一種具有改進(jìn)的亮度的PDP。 以上和其它特征及優(yōu)點(diǎn)中的至少一個(gè)可以通過提供一種等離子體顯示 面板(PDP)被實(shí)現(xiàn)，該P(yáng)DP包括第一基板和第二基板，該第一基板具有 面對(duì)所述第二基板的內(nèi)表面；在所述第一基板的內(nèi)表面上的至少一個(gè)暗色可 見光線吸收層；在所述可見光線吸收層上的至少一個(gè)放電維持電極對(duì)；在所 述放電維持電極對(duì)上的第一介電層；在所述第二基板上并以與所述放電維持 電極對(duì)交叉的方向被設(shè)置的尋址電極；在所述尋址電極上的第二介電層；被 設(shè)置在所述第一基板與所述第二基板之間并限定多個(gè)放電單元的障肋；以及 被涂覆在所述放電單元中的熒光物質(zhì)層。
所述可見光線吸收層可以被直接設(shè)置在所述第一基板的內(nèi)表面上，所述 放電維持電極對(duì)可以被直接設(shè)置在所述可見光線吸收層上。
每個(gè)放電維持電極對(duì)可以包括在所述放電單元之一中的X電極和Y電 極，所述可見光線吸收層可以包括分別對(duì)應(yīng)于所述X電極和所述Y電極的 X電極可見光線吸收層和Y電極可見光線吸收層。所述X電才及和所述Y電極可以以與所述尋址電極和相鄰放電單元交叉 的方向延伸，所述X電極可見光線吸收層和所述Y電極可見光線吸收層可
以覆蓋在所述X電極和所述Y電極上，并且以與所述X電極和所述Y電極 相同的方向延伸。
所述可見光線吸收層可以具有黑顏色并且包括玻璃。
所述放電維持電極對(duì)可以包括鋁、金、銀、鴒、鉻、鎳和合金中的至少 一種，該合金包括鋁、金、銀、鴒、鎳和鉻中的至少一種。
每個(gè)可見光線吸收層和放電維持電極對(duì)的每個(gè)放電維持電極均可以包 括第一邊緣，并且所述可見光線吸收層的第一邊緣可以與放電單元中的所述 放電維持電極的第一邊緣對(duì)準(zhǔn)。
所述PDP可以包括各具有至少一對(duì)電極的多個(gè)放電維持電極對(duì)，至少 一個(gè)放電維持電才及對(duì)相鄰于另一個(gè)放電維持電極對(duì)，該P(yáng)DP可以進(jìn)一步包 括由 一 個(gè)放電維持電極對(duì)與相鄰的另 一放電維持電極對(duì)之間的空間所限定 的非放電區(qū)域，所述可見光線吸收層和所述放電維持電極可以各具有寬度， 并且所述可見光線吸收層的寬度可以大于每個(gè)放電維持電極的寬度。
每個(gè)放電維持電極對(duì)可以包括在放電單元中的X電極和Y電極，所述可 見光線吸收層可以覆蓋在不同的相鄰放電單元中的所述非放電區(qū)域以及X 電極和Y電極上。
所述PDP可以進(jìn)一步包括在所述第二基板上的反射層。
以上和其它特征及優(yōu)點(diǎn)中的至少一個(gè)還可以通過提供一種PDP被實(shí)現(xiàn)， 該P(yáng)DP包括具有內(nèi)表面的基板；在所述基板的內(nèi)表面上的暗色可見光線 吸收層；在所述可見光線吸收層上的反射層；在所述反射層上的介電層； 以及相鄰于所述介電層的^:電空間。
所述反射層可以面對(duì)所述放電空間，并且包括被施加預(yù)定放電電壓的反 射導(dǎo)電材料。
所述反射層可以包括鋁、金、銀、鎢、鉻、鎳和合金中的至少一種，該 合金包括鋁、金、銀、鴒、鎳和鉻中的至少一種。所述可見光線吸收層可以具有黑顏色并且包括玻璃。
所述放電空間可以包括將所述放電空間分成放電單元的障肋，所述反射 層可以以與相鄰放電單元交叉的方向延伸，所述可見光線吸收層可以覆蓋在 所述反射層上，并且以與所述反射層相同的方向延伸，所述可見光線吸收層 和所述反射層可以以兩層結(jié)構(gòu)被堆疊。
所述可見光線吸收層和所述反射層可以各具有第一邊緣，并且在放電單 元中，所述可見光線吸收層的第一邊緣可以與所述反射層的第一邊緣對(duì)準(zhǔn)。
所述可見光線吸收層和所述反射層可以各具有寬度，并且所述可見光線 吸收層的寬度可以大于所述反射層的寬度。


對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，以上和其它特征及優(yōu)點(diǎn)將通過參考附圖
詳細(xì)描述的示例性示例而變得明顯，在附圖中
圖1示出根據(jù)實(shí)施例的等離子體顯示面板(PDP)的切開分解透視圖； 圖2示出沿圖1中的線II-II所截取的PDP的剖面圖； 圖3A到圖3H示出根據(jù)實(shí)施例的制造PDP的方法的各階段；以及 圖4示出根據(jù)另一實(shí)施例的PDP的剖面圖。
具體實(shí)施例方式
于2008年8月21日提交給韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局的名稱為"Plasma Display Panel (等離子體顯示面板)"的韓國(guó)專利申請(qǐng)?zhí)朜o.10-2008-0081856通過 引用以其全部?jī)?nèi)容合并于此。
現(xiàn)在將在下文中參考附圖對(duì)示例實(shí)施例進(jìn)行更全面的描述，不過，它們 可以以不同的形式被具體實(shí)現(xiàn)，并且不應(yīng)該被解釋為局限于此處所提出的實(shí) 施例。而是，這些示例實(shí)施例被提供以使本公開徹底和完整，并且向本領(lǐng)域 技術(shù)人員全面地傳達(dá)本發(fā)明的范圍。
在附圖中，各層和區(qū)域的尺寸為了圖示清晰可能被放大。也應(yīng)該理解的是，當(dāng)一層或元件被稱為在另一層或基板"上"時(shí)，它可以直接在該另一層 或基板上，或者也可以出現(xiàn)中間層。進(jìn)一步，應(yīng)該理解的是，當(dāng)一層被稱為 在另一層"下方，，時(shí)，它可以直接在下方，也可以出現(xiàn)一個(gè)或多個(gè)中間層。 此外，也應(yīng)該理解的是，當(dāng)一層被稱為在兩層"之間，，時(shí)，它可以是這兩層 之間的唯一層，或者也可以出現(xiàn)一個(gè)或者多個(gè)中間層。同樣的附圖標(biāo)記始終 表示相同的元件。
如同此處所使用的那樣，表達(dá)"至少一個(gè)"、"一個(gè)或者多個(gè)，，以及"和 /或者"是無(wú)限制的表達(dá)，在操作中既可以是連接的也可以是分離的。例如，
表達(dá)"A、 B和C中的至少一個(gè)，，、"A、 B或C中的至少一個(gè)"、"A、 B 和C中的一個(gè)或者多個(gè)"、"A、 B或C中的一個(gè)或者多個(gè)，，以及"A、 B 和/或C"中的每項(xiàng)包含以下意思只有A;只有B;只有C; A和B—起； A和C 一起；B和C 一起；以及A、 B和C三個(gè)一起。進(jìn)一步，這些表達(dá) 是無(wú)限制的，除非通過與術(shù)語(yǔ)"由...組成"的組合被清楚地指定為相反的意 思。例如，表達(dá)"A、 B和C中的至少一個(gè)，，還可以包括第n個(gè)部件，其中 n大于3，而表達(dá)"從由A、 B和C組成的組中選出的至少一個(gè)"則不是這 樣。
如同此處所使用的那樣，表達(dá)"或者"不是"排它性的"，除非與術(shù)語(yǔ) "任一個(gè)，，結(jié)合使用。例如，表達(dá)"A、 B或者C，，包含以下意思只有A; 只有B;只有C; A和B—起；A和C 一起；B和C 一起；以及A、 B和C 三個(gè)一起，而表達(dá)"A、 B或者C中的任一個(gè)"指的是只有A、只有B以及 只有C中的一種，并不指A和B—起、A和C一起、B和C一起以及A、 B和C三個(gè)一起中的任何一種。
如同此處所使用的那樣，術(shù)語(yǔ)"一"和"一個(gè)，，是開放性術(shù)語(yǔ)，它可以 與單項(xiàng)或或者與多項(xiàng)相結(jié)合使用。例如，術(shù)語(yǔ)"一金屬"可以表示例如鋁的 單 一化合物，或者例如與金混合的鋁的相組合的多種化合物。
圖1示出根據(jù)實(shí)施例的等離子體顯示面板(PDP)100的切開分解透視圖。 圖2示出沿圖1中的線II-II所截取的PDP 100的剖面圖。參照?qǐng)Dl和圖2， PDP 100可以包括第一基板101、面對(duì)第一基板101的 第二基板102。密封材料(未示出)，例如玻璃料可以沿著第一基板101和 第二基板102的彼此面對(duì)的內(nèi)邊緣被涂覆。當(dāng)?shù)谝换?01和第二基板102 彼此連接時(shí),該密封材料可以從外部密封放電空間。第一基板101可以由諸如堿石灰玻璃(soda lime glass)之類的透明基板 制成。放電維持電極對(duì)103可以被設(shè)置在第一基板101的內(nèi)表面上。每個(gè)放 電維持電極對(duì)103可以包括可以x方向被設(shè)置的X電極104和Y電極105。 每個(gè)放電單元可以對(duì)應(yīng)于一對(duì)X電極104和Y電極105。 X電極104和Y 電極105可以y方向沿第一基板101被交替設(shè)置。非放電區(qū)域106(圖2)可以由第一放電單元中的那對(duì)放電維持電極對(duì)103 與相鄰于第一放電單元的另一放電單元中的另一對(duì)放電維持電極對(duì)103之 間的空間來(lái)限定。絕緣黑條層可以-敗形成在非放電區(qū)域106以便改進(jìn)PDP 100的對(duì)比度。放電維持電極對(duì)103可以被第一介電層107覆蓋。第一介電層107可以 包括含有各種填充料的玻璃漿體。保護(hù)層108可以包括例如氧化鎂(MgO)，并且可以被設(shè)置在第一介電 層107的表面上，以便例如防止對(duì)第一介電層107的損害并且獲得更高的二 次電子發(fā)射量。第二基板102可以包含與第一基板101基本上相同的材料，并且第二基 板102的材料可以根據(jù)PDP 100是發(fā)射型還是反射型而變化。尋址電極109可以被設(shè)置在第二基板102的內(nèi)表面上。尋址電極109可 以與Y電極105相交叉。尋址電極109可以被第二介電層110覆蓋。障肋111可以被形成在第一基板101與第二基板102之間，以與第一基 板101和第二基板102 —起限定放電單元。障肋111可以包括與尋址電極 109相交叉的第一障肋112，以及與尋址電極109相平行的第二障肋113。 由于第一障肋112和第二障肋113可以以行和列被排布，因此障肋111可以 以矩陣圖案被形成?？商鎿Q地，障肋111可以以例如曲流圖案、三角形圖案或者蜂窩圖案被 形成。在這種情況下，由障肋111所限定的放電單元可以具有例如多邊形、 圓形或者橢圓形截面。紅、綠和藍(lán)熒光物質(zhì)層114可以被涂覆在由障肋111所形成的放電單元 中，并且在放電期間發(fā)出光以便顯示圖像。紅熒光物質(zhì)層可以包括例如 (Y，Gd)B03:Eu+3 ,綠熒光物質(zhì)層可以包括例如Zn2Si04:Mn2+,而藍(lán)熒光物質(zhì) 層可以包括例如83]^§八11()017:￡112+ 。放電氣體，例如氖(Ne)-氙(Xe)或者氦(He)-氙(Xe)可以被注 入到由第一基板101、第二基板102和障肋111所限定的放電單元中。放電維持電極對(duì)103可以用作反射層。多個(gè)可見光線吸收層115可以被 形成在第一基板101與放電維持電極對(duì)103之間。X電極104可以以交叉相鄰ii電單元的x方向在第一基板101上延伸， 并且可以以條形圖案被設(shè)置。Y電極105也可以以交叉相鄰放電單元的x方 向在第一基板101上延伸，并且可以以條形圖案被設(shè)置。X電極104可以關(guān)于Y電極105是對(duì)稱的。X電極104和Y電極105可 以被彼此面對(duì)地設(shè)置在每個(gè)放電單元中。在X電極104與Y電極105之間 可以具有放電間隙。X電極104和Y電極105的結(jié)構(gòu)并不局限于條形圖案， 只要X電極104和Y電極105被彼此面對(duì)地設(shè)置在每個(gè)放電單元中，因此 X電極104和Y電極105可以具有各種圖案。X電極104和Y電極105可以包括，例如具有高反射率的反射材料，也 就是，通過激發(fā)紅、綠和藍(lán)熒光物質(zhì)層114的熒光物質(zhì)材料所發(fā)出的可見光 線中的大約80%或者更多可以被反射回到放電單元中，如圖2中的箭頭所指 示的那樣。X電極104和Y電極105的反射材料可以包括，例如鋁、金、《艮、 鴒、鉻、鎳和合金，該合金包含例如鋁、金、銀、鎢、鎳和鉻，只要該反射 材料對(duì)于可見光線的反射率等于或者大于大約80%?？梢姽饩€吸收層115可以被形成在第一基板101與放電維持電極對(duì)103之間。可見光線吸收層115可以包括對(duì)應(yīng)于X電極104的X電極可見光線吸收層116,并且可以被插置在第一基板101與X電極104之間?？梢姽饩€吸 收層115還可以包括對(duì)應(yīng)于Y電才及105的Y電極可見光線吸收層117,并且 可以被插置在第一基板101與Y電極105之間。X電極可見光線吸收層116的底表面和Y電極可見光線吸收層117的底 表面可以與第一基板101的內(nèi)表面相接觸。X電極可見光線吸收層116的上 表面和Y電極可見光線吸收層117的上表面可以分別與X電極104的底表 面和Y電極105的底表面相接觸。因此，在PDP IOO中，可見光線吸收層115可以構(gòu)成在第一基板101的 內(nèi)表面上的第一層。放電維持電極對(duì)103可以構(gòu)成在可見光線吸收層115上 的第二層。X電極可見光線吸收層116和Y電極可見光線吸收層117可以以例如條 形圖案被形成，如同在X電極104和Y電極105的情況中那樣。X電極可 見光線吸收層116和Y電極可見光線吸收層117可以以平行于X電極104 和Y電極105從而交叉相鄰放電單元的x方向在第一基板101上延伸。X電極104和Y電極105可以各具有第一邊緣104a和105a,并且，在 放電單元中，放電維持電極對(duì)103的X電極104的第一邊緣104a可以面對(duì) 放電維持電極對(duì)103的Y電極105的第一邊緣105a。在每個(gè)放電單元中，X 電極可見光線吸收層116的第一邊緣116a可以與X電極104的第一邊緣 104a對(duì)準(zhǔn)。在每個(gè);^文電單元中，Y電極見光線吸收層117的第一邊緣117a 可以與Y電極105的第一邊緣105a對(duì)準(zhǔn)。放電維持電極對(duì)103的第一邊緣104a和105a可以與可見光線吸收層115 的第一邊緣116a和117a對(duì)準(zhǔn)，以便確保可能由于每個(gè)放電單元中的可見光 線吸收層115的存在而被減小的孔徑比，從而減小關(guān)于外部光的反射率，并 且由于通過提供放電維持電極對(duì)103所獲得的反射效果而改進(jìn)PDP IOO的亮 度。X電極可見光線吸收層116的寬度W3和Y電極可見光線吸收層117的 寬度W4可以分別大于相應(yīng)的X電極104的寬度Wl和相應(yīng)的Y電極105的寬度W2。也就是說(shuō)，X電極可見光線吸收層116和Y電極可見光線吸收層117可 以朝向非放電區(qū)域106延伸，從而分別具有比X電極104和Y電極105的 寬度大的寬度。根據(jù)實(shí)施例，在PDP100中，可能涉及到不同的相鄰放電單 元的X電極可見光線吸收層116的第二邊緣116b和Y電極可見光線吸收層 117的第二邊緣117b，可以被i殳置在相同非》文電區(qū)域106中?？商鎿Q地，可見光線吸收層115可以對(duì)應(yīng)于不同的相鄰放電單元而覆蓋 在X電極104和Y電極105上。可見光線吸收層115還可以被合并以完全 覆蓋在非放電區(qū)域106上。同樣地，實(shí)施例并不受到局限，只要X電極可 見光線吸收層116的寬度和Y電極可見光線吸收層117的寬度分別比相應(yīng) 的X電極104的寬度和相應(yīng)的Y電極105的寬度寬?？梢姽饩€吸收層115可以包括，例如對(duì)于可見光線具有高吸光率的吸收 材料，也就是對(duì)于可見光線具有等于或者小于大約10%的反射率的材料，以 便吸收外部光并且減小反射率?？梢姽饩€吸收層115可以包括，例如展示出 暗顏色(dark color)的吸收性材料以及玻璃。可見光線吸收層115可以具有 黑顏色。可見光線吸收層115可以由包含例如CrO和FeCr204的黑顏料的介 電漿體形成。不過，實(shí)施例并不局限于此，只要對(duì)于可見光線的反射率等于 或者小于大約10%。根據(jù)實(shí)施例的制造具有以上結(jié)構(gòu)的PDP 100的方法將參照?qǐng)D3A到圖3H 進(jìn)行描述。首先，第一基板101可以被制備。第一基板101可以是可見光線通過其 被傳送的基板。第一基板101可以是包括諸如堿石灰玻璃之類的透明基板。形成可見光線吸收層115的可見光線吸收層原材料201，可以被涂覆在第 一基板101的表面上?？梢姽饩€吸收層原材料201可以包括暗材料和玻璃粉 末。該暗材料可以具有黑顏色。該暗材料可以包括，例如含有諸如CrO和 FeCr204的黑顏料的介電漿體。可見光線吸收層原材料201可以對(duì)于可見光 線具有等于或者小于大約10%的反射率，以便吸收外部光。通過在第一基板101上利用例如絲網(wǎng)印刷方法、涂覆器方法等來(lái)形成第一基板，然后執(zhí)行烘干和焙燒操作，可見光線吸收層原材料201可以構(gòu)成具 有密集層(dense layer)的黑焙燒薄膜(black firing film )。然后，反射層原材料202可以被涂覆在可見光線吸收層原材料201的表 面上，然后可以被焙燒。反射層原材料202可以由例如鋁、金、銀、鵠、鉻、 鎳和合金形成，該合金包含例如鋁、金、銀、鴒、鎳和鉻。反射層原材料 202對(duì)于可見光線可以具有等于或者大于大約80%的反射率。反射層原材料202可以通過利用例如沉積或?yàn)R射的涂覆方法被形成在可 見光線吸收層原材料201的整個(gè)表面上。反射層原材料202可以形成為大約 1至2微米的厚度(圖3B)。然后，第一光蝕刻材料203可以被涂覆在反射層原材料202上并且被烘 干(圖3C)。通過具有與X電極104和Y電極105相對(duì)應(yīng)的圖案的感光掩膜來(lái)曝光第 一光蝕刻材料203，從而以X電極104和Y電極105的形狀圖案化第一光蝕 刻材料203,具有期望圖案的X電極104和Y電極105可以被形成。然后， 可以利用顯影劑使第 一 光蝕刻材料203顯影，然后利用適用于蝕刻構(gòu)成反射 層原材料202的金屬材料的蝕刻溶液來(lái)蝕刻第一光蝕刻材料203。然后，第二光蝕刻材料204可以被涂覆并且被烘干，以便覆蓋X電極104 和Y電極105 (圖3E)。通過具有與X電極可見光線吸收層116和Y電極可見光線吸收層117相 對(duì)應(yīng)的圖案的感光掩膜來(lái)曝光第二光蝕刻材料204,從而以X電極可見光線 吸收層116和Y電極可見光線吸收層117的形狀圖案化第二光蝕刻材料204, 具有期望圖案的X電極可見光線吸收層116和Y電極可見光線吸收層117 可以被形成。然后，可以利用顯影劑使第二光蝕刻材料204顯影，然后利用 適用于蝕刻構(gòu)成可見光線吸收層原材料201的介電材料的蝕刻溶液來(lái)蝕刻 第二光蝕刻材料204 。因此，構(gòu)成第一層的X電極可見光線吸收層116和Y電極可見光線吸收14在每個(gè)放電單元中，X電極可見光線吸收層116的第一邊緣U6a和Y電 極可見光線吸收層117的第一邊緣117a可以分別與X電極104的第一邊纟彖 104a和Y電極105的第一邊緣105a對(duì)準(zhǔn)。X電極可見光線吸收層116和Y電極可見光線吸收層117可以朝向非方文 電區(qū)域106延伸，從而分別比X電極104和Y電極105寬(圖3F)。然后，第一介電層107可以覆蓋X電極可見光線吸收層116和X電極104 以及Y電極可見光線吸收層117和Y電極105。第一介電層107可以包括例如包含各種填充料的玻璃漿體的介電材料。 通過利用例如絲網(wǎng)印刷方法、涂覆器方法等涂覆介電材料，然后執(zhí)行烘干和 焙燒操作，第一介電層107可以被形成(圖3G)。然后，包括例如氧化鎂(MgO)的保護(hù)層108可以被形成在第一介電層 107的表面上。因此，這樣的兩層結(jié)構(gòu)可以被形成在第一基板101上，其中可見光線吸 收層115和用作反射層的放電維持電極對(duì)103可以被順序形成(圖3H)。 圖4示出根據(jù)另 一實(shí)施例的PDP 400的剖面圖。參照?qǐng)D4， PDP400可以包括第一基板401和面對(duì)第一基板401的第二基 板402。包括X電極可見光線吸收層416和Y電極可見光線吸收層417的可 見光線吸收層415，可以被設(shè)置在第一基板401的內(nèi)表面上。包括X電極 404和Y電極405的放電維持電極對(duì)403，可以被設(shè)置在X電極可見光線吸 收層416的表面和Y電極可見光線吸收層417的表面上?？梢姽饩€吸收層415和放電維持電極對(duì)403可以被第一介電層407覆蓋。 保護(hù)層408可以被形成在第一介電層407的表面上。尋址電極409可以被設(shè)置在第二基板402的內(nèi)表面上。尋址電極409可 以被第二介電層410覆蓋。障肋412可以被形成在第一基板401與第二基板402之間，以與第一基板401和第二基板402 —起限定放電單元。紅、綠和 藍(lán)熒光物質(zhì)層414可以被涂覆在由障肋412所限定的放電單元中。放電氣體， 例如氖(Ne)-氣(Xe)或者氦(He)-氣(Xe)可以被注入到放電單元中。
在該實(shí)施例中，反射層418可以被進(jìn)一步形成在第二基板402上。也就 是說(shuō)，具有從第二基板402向第一基板401的等于或者大于大約80%的反射 率的反射層418，可以被形成在第二介電層410與紅、綠以及藍(lán)熒光物質(zhì)層 414之間。反射層418可以包括反射材料，例如諸如Al203或Ti02的白介 電材料或者諸如鋁薄膜的金屬材料，以便放電單元所產(chǎn)生的可見光線可以朝 向第一基板401的放電間隙被反射，而不是通過第二基板402被傳送。
可替換地，反射層418可以被形成在障肋411與紅、綠和藍(lán)熒光物質(zhì)層 414之間以及第二介電層410與紅、綠和藍(lán)焚光物質(zhì)層414之間。實(shí)施例并 不受到限制，只要放電單元所產(chǎn)生的可見光線可以朝向第一基板401的放電 間隙被反射。
如上所述，根據(jù)實(shí)施例的PDP可以獲得以下效果。
首先，由于PDP的除了放電間隙之外的整個(gè)區(qū)域可以被可見光線吸收層 覆蓋，因此從前面觀看，PDP所反射的外部光的數(shù)量可以得到顯著的減少。
其次，由于通過激發(fā)熒光物質(zhì)層的熒光物質(zhì)材料所產(chǎn)生的可見光線，可 以被用作反射層的放電維持電極對(duì)反射，然后可以通過可作為放電單元中唯 一通道的放電間隙被發(fā)出，因此亮度的損失可以得到顯著的降低。
再次，由于反射層可以被進(jìn)一步形成在熒光物質(zhì)層下方，因此從面板產(chǎn) 生的可見光線可以被重復(fù)地反射并經(jīng)由放電間隙被發(fā)出，從而改進(jìn)亮室對(duì)比 度。
此處已經(jīng)公開了示例實(shí)施例，雖然采用了特定術(shù)語(yǔ)，但是它們應(yīng)該僅被 認(rèn)為是廣義和描述性的意思，而不是用于限制的目的。因此，本領(lǐng)域普通技 術(shù)人員應(yīng)該理解的是，可以在形式和細(xì)節(jié)上進(jìn)行各種變化，而不偏離所附權(quán) 利要求書中所提出的本發(fā)明的精神和范圍。
權(quán)利要求
1、一種等離子體顯示面板，包括第一基板和第二基板，該第一基板具有面對(duì)所述第二基板的內(nèi)表面；在所述第一基板的內(nèi)表面上的至少一個(gè)暗色可見光線吸收層；在所述至少一個(gè)暗色可見光線吸收層上的至少一個(gè)放電維持電極對(duì)；在所述至少一個(gè)放電維持電極對(duì)上的第一介電層；在所述第二基板上并以與所述至少一個(gè)放電維持電極對(duì)交叉的方向被設(shè)置的尋址電極；在所述尋址電極上的第二介電層；被設(shè)置在所述第一基板與所述第二基板之間并限定多個(gè)放電單元的障肋；以及被涂覆在所述多個(gè)放電單元中的熒光物質(zhì)層。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體顯示面板，其中所述至少一個(gè)暗色 可見光線吸收層被直接設(shè)置在所述第一基板的內(nèi)表面上，所述至少一個(gè)放電 維持電極對(duì)被直接設(shè)置在所述至少一個(gè)暗色可見光線吸收層上。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的等離子體顯示面板，其中所述至少一個(gè)放電 維持電極對(duì)的每個(gè)放電維持電極對(duì)包括在所述多個(gè)》丈電單元之一中的X電 極和Y電極，并且所述至少一個(gè)暗色可見光線吸收層包括對(duì)應(yīng)于所述X電^f及的X電極可 見光線吸收層和對(duì)應(yīng)于所述Y電極的Y電極可見光線吸收層。
4、 根據(jù)權(quán)利要求3所述的等離子體顯示面板，其中所述X電極和所述 Y電極以與所述尋址電極和相鄰放電單元交叉的方向延伸，并且所述X電極可見光線吸收層覆蓋在所述X電極上并以與所述X電極相 同的方向延伸，所述Y電極可見光線吸收層覆蓋在所述Y電極上并以與所 述Y電才及相同的方向延伸。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體顯示面板，其中所述至少一個(gè)暗色可見光線吸收層具有黑顏色并且包括玻璃。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體顯示面板，其中所述至少一個(gè)放電 維持電極對(duì)包括鋁、金、銀、鴒、鉻、鎳和合金中的至少一種，該合金包括 鋁、金、銀、鎢、鎳和鉻中的至少一種。
7、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體顯示面板，其中所述至少一個(gè)暗色可見光線吸收層的每個(gè)可見光線吸收層和所述至少一個(gè)放電維持電極對(duì)的 每個(gè)放電維持電極均包括第一邊緣，并且其中在所述多個(gè)放電單元之一中的 所述可見光線吸收層的第一邊緣與所述放電維持電極的第一邊緣對(duì)準(zhǔn)。
8、 根據(jù)權(quán)利要求7所述的等離子體顯示面板，其中 所述等離子體顯示面板包括多個(gè)放電維持電極對(duì)，每個(gè)放電維持電極對(duì)都具有至少一對(duì)電極，至少一個(gè)放電維持電極對(duì)相鄰于另 一個(gè)放電維持電極 對(duì)，所述等離子體顯示面板進(jìn)一步包括由一個(gè)放電維持電極對(duì)與相鄰的另一 放電維持電極對(duì)之間的空間所限定的非放電區(qū)域，并且所述可見光線吸收層和所述放電維持電極各具有寬度，所述可見光線吸 收層的寬度大于每個(gè)放電維持電極的寬度。
9、 根據(jù)權(quán)利要求8所述的等離子體顯示面板，其中 每個(gè)放電維持電極對(duì)包括所述在多個(gè)放電單元之一中的X電極和Y電極，并且所述可見光線吸收層在不同的相鄰放電單元中覆蓋所述非放電區(qū)域以 及X電極和Y電才及上。
10、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體顯示面板，進(jìn)一步包括在所述第二 基板上的反射層。
11、 一種等離子體顯示面板，包括 具有內(nèi)表面的基板；在所述基板的內(nèi)表面上的暗色可見光線吸收層； 在所述暗色可見光線吸收層上的反射層； 在所述反射層上的介電層；以及相鄰于所述介電層的放電空間。
12、 根據(jù)權(quán)利要求11所述的等離子體顯示面板，其中所述反射層面對(duì) 所述放電空間，并且包括被施加預(yù)定放電電壓的反射導(dǎo)電材料。
13、 根據(jù)權(quán)利要求12所述的等離子體顯示面板，其中所述反射層包括 鋁、金、銀、鴒、鉻、鎳和合金中的至少一種，該合金包括鋁、金、銀、鴒、 鎳和鉻中的至少一種。
14、 根據(jù)權(quán)利要求11所述的等離子體顯示面板，其中所述暗色可見光 線吸收層具有黑顏色并且包括玻璃。
15、 根據(jù)權(quán)利要求11所述的等離子體顯示面板，其中 所述放電空間包括將所述放電空間分成放電單元的障肋； 所述反射層以與相鄰放電單元交叉的方向延伸；所述暗色可見光線吸收層覆蓋在所述反射層上，并且以與所述反射層相 同的方向延伸；并且戶斤ii h^"色"^r j^l it'
16、 根據(jù)權(quán)利要求15所述的等離子體顯示面板，其中所述暗色可見光 線吸收層和所述反射層各具有第一邊緣，并且在所述放電單元中的所述暗色 可見光線吸收層的第 一邊緣與所述反射層的第 一邊緣對(duì)準(zhǔn)。
17、 根據(jù)權(quán)利要求16所述的等離子體顯示面板，其中所述暗色可見光 線吸收層和所述反射層各具有寬度，并且所述暗色可見光線吸收層的寬度大 于所述反射層的寬度。
全文摘要
本發(fā)明提供一種等離子體顯示面板，該等離子體顯示面板包括第一基板和第二基板，所述第一基板具有面對(duì)所述第二基板的內(nèi)表面；在所述第一基板的內(nèi)表面上的至少一個(gè)暗色可見光線吸收層；在所述可見光線吸收層上的至少一個(gè)放電維持電極對(duì)；在所述放電維持電極對(duì)上的第一介電層；在所述第二基板上、并沿與所述放電維持電極對(duì)交叉的方向被設(shè)置的尋址電極；在所述尋址電極上的第二介電層；被設(shè)置在所述第一基板與所述第二基板之間并限定多個(gè)放電單元的障肋；以及被涂覆在所述放電單元中的熒光物質(zhì)層。
文檔編號(hào)H01J17/49GK101656183SQ200910168289
公開日2010年2月24日 申請(qǐng)日期2009年8月20日 優(yōu)先權(quán)日2008年8月21日
發(fā)明者神田博司 申請(qǐng)人:三星Sdi株式會(huì)社