專利名稱：低溫電漿裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種電漿的蝕刻清潔設(shè)備，尤指可使薄板或易遇熱變形的材質(zhì)， 經(jīng)由電漿裝置進(jìn)行表面處理時(shí)，不會發(fā)生變形的問題。
背景技術(shù)：
電漿的蝕刻清潔設(shè)備是廣泛應(yīng)用于液晶產(chǎn)業(yè)、光電產(chǎn)業(yè)等制程的清潔上，對于提升產(chǎn)品合格率有相當(dāng)?shù)闹匾?。一般電漿的蝕刻清潔設(shè)備是供用來清潔平板狀待清潔物， 例如樹脂/銅層基板等，其中因制程條件和環(huán)境影響，基板上附著污染物，而此污染物會導(dǎo)致后續(xù)制程中金線或樹脂附著不良，嚴(yán)重降低合格率，故必須將基板上的污染物清除，而對待清潔物最佳的清潔處理即是電漿蝕刻清潔。然而，為了有效的減少電漿蝕刻清潔設(shè)備處理加工件的時(shí)間，本實(shí)用新型的設(shè)計(jì)人遂發(fā)展出一種電漿蝕刻反應(yīng)爐預(yù)熱裝置，且該電漿蝕刻反應(yīng)爐預(yù)熱裝置是已申請并獲準(zhǔn)為中國實(shí)用新型專利第ZL200820000357.X號，其主要為利用預(yù)熱方式縮短電漿與加工件表面的處理時(shí)間，然而，經(jīng)本案實(shí)用新型設(shè)計(jì)人不斷研究后發(fā)現(xiàn)，在加工件為薄板或是容易因熱產(chǎn)生變形的材質(zhì)時(shí)，此種做法反而增加了加工件在加工后產(chǎn)生變形，導(dǎo)致合格率大幅下降，因此，本實(shí)用新型的設(shè)計(jì)人遂對此問題繼續(xù)不斷的研究。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的主要目的乃在于，利用持續(xù)對加工件冷卻，以使電漿裝置對加工件進(jìn)行表面處理時(shí)，加工件不會因過熱而產(chǎn)生變形。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是一種低溫電漿裝置，其特征在于設(shè)置有電漿蝕刻反應(yīng)爐、支架組、導(dǎo)管組以及冷卻器，其中該電漿蝕刻反應(yīng)爐設(shè)置有操控電漿蝕刻反應(yīng)爐運(yùn)作的控制系統(tǒng)，且電漿蝕刻反應(yīng)爐內(nèi)具有腔體，腔體開口處設(shè)置有腔門；該支架組設(shè)置有復(fù)數(shù)間隔并排的支撐板，支撐板設(shè)置于腔體內(nèi)，支撐板由溫度傳導(dǎo)系數(shù)較佳的材質(zhì)所制成，如鋁、銅、鋁合金...等；該導(dǎo)管組設(shè)置有兩根岐管，并在兩根岐管之間連接有復(fù)數(shù)導(dǎo)管，導(dǎo)管固定于支撐板一側(cè)表面，且導(dǎo)管表面與支撐板形成直接接觸；該冷卻器設(shè)置有冷卻裝置以及泵，且冷卻器連接于岐管，使冷卻器憑借泵將冷卻液循環(huán)導(dǎo)入導(dǎo)管組，使導(dǎo)管迅速吸收支撐板的熱能，使支撐板降溫。其中該支架組所設(shè)置的復(fù)數(shù)支撐板由支架所固定。其中該導(dǎo)管是以連續(xù)彎折成形。其中該支架組設(shè)置有抵壓件，抵壓件是利用固定元件鎖固于支撐板，且抵壓件抵壓該導(dǎo)管，使導(dǎo)管與支撐板形成緊密接觸。其中該冷卻器進(jìn)一步設(shè)置有用來控制冷卻裝置的冷卻溫度的溫控裝置，該溫控裝置與該冷卻器連接。與現(xiàn)有技術(shù)相比較，采用上述技術(shù)方案的本實(shí)用新型具有的優(yōu)點(diǎn)在于本實(shí)用新型利用冷卻的方式對加工件進(jìn)行冷卻，使電漿蝕刻反應(yīng)爐對加工件表面進(jìn)行加工時(shí)，其所產(chǎn)生的熱能不會迅速傳導(dǎo)至整個(gè)加工件，并憑借持續(xù)地對加工件進(jìn)行冷卻，以確保加工件不會因加工過程中所產(chǎn)生的熱能而造成變形。

圖1是本實(shí)用新型的外觀立體圖；圖2是電漿蝕刻反應(yīng)爐內(nèi)部的立體圖；圖3是本實(shí)用新型的局部外觀立體圖；圖4是本實(shí)用新型支撐板與導(dǎo)管的立體圖；圖5是本實(shí)用新型的導(dǎo)管組與冷卻器組成結(jié)構(gòu)立體圖；圖6是本實(shí)用新型的剖視示意圖。附圖標(biāo)記說明1-電漿蝕刻反應(yīng)爐；11-腔門；12-腔體；13-控制系統(tǒng)；2_支架組；21-支撐板；22-支架；23-抵壓件；24-固定元件；3-導(dǎo)管組；31-岐管；32-導(dǎo)管；4-冷卻器；41-冷卻裝置；42-泵；43-溫控裝置；44-散熱裝置；5-加工件。
具體實(shí)施方式
請參閱圖1至圖5所示，由圖中可清楚看出，本實(shí)用新型低溫電漿裝置，設(shè)置有電漿蝕刻反應(yīng)爐1、支架組2、導(dǎo)管組3以及冷卻器4，其中該電漿蝕刻反應(yīng)爐1設(shè)置有操控電漿蝕刻反應(yīng)爐1運(yùn)作的控制系統(tǒng)13，且電漿蝕刻反應(yīng)爐1內(nèi)具有腔體12，腔體12開口處設(shè)置有腔門11。該支架組2設(shè)置有復(fù)數(shù)間隔并排的支撐板21，支撐板21設(shè)置于腔體12內(nèi)，支撐板 21由具溫度傳導(dǎo)系數(shù)較佳的材質(zhì)(如鋁、銅、鋁合金...等)所制成，且復(fù)數(shù)支撐板21由支架22所固定，而支撐板21底面設(shè)置有抵壓件23，抵壓件23是利用固定元件M鎖固于支撐板21。該導(dǎo)管組3設(shè)置有兩根岐管31，并于兩根岐管31之間連接有復(fù)數(shù)導(dǎo)管32，導(dǎo)管32 是以連續(xù)彎折成形，且導(dǎo)管32固定于支撐板21底面與抵壓件23之間，使導(dǎo)管32受抵壓件 23所抵壓，而與支撐板21形成直接接觸，且導(dǎo)管32憑借連續(xù)彎折成形加大導(dǎo)管32與支撐板21的接觸面積。該冷卻器4設(shè)置有冷卻裝置41、泵42、溫控裝置43以及散熱裝置44，且冷卻器4 連接于岐管31，使冷卻器4憑借泵42將冷卻液循環(huán)導(dǎo)入導(dǎo)管組3，使導(dǎo)管32迅速吸收支撐板21的熱能，使支撐板21降溫，而散熱裝置44設(shè)置于冷卻液流出岐管31處，以使吸收熱能的冷卻液在回流至冷卻裝置41預(yù)先散去部分熱能，而溫控裝置43是用以控制冷卻裝置 41的冷卻溫度。請參閱圖4至圖6所示，由圖中可清楚看出，當(dāng)加工件5置于支撐板21表面時(shí)，由于冷卻液會持續(xù)的由冷卻器4送出，并經(jīng)由導(dǎo)管組3循環(huán)，因此當(dāng)冷卻液流經(jīng)導(dǎo)管32時(shí)，會吸取支撐板21的熱能，降低支撐板21的溫度，同時(shí)也會使加工件5的溫度降低，如此，當(dāng)電漿蝕刻反應(yīng)爐1對加工件5表面進(jìn)行加工時(shí)，其于加工件5表面所產(chǎn)生的熱能不會傳導(dǎo)至整個(gè)加工件5，且因冷卻液為持續(xù)流經(jīng)導(dǎo)管32，而讓加工件5于加工過程中也持續(xù)地受到冷卻，因此加工件5不易因溫度過高而產(chǎn)生變形，且加工件5為薄板或易遇熱變形的材質(zhì)時(shí)，如液晶面板、橡膠等，其防止變形的效果更加顯著，以有效提升產(chǎn)品合格率。本實(shí)用新型可解決現(xiàn)有技術(shù)的不足與缺失，其關(guān)鍵在于，本實(shí)用新型利用冷卻的方式對加工件5進(jìn)行冷卻，使電漿蝕刻反應(yīng)爐1對加工件5表面進(jìn)行加工時(shí)，其所產(chǎn)生的熱能不會迅速傳導(dǎo)至整個(gè)加工件5，并憑借持續(xù)地對加工件5進(jìn)行冷卻，以確保加工件5不會因加工過程中所產(chǎn)生的熱能而造成變形。以上說明對本實(shí)用新型而言只是說明性的，而非限制性的，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員理解，在不脫離權(quán)利要求所限定的精神和范圍的情況下，可作出許多修改、變化或等效，但都將落入本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種低溫電漿裝置，其特征在于設(shè)置有電漿蝕刻反應(yīng)爐、支架組、導(dǎo)管組以及冷卻器，其中該電漿蝕刻反應(yīng)爐設(shè)置有操控電漿蝕刻反應(yīng)爐運(yùn)作的控制系統(tǒng)，且電漿蝕刻反應(yīng)爐內(nèi)具有腔體，腔體開口處設(shè)置有腔門；該支架組設(shè)置有復(fù)數(shù)間隔并排的支撐板，支撐板設(shè)置于腔體內(nèi)，支撐板由溫度傳導(dǎo)系數(shù)較佳的材質(zhì)所制成；該導(dǎo)管組設(shè)置有兩根岐管，并在兩根岐管之間連接有復(fù)數(shù)導(dǎo)管，導(dǎo)管固定于支撐板一側(cè)表面，且導(dǎo)管表面與支撐板形成直接接觸； 該冷卻器設(shè)置有冷卻裝置以及泵，且冷卻器連接于岐管，使冷卻器憑借泵將冷卻液循環(huán)導(dǎo)入導(dǎo)管組。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫電漿裝置，其特征在于該支架組所設(shè)置的復(fù)數(shù)支撐板由支架所固定。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫電漿裝置，其特征在于該導(dǎo)管是以連續(xù)彎折成形。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫電漿裝置，其特征在于該支架組設(shè)置有抵壓件，抵壓件是利用固定元件鎖固于支撐板，且抵壓件抵壓該導(dǎo)管，使導(dǎo)管與支撐板形成緊密接觸。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低溫電漿裝置，其特征在于該冷卻器進(jìn)一步設(shè)置有用來控制冷卻裝置的冷卻溫度的溫控裝置，該溫控裝置與該冷卻器連接。
專利摘要本實(shí)用新型是一種低溫電漿裝置，設(shè)置有電漿蝕刻反應(yīng)爐、支架組、導(dǎo)管組以及冷卻器，該支架組設(shè)置有復(fù)數(shù)間隔并排的支撐板，支撐板設(shè)置于電漿蝕刻反應(yīng)爐內(nèi)，而導(dǎo)管組設(shè)置有兩根岐管，并于兩根岐管之間連接有復(fù)數(shù)導(dǎo)管，導(dǎo)管固定于支撐板一側(cè)表面，且導(dǎo)管表面與支撐板形成直接接觸。該冷卻器設(shè)置有冷卻裝置以及泵，且冷卻器連接于岐管，使冷卻器憑借泵將冷卻液循環(huán)導(dǎo)入導(dǎo)管組，使導(dǎo)管迅速吸收支撐板的熱能。
文檔編號H01J37/02GK202034341SQ20112012542
公開日2011年11月9日 申請日期2011年4月26日 優(yōu)先權(quán)日2011年4月26日
發(fā)明者陳雄泉 申請人:亞太電漿有限公司