多功能u型磨砂擴(kuò)散板的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種多功能U型磨砂擴(kuò)散板，包括：擴(kuò)散板、擴(kuò)散條和U型凹槽，所述擴(kuò)散條的截面為梯形結(jié)構(gòu)，所述擴(kuò)散條設(shè)置于所述擴(kuò)散板的頂面和底面上，所述U型凹槽設(shè)置于所述擴(kuò)散板內(nèi)，且所述U型凹槽的開口處分別與所述擴(kuò)散板的頂面和底面處在同一水平面內(nèi)，相鄰的兩個所述擴(kuò)散條間設(shè)置有一個所述U型凹槽。通過上述方式，本發(fā)明多功能U型磨砂擴(kuò)散板，通過多個擴(kuò)散設(shè)備對光線進(jìn)行反射和折射，提高了對光線的利用率，而且可以讓光線發(fā)散的更加均勻。
【專利說明】多功能0型磨砂擴(kuò)散板
[0001]

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0002]本發(fā)明涉及照明裝置領(lǐng)域，特別是涉及一種多功能V型磨砂擴(kuò)散板。

【背景技術(shù)】
[0003]光擴(kuò)散板是通過化學(xué)或物理的手段，利用光線在行徑途中遇到兩個折射率相異的介質(zhì)時，發(fā)生折射、反射與散射的物理想象的裝置。
[0004]但是現(xiàn)在市場上的光擴(kuò)散板還有很多的問題，他們對光線的利用率比較低，大量的光線會被浪費(fèi)掉，而且經(jīng)過擴(kuò)散后的光線不均勻，比較刺眼，不方便人們的使用，所以人們需要更加滿足要求的光擴(kuò)散板。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種多功能V型槽擴(kuò)散板，具有可靠性高、效果好、利用率高等優(yōu)點(diǎn)，同時在照明裝置的應(yīng)用及普及上有著廣泛的市場前景。
[0006]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的一個技術(shù)方案是:
提供一種多功能V型磨砂擴(kuò)散板，其包括:擴(kuò)散板、擴(kuò)散條和[型凹槽，所述擴(kuò)散條的截面為梯形結(jié)構(gòu)，所述擴(kuò)散條設(shè)置于所述擴(kuò)散板的頂面和底面上，所述V型凹槽設(shè)置于所述擴(kuò)散板內(nèi)，且所述I型凹槽的開口處分別與所述擴(kuò)散板的頂面和底面處在同一水平面內(nèi)，相鄰的兩個所述擴(kuò)散條間設(shè)置有一個所述I型凹槽。
[0007]在本發(fā)明一個較佳實(shí)施例中，所述擴(kuò)散條周圍的所有擴(kuò)散板的頂面均為磨砂面。
[0008]在本發(fā)明一個較佳實(shí)施例中，所述擴(kuò)散條周圍的所有擴(kuò)散板的底面均為磨砂面。
[0009]在本發(fā)明一個較佳實(shí)施例中，所述擴(kuò)散板的四個側(cè)面均為光面。
[0010]在本發(fā)明一個較佳實(shí)施例中，所述擴(kuò)散條的高度大于所述I型凹槽的高度。
[0011]本發(fā)明的有益效果是:通過多個擴(kuò)散設(shè)備對光線進(jìn)行反射和折射，提高了對光線的利用率，而且可以讓光線發(fā)散的更加均勻。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0012]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖，其中:
圖1是本發(fā)明的多功能I型磨砂擴(kuò)散板一較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
附圖中各部件的標(biāo)記如下:1、擴(kuò)散板，2、擴(kuò)散條，3』型凹槽。

【具體實(shí)施方式】
[0013]下面將對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅是本發(fā)明的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0014]請參閱圖1，本發(fā)明實(shí)施例包括:
一種多功能V型磨砂擴(kuò)散板，其包括:擴(kuò)散板1、擴(kuò)散條2和I型凹槽3，所述擴(kuò)散條2的截面為梯形結(jié)構(gòu)，所述擴(kuò)散條2設(shè)置于所述擴(kuò)散板1的頂面和底面上，所述[型凹槽3設(shè)置于所述擴(kuò)散板1內(nèi)，且所述I型凹槽3的開口處分別與所述擴(kuò)散板1的頂面和底面處在同一水平面內(nèi)，相鄰的兩個所述擴(kuò)散條2間設(shè)置有一個所述V型凹槽3。
[0015]所述擴(kuò)散條2周圍的所有擴(kuò)散板1的頂面均為磨砂面。
[0016]所述擴(kuò)散條2周圍的所有擴(kuò)散板1的底面均為磨砂面。
[0017]磨砂面可以對進(jìn)入擴(kuò)散板的管線進(jìn)行散射，防止光線直接穿過所述擴(kuò)散板，增加光線的利用率。
[0018]所述擴(kuò)散板1的四個側(cè)面均為光面。
[0019]所述擴(kuò)散條2的高度大于所述V型凹槽3的高度，這樣經(jīng)過所述I型凹槽3散射出來的光線可以直接投射到所述擴(kuò)散條2上，方便再散射。
[0020]本發(fā)明多功能V型磨砂擴(kuò)散板的有益效果是:通過多個擴(kuò)散設(shè)備對光線進(jìn)行反射和折射，提高了對光線的利用率，而且可以讓光線發(fā)散的更加均勻。
[0021]以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其它相關(guān)的【技術(shù)領(lǐng)域】，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種多功能U型磨砂擴(kuò)散板，其特征在于，包括:擴(kuò)散板、擴(kuò)散條和U型凹槽，所述擴(kuò)散條的截面為梯形結(jié)構(gòu)，所述擴(kuò)散條設(shè)置于所述擴(kuò)散板的頂面和底面上，所述U型凹槽設(shè)置于所述擴(kuò)散板內(nèi)，且所述U型凹槽的開口處分別與所述擴(kuò)散板的頂面和底面處在同一水平面內(nèi)，相鄰的兩個所述擴(kuò)散條間設(shè)置有一個所述U型凹槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多功能U型磨砂擴(kuò)散板，其特征在于，所述擴(kuò)散條周圍的所有擴(kuò)散板的頂面均為磨砂面。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的多功能U型磨砂擴(kuò)散板，其特征在于，所述擴(kuò)散條周圍的所有擴(kuò)散板的底面均為磨砂面。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的多功能U型磨砂擴(kuò)散板，其特征在于，所述擴(kuò)散板的四個側(cè)面均為光面。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多功能U型磨砂擴(kuò)散板，其特征在于，所述擴(kuò)散條的高度大于所述U型凹槽的高度。
【文檔編號】F21V5/08GK104483726SQ201410667315
【公開日】2015年4月1日 申請日期:2014年11月21日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月21日
【發(fā)明者】蔣瑛倩 申請人:常州展華機(jī)器人有限公司