等離子顯示屏障壁及其制備方法以及等離子顯示屏的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了等離子顯示屏障壁及其制備方法以及等離子顯示屏。該制備方法包括以下步驟：首先在玻璃基板上用絲網(wǎng)印刷法或涂敷法形成障壁材料層；在障壁材料層上貼覆DFR膜，對DFR膜曝光、使用Na2CO3溶液顯影，刻蝕形成條形或井字形障壁掩膜，每一個障壁掩膜都對應一個障壁；使用CaCl2溶液處理障壁掩膜的側端面，以中和側端面上殘留的Na2CO3溶液；最后通過噴沙法將砂粒噴射在障壁材料層上，形成障壁。本發(fā)明所提供的等離子顯示屏障壁的制備方法，增強了障壁掩膜的強度，特別是那些斷面比較粗糙部分的強度，提高障壁掩膜側壁的陡峭，提高障壁加工精度，減少障壁加工缺陷，提高顯示屏的顯示質(zhì)量。
【專利說明】等離子顯示屏障壁及其制備方法以及等離子顯示屏
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及等離子顯示屏制備領域，具體而言涉及一種等離子顯示屏障壁及其制備方法以及等離子顯示屏。
【背景技術】
[0002]彩色等離子顯示器(Plasma Display Panel,簡稱F1DP),是利用氣體放電產(chǎn)生真空紫外光(VUV)，該紫外光又激發(fā)三原色熒光粉而產(chǎn)生紅綠藍三基色光，然后經(jīng)過空間和時間的調(diào)試實現(xiàn)了圖像顯示。AC表面放電型等離子顯示屏，分為前后基板。前基板包括透明電極IT0，以及在透明電極ITO層上交替排列的維持放電電極X電極和掃描放電電極Y電極，在X、Y電極上覆蓋有一定厚度的介質(zhì)層，再于介質(zhì)層上沉積一層MgO薄膜；后基板包括在玻璃基板上的尋址電極、覆蓋該電極的介質(zhì)層以及介質(zhì)層上具有一定高度的障壁，障壁將放電空間隔離開并在其中涂敷藍、綠、紅三色熒光粉。隨后將前、后玻璃基板封結在一起充入氣體。經(jīng)過Y電極和ADD尋址電極之間微弱放電產(chǎn)生壁電荷，通電時X、Y電極之間會產(chǎn)生放電，產(chǎn)生的紫外光會激發(fā)障壁槽內(nèi)的三原色熒光粉發(fā)出可見光。
[0003]PDP顯示屏由前、后基板及制作在基板上的電極、障壁、介質(zhì)、熒光粉等功能器件組成。障壁制作一直是rop制程中的瓶頸，特別是隨著PDP分辨率的提高，PDP障壁制作精度要求越來越高。傳統(tǒng)的等離子顯示屏障壁的制備方法是利用噴砂法，介質(zhì)漿料被涂在玻璃基板上，形成介質(zhì)層，然后印刷障壁漿料從而形成障壁層，涂敷均勻并干燥。最后障壁層被DFR(dry film resist)覆蓋，DFR能抵抗噴砂刻蝕。在利用模板、DFR、障壁材料層被選擇性的曝光，曝光后的DFR具有化學穩(wěn)定性，顯影后形成障壁掩膜，并能耐砂粒噴蝕。然后通過氣流將砂粒噴到障壁層上，有DFR的障壁材料層被保留下來，形成障壁，其余的障壁材料層都被噴掉。噴砂后，障壁掩膜被揭掉(剝膜)，并進行燒結，從而形成障壁。
[0004]目前，障壁噴砂用DFR膜一般比較厚，干膜在40?60y m,顯影時溶脹的DFR膜厚度將達到50?80 ym，這樣顯影后的DFR膜在精細加工過程中，側壁的陡峭十分重要，顯影條件十分苛刻?，F(xiàn)有方法所制備的障壁加工精度低、加工缺陷多。需要進一步改進。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明旨在提供一種等離子顯示屏障壁及其制備方法以及等離子顯示屏，以提高等離子顯示屏障壁的加工精度，減少加工缺陷。
[0006]在本發(fā)明的一個方面，提供了一種等離子顯示屏障壁的制備方法，包括以下步驟:首先在玻璃基板上用絲網(wǎng)印刷法或涂敷法形成障壁材料層；在障壁材料層上貼覆DFR膜，對DFR膜曝光、使用Na2CO3溶液顯影，刻蝕形成條形或井字形障壁掩膜，每一個障壁掩膜都對應一個障壁；使用CaC12溶液處理障壁掩膜的側端面，以中和側端面上殘留的Na2C03溶液；最后通過噴沙法將砂粒噴射在障壁材料層上，形成障壁。
[0007]優(yōu)選地，上述顯影處理的過程中將液溫為25?35°C，濃度為0.3?0.5wt %的Na2CO3溶液噴淋在曝光后的DFR膜上，使其顯影。[0008]優(yōu)選地，上述使用CaCl2溶液處理障壁掩膜的側端面過程中將液溫為25?35°C，濃度為5?25wt%的CaCl2溶液噴淋在端面上，使其與側端面上的Na2CO3溶液進行中和反應。
[0009]優(yōu)選地，上述使用CaCl2溶液處理后障壁掩膜的側端面呈向內(nèi)凹陷的形狀。
[0010]在本發(fā)明中提供了一種等離子顯示屏障壁，由上述的方法制備而成。
[0011]在本發(fā)明中提供了 一種等離子顯示屏，包括上述的障壁。
[0012]本發(fā)明所提供的等離子顯示屏障壁的制備方法，通過采用引入氯化鈣溶液中和障壁掩膜側端面上殘留的碳酸鈉溶液，降低了殘留碳酸鈉溶液側向侵入的效果，增強了障壁掩膜的強度，特別是那些斷面比較粗糙部分的強度，提高障壁掩膜側壁的陡峭，提高障壁加工精度，減少障壁加工缺陷，提高顯示屏的顯示質(zhì)量。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]說明書附圖用來提供對本發(fā)明的進一步理解，構成本發(fā)明的一部分，本發(fā)明的示意性實施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構成對本發(fā)明的不當限定。在附圖中:
[0014]圖1示出了根據(jù)本發(fā)明實施例中CaCl2溶液處理前基板玻璃1、障壁材料層2、障壁掩膜3配合結構示意圖；以及
[0015]圖2示出了根據(jù)本發(fā)明實施例中CaCl2溶液處理后基板玻璃1、障壁材料層2、障壁掩膜3配合結構示意圖。
【具體實施方式】
[0016]下面將結合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明的實施例中的技術方案進行詳細的說明，但如下實施例以及附圖僅是用以理解本發(fā)明，而不能限制本發(fā)明，本發(fā)明可以由權利要求限定和覆蓋的多種不同方式實施。
[0017]在本發(fā)明的一種典型的實施方式中，提供了一種等離子顯示屏障壁的制備方法，包括以下步驟:首先在玻璃基板I上用絲網(wǎng)印刷法或涂敷法形成障壁材料層2 ;在障壁材料層2上貼覆DFR膜，對DFR膜曝光、使用Na2CO3溶液顯影，刻蝕形成條形或井字形障壁掩膜3，每一個障壁掩膜3都對應一個障壁；使用CaC12溶液處理障壁掩膜3的側端面4，以中和側端面4上殘留的Na2CO3溶液；最后通過噴沙法將砂粒噴射在障壁材料層2上，形成障壁。
[0018]如圖1和圖2所示，圖1示出了根據(jù)本發(fā)明實施例中CaCl2溶液處理前基板玻璃
1、障壁材料層2、障壁掩膜3配合結構示意圖；圖2示出了根據(jù)本發(fā)明實施例中CaCl2溶液處理后基板玻璃1、障壁材料層2、障壁掩膜3配合結構示意圖。
[0019]該通過采用引入氯化鈣溶液中和障壁掩膜側端面4上殘留的碳酸鈉溶液，降低了殘留碳酸鈉溶液側向侵入的效果，增強了障壁掩膜的強度，特別是那些斷面比較粗糙部分的強度，提高障壁掩膜側壁的陡峭，提高障壁加工精度，減少障壁加工缺陷，提高顯示屏的顯示質(zhì)量。
[0020]優(yōu)選地，等離子顯示屏障壁的制備方法的顯影處理的過程中將液溫為25?35°C，濃度為0.3?0.5wt%的Na2CO3溶液噴淋在曝光后的DFR膜上，使其顯影。使用CaCl2溶液處理障壁掩膜3側端面4的過程中將液溫為25?35°C，濃度為5?25被％的CaC12溶液噴淋在側端面4上，使其與側端面4上的Na2C03溶液進行中和反應。[0021]將Na2CO3溶液和CaCl2溶液的液溫設定在上述范圍內(nèi)，有利于快速反應，且不會因為反應太快對所形成的障壁掩膜3造成損壞。將Na2CO3溶液和CaCl2溶液的濃度設定在上述范圍內(nèi)，使得兩者濃度適配，能夠形成穩(wěn)定的中和反應，提高障壁掩膜3強度的同時提高障壁掩膜3側端面的陡峭，進而提高加工精度。優(yōu)選地，上述使用CaCl2溶液處理后障壁掩膜的側端面4呈向內(nèi)凹陷的形狀。
[0022]通過上述方法所制備的等離子顯示屏障壁，加工精度高，加工缺陷少，包括這種等離子顯示屏障壁的等離子顯示屏，顯示質(zhì)量好。
[0023]以下將結合實施例1-3和對比例I進一步說明本發(fā)明的有益效果。
[0024]實施例1
[0025]等離子顯示屏障壁的制備方法:
[0026]首先在玻璃基板上用絲網(wǎng)印刷法形成300mm的障壁材料層；
[0027]在障壁材料層上貼覆DFR膜，對DFR膜曝光、并使用液溫為25°C，濃度為0.3wt%的Na2CO3溶液噴淋在曝光后的DFR膜進行顯影，刻蝕形成條形或井字形障壁掩膜3，每一個障壁掩膜3都對應一個障壁；
[0028]使用液溫為25°C，濃度為5wt %的CaCl2溶液噴淋障壁掩膜3的側端面4，以中和側端面4上殘留的Na2CO3溶液；
[0029]然后通過氣流將砂粒噴到障壁層上，由障壁掩膜掩蓋的部分被保留下來，形成障壁，其余的障壁材料層都被噴掉。噴砂后，障壁掩膜被揭掉剝膜，并進行燒結，從而形成障壁。
[0030]實施例2
[0031]等離子顯示屏障壁的制備方法:
[0032]首先在玻璃基板上用涂敷法形成障壁材料層；
[0033]在障壁材料層上貼覆DFR膜，對DFR膜曝光、并使用液溫為35°C，濃度為0.5wt%的Na2CO3溶液噴淋在曝光后的DFR膜進行顯影，刻蝕形成條形或井字形障壁掩膜3，每一個障壁掩膜3都對應一個障壁；
[0034]使用液溫為35°C，濃度為25wt%的CaCl2溶液噴淋障壁掩膜3的側端面4，以中和側端面4上殘留的Na2CO3溶液；
[0035]然后通過氣流將砂粒噴到障壁層上，由障壁掩膜掩蓋的部分被保留下來，形成障壁，其余的障壁材料層都被噴掉。噴砂后，障壁掩膜被揭掉剝膜，并進行燒結，從而形成障壁。
[0036]實施例3
[0037]等離子顯示屏障壁的制備方法:
[0038]首先在玻璃基板上用絲網(wǎng)印刷法或涂敷法形成350mm的障壁材料層；
[0039]在障壁材料層上貼覆DFR膜，對DFR膜曝光、并使用液溫為30°C，濃度為0.4wt%的Na2CO3溶液噴淋在曝光后的DFR膜進行顯影，刻蝕形成條形或井字形障壁掩膜3，每一個障壁掩膜3都對應一個障壁；
[0040]使用液溫為30°C，濃度為15wt%的CaC12溶液噴淋障壁掩膜3的側端面4，以中和側端面4上殘留的Na2CO3溶液；
[0041]然后通過氣流將砂粒噴到障壁層上，由障壁掩膜掩蓋的部分被保留下來，形成障壁，其余的障壁材料層都被噴掉。噴砂后，障壁掩膜被揭掉剝膜，并進行燒結，從而形成障壁。
[0042]對比例I
[0043]等離子顯示屏障壁的制備方法:
[0044]首先在玻璃基板上用絲網(wǎng)印刷法或涂敷法形成350mm的障壁材料層；
[0045]在障壁材料層上貼覆DFR膜，對DFR膜曝光、并使用液溫為30°C，濃度為0.4wt%的Na2CO3溶液噴淋在曝光后的DFR膜進行顯影，刻蝕形成條形或井字形障壁掩膜3，每一個障壁掩膜3都對應一個障壁；
[0046]然后通過氣流將砂粒噴到障壁層上，由障壁掩膜掩蓋的部分被保留下來，形成障壁，其余的障壁材料層都被噴掉。噴砂后，障壁掩膜被揭掉剝膜，并進行燒結，從而形成障壁。
[0047]對實施例1-3和對比例I所制備的障壁及包括該障壁的等離子顯示屏進行測試，測試結果如表1所示。其中障壁的缺陷為的一平方厘米范圍內(nèi)個數(shù)為基準；障壁精度以障壁頂寬測量值與設計值偏差表示，障壁精度進行5點測量。
[0048]表1
[0049]
【權利要求】
1.一種等離子顯示屏障壁的制備方法，其特征在于，包括以下步驟: 首先在玻璃基板(I)上用絲網(wǎng)印刷法或涂敷法形成障壁材料層(2); 在所述障壁材料層(2)上貼覆DFR膜，對所述DFR膜曝光、使用Na2CO3溶液顯影，刻蝕形成條形或井字形障壁掩膜(3)，每一個障壁掩膜(3)都對應一個障壁； 使用CaCl2溶液處理所述障壁掩膜(3)的側端面(4)，以中和所述側端面(4)上殘留的所述Na2CO3溶液； 最后通過噴沙法將砂粒噴射在障壁材料層(2)上，形成所述障壁。
2.根據(jù)權利要求1所述的制備方法，其特征在于，顯影處理的過程中將液溫為25?350C，濃度為0.3?0.5wt%的Na2CO3溶液噴淋在曝光后的所述DFR膜上，使其顯影。
3.根據(jù)權利要求1所述的制備方法，其特征在于，使用CaCl2溶液處理所述障壁掩膜(3)側端面(4)的過程中將液溫為25?35°C，濃度為5?25被％的CaCl2溶液噴淋在所述偵_面⑷上，使其與所述側端面⑷上的所述Na2CO3溶液進行中和反應。
4.根據(jù)權利要求1所述的制備方法，其特征在于，使用所述CaCl2溶液處理后障壁掩膜(3)的側端面(4)呈向內(nèi)凹陷的形狀。
5.一種等離子顯示屏障壁，其特征在于，由權利要求1-4中任一項所述的方法制備而成。
6.一種等離子顯示屏，其特征在于，包括權利要求5中所述的等離子顯示屏障壁。
【文檔編號】H01J9/24GK103794433SQ201110459354
【公開日】2014年5月14日 申請日期:2011年12月31日 優(yōu)先權日:2011年12月31日
【發(fā)明者】呂旭東, 宋利建 申請人:四川虹歐顯示器件有限公司