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      一種用于原位探測(cè)激光加熱反應(yīng)器產(chǎn)物的光電離質(zhì)譜裝置制造方法

      文檔序號(hào):2869957閱讀:194來(lái)源:國(guó)知局
      一種用于原位探測(cè)激光加熱反應(yīng)器產(chǎn)物的光電離質(zhì)譜裝置制造方法
      【專利摘要】本發(fā)明涉及一種激光加熱反應(yīng)器及產(chǎn)物原位探測(cè)的光電離質(zhì)譜裝置。裝置由主腔體、激光器、測(cè)溫儀、進(jìn)樣機(jī)構(gòu)和質(zhì)譜儀組成。將激光加熱、原位超聲分子束取樣和真空紫外光電離質(zhì)譜診斷等技術(shù)結(jié)合,提供了一種新型的適用壓力范圍從真空、大氣壓至高壓的熱化學(xué)反應(yīng)實(shí)驗(yàn)研究技術(shù)。其中,利用功率可調(diào)的激光對(duì)反應(yīng)基底進(jìn)行均勻快速加熱,縮短了樣品反應(yīng)時(shí)間,減少了二次反應(yīng);超聲分子束取樣技術(shù)可以“冷卻”分子,使得不穩(wěn)定的中間體得以生存;真空紫外光電離質(zhì)譜利用真空紫外軟電離技術(shù),避免碎片的產(chǎn)生并實(shí)時(shí)檢測(cè)反應(yīng)產(chǎn)物。
      【專利說(shuō)明】一種用于原位探測(cè)激光加熱反應(yīng)器產(chǎn)物的光電離質(zhì)譜裝置

      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明屬于熱化學(xué)反應(yīng)實(shí)驗(yàn)儀器【技術(shù)領(lǐng)域】,具體涉及的一種用于原位探測(cè)激光加熱反應(yīng)器產(chǎn)物的光電離質(zhì)譜裝置。

      【背景技術(shù)】
      [0002]在熱化學(xué)反應(yīng)過(guò)程中,反應(yīng)物會(huì)產(chǎn)生大量的穩(wěn)定、不穩(wěn)定產(chǎn)物,實(shí)時(shí)、在線獲得這些產(chǎn)物的組成和空間分布,對(duì)研究熱化學(xué)過(guò)程中的詳細(xì)反應(yīng)動(dòng)力學(xué)機(jī)理有重要的意義。
      [0003]熱化學(xué)反應(yīng)在高溫條件下進(jìn)行,需要完備的高溫反應(yīng)裝置和產(chǎn)物探測(cè)裝置。常規(guī)的高溫反應(yīng)器通常將電阻絲作為加熱元件對(duì)反應(yīng)器進(jìn)行加熱,或者直接利用SiC等半導(dǎo)體材料作為反應(yīng)器,利用電阻發(fā)熱提供高溫環(huán)境。然而,電加熱實(shí)驗(yàn)裝置存在一些問(wèn)題,如力口熱效率低、溫度分布不均勻、易污染等。
      [0004]此外,化學(xué)反應(yīng)動(dòng)力學(xué)機(jī)理研究需要準(zhǔn)確的中間反應(yīng)產(chǎn)物結(jié)構(gòu)和濃度等信息,尤其是不穩(wěn)定的自由基。常規(guī)的高溫反應(yīng)裝置中,樣品滯留時(shí)間長(zhǎng)發(fā)生多次碰撞反應(yīng),出口末端溫度梯度大導(dǎo)致自由基易復(fù)合,無(wú)法研究熱化學(xué)反應(yīng)過(guò)程中的單分子反應(yīng)過(guò)程。
      [0005]目前,探測(cè)反應(yīng)產(chǎn)物分子結(jié)構(gòu)的分析手段,主要包括原位光譜診斷法和取樣分析法。原位光譜診斷法對(duì)反應(yīng)體系無(wú)干擾,但只能對(duì)少數(shù)物種進(jìn)行測(cè)量;取樣分析法一般利用毛細(xì)管或取樣錐對(duì)反應(yīng)產(chǎn)物取樣,產(chǎn)物一般由質(zhì)譜(MS)或氣相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用儀(GC-MS)進(jìn)行分析。取樣分析法是目前獲得熱化學(xué)反應(yīng)過(guò)程中絕大多數(shù)中間體信息的唯一方法。但傳統(tǒng)的GC-MS法使用電子轟擊電離源(E1-MS)這一 “硬”電離方式使待測(cè)物離子化,從而產(chǎn)生大量的碎片離子峰,甚至無(wú)法獲得待測(cè)物的分子離子峰,從而對(duì)定性帶來(lái)難度。


      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0006]為了解決傳統(tǒng)熱化學(xué)實(shí)驗(yàn)在研究物質(zhì)熱化學(xué)反應(yīng)過(guò)程中存在的壓力范圍窄、加熱效率低、溫度分布不均勻、滯留時(shí)間長(zhǎng)、二次及多次反應(yīng)多等不足,本發(fā)明提供了一種用于原位探測(cè)激光加熱反應(yīng)器產(chǎn)物的光電離質(zhì)譜裝置。
      [0007]—種用于原位探測(cè)激光加熱反應(yīng)器產(chǎn)物的光電離質(zhì)譜裝置包括主腔體、激光器、測(cè)溫儀31、進(jìn)樣機(jī)構(gòu)和質(zhì)譜儀62 ;
      所述主腔體包括電離室16、反應(yīng)室14、真空直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)11、激光傳輸管12和取樣錐
      15 ;
      所述電離室16和反應(yīng)室14相鄰,二者相鄰的側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有貫通的取樣孔,所述取樣錐15設(shè)于反應(yīng)室14 一側(cè)的取樣孔處。
      [0008]所述激光傳輸管12的上部位于反應(yīng)室14內(nèi),下部位于反應(yīng)室14外部,且下部安裝在真空直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)11上;激光傳輸管12的上端設(shè)有反應(yīng)基底13,反應(yīng)基底13位于取樣錐15的下方;與激光傳輸管12的下端對(duì)應(yīng)的真空直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)11的底部設(shè)有窗片23 ;激光傳輸管12在直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的作用下沿豎直方向移動(dòng),改變反應(yīng)基底13與取樣錐15的距離;與窗片23對(duì)應(yīng)設(shè)反射鏡22,所述激光器21的激光出射口和反射鏡22的反射面對(duì)應(yīng);所述反應(yīng)室14側(cè)壁上設(shè)有電容壓力傳感器41、反應(yīng)室抽氣泵組42和閥門43,反應(yīng)室14側(cè)壁上還開(kāi)設(shè)有測(cè)溫孔,與測(cè)溫孔對(duì)應(yīng)的反應(yīng)室14外部設(shè)有測(cè)溫儀31,測(cè)溫儀31電連接著激光器輸出控制器32,激光器輸出控制器32電連接著激光器21 ;
      所述進(jìn)樣機(jī)構(gòu)包括進(jìn)樣管道54和流量控制器53,所述進(jìn)樣管道54的出口位于反應(yīng)基底13的一側(cè),進(jìn)樣管道54的進(jìn)口連通著流量控制器53的出口 ;所述流量控制器53位于反應(yīng)室14的外部,流量控制器53的進(jìn)口還分別連通著供樣管道51和載氣管道52 ;待分析樣品與載氣經(jīng)過(guò)流量控制器53混合并按設(shè)定的流量通過(guò)進(jìn)樣管道54進(jìn)入反應(yīng)室14的反應(yīng)基底13上;
      所述電離室16的一側(cè)設(shè)有電離壓力傳感器44和電離室抽氣泵組45 ;所述質(zhì)譜儀62設(shè)于電離室16的另一側(cè),質(zhì)譜儀62通過(guò)離子導(dǎo)入器61與電離室16相連,離子導(dǎo)入器61 —端伸入電離室16內(nèi),且位于取樣孔的上方,另一端伸入質(zhì)譜儀62內(nèi)。本發(fā)明的有益技術(shù)效果體現(xiàn)在以下方面:
      1.本發(fā)明利用高功率密度激光對(duì)一定尺寸反應(yīng)基底進(jìn)行加熱,可以使其迅速升至高溫,并保證基底溫度分布均勻。不僅如此,激光光束窄,機(jī)動(dòng)性強(qiáng),可以大大節(jié)約反應(yīng)室空間設(shè)計(jì),簡(jiǎn)化加熱和溫度測(cè)量裝置。最為關(guān)鍵的是,采用激光加熱技術(shù),氣體樣品分子在加熱的基底上的滯留時(shí)間非常短,是單分子反應(yīng)過(guò)程,從而對(duì)研究熱化學(xué)反應(yīng)過(guò)程中的單分子機(jī)理反應(yīng)具有重要意義;
      2.本發(fā)明通過(guò)采用不同開(kāi)孔直徑的取樣錐,有效地隔離了反應(yīng)腔室和探測(cè)腔室,使探測(cè)腔室維持探測(cè)壓力恒定的同時(shí),反應(yīng)腔室的壓力可以在真空至大氣壓甚至高壓范圍內(nèi)極大地調(diào)整;
      3.本發(fā)明采用分子束技術(shù)對(duì)熱化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)物進(jìn)行取樣,并利用真空紫外光電離質(zhì)譜(PIMS)對(duì)產(chǎn)物進(jìn)行實(shí)時(shí)、在線分析。真空紫外光電離是一種“軟”電離方式,它幾乎不產(chǎn)生碎片離子,利于同時(shí)分析多組分體系,不需要色譜分離,從而克服了 E1-MS碎片多、GC分離速度慢的缺點(diǎn),實(shí)現(xiàn)了對(duì)多組分體系的快速、原位在線探測(cè)。真空紫外光電離通常使用真空紫外燈或真空紫外激光以及同步輻射真空紫外光作為電離源,相對(duì)地,同步輻射真空紫外光亮度高、能量分辨高、可調(diào)諧,尤其利于復(fù)雜體系的分析。

      【專利附圖】

      【附圖說(shuō)明】
      [0009]圖1為本發(fā)明實(shí)驗(yàn)裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
      [0010]圖2為激光加熱、超聲分子束取樣、光電離及離子導(dǎo)入過(guò)程示意圖。
      [0011]圖3為利用本發(fā)明裝置獲得的苯的熱分解產(chǎn)物質(zhì)譜圖。
      [0012]圖4為利用本發(fā)明裝置獲得的苯熱分解過(guò)程中苯(Benzene)、丁二炔(Diacetylene)及乙炔(Acetylene)隨溫度變化的摩爾分?jǐn)?shù),以及數(shù)值模擬曲線。
      [0013]上圖中序號(hào):真空紫外光8、離子9、真空直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)11、激光傳輸管12、反應(yīng)基底13、反應(yīng)室14、取樣錐15、電離室16、激光器21、反射鏡22、窗片23、大功率激光24、測(cè)溫儀31、激光器輸出控制器32、電容壓力傳感器41、反應(yīng)室抽氣泵組42、閥門43、電離壓力傳感器44、電離室抽氣泵組45、供樣管道51、載氣管道52、流量控制器53、進(jìn)樣管道54、離子導(dǎo)入器61、質(zhì)譜儀62、反應(yīng)區(qū)域71、超聲分子束72。

      【具體實(shí)施方式】
      [0014]下面結(jié)合附圖,通過(guò)實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步地說(shuō)明。
      [0015]實(shí)施例:
      參見(jiàn)圖1,一種用于原位探測(cè)激光加熱反應(yīng)器產(chǎn)物的光電離質(zhì)譜裝置,包括主腔體、激光器、測(cè)溫儀31、進(jìn)樣機(jī)構(gòu)和質(zhì)譜儀62。
      [0016]主腔體包括電離室16、反應(yīng)室14、真空直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)11、激光傳輸管12和取樣錐15 ;所述電離室16和反應(yīng)室14相鄰,二者相鄰的側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有貫通的取樣孔,所述取樣錐15安裝于反應(yīng)室14 一側(cè)的取樣孔處;取樣錐15材料為石英,頂端開(kāi)孔孔徑為50?500μ m ;
      所述激光傳輸管12的上部位于反應(yīng)室14內(nèi),下部位于反應(yīng)室14外部,且下部安裝在真空直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)11上;激光傳輸管12的上端安裝有反應(yīng)基底13,反應(yīng)基底13位于取樣錐15的下方;與激光傳輸管12的下端對(duì)應(yīng)的真空直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)11的底部安裝有窗片23 ;激光傳輸管12在真空直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)11的作用下沿豎直方向移動(dòng),改變反應(yīng)基底13與取樣錐15的距離。
      [0017]反應(yīng)基底13由上陶瓷片和下陶瓷片組成,所述下陶瓷片的材料為光吸收率、熱傳導(dǎo)速率均較高的材料,包括碳化硅、氮化鋁、石墨等;所述上陶瓷片的材料為反應(yīng)惰性的陶瓷材料,包括α -氧化鋁、石英等;激光傳輸管12下端安裝在真空直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)11上;與窗片23對(duì)應(yīng)設(shè)反射鏡22,所述激光器21的激光出射口和反射鏡22的反射面對(duì)應(yīng);反應(yīng)室14側(cè)壁上還開(kāi)設(shè)有測(cè)溫孔,與測(cè)溫孔對(duì)應(yīng)的反應(yīng)室14外部設(shè)有測(cè)溫儀31,測(cè)溫儀31電連接著激光器輸出控制器32,激光器輸出控制器32電連接著激光器21 ;
      測(cè)溫儀31實(shí)施測(cè)量反應(yīng)基底13上部反應(yīng)面的溫度,并反饋給激光器輸出控制器32,后者根據(jù)實(shí)際溫度與設(shè)定溫度的關(guān)系,改變激光器21的輸出頻率和占空比,調(diào)節(jié)輸出功率,將反應(yīng)基底13的溫度穩(wěn)定在設(shè)定溫度;
      所述進(jìn)樣機(jī)構(gòu)包括供樣管道51、載氣管道52、流量控制器53和進(jìn)樣管道54。所述進(jìn)樣管道54的出口位于反應(yīng)基底13的一側(cè),進(jìn)樣管道54的進(jìn)口連通著流量控制器53的出口 ;所述流量控制器53位于反應(yīng)室14的外部,流量控制器53的進(jìn)口還分別連通著供樣管道51和載氣管道52 ;待分析樣品與載氣經(jīng)過(guò)流量控制器53混合并按設(shè)定的流量通過(guò)進(jìn)樣管道54進(jìn)入反應(yīng)室14的反應(yīng)基底13上。
      [0018]所述反應(yīng)室14側(cè)壁上設(shè)有電容壓力傳感器41、反應(yīng)室抽氣泵組42和閥門43 ;所述電離室16的一側(cè)設(shè)有電離壓力傳感器44和電離室抽氣泵組45 ;電容壓力傳感器41實(shí)時(shí)測(cè)量反應(yīng)室14,并將壓力信號(hào)反饋給閥門43并根據(jù)實(shí)時(shí)壓力與設(shè)定壓力的關(guān)系,改變其打開(kāi)程度、改變抽氣管道流導(dǎo)和有效抽氣速率,控制反應(yīng)室14壓力穩(wěn)定在設(shè)定壓力;反應(yīng)室抽氣泵組42為旋片式真空泵組或干泵等其他真空泵組;電離室抽氣泵組44為分子泵機(jī)組;在實(shí)驗(yàn)過(guò)程中,所述反應(yīng)室14的壓力為200 Pa?2 bar。
      [0019]所述質(zhì)譜儀62設(shè)于電離室16的另一側(cè),質(zhì)譜儀62通過(guò)離子導(dǎo)入器61與電離室16相連,離子導(dǎo)入器61 —端伸入電離室16內(nèi),且位于取樣孔的上方,另一端伸入質(zhì)譜儀62內(nèi);所述質(zhì)譜儀62為飛行時(shí)間質(zhì)譜儀、離子阱質(zhì)譜儀或四極桿質(zhì)譜儀等;
      圖2示意性地說(shuō)明了激光加熱、超聲分子束取樣、光電離及離子導(dǎo)入過(guò)程。激光器21發(fā)出的大功率激光24通過(guò)反射鏡22和窗片23進(jìn)入激光傳輸管12,照射在反應(yīng)基底13下面使其快速升溫;同時(shí),樣品通過(guò)進(jìn)樣管道54輸送到加熱的反應(yīng)基底13上,在反應(yīng)區(qū)域71中發(fā)生熱化學(xué)反應(yīng);
      反應(yīng)基底13的高度由其連接的真空直線驅(qū)動(dòng)器11調(diào)節(jié);不同高度的反應(yīng)產(chǎn)物由取樣錐15取樣形成超聲分子束72,進(jìn)入到電離室16中;超聲分子束72隨后被垂直方向引入的真空紫外光8電離,生成的離子9被離子導(dǎo)入器61引入到質(zhì)譜儀62中進(jìn)行分析。
      [0020]在本實(shí)例中,待分析樣品為苯;反應(yīng)基底13的溫度范圍從室溫到1823 K,反應(yīng)室14的壓力控制在6 kPa,電離室16的壓力為10_2 Pa量級(jí);反應(yīng)基底13與取樣錐15的距離為I mm ;真空紫外光8采用同步輻射真空紫外光,其與本裝置之間安裝了單色儀等引入裝置,真空紫外光能量分別為9.5 eVUl.27 6¥和11.70 eV。
      [0021]圖3給出了苯在不同溫度時(shí)熱分解產(chǎn)物在不同真空紫外光能量下的質(zhì)譜圖。其中,圖3 (a)是反應(yīng)基底13溫度為1823 K條件下,同步輻射光子能量為9.5 eVUl.27 eV和11.70 eV時(shí)獲得的質(zhì)譜圖。在本實(shí)例中,隨著真空紫外光能量增加,電離能不同的苯、丁二炔和乙炔依次被電離。圖3 (b)是反應(yīng)基底13不同溫度條件下,真空紫外光子能量在
      11.70 eV時(shí)獲得的質(zhì)譜圖,該圖顯示了苯熱分解產(chǎn)物隨溫度變化的趨勢(shì)。
      [0022]圖4給出了苯熱分解過(guò)程中苯(Benzene)、丁二炔(Diacetylene)及乙炔(Acetylene)隨溫度變化的摩爾分?jǐn)?shù)及數(shù)值模擬曲線。在實(shí)驗(yàn)和理論上驗(yàn)證了苯(Benzene)—苯炔(Benzyne) — 丁二炔(Diacetylene) +乙炔(Acetylene)的分解路徑。證實(shí)了本發(fā)明裝置對(duì)研究熱分解過(guò)程單分子機(jī)理反應(yīng)的重要作用。
      【權(quán)利要求】
      1.一種用于原位探測(cè)激光加熱反應(yīng)器產(chǎn)物的光電離質(zhì)譜裝置,其特征在于:包括主腔體、激光器、測(cè)溫儀、進(jìn)樣機(jī)構(gòu)和質(zhì)譜儀; 所述主腔體包括電離室(16)、反應(yīng)室(14)、真空直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(11)、激光傳輸管(12)和取樣錐(15); 所述電離室(16)和反應(yīng)室(14)相鄰,二者相鄰的側(cè)壁上開(kāi)設(shè)有貫通的取樣孔,所述取樣錐(15 )設(shè)于反應(yīng)室(14 ) 一側(cè)的取樣孔處; 所述激光傳輸管(12)的上部位于反應(yīng)室(14)內(nèi),下部位于反應(yīng)室(14)外部,且下部安裝在真空直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(11)上;激光傳輸管(12)的上端設(shè)有反應(yīng)基底(13),反應(yīng)基底(13)位于取樣錐(15)的下方;與激光傳輸管(12)的下端對(duì)應(yīng)的真空直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(11)的底部設(shè)有窗片(23);激光傳輸管(12)在直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的作用下沿豎直方向移動(dòng),改變反應(yīng)基底(13)與取樣錐(15)的距離;與窗片(23)對(duì)應(yīng)設(shè)反射鏡(22),所述激光器(21)的激光出射口和反射鏡(22)的反射面對(duì)應(yīng);所述反應(yīng)室(14)側(cè)壁上設(shè)有電容壓力傳感器(41)、反應(yīng)室抽氣泵組(42)和閥門(43),反應(yīng)室(14)側(cè)壁上還開(kāi)設(shè)有測(cè)溫孔,與測(cè)溫孔對(duì)應(yīng)的反應(yīng)室(14 )外部設(shè)有測(cè)溫儀(31 ),測(cè)溫儀(31)電連接著激光器輸出控制器(32 ),激光器輸出控制器(32)電連接著激光器(21); 所述進(jìn)樣機(jī)構(gòu)包括進(jìn)樣管道(54)和流量控制器(53 ),所述進(jìn)樣管道(54)的出口位于反應(yīng)基底(13)的一側(cè),進(jìn)樣管道(54)的進(jìn)口連通著流量控制器(53)的出口 ;所述流量控制器(53)位于反應(yīng)室(14)的外部,流量控制器(53)的進(jìn)口還分別連通著供樣管道(51)和載氣管道(52);待分析樣品與載氣經(jīng)過(guò)流量控制器(53)混合并按設(shè)定的流量通過(guò)進(jìn)樣管道(54)進(jìn)入反應(yīng)室(14)的反應(yīng)基底(13)上; 所述電離室(16)的一側(cè)設(shè)有電離壓力傳感器(44)和電離室抽氣泵組(45);所述質(zhì)譜儀(62)設(shè)于電離室(16)的另一側(cè),質(zhì)譜儀(62)通過(guò)離子導(dǎo)入器(61)與電離室(16)相連,離子導(dǎo)入器(61) —端伸入電離室(16)內(nèi),且位于取樣孔的上方,另一端伸入質(zhì)譜儀(62)內(nèi)。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于原位探測(cè)激光加熱反應(yīng)器產(chǎn)物的光電離質(zhì)譜裝置,其特征在于:反應(yīng)基底(13)由上陶瓷片和下陶瓷片組成,所述下陶瓷片的材料為光吸收率、熱傳導(dǎo)速率均較高的材料,包括但不限于碳化硅、氮化鋁、石墨;所述上陶瓷片的材料為反應(yīng)惰性的陶瓷材料,包括但不限于α -氧化鋁、石英。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于原位探測(cè)激光加熱反應(yīng)器產(chǎn)物的光電離質(zhì)譜裝置,其特征在于:所述流量控制器(53)為氣體流量控制器或液體流量控制器。
      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于原位探測(cè)激光加熱反應(yīng)器產(chǎn)物的光電離質(zhì)譜裝置,其特征在于:所述反應(yīng)室(14)的壓力為200 Pa?2 bar,覆蓋從真空到大氣壓及高壓范圍,所述反應(yīng)室抽氣泵組(42)為旋片式真空泵組或干泵等其他真空泵組。
      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于原位探測(cè)激光加熱反應(yīng)器產(chǎn)物的光電離質(zhì)譜裝置,其特征在于:所述電離室(16)的壓力為10_2Pa量級(jí),所述電離室抽氣泵組(45)為分子泵機(jī)組。
      6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于原位探測(cè)激光加熱反應(yīng)器產(chǎn)物的光電離質(zhì)譜裝置,其特征在于:取樣錐(15)尖端的取樣孔孔徑為50?500 μ m,材料為石英。
      7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于原位探測(cè)激光加熱反應(yīng)器產(chǎn)物的光電離質(zhì)譜裝置,其特征在于:所述電離室(16)還設(shè)有真空紫外光連接口,引入真空紫外光(8),真空紫外光電離經(jīng)取樣錐(15)取樣的反應(yīng)產(chǎn)物;真空紫外光(8)包括但不限于放電燈、激光、同步輻射光。
      8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于原位探測(cè)激光加熱反應(yīng)器產(chǎn)物的光電離質(zhì)譜裝置,其特征在于:所述離子導(dǎo)入器(61)包含數(shù)片中心通孔的電極板,將離子從電離室(16)引入到質(zhì)譜儀(62)中。
      9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于原位探測(cè)激光加熱反應(yīng)器產(chǎn)物的光電離質(zhì)譜裝置,其特征在于:所述質(zhì)譜儀(62)為飛行時(shí)間質(zhì)譜儀、離子阱質(zhì)譜儀或四極桿質(zhì)譜儀等。
      【文檔編號(hào)】H01J49/02GK104241074SQ201410488996
      【公開(kāi)日】2014年12月24日 申請(qǐng)日期:2014年9月23日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月23日
      【發(fā)明者】楊玖重, 李玉陽(yáng), 周忠岳, 齊飛, 潘洋 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)
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