專(zhuān)利名稱(chēng):光源模塊的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種光源模塊,尤其涉及該光源模塊中的導(dǎo)光組件結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù):
配合參閱圖IA及圖1B,分別為現(xiàn)有技術(shù)的光源模塊之立體圖及剖面圖。該光源模塊90包含有一導(dǎo)光板92及復(fù)數(shù)個(gè)發(fā)光單元95,該導(dǎo)光板92包含一入光面920、一出光面922、一底表面擬4及一后端面926。該入光面920是供設(shè)置該些發(fā)光單元95,且該些發(fā)光單元95是分別地朝向該入光面920投射光線。該出光面922是鄰接于該入光面920,該底表面擬4是鄰接于該入光面920且與該出光面922具有一角度傾斜而成楔形,該后端面 926是鄰接于該出光面922及該底表面924。該底表面擬4是設(shè)置有復(fù)數(shù)個(gè)導(dǎo)光單元925,以將入射于該導(dǎo)光板92之光線有效地引導(dǎo)至該后端面926,其中該導(dǎo)光單元925之分布密度是與其設(shè)置位置所接受到的該些發(fā)光單元95之光強(qiáng)度成反比,亦即所接受到的光強(qiáng)度愈小,則對(duì)應(yīng)該光強(qiáng)度設(shè)置之該導(dǎo)光單元925的密度是相對(duì)的增加。該導(dǎo)光單元925可以調(diào)整該導(dǎo)光板92亮度,并將由該發(fā)光單元95入射之光線有效地引導(dǎo)之該導(dǎo)光板92的任一角落,進(jìn)而使該出光面922得以均勻光亮度的發(fā)光。為使得該出光面922均勻光亮度的發(fā)光,該導(dǎo)光板92勢(shì)必將由該發(fā)光單元95由該入光面920投射進(jìn)入該導(dǎo)光板92之光線盡可能地引導(dǎo)該導(dǎo)光板92之鄰近于該后端面擬6之位置,由于該后端面926并未設(shè)置有該導(dǎo)光單元925以調(diào)整光線,因此部份的光線直接地經(jīng)由該后端面折射出光,使得該后端面擬6的光強(qiáng)度明顯地大于該出光面922的光強(qiáng)度,致使一邊緣出光亮線的產(chǎn)生;并且,當(dāng)該導(dǎo)光板92進(jìn)行拼接時(shí),相鄰之該兩導(dǎo)光板92的交接處會(huì)產(chǎn)生明顯可見(jiàn)之一拼接亮線,而影響整體光源模塊的出光均勻性。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明需要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供了一種光源模塊,旨在解決上述的問(wèn)題。為了解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的本發(fā)明的一種光源模塊,包括至少一發(fā)光單元;還包括一導(dǎo)光組件;該導(dǎo)光組件包括一導(dǎo)光本體,該導(dǎo)光本體是與該發(fā)光單元共同界定一有效出光區(qū)域,該導(dǎo)光本體包括一入光面;所述的入光面供設(shè)置該發(fā)光單元,且該發(fā)光單元是朝向該入光面投射光線; 一出光面;所述的出光面鄰接于該入光面之一側(cè);一底表面;所述的底表面相對(duì)于該出光面并與該出光面具有一角度傾斜,該底表面在對(duì)應(yīng)該有效出光區(qū)域處設(shè)置有復(fù)數(shù)個(gè)具有一第一設(shè)置深度的導(dǎo)光單元;一后端面;所述的后端面相對(duì)于該入光面并鄰接于該出光面及該底表面;及一第一邊緣區(qū)域;所述的第一邊緣區(qū)域位于該有效出光區(qū)域與該后端面之間,且該底表面在對(duì)應(yīng)第一邊緣區(qū)域處設(shè)置有至少一具有一第二設(shè)置深度的第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)。本發(fā)明的另一種光源模塊,包括復(fù)數(shù)個(gè)發(fā)光單元;還包括復(fù)數(shù)個(gè)導(dǎo)光組件;各該導(dǎo)光組件包含一導(dǎo)光本體,該導(dǎo)光本體是與該些發(fā)光單元共同界定一有效出光區(qū)域,該導(dǎo)光本體包括一入光面;所述的入光面供設(shè)置該些發(fā)光單元,且該些發(fā)光單元是分別的朝向該入光面投射光線;一出光面;所述的出光面鄰接于該入光面之一側(cè);一底表面;所述的底表面相對(duì)于該出光面并與該出光面具有一角度傾斜,該底表面于對(duì)應(yīng)該有效出光區(qū)域處設(shè)置有復(fù)數(shù)個(gè)具有一第一設(shè)置深度的導(dǎo)光單元;一后端面;所述的后端面相對(duì)于該入光面并鄰接于該出光面及該底表面;一第一邊緣區(qū)域;所述的第一邊緣區(qū)域位于該有效出光區(qū)域與該后端面之間,該底表面在對(duì)應(yīng)第一邊緣區(qū)域處設(shè)置有至少一具有一第二設(shè)置深度的第一光學(xué)微結(jié)構(gòu);及一第二邊緣區(qū)域;所述的第二邊緣區(qū)域介于該第一邊緣區(qū)域與該后端面之間,且該底表面在對(duì)應(yīng)該第二邊緣區(qū)域處設(shè)置有至少一第三設(shè)置深度之第二光學(xué)微結(jié)構(gòu);該導(dǎo)光本體之該后端面是平貼于鄰近的導(dǎo)光組件的該入光面,使得相鄰的兩導(dǎo)光組件的出光面位于同一水平面。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的有益效果是導(dǎo)光組件是透過(guò)在其第一邊緣區(qū)域設(shè)置的該第一光學(xué)微結(jié)構(gòu),以有效地控制該導(dǎo)光組件在其邊緣出光的光強(qiáng)度,以有效地避免該導(dǎo)光組件邊緣亮線的產(chǎn)生;另外,透過(guò)在其第二邊緣區(qū)域設(shè)置的該第二光學(xué)微結(jié)構(gòu),以避免拼接亮線的產(chǎn)生,進(jìn)而提供一均勻光亮度之面形光源。
圖IA為現(xiàn)有技術(shù)的光源模塊立體圖。圖IB為圖IA的剖視圖。圖2為本發(fā)明第一實(shí)施例之光源模塊之立體圖。圖3為圖2剖視圖。圖4為本發(fā)明第二實(shí)施例之光源模塊之立體圖。圖5和圖6為本發(fā)明第二實(shí)施例之光源模塊之剖視圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖與具體實(shí)施方式
對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述本發(fā)明在于提供一種光源模塊,該光源模塊包含至少一發(fā)光單元及一導(dǎo)光組件, 該導(dǎo)光組件是與該發(fā)光單元共同界定一有效出光區(qū)域。該導(dǎo)光本體包含一入光面、一出光面、一底表面、一后端面及一第一邊緣區(qū)域。該入光面供設(shè)置該發(fā)光單元,且該發(fā)光單元是分別的朝向該入光面投射光線;該出光面鄰接于該入光面之一側(cè);該底表面于對(duì)應(yīng)該有效出光區(qū)域處設(shè)置有復(fù)數(shù)個(gè)具有一第一設(shè)置深度之導(dǎo)光單元;該后端面相對(duì)于該入光面并鄰接于該出光面及該底表面;該第一邊緣區(qū)域介于該有效出光區(qū)域與該后端面之間,且該底表面在對(duì)應(yīng)第一邊緣區(qū)域處設(shè)置有至少一具有一第二設(shè)置深度之第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)。根據(jù)本發(fā)明的一具體實(shí)施例,其中該第二設(shè)置深度是大于該第一設(shè)置深度。根據(jù)本發(fā)明的一具體實(shí)施例,其中該第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)的設(shè)置密度大于該導(dǎo)光單元的設(shè)置密度。根據(jù)本發(fā)明的一具體實(shí)施例,其中該些導(dǎo)光單元之分布密度是與其設(shè)置位置與該發(fā)光單元之間的距離成反比。另外,本發(fā)明還提供一種光源模塊,該光源模塊包含復(fù)數(shù)個(gè)發(fā)光單元及復(fù)數(shù)個(gè)導(dǎo)光組件,各該導(dǎo)光組件包含一導(dǎo)光本體,該導(dǎo)光本體是與該些發(fā)光單元共同界定一有效出光區(qū)域。該導(dǎo)光本體包含一入光面、一出光面、一底表面、一后端面、一第一邊緣區(qū)域及一第二邊緣區(qū)域。該入光面供設(shè)置該些發(fā)光單元,且該些發(fā)光單元是分別的朝向該入光面投射光線;該出光面鄰接于該入光面之一側(cè);該底表面相對(duì)于該出光面并與該出光面具有一角度傾斜,該底表面在對(duì)應(yīng)該有效出光區(qū)域處設(shè)置有復(fù)數(shù)個(gè)具有一第一設(shè)置深度之導(dǎo)光單元;該后端面相對(duì)于該入光面并鄰接于該出光面及該底表面;該第一邊緣區(qū)域位于該有效出光區(qū)域與該后端面之間,該底表面在對(duì)應(yīng)第一邊緣區(qū)域處設(shè)置有至少一具有一第二設(shè)置深度之第一光學(xué)微結(jié)構(gòu);該第二邊緣區(qū)域介于該第一邊緣區(qū)域與該后端面之間,且該底表面在對(duì)應(yīng)該第二邊緣區(qū)域處設(shè)置有至少一第三設(shè)置深度之第二光學(xué)微結(jié)構(gòu);其中,該導(dǎo)光本體之該后端面是平貼于鄰近的導(dǎo)光組件之該入光面,使得相鄰的兩導(dǎo)光組件之出光面位于同一水平面。根據(jù)本發(fā)明的一具體實(shí)施例,其中該第二設(shè)置深度是大于該第一設(shè)置深度,該第三設(shè)置深度是大于該第二設(shè)置深度。根據(jù)本發(fā)明的一具體實(shí)施例,其中該第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)的設(shè)置密度大于該導(dǎo)光單元的設(shè)置密度,該第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)的設(shè)置密度大于該第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)的設(shè)置密度。根據(jù)本發(fā)明的一具體實(shí)施例,其中第二邊緣區(qū)域的面積小于或等于該第一邊緣區(qū)域的面積。根據(jù)本發(fā)明的一具體實(shí)施例,其中該入光面在鄰近于該出光面之一側(cè)具有一凹槽,各該導(dǎo)光組件具有該后端面之一側(cè)是對(duì)應(yīng)地迭置于鄰近的導(dǎo)光本體之該凹槽,并且該后端面平貼于該凹槽鄰近于該出光面之一平面,使得相鄰的兩導(dǎo)光組件之出光面位于同一水平面。根據(jù)本發(fā)明的一具體實(shí)施例,其中該第一邊緣區(qū)域更包含復(fù)數(shù)個(gè)空白部,該些空白部是對(duì)應(yīng)鄰近的導(dǎo)光組件的設(shè)置在該入光面的該些發(fā)光單元的設(shè)置位置而設(shè)置。根據(jù)本發(fā)明的一具體實(shí)施例,其中該些導(dǎo)光單元之分布密度是與其設(shè)置位置與該發(fā)光單元之間的距離成反比。配合參閱圖2及圖3,分別為本發(fā)明第一實(shí)施例之照明模塊之立體圖及剖視圖。該照明模塊10包含至少一發(fā)光單元12及一導(dǎo)光組件14,該發(fā)光單元12是與該導(dǎo)光組件14 共同界定一有效出光區(qū)域16,該有效出光區(qū)域16是指由該發(fā)光單元12入射至該導(dǎo)光組件 14之光線得以均勻地出光之區(qū)域。該發(fā)光單元12是提供該光源模塊10所需之光源,并分別的朝向該導(dǎo)光組件14之入光面142投射光線。該發(fā)光單元12具有一光強(qiáng)度,且該光強(qiáng)度的分布是隨著光線的傳遞距離增加而逐漸地減弱,意即愈接近于該發(fā)光單元12出光處的光強(qiáng)度愈大,愈遠(yuǎn)離于該發(fā)光單元12出光處的光強(qiáng)度愈小。其中,該發(fā)光單元12可以為發(fā)光二極管,且更佳地,該發(fā)光單元12可以為側(cè)射型(edge-type)的發(fā)光二極管,以有效地避免光線由不必要的方位出光,進(jìn)而提升光使用效率。該導(dǎo)光組件14是可以引導(dǎo)由該發(fā)光單元12輸出之光源,并使該光源均勻地分布于該導(dǎo)光組件14,以將由該發(fā)光單元12輸出之點(diǎn)狀光源轉(zhuǎn)換為一面形光源輸出。該導(dǎo)光組件14包含一導(dǎo)光本體140,該導(dǎo)光本體140包含一入光面142、一出光面144、一底表面 146及一后端面148。該入光面142設(shè)置有該發(fā)光單元12,且該發(fā)光單元12是朝著該入光面142投射光線。該出光面144鄰接于該入光面142。該底表面146相對(duì)于該出光面144 并鄰接于該入光面142,并與該出光面144具有一角度傾斜,使該導(dǎo)光本體140成楔形(如圖3所示)。該后端面148相對(duì)于該入光面142設(shè)置,并鄰接于該出光面144及該底表面 146。該底表面146在對(duì)應(yīng)于該有效出光區(qū)域16處設(shè)置有復(fù)數(shù)個(gè)導(dǎo)光單元147,該些導(dǎo)光單元147具有一第一設(shè)置深度D1,在本實(shí)施例中,該第一設(shè)置深度Dl是指各該導(dǎo)光單元 147由該底表面146深入該導(dǎo)光本體14內(nèi)部之距離。該些導(dǎo)光單元147在該有效出光區(qū)域16的分布密度是與其設(shè)置位置所接收到光強(qiáng)度成反比,由上述之發(fā)光單元12光強(qiáng)度是隨著光線傳遞距離的增加而其光強(qiáng)度是隨之遞減可推知,該些導(dǎo)光單元147的分布密度是沿著該底表面146遠(yuǎn)離于該入光面142之方向遞增。更進(jìn)一步地說(shuō)明,該些導(dǎo)光單元147的設(shè)置位置所接收到之光強(qiáng)度愈大,(意即該導(dǎo)光單元147設(shè)置愈接近于該入光面142),則該導(dǎo)光單元147的分布密度是相對(duì)地愈疏,以降低該光源被該等導(dǎo)光單元147散射至該出光面144的機(jī)會(huì),使該光源有效地被傳遞至該導(dǎo)光組件14后端。而該導(dǎo)光單元147設(shè)置位置所接收到的光強(qiáng)度愈小,(意即該導(dǎo)光單元 147設(shè)置愈遠(yuǎn)離于該入光面142,則該些導(dǎo)光單元147的分布密度相對(duì)地愈密,使光源被散射至該出光面144的機(jī)會(huì)提高,以增加該導(dǎo)光組件14之后端亮度,使導(dǎo)光組件147出光均勻性。換言之,該些導(dǎo)光單元147在該有效出光區(qū)域16的分布密度是與其設(shè)置位置與該發(fā)光單元12之間的距離成反比,如此,由該發(fā)光單元12出射至該導(dǎo)光組件14的光線可以有效地被引導(dǎo)至該整個(gè)導(dǎo)光本體140,使該有效出光區(qū)域16均勻。又,該導(dǎo)光組件14更包含有一第一邊緣區(qū)域150,該第一邊緣區(qū)域150位于該有效出光區(qū)域16與該后端面148之間,且該底表面146在對(duì)應(yīng)該第一邊緣區(qū)域150處設(shè)置有至少一第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)152。在參閱圖3,該第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)152是具有一第二設(shè)置深度D2,其中該第二設(shè)置深度D2是指該第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)152由該底表面146深入該導(dǎo)光本體14內(nèi)部之距離,且該第二設(shè)置深度D2是大于該第一設(shè)置深度D1,以減少由該發(fā)光單元12出射之部分光線經(jīng)由全內(nèi)反射而直接地由該后端面148出光的機(jī)率,進(jìn)而使大部分由該入光面142入射之光線皆由該出光面144出射的,可有效地避免該后端面148光強(qiáng)度過(guò)大的問(wèn)題產(chǎn)生,并進(jìn)一步地提升該出光面144之輝度。配合參閱圖4、圖5及圖6,分別為本發(fā)明第二實(shí)施例之光源模塊之立體圖及剖視圖。該光源模塊20是包含復(fù)數(shù)個(gè)發(fā)光單元22及復(fù)數(shù)個(gè)導(dǎo)光組件M,且該些發(fā)光單元22是分別地與各該導(dǎo)光組件M共同界定有一有效出光區(qū)域26。該些發(fā)光單元22是用以提供該光源模塊20所需之一光源,且該些發(fā)光單元22是分別的朝向該導(dǎo)光組件M投射光線。該些發(fā)光單元22具有一光強(qiáng)度,且該光強(qiáng)度的分布是隨著光線的傳遞距離增加而逐漸地減弱,意即愈接近于該發(fā)光單元22出光處的光強(qiáng)度愈大,愈遠(yuǎn)離于該發(fā)光單元22出光處的光強(qiáng)度愈??;其中該些發(fā)光單元22是可以為側(cè)射型的發(fā)光二極管。該些導(dǎo)光組件M是可以引導(dǎo)由該等發(fā)光單元22輸出之光線,并使該光線均勻地分布于該導(dǎo)光組件對(duì),以將由該發(fā)光單元22輸出之點(diǎn)狀光源轉(zhuǎn)換為一面形光源輸出。各該導(dǎo)光組件24包含一導(dǎo)光本體M0,該導(dǎo)光本體240包含一入光面M2、一出光面M4、一底表面246及一后端面M8。該入光面242是供設(shè)置有該些發(fā)光單元22,且該些發(fā)光單元22是分別地朝向該入光面242投射光線。該底表面246相對(duì)于該出光面244并鄰接于該入光面M2,且該底表面 246是與該出光面244具有一角度傾斜地使該導(dǎo)光本體240成楔形。該后端面248是相對(duì)于該入光面242設(shè)置,并鄰接于該出光面244及該底表面M6。并且,該入光面242在鄰近于該出光面244之一側(cè)具有一凹槽M5,供該些導(dǎo)光組件M拼接組裝時(shí)使用。在實(shí)際拼接時(shí),該導(dǎo)光組件M具有該后端面248之一側(cè)是迭置于鄰近的導(dǎo)光組件 24之該凹槽245上,如圖5所示,并且該后端面248是平貼于該凹槽245鄰近于該出光面 244之一平面,使得相鄰的兩導(dǎo)光組件M之出光面244可以位于相同的一平面上。另外,該導(dǎo)光組件M之后端面248是可以直接平貼于鄰近的導(dǎo)光組件M之該入光面M2,如圖6所示,并使該相鄰的兩導(dǎo)光組件M之出光面244可以位于相同的一平面上。該底表面246在對(duì)應(yīng)于該有效出光區(qū)域沈處是設(shè)置有復(fù)數(shù)個(gè)導(dǎo)光單元M7,且該些導(dǎo)光單元247是具有一第一設(shè)置深度D1,在本實(shí)施例中,該第一設(shè)置深度是可以指各該導(dǎo)光單元M7由該底表面246深入該導(dǎo)光本體M內(nèi)部之距離。該些導(dǎo)光單元247在該有效出光區(qū)域沈的分布密度與其設(shè)置位置所接受到的光強(qiáng)度成反比,意即設(shè)置鄰近于該入光面242之該些導(dǎo)光單元247的分布密度較疏,而設(shè)置遠(yuǎn)離于該入光面242之該些導(dǎo)光單元247的分布密度較密;換言之,該些導(dǎo)光單元247在該有效出光區(qū)域沈的分布密度是與其設(shè)置位置與該發(fā)光單元22之間的距離成反比,如此,以有效地將該發(fā)光單元22由該入光面242入射之光線引導(dǎo)至該整個(gè)導(dǎo)光本體24。又,該導(dǎo)光組件M更包含有一第一邊緣區(qū)域250,該第一邊緣區(qū)域250是位于該有效出光區(qū)域沈與該后端面248之間,且緊鄰于該有效出光區(qū)域沈,該底表面246在對(duì)應(yīng)該第一邊緣區(qū)域250處設(shè)置有至少一第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)252。再參閱圖5,該第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)252是具有一第二設(shè)置深度D2,且該第二設(shè)置深度 D2是大于該第一設(shè)置深度D1,以減少由該發(fā)光單元22出射之部分光線經(jīng)由全內(nèi)反射而直接地由該后端面M8出光的機(jī)率,進(jìn)而使大部分由該入光面242入射之光線皆由該出光面 244出射的,而提升該出光面244之輝度。又,為更有效地解決拼接式導(dǎo)光組件M之拼接亮線的問(wèn)題,該導(dǎo)光組件M更包含有一第二邊緣區(qū)域254,該第二邊緣區(qū)域2M是設(shè)置位于該第一邊緣區(qū)域250與該后端面 248之間,且該第二邊緣區(qū)域2M之面積是小于或等于該第一邊緣區(qū)域250之面積。該第二邊緣區(qū)域250是設(shè)置有至少一第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)256,該第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)256具有一第三設(shè)置深度D3,其中該第三設(shè)置深度D3是大于該第二設(shè)置深度D2。又,為使得拼接式導(dǎo)光組件M在拼接處之發(fā)光單元22的光線致使相鄰的導(dǎo)光組件M的該第一邊緣區(qū)域250與對(duì)應(yīng)該發(fā)光單元22設(shè)置處出現(xiàn)明顯的光點(diǎn);因此,各該導(dǎo)光組件M在該第一邊緣區(qū)域250設(shè)置有復(fù)數(shù)個(gè)空白部253,該些空白部253是對(duì)應(yīng)該些發(fā)光單元22設(shè)置,即空白部253下方設(shè)有發(fā)光單元22。該些空白部253是未布設(shè)該導(dǎo)光單元 M7、該第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)252或該第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)256,以避免由該發(fā)光單元22輸出的光源被大量地散射而造成對(duì)應(yīng)于該發(fā)光單元22設(shè)置位置之光點(diǎn)的產(chǎn)生。由該些發(fā)光單元22經(jīng)由該入光面242入射于該導(dǎo)光本體M的部分光線是經(jīng)由該些導(dǎo)光單元247散射而由該出光面244折射出光,部份之光線是經(jīng)由該些導(dǎo)光單元247散射后而朝向該后端面248傳遞,或部分光線是在該導(dǎo)光本體M以全內(nèi)反射地傳遞至該第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)252或該第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)256,并經(jīng)由該第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)252或該第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)256散射而由該出光面M4出光。由于該第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)252及該第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)256 之設(shè)置深度皆較該些導(dǎo)光單元M7的設(shè)置深度來(lái)得高,且該導(dǎo)光單元247的設(shè)置深度是與其設(shè)置位置與該發(fā)光單元22之間的距離成反比,如此,可有效地避免大量的光線由該后端面248出光,而達(dá)到避免邊緣亮線及拼接亮線的效果。本發(fā)明透過(guò)在該導(dǎo)光組件遠(yuǎn)離于入光面之一側(cè)之一第一邊緣區(qū)域內(nèi)部設(shè)有該第一光學(xué)微結(jié)構(gòu),其設(shè)置深度大于導(dǎo)光單元之設(shè)置深度,以有效地改善現(xiàn)有技術(shù)的單一導(dǎo)光組件與發(fā)光單元組合之光源模塊之邊緣亮線而導(dǎo)致出光面出光不均勻的問(wèn)題;又,可在一相鄰于該后端面之一第二邊緣區(qū)域設(shè)置二光學(xué)微結(jié)構(gòu),其設(shè)置深度大于上述第一光微結(jié)構(gòu)之設(shè)置深度,更可以有效地改善現(xiàn)有技術(shù)的導(dǎo)光組件在拼接時(shí)產(chǎn)生之拼接亮線,以增加增整體光源模塊之出光均勻度。然以上所述,僅為本發(fā)明之較佳實(shí)施例,當(dāng)不能限定本發(fā)明實(shí)施之范圍,即凡依本發(fā)明權(quán)利要求的范圍所作之均等變化與修飾等,皆應(yīng)仍屬本發(fā)明之權(quán)利要求的涵蓋范圍意圖的保護(hù)內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種光源模塊,包括至少一發(fā)光單元;其特征在于還包括一導(dǎo)光組件;該導(dǎo)光組件包括一導(dǎo)光本體,該導(dǎo)光本體是與該發(fā)光單元共同界定一有效出光區(qū)域,該導(dǎo)光本體包括一入光面;所述的入光面供設(shè)置該發(fā)光單元,且該發(fā)光單元是朝向該入光面投射光線; 一出光面;所述的出光面鄰接于該入光面之一側(cè);一底表面;所述的底表面相對(duì)于該出光面并與該出光面具有一角度傾斜,該底表面在對(duì)應(yīng)該有效出光區(qū)域處設(shè)置有復(fù)數(shù)個(gè)具有一第一設(shè)置深度的導(dǎo)光單元;一后端面;所述的后端面相對(duì)于該入光面并鄰接于該出光面及該底表面;及一第一邊緣區(qū)域;所述的第一邊緣區(qū)域位于該有效出光區(qū)域與該后端面之間,且該底表面在對(duì)應(yīng)第一邊緣區(qū)域處設(shè)置有至少一具有一第二設(shè)置深度的第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源模塊,其特征在于該第二設(shè)置深度是大于該第一設(shè)置深度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源模塊,其特征在于該第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)的設(shè)置密度大于該導(dǎo)光單元的設(shè)置密度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源模塊,其特征在于該些導(dǎo)光單元的設(shè)置密度是與其設(shè)置位置與該發(fā)光單元之間的距離成反比。
5.一種光源模塊,包括復(fù)數(shù)個(gè)發(fā)光單元;其特征在于還包括復(fù)數(shù)個(gè)導(dǎo)光組件;各該導(dǎo)光組件包含一導(dǎo)光本體,該導(dǎo)光本體是與該些發(fā)光單元共同界定一有效出光區(qū)域,該導(dǎo)光本體包括一入光面;所述的入光面供設(shè)置該些發(fā)光單元,且該些發(fā)光單元是分別的朝向該入光面投射光線;一出光面;所述的出光面鄰接于該入光面之一側(cè);一底表面;所述的底表面相對(duì)于該出光面并與該出光面具有一角度傾斜,該底表面于對(duì)應(yīng)該有效出光區(qū)域處設(shè)置有復(fù)數(shù)個(gè)具有一第一設(shè)置深度的導(dǎo)光單元;一后端面;所述的后端面相對(duì)于該入光面并鄰接于該出光面及該底表面;一第一邊緣區(qū)域;所述的第一邊緣區(qū)域位于該有效出光區(qū)域與該后端面之間,該底表面在對(duì)應(yīng)第一邊緣區(qū)域處設(shè)置有至少一具有一第二設(shè)置深度的第一光學(xué)微結(jié)構(gòu);及一第二邊緣區(qū)域;所述的第二邊緣區(qū)域介于該第一邊緣區(qū)域與該后端面之間,且該底表面在對(duì)應(yīng)該第二邊緣區(qū)域處設(shè)置有至少一第三設(shè)置深度之第二光學(xué)微結(jié)構(gòu);該導(dǎo)光本體之該后端面是平貼于鄰近的導(dǎo)光組件的該入光面,使得相鄰的兩導(dǎo)光組件的出光面位于同一水平面。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光源模塊,其特征在于該第二設(shè)置深度是大于該第一設(shè)置深度,該第三設(shè)置深度是大于該第二設(shè)置深度。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光源模塊,其特征在于該第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)的設(shè)置密度大于該導(dǎo)光單元的設(shè)置密度,該第二光學(xué)微結(jié)構(gòu)的設(shè)置密度大于該第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)的設(shè)置密度。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光源模塊,其特征在于第二邊緣區(qū)域的面積小于或等于該第一邊緣區(qū)域的面積。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光源模塊,其特征在于該入光面在鄰近于該出光面之一側(cè)具有一凹槽,且各該導(dǎo)光組件具有該后端面之一側(cè)是對(duì)應(yīng)地迭置于鄰近的導(dǎo)光本體的該凹槽,并且該后端面平貼于該凹槽鄰近于該出光面之一平面,使得相鄰的兩導(dǎo)光組件之出光面位于同一水平面。
10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光源模塊,其特征在于該第一邊緣區(qū)域更包含復(fù)數(shù)個(gè)空白部,該些空白部是對(duì)應(yīng)鄰近的導(dǎo)光組件的該些發(fā)光單元的設(shè)置位置而設(shè)置。
11.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光源模塊,其特征在于該些導(dǎo)光單元的設(shè)置密度是與其設(shè)置位置與該發(fā)光單元之間的距離成反比。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種光源模塊,包括至少一發(fā)光單元,一導(dǎo)光組件;該導(dǎo)光組件包括一導(dǎo)光本體,該導(dǎo)光本體是與該發(fā)光單元共同界定一有效出光區(qū)域,該導(dǎo)光本體包括一入光面;入光面供設(shè)置該發(fā)光單元,且該發(fā)光單元是朝向該入光面投射光線;一出光面;出光面鄰接于該入光面之一側(cè);一底表面;底表面相對(duì)于該出光面并與該出光面具有一角度傾斜,該底表面在對(duì)應(yīng)該有效出光區(qū)域處設(shè)置有復(fù)數(shù)個(gè)具有一第一設(shè)置深度的導(dǎo)光單元;一后端面;后端面相對(duì)于該入光面并鄰接于該出光面及該底表面;及一第一邊緣區(qū)域;第一邊緣區(qū)域位于該有效出光區(qū)域與該后端面之間,且該底表面在對(duì)應(yīng)第一邊緣區(qū)域處設(shè)置有至少一具有一第二設(shè)置深度的第一光學(xué)微結(jié)構(gòu)。
文檔編號(hào)F21V8/00GK102182982SQ20111010853
公開(kāi)日2011年9月14日 申請(qǐng)日期2011年4月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年4月28日
發(fā)明者劉煌竣 申請(qǐng)人:蘇州茂立光電科技有限公司