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      一種光源模組及其制備方法

      文檔序號(hào):2944678閱讀:141來源:國知局
      專利名稱:一種光源模組及其制備方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及半導(dǎo)體照明技術(shù),也涉及平面顯示技術(shù),尤其涉及一種光源模組及其制備方法。
      背景技術(shù)
      LED有壽命長、省電力的特點(diǎn),越來越廣泛地應(yīng)用于照明或顯示領(lǐng)域。中國專利文獻(xiàn)CN201382335于2010年I月13日公開了一種背光源,包括至少一背板,一框架、至少一 PCB板以及設(shè)置在PCB板至少一 LED發(fā)光單元,一控制裝置;PCB板還設(shè)置至少一電源正極線、少一電源正極線、少一信號(hào)線,各個(gè)LED發(fā)光單元之間通過至少一信號(hào)線、一根電源正極線路和一根電源負(fù)極線路連接,各個(gè)LED發(fā)光單元包括至少一組LED發(fā)光二極管,PCB板與背板固定連接,并且,各個(gè)LED發(fā)光單元的出光面與背板設(shè)置在PCB板的同一側(cè)面,背板固定設(shè)置在框架上,用于各個(gè)LED發(fā)光單元在框架形成點(diǎn)陣,控制裝置設(shè)置在框架上;用于控制各個(gè)LED發(fā)光單元。本發(fā)明發(fā)光效率高,并且發(fā)光效果好。中國專利文獻(xiàn)CN201284964于2009年8月5日公開一種LED背光源結(jié)構(gòu),該結(jié)構(gòu)可以減少裝配工序,提高生產(chǎn)效率,并降低成本,涉及TFT玻璃顯示屏的背光源,特別是涉及小屏幕如MP4、導(dǎo)航儀的背光源。該LED背光源結(jié)構(gòu)包括導(dǎo)光板、設(shè)在導(dǎo)光板一側(cè)的LED電路板,在LED電路板的一面上設(shè)有LED燈,所述LED電路板為PCB板,其中LED燈的頂部對(duì)著所述導(dǎo)光板。本發(fā)明具有提高生產(chǎn)效率、減少成本的優(yōu)點(diǎn),可應(yīng)用于GPS導(dǎo)航儀等背光與TFT玻璃組裝模塊。包括以上專利技術(shù)在內(nèi)的現(xiàn)有技術(shù),其不足之處在于,一是結(jié)構(gòu)復(fù)雜、成本高,二是光源散熱效果不好,三是現(xiàn)有技術(shù)中熒光粉層一般涂布在LED晶體的表面或與空氣接觸,易氧化并且激發(fā)效率不高,四是現(xiàn)有技術(shù)沒有主動(dòng)利用LED晶體的側(cè)面出光,取光效率低,還致至光源模組溫升快。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足之處而提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)潔成本低的光源模組。本發(fā)明的目的還在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足之處而提供一種散熱效果好的光源模組。本發(fā)明的目的還在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足之處而提供一種不易氧化的遠(yuǎn)熒光粉式光源模組。本發(fā)明的目的還在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足之處而提供一種有效利用LED晶體側(cè)出光的光源模組。本發(fā)明的目的還在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足之處而提供一種光源模組的制備方法。本發(fā)明的目的可以通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn): 一種光源模組,其特征在于:包括金屬底板,底板的頂面具有凹坑,以及靠近凹坑設(shè)置的電路層;凹坑的底面是平面,凹坑的側(cè)面是碗形反射面,并且碗形反射面的表面具有鍍層;凹坑內(nèi)設(shè)有LED晶體,LED晶體底面的支架通過AuSn焊層設(shè)置于凹坑底面,LED晶體側(cè)出光面與碗形反射面相對(duì)設(shè)置,并且LED晶體正出光面的高度等于或低于所述金屬底板的頂面;金屬底板頂面的邊緣具有突起的緣,所述緣與金屬底板的頂面共界定出一頂部開放的容置空間,所述容置空間內(nèi)填充硅膠,構(gòu)所硅膠層;硅膠層的頂部具有離散分布的熒光粉層塊,每個(gè)熒光粉層塊均設(shè)置于相應(yīng)的LED晶體的正前方,并在水平方向上將相應(yīng)的LED晶體覆蓋于其中;硅膠層的頂部設(shè)有光學(xué)層;所述光學(xué)層包括增光擴(kuò)散膜。
      光源模組,其特征在于:所述碗形反射面被設(shè)置為將LED晶體側(cè)出光反射向與該LED晶體相應(yīng)的熒光粉層塊。
      光源模組,其特征在于:所述所光學(xué)層還包括一偏振膜,偏振膜設(shè)置于增光擴(kuò)散膜與硅膠層之間。
      光源模組,其特征在于:所述增光擴(kuò)散膜具有向內(nèi)突起的增光單元,所述增光單元具有金字塔型結(jié)構(gòu),所述增光單元的頂角為91°。
      光源模組,其特征在于:所述鍍層是Au層,或Ag層,或Al層,所述鍍層表面拋光處理。
      光源模組,其特征在于:所述增光擴(kuò)散膜內(nèi)包含有復(fù)數(shù)個(gè)玻璃微珠。
      光源模組,其特征在于:所述光學(xué)層是整塊薄膜,或所述光學(xué)層是與每個(gè)LED晶體 對(duì)應(yīng)的一組離散薄片。
      光源模組,其特征在于:所述金屬底板具有組合結(jié)構(gòu),由底面平板和孔板固定連接而成,其中孔板的孔壁構(gòu)成所述凹坑的側(cè)面,底面平板位于孔板之孔底部的部分構(gòu)成所述凹坑的底面。
      一種光源模組的制備方法,用于制備前述任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的光源模組,其特征在于包括以下步驟:S1),提供金屬底板并加工凹坑及電路層;S2),設(shè)置碗形反射面鍍層;S3),提供AuSn焊片并置于凹坑底面;S4),提供LED晶體并放置于AuSn焊片上;S5),共晶焊接;S6),焊金線;S7),封膠;S8),絲印熒光粉層塊;S9),貼合光學(xué)層;其中,SI)所提供的金屬底板是鋁鋁基板或銅基板或陶瓷基板,加工凹坑通過切削方式或壓鑄成形方式;S2)所述的設(shè)置碗形反射面鍍層通過真空鍍膜方式;S5)共晶焊接采用超聲波或激光焊接方式。
      光源模組的制備方法,其特征在于:S5)步驟的焊接溫度控制在295°C _320°C之間,并且所述金屬底板的底面與焊點(diǎn)對(duì)應(yīng)處通過液氮同步致冷,使LED晶體承受260°C以上溫度的時(shí)間小于或等于0.15s,液氮致冷采用在金屬底板反面定量同步點(diǎn)射的方式,所述同步是指與焊接所采用的超聲波或激光同步,定量是指一次點(diǎn)射所使用的液氮量是確定的,LED晶體承受260°C以上溫度的時(shí)間通過調(diào)節(jié)一次點(diǎn)射所使用的液氮量來調(diào)節(jié)。
      本發(fā)明的光源模組,包括金屬底板,底板的頂面具有凹坑,以及靠近凹坑設(shè)置的電路層;凹坑的底面是平面,LED晶體底面的支架通過AuSn焊層設(shè)置于凹坑底面,與現(xiàn)有技術(shù)相比其散熱直接,并且焊層的導(dǎo)熱效率遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于現(xiàn)有技術(shù)的銀漿固晶結(jié)構(gòu)。凹坑的側(cè)面是碗形反射面,并且碗形反射面的表面具有鍍層;凹坑內(nèi)設(shè)有LED晶體,LED晶體側(cè)出光面與碗形反射面相對(duì)設(shè)置,并且LED晶體正出光面的高度等于或低于所述金屬底板的頂面,與現(xiàn)有技術(shù)相比,有效地利用LED晶體側(cè)出光一方面提高取光效率,另一方面也避免因側(cè)出光不被利用而帶來的溫升和相鄰LED晶體之間因側(cè)出光而形成的干擾。硅膠層的頂部具有離散分布的熒光粉層塊,每個(gè)熒光粉層塊均設(shè)置于相應(yīng)的LED晶體的正前方,并在水平方向上將相應(yīng)的LED晶體覆蓋于其中,與現(xiàn)有技術(shù)相比,遠(yuǎn)熒光粉的激發(fā)效率高,并且熒光粉層塊因遠(yuǎn)離LED晶體加上不與空氣接觸,不會(huì)被氧化。本發(fā)明的光源模組金屬底板頂面的邊緣具有突起的緣,所述緣與金屬底板的頂面共界定出一頂部開放的容置空間,所述容置空間內(nèi)填充硅膠,構(gòu)所硅膠層,采用一次封裝結(jié)構(gòu),與現(xiàn)有技術(shù)采用LED燈相比,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單緊湊、成本低。本發(fā)明的光源模組的制備方法是制備本發(fā)明之光源模組的方法,因而一并提出申請(qǐng)。


      圖1是本發(fā)明第一個(gè)實(shí)施例的示意圖。
      圖2是圖1中A處的局部放大圖。
      圖3是本發(fā)明第一個(gè)實(shí)施例中增光擴(kuò)散膜的示意圖。
      圖4是本發(fā)明第一個(gè)實(shí)施例中增光擴(kuò)散膜的另一種結(jié)構(gòu)的示意圖。
      圖5是本發(fā)明第二個(gè)實(shí)施例的流程圖。
      具體實(shí)施方式
      下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳述。
      參考圖1至4,是本發(fā)明第一個(gè)實(shí)施例是一種光源模組,包括金屬底板101,金屬底板101的頂面具有凹坑,以及靠近凹坑設(shè)置的電路層104 ;凹坑的底面是平面,凹坑的側(cè)面是碗形反射面,并且碗形反射面的表面具有鍍層;凹坑內(nèi)設(shè)有LED晶體102,LED晶體102底面通過AuSn焊層103設(shè)置于凹坑底面,LED晶體102側(cè)出光面與碗形反射面相對(duì)設(shè)置,并且LED晶體102正出光面的高度等于或低于所述金屬底板101的頂面;應(yīng)當(dāng)理解,也可以在LED晶體102底面預(yù)先設(shè)置支架,支架通過AuSn焊層103將LED晶體102設(shè)置于凹坑底面;LED晶體102頂部的電極通過金線105電連接所述電路層104的觸點(diǎn);金屬底板101頂面的邊緣具有突起的緣110,所述緣110與金屬底板101的頂面共界定出一頂部開放的容置空間,所述容置空間內(nèi)填充娃膠,構(gòu)所娃膠層106 ;娃膠層106的頂部具有離散分布的突光粉層塊107,每個(gè)熒光粉層塊107均設(shè)置于相應(yīng)的LED晶體102的正前方,并在水平方向上將相應(yīng)的LED晶體102覆蓋于其中;娃膠層106的頂部設(shè)有光學(xué)層;所述光學(xué)層包括增光擴(kuò)散膜 109。
      本實(shí)施例中,所述碗形反射面被設(shè)置為將LED晶體102側(cè)出光反射向與該LED晶體102相應(yīng)的突光粉層塊107。本實(shí)施例中,所述所光學(xué)層還包括一偏振膜108,偏振膜108設(shè)置于增光擴(kuò)散膜109與硅膠層106之間,應(yīng)當(dāng)理解不包括偏振膜或偏光膜也通實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的。本實(shí)施例中,所述增光擴(kuò)散膜109具有向內(nèi)突起的增光單元,所述增光單元具有金字塔型結(jié)構(gòu)1091,所述增光單元的頂角為91° ;所述鍍層是Au層,或Ag層,或Al層,所述鍍層表面拋光處理。應(yīng)當(dāng)理解,增光擴(kuò)散膜109也可以不采用金字塔型結(jié)構(gòu),而是包含有復(fù)數(shù)個(gè)玻璃微珠1092,也可以起到增光擴(kuò)散的目的。
      本實(shí)施例中,所述光學(xué)層是整塊薄膜,應(yīng)當(dāng)理解,在大屏幕顯示或大形面上源的應(yīng)用上,所述光學(xué)層是與每個(gè)LED晶體102—一對(duì)應(yīng)的一組離散薄片,以減少光學(xué)層的用量以節(jié)約成本。。
      本實(shí)施例中,金屬底板101是整體式結(jié)構(gòu),應(yīng)當(dāng)理解,作為本實(shí)施例的替代方案,所述金屬底板也可以采用組合結(jié)構(gòu),由底面平板和孔板固定連接而成,其中孔板的孔壁構(gòu)成所述凹坑的側(cè)面,底面平板位于孔板之孔底部的部分構(gòu)成所述凹坑的底面,以降低金屬底板101的加工難度和成本。
      參考圖5,本發(fā)明第二個(gè)實(shí)施例是一種光源模組的制備方法,用于制備前述任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的光源模組,其特征在于包括以下步驟:S1),提供金屬底板并加工凹坑及電路層;S2),設(shè)置碗形反射面鍍層;S3),提供AuSn焊片并置于凹坑底面;S4),提供LED晶體并放置于AuSn焊片上;S5),共晶焊接;S6),焊金線;S7),封膠;S8),絲印熒光粉層塊;S9),貼合光學(xué)層;其中,SI)所提供的金屬底板是鋁鋁基板或銅基板或陶瓷基板,加工凹坑通過切削方式或壓鑄成形方式;S2)所述的設(shè)置碗形反射面鍍層通過真空鍍膜方式;S5)共晶焊接采用超聲波或激光焊接方式。
      本實(shí)施例中,S5)步驟的焊接溫度控制在295°C _320°C之間,并且所述金屬底板的底面與焊點(diǎn)對(duì)應(yīng)處通過液氮同步致冷,使LED晶體承受260°C以上溫度的時(shí)間小于或等于0.15s,液氮致冷采用在金屬底板反面定量同步點(diǎn)射的方式,所述同步是指與焊接所采用的超聲波或激光同步,定量是指一次點(diǎn)射所使用的液氮量是確定的,LED晶體承受260°C以上溫度的時(shí)間通過調(diào)節(jié)一次點(diǎn)射所使用的液氮量來調(diào)節(jié)。
      權(quán)利要求
      1.一種光源模組,其特征在于:包括金屬底板,金屬底板的頂面具有凹坑,以及靠近凹坑設(shè)置的電路層;凹坑的底面是平面,凹坑的側(cè)面是碗形反射面,并且碗形反射面的表面具有鍍層;凹坑內(nèi)設(shè)有LED晶體,LED晶體底面的支架通過AuSn焊層設(shè)置于凹坑底面,LED晶體側(cè)出光面與碗形反射面相對(duì)設(shè)置,并且LED晶體正出光面的高度等于或低于所述金屬底板的頂面;金屬底板頂面的邊緣具有突起的緣,所述緣與金屬底板的頂面共界定出一頂部開放的容置空間,所述容置空間內(nèi)填充硅膠,構(gòu)所硅膠層;硅膠層的頂部具有離散分布的熒光粉層塊,每個(gè)熒光粉層塊均設(shè)置于相應(yīng)的LED晶體的正前方,并在水平方向上將相應(yīng)的LED晶體覆蓋于其中;硅膠層的頂部設(shè)有光學(xué)層;所述光學(xué)層包括增光擴(kuò)散膜。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源模組,其特征在于:所述碗形反射面被設(shè)置為將LED晶體側(cè)出光反射向與該LED晶體相應(yīng)的熒光粉層塊。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光源模組,其特征在于:所述所光學(xué)層還包括一偏振膜,偏振膜設(shè)置于增光擴(kuò)散膜與硅膠層之間。
      4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光源模組,其特征在于:所述增光擴(kuò)散膜具有向內(nèi)突起的增光單元,所述 增光單元具有金字塔型結(jié)構(gòu),所述增光單元的頂角為91°。
      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源模組,其特征在于:所述鍍層是Au層,或Ag層,或Al層,所述鍍層表面拋光處理。
      6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光源模組,其特征在于:所述增光擴(kuò)散膜內(nèi)包含有復(fù)數(shù)個(gè)玻璃微珠。
      7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光源模組,其特征在于:所述光學(xué)層是整塊薄膜,或所述光學(xué)層是與每個(gè)LED晶體一一對(duì)應(yīng)的一組離散薄片。
      8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光源模組,其特征在于:所述金屬底板具有組合結(jié)構(gòu),由底面平板和孔板固定連接而成,其中孔板的孔壁構(gòu)成所述凹坑的側(cè)面,底面平板位于孔板之孔底部的部分構(gòu)成所述凹坑的底面。
      9.一種光源模組的制備方法,用于制備前述任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的光源模組,其特征在于包括以下步驟: 51),提供金屬底板并加工凹坑及電路層; 52),設(shè)置碗形反射面鍍層; 53),提供AuSn焊片并置于凹坑底面; 54),提供LED晶體并放置于AuSn焊片上; 55),共晶焊接; 56),焊金線; 57),封膠; 58),絲印熒光粉層塊; 59),貼合光學(xué)層; 其中,SI)所提供的金屬底板是鋁鋁基板或銅基板或陶瓷基板,加工凹坑通過切削方式或壓鑄成形方式;S2)所述的設(shè)置碗形反射面鍍層通過真空鍍膜方式;S5)共晶焊接采用超聲波或激光焊接方式。
      10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光源模組的制備方法,其特征在于:S5)步驟的焊接溫度控制在295°C _320°C之間,并且所述金屬底板的底面與焊點(diǎn)對(duì)應(yīng)處通過液氮同步致冷,使LED晶體承受260°C以上溫度的時(shí)間小于或等于0.15s,液氮致冷采用在金屬底板反面定量同步點(diǎn)射的方式,所述同步是指與焊接所采用的超聲波或激光同步,定量是指一次點(diǎn)射所使用的液氮量是 確定的,LED晶體承受260°C以上溫度的時(shí)間通過調(diào)節(jié)一次點(diǎn)射所使用的液氮量來調(diào)節(jié)。
      全文摘要
      本發(fā)明涉及光源模組及其制備方法。光源模組包括金屬底板,底板的頂面具有凹坑,凹坑的側(cè)面是碗形反射面,凹坑內(nèi)設(shè)有LED晶體,LED晶體通過AuSn焊層設(shè)置于凹坑底面,還包括離散分布的熒光粉層塊,硅膠層的頂部設(shè)有光學(xué)層。光源模組的制備方法,包括S1),提供金屬底板并加工凹坑及電路層;S2),設(shè)置碗形反射面鍍層;S3),提供AuSn焊片并置于凹坑底面;S4),提供LED晶體并放置于AuSn焊片上;S5),共晶焊接;S6),焊金線;S7),封膠;S8),絲印熒光粉層塊;S9),貼合光學(xué)層。本發(fā)明提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)潔、散熱效果好的光源模組及其制備方法。
      文檔編號(hào)F21S2/00GK103216746SQ20121001896
      公開日2013年7月24日 申請(qǐng)日期2012年1月20日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月20日
      發(fā)明者李金明 申請(qǐng)人:東莞市萬豐納米材料有限公司
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