專利名稱：離子槍以及用于該離子槍的格柵的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種離子槍，尤其涉及一種從等離子體中引出離子束的加速格柵以 及使用有該格柵的離子槍。
背景技術(shù)：
圖11表示現(xiàn)有的離子槍100的結(jié)構(gòu)。離子槍100具備以下部分主體110，在其 內(nèi)部產(chǎn)生等離子體；設(shè)有多個(gè)格柵孔的屏蔽格柵121以及加速格柵122(這些統(tǒng)稱為格柵 120)；安裝在主體110上的支架112 ；和將加速格柵122固定到支架112上的螺釘140。 從電源(未圖示)施加有電壓的加速格柵122從主體110內(nèi)部的等離子體中引出離子，由 此發(fā)射離子束(箭頭)。該離子束用于照射到壓電元件(未圖示)等以調(diào)整該壓電元件的 頻率等(例如專利文獻(xiàn)1)。
圖11中表示的格柵120為平面狀，但是為了達(dá)到提高離子束的收斂性并實(shí)現(xiàn)高 效率化的目的，已知的有使格柵120彎曲的結(jié)構(gòu)。例如在專利文獻(xiàn)2中公開(kāi)有以向主體 (離子源5)側(cè)凹陷的方式彎曲的格柵(電極8)，在專利文獻(xiàn)3中也公開(kāi)有以向主體(標(biāo) 號(hào)5)側(cè)凹陷的方式彎曲的格柵(多個(gè)板7)。這些格柵稱為半管型格柵。
專利文獻(xiàn)1:日本專利第4048254號(hào)
專利文獻(xiàn)2:日本特開(kāi)平4-006272號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)3:日本實(shí)開(kāi)昭63-018746號(hào)公報(bào)
但是，使用現(xiàn)有的半管型格柵的離子槍存在以下問(wèn)題。
第一，在專利文獻(xiàn)2以及3中都是在格柵制造時(shí)平面格柵板向一個(gè)方向彎曲加 工，其后安裝在主體上，但是難以確保該彎曲加工的精度，并且該彎曲度上容易發(fā)生加 工偏差。在離子槍中格柵為消耗品，比較頻繁更換，但是因?yàn)樵搹澢庸さ钠?，出現(xiàn) 了每次更換格柵時(shí)發(fā)射離子束的特性發(fā)生變化的問(wèn)題。從而，在現(xiàn)有的半管型格柵中， 因?yàn)樵搹澢庸て疃嬖诎l(fā)射離子束的可重復(fù)性不好的問(wèn)題。
第二，在現(xiàn)有的離子槍的結(jié)構(gòu)中(不管是專利文獻(xiàn)2以及3的半管型還是專利 文獻(xiàn)1的平面型)，加速格柵的形狀穩(wěn)定性不好，從開(kāi)始發(fā)射離子束后直到輸出特性穩(wěn)定 為止需要時(shí)間。即，在開(kāi)始發(fā)射離子束后加速格柵的溫度上升，則由于熱膨脹引起的形 變致使格柵孔相對(duì)于其他部件的位置發(fā)生變化，直到這種變化穩(wěn)定之前必須等待開(kāi)始使 用離子槍(例如開(kāi)始?jí)弘娫念l率調(diào)整作業(yè))(例如在專利文獻(xiàn)1的情況下為15分鐘左 右)。從而由于形狀穩(wěn)定性不好，存在浪費(fèi)該離子束發(fā)射穩(wěn)定前的電力及等待時(shí)間的問(wèn) 題。
第三，如上所述，因?yàn)楦駯艦橄钠罚噪x子槍的用戶需要保管多個(gè)的格 柵。但是，因?yàn)槿鐚＠墨I(xiàn)2以及3的彎曲的格柵所占用體積大，加上為了在保管時(shí)不 損壞該彎曲狀態(tài)，不優(yōu)選層疊多個(gè)格柵存放，所以需要大的保管容納場(chǎng)所。從而現(xiàn)有的 半管型格柵存在保管性不好的問(wèn)題。發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的課題是提供一種格柵更換時(shí)輸出特性的可重復(fù)性、伴隨溫度變 化的形狀穩(wěn)定性以及保管性良好的半管型格柵和具備該格柵的離子槍。
本發(fā)明的第1側(cè)面的離子槍，具備在內(nèi)部產(chǎn)生等離子體的主體、用于從主體內(nèi) 部引出等離子體的格柵以及與主體之間夾持格柵的框狀加速電極，主體的與格柵相對(duì)的 端面具有山谷狀的彎曲面，格柵是平板格柵，在安裝時(shí)與主體的接觸面成為與彎曲面一 致的曲面。
本發(fā)明的第2側(cè)面的離子槍，具備在內(nèi)部產(chǎn)生等離子體的主體、用于從主體內(nèi) 部引出等離子體的格柵以及與主體之間夾持格柵的框狀加速電極，加速電極的與格柵相 對(duì)的端面具有山峰狀的彎曲面，格柵是平板格柵，在安裝時(shí)與加速電極的接觸面成為與 彎曲面一致的曲面。
本發(fā)明的第3側(cè)面的離子槍，具備在內(nèi)部產(chǎn)生等離子體的主體、用于從主體內(nèi) 部引出等離子體的格柵以及將格柵固定在主體上的固定件，主體的與格柵相對(duì)的端面具 有山谷狀的彎曲面，格柵是平板格柵，在安裝時(shí)與主體的接觸面成為與彎曲面一致的曲
本發(fā)明的第4側(cè)面的離子槍，格柵孔從格柵的一端到相對(duì)的另一端為止連續(xù)形 成，柵格在與上述連續(xù)形成的格柵孔垂直的方向上彎曲。并且，優(yōu)選的是，第4側(cè)面 的離子槍格柵與僅對(duì)離子束有效區(qū)域開(kāi)口的遮擋板配合使用。格柵也可以在行方向上彎 曲ο
上述第1 第4側(cè)面的離子槍，可以與排列為矩陣狀的壓電元件的列方向平行地 配置有柵格的柵格孔，以列為單位向在行方向上傳送的壓電元件照射離子束進(jìn)行蝕刻， 以調(diào)整壓電元件的共振頻率。
上述第1 第4側(cè)面的離子槍中使用的格柵，材質(zhì)為鉬，厚度優(yōu)選的是20μιη 200 μ m，更優(yōu)選的是50μιη 150μιη。


圖1是表示本發(fā)明的第1實(shí)施例的透視圖。 圖2Α是表示本發(fā)明的第1實(shí)施例的側(cè)視圖。 圖2Β是表示本發(fā)明的第1實(shí)施例的俯視圖。 圖3是表示在本發(fā)明的第1實(shí)施例中使用的格柵的圖。 圖4Α是表示本發(fā)明的第2實(shí)施例的側(cè)視圖。 圖4Β是表示本發(fā)明的第2實(shí)施例的側(cè)視圖。 圖4C是表示本發(fā)明的第2實(shí)施例的側(cè)視圖。 圖5是表示本發(fā)明的第3實(shí)施例的圖。 圖6Α是表示本發(fā)明的第4實(shí)施例的側(cè)視圖。 圖6Β是表示本發(fā)明的第4實(shí)施例的主視圖。 圖6C是表示本發(fā)明的第4實(shí)施例的俯視圖。 圖7是表示本發(fā)明的第4實(shí)施例的透視圖。 圖8是表示本發(fā)明的第4實(shí)施例的透視圖。
圖9是表示本發(fā)明的第4實(shí)施例的透視圖。
圖IOA是表示本發(fā)明的第4實(shí)施例的俯視圖。
圖IOB是表示本發(fā)明的第4實(shí)施例的剖視圖。
圖IOC是表示現(xiàn)有的離子槍的剖視圖。
圖11是表示現(xiàn)有的離子槍的結(jié)構(gòu)的圖。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例1
圖1和圖2A以及圖2B表示本發(fā)明的第1實(shí)施例的離子槍1。圖1是離子槍1 的透視圖、圖2A是側(cè)視圖、圖2B是仰視圖。其中，各圖以及后面的實(shí)施例中所示的圖 并不是按比例縮小，而是用便于強(qiáng)調(diào)說(shuō)明的方式表示。
離子槍1具有在內(nèi)部產(chǎn)生等離子體的主體10 ；用于從主體10的內(nèi)部引出等離 子體的格柵20;以及框狀(環(huán)狀)的加速電極30，其與主體10之間夾持格柵20，主體 10的與格柵20相對(duì)的端面具有山谷狀的彎曲面。加速格柵22經(jīng)由加速電極30從電源 50施加電壓，通過(guò)其多個(gè)格柵孔從等離子體中引出離子。由此發(fā)射離子束(箭頭)。該 離子束用于照射到壓電元件(未圖示)等并調(diào)整該壓電元件的頻率等，但是其用途不局限 于此。
如圖2A所示，主體10的格柵20側(cè)的端面11以山谷狀向一個(gè)方向彎曲，加速 電極30的格柵20側(cè)的端面31以山峰狀以與端面11相同的曲率向一個(gè)方向彎曲。艮口， 端面11和端面31夾持著格柵20向同一個(gè)方向彎曲。其中，在圖中為了方便說(shuō)明，圖示 中端面11和屏蔽格柵21、加速格柵22和端面31之間留著空隙，實(shí)際上這些是緊貼配置 的。屏蔽格柵21以及主體10維持屏蔽電位，加速格柵22以及加速電極30維持加速電 位，并且屏蔽格柵21和加速格柵22相隔預(yù)定間隔配置。
如圖2B所示，加速電極30具有框狀(環(huán)狀)的形狀，以使加速格柵22的中央 部(格柵孔22a)露出，并在周緣部固定格柵20。
并且，因?yàn)榧铀匐姌O30以包圍離子束的結(jié)構(gòu)形成，所以加速電極30可以作為靜 電透鏡起作用，提高離子束的收斂性。
格柵20由多個(gè)格柵構(gòu)成，稱主體10側(cè)的格柵為屏蔽格柵21，稱加速電極30側(cè) 的格柵為加速格柵22。在這里為了簡(jiǎn)化說(shuō)明表示了兩張格柵21以及22，但也可以重疊 更多的格柵。不管什么情況，統(tǒng)稱這些格柵為格柵20。
圖3表示格柵20中的一張格柵(安裝前)。在圖2A中格柵20向一個(gè)方向彎 曲，但如圖3所示安裝前的格柵20呈平面狀。S卩，格柵20在制造時(shí)是平面的，但是安 裝在主體10上時(shí)沿著端面11向一個(gè)方向彎曲并被加速電極30按壓。從而，即使格柵20 具有與各專利文獻(xiàn)中所示的格柵相同的材質(zhì)(例如鉬)，也優(yōu)選為比其更薄的平板，例如 厚度為20μιη 200μιη20μιη，更優(yōu)選50 μ m 150 μ m。其中，所謂安裝前的平面格 柵是指實(shí)質(zhì)上平坦的格柵，也包括格柵的極小部分不平坦或者整體上略微彎曲的情況。
在上述結(jié)構(gòu)中，可以通過(guò)格柵20作為平板格柵制造并在向主體10上安裝時(shí)(例 如更換時(shí))與主體10的端面11對(duì)齊而使格柵20彎曲，排除格柵20的彎曲加工的偏差即 可重復(fù)性差的原因。從而，即使更換作為消耗品的格柵也可以確保更換前后發(fā)射的離子束的可重復(fù)性。
并且，在上述結(jié)構(gòu)中，因?yàn)榧铀俑駯?2抵接在加速電極30上，所以離子束開(kāi)始 發(fā)射后的熱膨脹引起的格柵20的形變?yōu)橹谎刂铀匐姌O30的端面31方向的形變。同樣 地，因?yàn)槠帘胃駯?1抵接在主體10上，所以離子束開(kāi)始發(fā)射后的熱膨脹引起的格柵20 的形變?yōu)橹谎刂黧w10的端面11方向的形變。從而應(yīng)對(duì)溫度上升的形狀穩(wěn)定性良好， 從離子束開(kāi)始發(fā)射后直到輸出穩(wěn)定所需要的時(shí)間跟以往相比縮短。具體地，在相同的輸 出功率下輸出穩(wěn)定所需時(shí)間在專利文獻(xiàn)1的例中為15分鐘左右，但是在本發(fā)明中是3分 鐘左右。
并且，因?yàn)楸景l(fā)明的格柵20不是以彎曲板保管而是以平板制造且保管，所以安 裝前格柵20的處理變得容易。特別地，因?yàn)樵诒９芨駯?0時(shí)可以層疊，所以保管場(chǎng)所 節(jié)省空間化，保管性良好。
實(shí)施例2
圖4A以及4B按照制作工序表示本發(fā)明的第2實(shí)施例的離子槍2。在本實(shí)施例 中也和實(shí)施例1同樣地，所使用的格柵20全部是平板格柵，但是用于使后述的各固定件 穿過(guò)的孔的位置不同。
在圖4A中，屏蔽格柵21通過(guò)固定件(例如螺釘)41固定在主體10的端面11 上，加速格柵22通過(guò)固定件(例如螺釘)42固定在加速電極30的端面31上。在這里， 主體10的結(jié)構(gòu)基本上與實(shí)施例1相同，但是有所區(qū)別的是電極支架12設(shè)置在主體10的 局部上以及螺釘孔的結(jié)構(gòu)。并且，加速電極30也基本上和實(shí)施例1相同，但是有所區(qū)別 的地方是設(shè)置有用于電極支架12的凹部32以及螺釘孔的結(jié)構(gòu)。電極支架12與主體10 電絕緣，并從電源50施加電壓。雖然在該圖中省略，但是有多個(gè)電極支架12配置在主 體10的周緣上并用其上端支撐加速電極30。通過(guò)電極支架12，屏蔽格柵21和加速格柵 22被配置為保持格柵間距離并具有電位差。格柵間距離可以根據(jù)電極支架12的高度以及 凹部32的形狀調(diào)整。
在圖4B中，主體10以及屏蔽格柵21、加速電極30以及加速格柵22以使電極 支架12收斂到凹部32的方式安裝，這些用固定件(例如螺釘)43固定。其中，在該圖 中為了圖的清晰化省略了固定件41及42。如圖4C所示，利用固定件42使格柵20直接 固定在加速電極30上，也可以用固定件43固定加速電極30和主體10。在屏蔽格柵21 和加速格柵22之間配置由絕緣材料構(gòu)成的墊片。
實(shí)施例3
在實(shí)施例3中表示作為實(shí)施例1的形變例沒(méi)有使用加速電極30的結(jié)構(gòu)。
圖5表示本實(shí)施例的離子槍3的側(cè)視圖。如圖所示，格柵20利用固定件44直 接固定在主體10上。通過(guò)恰當(dāng)配置固定件44，不使用加速電極也可以使格柵20與主體 10的彎曲對(duì)應(yīng)而固定。
此時(shí)，直接從電源50向加速格柵22施加電壓。
在上述結(jié)構(gòu)中，雖然很難得到基于加速格柵的效果(即良好的形狀穩(wěn)定性、靜 電透鏡作用等)，但是與實(shí)施例1以及2同樣地，即使更換作為消耗品的格柵也可以在其 前后確保發(fā)射離子束的可重復(fù)性，格柵的保管性也良好。
實(shí)施例4
圖6至圖9表示本發(fā)明的第4實(shí)施例的離子槍4。圖6A是側(cè)視圖、圖6B是主 視圖、圖6C是俯視圖。
離子槍4是第1實(shí)施例所示的離子槍，其特征是主體60、格柵70以及框狀的加 速電極80為矩形。除了形狀以及格柵70，其他結(jié)構(gòu)與第1實(shí)施例相同，所以省略說(shuō)明。 并且，離子槍4可以使用第2實(shí)施例所示的格柵固定機(jī)構(gòu)，也可以如第3實(shí)施例所示省略 加速電極80。矩形的離子槍在同時(shí)調(diào)整直線狀排列的多個(gè)壓電元件的頻率時(shí)有效，但是 其用途不局限于此。
如圖6A所示，主體60的格柵70側(cè)的端面61以山谷狀向一個(gè)方向(在該圖中 為矩形的短邊方向)彎曲，加速電極80的格柵70側(cè)的端面81以與端面61相同的曲率以 山峰狀向相同的方向彎曲。并且，在屏蔽格柵71以及加速格柵72上沿著矩形的一邊形 成有多個(gè)格柵孔71a、72a。在該圖中格柵孔71a、7 在矩形的短邊方向中央部分上沿著 長(zhǎng)邊形成有多個(gè)，得到平行于長(zhǎng)邊的帶狀的離子束照射區(qū)域。在實(shí)施例中因?yàn)橹辉诙踢?方向中央部上形成有孔，而不是格柵整體上形成有孔，所以可以使強(qiáng)度大的短邊方向兩 端部緊貼在主體以及加速電極上，并容易使格柵板的曲率與主體以及加速電極的曲率相 同。并且，因?yàn)槊娣e大的短邊方向兩端部緊貼在主體以及加速電極上，所以熱傳遞變大 且不容易發(fā)生由于熱膨脹引起的形變。
圖7表示加速電極80和加速格柵72的透視圖。因?yàn)橥ㄟ^(guò)彎曲形成的主體60以 及加速電極80的周緣部固定格柵70，所以可重復(fù)性以及形狀穩(wěn)定性良好的特點(diǎn)以及包圍 離子束的加速電極80作為靜電透鏡起作用而具有提高離子束的收斂性的效果的特點(diǎn)與第 1實(shí)施例相同。
圖8是表示格柵70的其他實(shí)施例的透視圖。加速格柵73的特點(diǎn)是格柵孔從格 柵的一端開(kāi)始向相對(duì)的另一端連續(xù)形成且使格柵在與格柵的一端以及另一端平行的方向 上彎曲。在圖7中，因?yàn)榫哂懈駯趴椎牡胤胶蜎](méi)有格柵孔的地方的板強(qiáng)度不同，所以有 曲率不均的情況，但是在圖8中格柵孔設(shè)置到格柵板的邊緣為止并用遮擋板75覆蓋，由 此板的強(qiáng)度變得均勻且容易得到均勻的曲率。因?yàn)殡x子束的有效區(qū)域取決于遮擋板75的 開(kāi)口形狀，所以開(kāi)口只要以只露出所希望的區(qū)域的方式形成即可。遮擋板75的開(kāi)口比加 速電極80的開(kāi)口小，只能通過(guò)從遮擋板75的開(kāi)口露出的格柵孔引出離子。通過(guò)配套使 用在外邊緣形成有孔的格柵板和遮擋板，可以得到均勻的曲率并可以抑制離子束從有效 區(qū)域以外引出。
遮擋板75安裝在加速格柵73的主體60 —側(cè)，也可以在加速格柵73的加速電極 80—側(cè)與加速格柵緊貼安裝。并且，遮擋板75也可以不設(shè)為其他部件而是與離子槍主體 60形成一體結(jié)構(gòu)。因?yàn)樵诟駯派系娜魏挝恢弥虚_(kāi)口形成在格柵彎曲方向中央部，因此可 以在垂直于彎曲方向的方向的各位置上使格柵的曲率一致。由此與圖7所示加速格柵72 相比具有可以使加速格柵73的板厚變厚的優(yōu)點(diǎn)。在格柵的板厚厚的情況下可以實(shí)現(xiàn)格柵 的長(zhǎng)壽命化。并且，在實(shí)施例中使用了方形的格柵，但是孔形成至格柵板的外邊緣對(duì)圓 形、橢圓形等其他形狀的格柵也有效。特別是圓形或者橢圓形的格柵板只在中央部上形 成孔的情況下，端部的彎曲加工需要強(qiáng)力，但通過(guò)在端部形成孔能夠消除端部和中央部 的差異，得到均勻的曲率。無(wú)論是什么形狀，只要從格柵的一端向相對(duì)的另一端連續(xù)形 成格柵孔，且在與連續(xù)形成的格柵孔垂直的方向上彎曲格柵即可。
圖9是表示格柵70的其他實(shí)施例的透視圖。加速格柵74被遮擋板75遮擋的 部分形成為狹縫狀?？梢缘玫骄鶆蚯实男Чc圖8相同，但通過(guò)區(qū)分離子引出孔和狹 縫，容易明確區(qū)別離子束有效區(qū)域和遮擋區(qū)域的界限。
若使用圖6所示矩形的離子槍4，可以使例如圖10所示的矩陣狀排列的行方向 (該圖箭頭方向)傳送的壓電元件200以列為單位依次調(diào)整頻率。圖IOA表示俯視圖、圖 IOB表示剖視圖。離子槍4被配置為長(zhǎng)邊與矩陣狀的壓電元件200的列方向平行。離子 槍4的格柵70在短邊方向上彎曲。格柵孔組的長(zhǎng)邊方向的寬度以及短邊方向的寬度(在 使用圖8以及圖9所示的格柵時(shí)指遮擋板75開(kāi)口的縱向的寬度以及橫向的寬度)可根據(jù) 同時(shí)調(diào)整的壓電元件200的行列數(shù)調(diào)整。在圖10中，在壓電元件的整個(gè)1列上照射均勻 的離子束。
如圖IOC所示離子槍的格柵為平面時(shí)，作為照射對(duì)象的工件(壓電元件200)和 離子槍的間距dl越大，離子束越發(fā)散，蝕刻率降低，所以為了確保蝕刻率需要使壓電元 件200和離子槍100的間距dl變小。但是距離變小時(shí)出現(xiàn)了掩模202或者擋板201的濺 射物在離子槍以及其周邊上堆積、剝離且由于濺射物格柵間短路等問(wèn)題。
對(duì)此，本發(fā)明的離子槍因?yàn)槭垢駯艔澢諗侩x子束，所以能夠使壓電元件200 和離子槍4的間距d2變大，并可以得到相同的蝕刻率。距離d2越大可以使向離子槍主 體的濺射物的堆積率越低，因此可以延長(zhǎng)裝置的平均故障間隔(MTBF)。在圖10A、圖 IOB所示的頻率調(diào)整裝置中配置離子槍4，能夠進(jìn)行可重復(fù)性良好的頻率調(diào)整。另外，使 用圖8以及圖9所示的格柵70能夠進(jìn)一步提高頻率調(diào)整精度。
上述各實(shí)施例表示本發(fā)明的最優(yōu)選的方式，但是可以進(jìn)行如下變更。
(1)在上述各實(shí)施例中格柵20為圓板或者矩形板，但是向一個(gè)方向彎曲以沿著 主體10的端面11或者加速電極30的端面31并固定在其上即可，例如也可以是橢圓、正 方形等。
(2)并且，表示本發(fā)明中的加速電極的形態(tài)的“框狀”是指至少具有外邊緣和內(nèi) 邊緣且該外邊緣或者內(nèi)邊緣包括圓形、橢圓、矩形、其他多邊形等形狀。
(3)在實(shí)施例1以及4中作為將加速電極30、80以及格柵20、70固定到主體 10、60上的機(jī)構(gòu)使用了固定件40、90，但是(在在各圖的上下方向上使用的情況下)也 可以加大加速電極30、80自身的重量或者在其上部放置配重塊等以省略固定件40。
(4)在上述實(shí)施例1、2以及4中，作為在與主體10之間夾持格柵20的部件表示 了加速電極30、80，但是該部件只要是與加速電極30、80相同的形狀，則也可以不是電 極。此時(shí)，與圖5的情況同樣地需要設(shè)置直接向加速電極22施加電壓的結(jié)構(gòu)。
(5)在上述實(shí)施例2中使用電極支架保持格柵間距離，但也可以向電極間插入并 固定由絕緣材料構(gòu)成的墊片等。
權(quán)利要求
1. 一種離子槍，具備在內(nèi)部產(chǎn)生等離子體的主體和用于從該主體的內(nèi)部引出等離子 體的格柵，其特征在于，還具備與上述主體之間夾持上述格柵的框狀的加速電極， 上述主體的與上述格柵相對(duì)的端面具有山谷狀的彎曲面，上述格柵是平板格柵，在安裝時(shí)與上述主體的接觸面成為與上述彎曲面一致的曲
2.如權(quán)利要求1所述的離子槍，其特征在于，離子引出孔從上述格柵的一端到相對(duì)的另一端為止連續(xù)形成， 上述格柵在與上述連續(xù)形成的離子引出孔垂直的方向上彎曲。
3.如權(quán)利要求2所述的離子槍，其特征在于，在上述格柵上安裝有僅對(duì)離子束有效區(qū)域開(kāi)口的遮擋板。
4.如權(quán)利要求1所述的離子槍，其特征在于， 上述格柵形成為方形。
5.如權(quán)利要求1所述的離子槍，其特征在于，與排列為矩陣狀的壓電元件的列方向平行地配置有上述格柵的離子引出孔， 以列為單位向在行方向上傳送的上述壓電元件照射離子束進(jìn)行蝕刻，以調(diào)整上述壓 電元件的共振頻率。
6.如權(quán)利要求5所述的離子槍，其特征在于， 上述格柵在上述行方向上彎曲。
7.—種離子槍，具備在內(nèi)部產(chǎn)生等離子體的主體和用于從該主體的內(nèi)部引出等離子 體的格柵，其特征在于，還具備與上述主體之間夾持上述格柵的框狀的加速電極， 上述加速電極的與上述格柵相對(duì)的端面具有山峰狀的彎曲面， 上述格柵是平板格柵，在安裝時(shí)與上述加速電極的接觸面成為與上述彎曲面一致的 曲面。
8.—種離子槍，具備在內(nèi)部產(chǎn)生等離子體的主體和用于從該主體的內(nèi)部引出等離子 體的格柵，其特征在于，還具備將上述格柵固定在上述主體上的固定件， 上述主體的與上述格柵相對(duì)的端面具有山谷狀的彎曲面，上述格柵是平板格柵，在安裝時(shí)與上述主體的接觸面成為與上述彎曲面一致的曲
9.一種格柵，用于權(quán)利要求1、7、8中任一項(xiàng)所述的離子槍，其特征在于， 上述格柵由鉬構(gòu)成，且厚度為20 ii m 200 ii m。
10.如權(quán)利要求9所述的格柵，其特征在于， 厚度為50iim 150 iim。
全文摘要
提供一種離子槍以及用于該離子槍的格柵。上述離子槍具備格柵更換時(shí)輸出特性的可重復(fù)性、伴隨溫度變化的形狀穩(wěn)定性以及保管性良好的半管型格柵。在離子槍中，具備在內(nèi)部產(chǎn)生等離子體的主體、用于從主體內(nèi)部引出等離子體的格柵以及在與主體之間夾持格柵的框狀加速電極，主體的與格柵相對(duì)的端面具有山谷狀的彎曲面，格柵由平板格柵構(gòu)成，在安裝時(shí)與主體的接觸面成為與彎曲面一致的曲面。
文檔編號(hào)H01J37/09GK102024657SQ20101028264
公開(kāi)日2011年4月20日 申請(qǐng)日期2010年9月13日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月11日
發(fā)明者伊藤誠(chéng), 鹽野忠久, 長(zhǎng)田佑介 申請(qǐng)人:株式會(huì)社昭和真空