專利名稱：具有雙層障壁的等離子顯示屏以及障壁的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于氣體放電技術(shù)領(lǐng)域，具體地，涉及一種等離子顯示屏(Plasma Display Panel)及其障壁的制作方法。
背景技術(shù)：
等離子顯示屏由前、后基板以及制作在后基板上的電極、介質(zhì)層、障壁、以及熒光 粉等功能器件組成。其中，設(shè)置在后基板的白色介質(zhì)層與前基板透明介質(zhì)層之間的障壁既 作為兩玻璃基板之間的隔子，又作為防止光串和電串之用，障壁可以是條狀，也可以是格子 狀。在障壁的表面和白色介質(zhì)層上分別依次覆蓋紅、綠、藍(lán)三基色熒光粉。三基色熒光粉分 別為紅色R :(Y， Ga)B03:Eu，綠色G :Zri2Si04:Mn，藍(lán)色B :BaMgAll4023:Eu2+。障壁制作一直是 等離子顯示屏制造中的瓶頸，特別是隨著等離子顯示屏分辨率的提高，光效也隨之降低，為 了不降低光效要求障壁越來越精細(xì)。 圖1是現(xiàn)有技術(shù)中通常采用障壁結(jié)構(gòu)。在圖1中顯示出障壁1、熒光粉2、介質(zhì)層 4、尋址電極5和玻璃基板
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明目的在于提高等離子體顯示屏的發(fā)光亮度和發(fā)光效率。 根據(jù)本發(fā)明的等離子顯示屏包括前基板、后基板、電極、介質(zhì)層、障壁、以及熒光 粉，其特征在于，所述障壁包括設(shè)置在所述后基板上的底層障壁和設(shè)置在所述底層障壁上 的頂層障壁，其中，所述頂層障壁約占障壁總高度的1/2或更小，并且所述底層障壁的側(cè)面 與所述后基板的第一銳角大于所述頂層障壁側(cè)面與所述后基板之間的第二銳角。
—般地，所述第一銳角大于所述第二銳角至少10° 。 作為優(yōu)選方式，所述頂層障壁的表面粗糙度大于所述底層障壁的粗糙度。
作為優(yōu)選方式，所述頂層障壁占障壁總高度的1/3。 作為優(yōu)選方式，附著在所述頂層障壁表面的熒光粉的厚度大于附著在所述底層障 壁表面的厚度。 本發(fā)明還涉及一種等離子顯示屏障壁的制作方法，其特征在于，包括以下步驟在 形成有尋址電極和介質(zhì)層的后基板上設(shè)置底層障壁，所述頂?shù)讓诱媳诘膫?cè)面與所述后基板 之間形成第一銳角；在所述底層障壁上設(shè)置頂層障壁，其高度不超過所述底層障壁的高度， 并且，所述頂層障壁的側(cè)面與所述后基板之間形成第二銳角，其中，所述第二銳角小于所述 第一銳角；以及在所述障壁上附著熒光粉。 優(yōu)選地，在熒光粉的干燥過程中，以障壁開口向下的方式放置所述后基板。
本發(fā)明可以提高等離子體障壁單元的發(fā)光亮度和發(fā)光效率。


圖1是示出現(xiàn)有技術(shù)中等離子顯示屏障壁的簡 圖2是示出本發(fā)明等離子顯示屏障壁的一種典型實(shí)施例的簡圖。
具體實(shí)施例方式
如圖2所示，在后基板6上的障壁1包括底層障壁11和頂層障壁12。底層障壁 11的側(cè)面與頂層障壁12的側(cè)面不在同一平面上。換句話說，底層障壁11的側(cè)面與后基板 6表面形成的第一銳角大于頂層障壁12側(cè)面與后基板6表面之間形成的第二銳角。以這種 方式，相對于該兩個(gè)側(cè)面處于同一平面的情況相比，頂層障壁具有較大的表面積，從而增大 發(fā)光表面。 一般地，第一銳角大于第二銳角至少IO。，優(yōu)選大于至少3(T 。頂層障壁的高 度通常不超過總高度的1/2，圖中示出的較佳方式是頂層障壁12的高度占障壁1總高度的 約1/3。 作為一種更加優(yōu)選的實(shí)施方式，頂層障壁12的側(cè)面具有高于底層障壁11的粗糙 度。 為了制造具有本發(fā)明特征的顯示屏，在已形成尋址電極5、和介質(zhì)層4的基板6上 通過印刷或涂覆等方法形成第一障壁層材料，用于通過噴砂法或濕法刻蝕法形成底障壁 層；再利用印刷或者涂覆方法形成第二障壁層，用于通過噴砂或濕法刻蝕法形成頂層障壁。
在形成障壁的過程中，可以用不同的刻蝕速度或噴砂切削速度來形成適宜形狀的 障壁。舉例來說，對于濕法刻蝕工藝上層的刻蝕速率為4 6um/min，下層的刻蝕速率為 8 10um/min ;對于噴砂工藝，上層噴砂的切削速率為10 13um/min，下層噴砂的切削速 率為15 19um/min。上述速度是優(yōu)選的，但是本發(fā)明并不局限于形成速度。下層障壁的切 削速度或者刻蝕速度高可以使底層障壁的底寬減少，可以提高顯示單元的放電空間。
更優(yōu)選地，可以使頂層障壁的粗糙度低于底層障壁的粗糙度，這可以通過使用不 同的材料來實(shí)現(xiàn)，例如，在上層使用Ra = 2. 1 3. 2微米的材料，為底層障壁使用Ra = 4 8微米的材料。使底層具有較高的粗糙度有利于在上面吸附較多的熒光粉。而占較小高度 的頂層障壁則不適宜有高的粗糙度，否則，過多的表面缺陷易引起障壁間漏光。
接下來，將形成兩層障壁的玻璃基板在55(TC 60(rC高溫下燒結(jié)。燒結(jié)、冷卻之 后在帶有障壁的基板上附著一層熒光粉涂層，然后經(jīng)過干燥、清除障壁頂部多余熒光粉的 步驟，最終完成障壁層和熒光粉層的設(shè)置。 在本發(fā)明的一種優(yōu)選實(shí)施方式中，可以將頂層障壁的熒光粉設(shè)置得稍厚一些，這 可以通過在干燥熒光粉過程中將基板倒置(使障壁開口向下)來實(shí)現(xiàn)，這樣，熒光粉借助重 力的作用更多地分布在障壁的靠近頂部的位置，有利于熒光粉附著，提高顯示單元發(fā)光亮 度，延長顯示單元發(fā)光壽命。 產(chǎn)生本發(fā)明的上述效果的一個(gè)可能原因是，PDP顯示多采用表面放電方式，等離子 體產(chǎn)生的紫外線也在顯示電極附近，也就是障壁的上端，因此，在障壁上半部分，尤其是2/3 高處處的熒光粉受到等離子體的激發(fā)最多，是發(fā)光的主要區(qū)域。擴(kuò)大頂端部分的表面積，可 以提高發(fā)光亮度。此外，障壁頂端熒光粉激發(fā)的光不容易被電子或離子吸收，這樣就提高了 顯示單元的發(fā)光效率。而設(shè)置較厚的頂層障壁的熒光粉層，則可以提高該部分熒光粉的工 作壽命。
權(quán)利要求
一種具有雙層障壁的等離子顯示屏，包括前基板、后基板、電極、介質(zhì)層、障壁、以及熒光粉，其特征在于，所述障壁包括位于所述后基板上的底層障壁和設(shè)置在所述底層障壁上的頂層障壁，其中，所述頂層障壁約占障壁總高度的1/2或更小，并且所述底層障壁的側(cè)面與所述后基板的第一銳角大于所述頂層障壁側(cè)面與所述后基板之間的第二銳角。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子顯示屏，其中，所述第一銳角大于所述第二銳角至少 10° 。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子顯示屏，其中，所述頂層障壁的表面粗糙低于所述底 層障壁的粗糙度。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子顯示屏，其中，所述頂層障壁占障壁總高度的1/3。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子顯示屏，其中，附著在所述頂層障壁表面的熒光粉的 厚度大于附著在所述底層障壁表面的厚度。
6. —種等離子顯示屏障壁的制作方法，其特征在于，包括以下步驟 -在形成有尋址電極和介質(zhì)層的后基板上設(shè)置底層障壁，所述頂?shù)讓诱媳诘膫?cè)面與所述后基板之間形成第一銳角；_在所述底層障壁上設(shè)置頂層障壁，其高度不超過所述底層障壁的高度，并且，所述頂 層障壁的側(cè)面與所述后基板之間形成第二銳角，其中，所述第二銳角小于所述第一銳角；以 及-在所述障壁上附著熒光粉。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的等離子顯示屏障壁的制作方法，其中，所述頂層障壁的粗糙 度低于所述底層障壁的粗糙度。
8. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的等離子顯示屏障壁的制作方法，其中，所述頂層障壁占障壁 總高度的1/3。
9. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的等離子顯示屏障壁的制作方法，在熒光粉的干燥過程中，以 障壁開口向下的方式放置所述后基板。
全文摘要
一種具有雙層障壁的等離子顯示屏，包括前基板、后基板、電極、介質(zhì)層、障壁、以及熒光粉，其特征在于，所述障壁包括位于所述后基板上的底層障壁和設(shè)置在所述底層障壁上的頂層障壁，其中，所述頂層障壁約占障壁總高度的1/2或更小，并且所述底層障壁的側(cè)面與所述后基板之間的第一銳角大于所述頂層障壁側(cè)面與所述后基板之間的第二銳角。本發(fā)明提供了一種等離子顯示屏及其障壁的制作方法。本發(fā)明可以提高等離子體障壁單元的發(fā)光亮度和發(fā)光效率。
文檔編號H01J9/24GK101719455SQ20091024982
公開日2010年6月2日 申請日期2009年11月27日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月27日
發(fā)明者宋利建, 趙之明 申請人:四川虹歐顯示器件有限公司