專利名稱：電子管的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及具有蔭罩的電子管的制造方法，該電子管應(yīng)用于電視機或計算機。
已往，已知的電子管制造方法有特開平59-94325號公報所述的方法。圖1示出電視機或計算機用電子管的結(jié)構(gòu)。1為蔭罩，1a為電子槍側(cè)的蔭罩面，2為電子槍，3為熒光面，4為電子束，5為電子管。金屬材料制作的蔭罩具有大量開孔，設(shè)計成與熒光層一一對應(yīng)。一旦電子管工作時，電子槍發(fā)射的電子束就通過電子束通孔轟擊熒光面，映出所需圖像。
然而，大部分電子不能通過開孔而轟擊蔭罩，由此，電子動能以熱能傳遞給蔭罩，其結(jié)果將蔭罩加熱到70℃以上的溫度。蔭罩隨所述溫度的上升而熱膨脹，設(shè)于蔭罩的開孔部與熒光面的位置關(guān)系發(fā)生偏差，其弊端是產(chǎn)生色差和輝度下降。這種因電子束轟擊使蔭罩熱膨脹而產(chǎn)生的弊端現(xiàn)象稱為“拱起現(xiàn)象”。
為消除上述弊端，已往的方式是，采用含有原子序數(shù)大于等于70的元素的涂料，特別是反射電子效果(下面，稱為“電子反射效應(yīng)”)大的氧化鉍粉末等最為臺適，將其涂敷于蔭罩的電子槍側(cè)的表面1a，形成電子束反射膜。就電子反射效應(yīng)而言，已經(jīng)知道，原子序數(shù)越大的元素，其效果越好，通過將這種效果大的氧化鉍粉末等涂料涂敷于電子槍側(cè)的蔭罩面1a，就能反射要轟擊蔭罩的電子束。作為這種電子束反射膜的形成方法，一般采用噴涂法，為了防止噴嘴和管道內(nèi)產(chǎn)生淀積，采用輸液能力強的磁泵將電子束反射膜用涂料供給噴嘴，一邊使噴嘴掃描一邊對蔭罩進行涂敷。這樣一來，由于在電子槍側(cè)的蔭罩面形成電子束反射膜，故能防止蔭罩溫度上升，從而能消除因“拱起”產(chǎn)生色差等弊端。
另外，關(guān)于表面涂層，涂敷含有SiO2和ITO的表面涂敷用涂料，利用它們不同的折射率和導(dǎo)電性，能獲得低反射功能和防止帶電功能。涂敷方法有噴涂法和旋涂法，但噴涂法難以獲得致密均勻的涂膜，故一般采用旋涂法。
但是，已往的電子束反射膜用涂料用球磨機等加以旋轉(zhuǎn)分散進行制作，這種方法制作的涂料分散處理后易引起二次凝聚，其結(jié)果引起淀積或涂敷裝置內(nèi)的堵塞等，使噴嘴的噴出量不穩(wěn)定，存在的問題是難以形成細密均勻的電子束反射膜。另外，作為其它分散法，可列舉出混砂機等，但采用這種媒體的分散機的問題是，在分散中會削去媒體本身，從而混入材料之中，同時會破壞材料的形狀，產(chǎn)生新的界面，從而使涂料的分散形狀不穩(wěn)定。
而且，已有技術(shù)的電子束-反射膜用涂料平均粒徑大，粒度分布極不穩(wěn)定，為了形成被覆率高的電子束反射膜，按照特開昭59-94325號公報的記載，需要涂敷大量的涂敷重量大于等于0.2mg/cm2的涂敷，其結(jié)果在電子管作成后產(chǎn)生的問題是，在電子管內(nèi)會發(fā)生電子束反射膜從蔭罩表面剝離，電子管內(nèi)發(fā)生污染，從而使圖像質(zhì)量下降。
對于已往的利用噴涂法產(chǎn)生電子束反射膜的涂敷方法，可用輸液能力高的磁泵等對電子束反射膜用涂料加以循環(huán)并供給噴嘴，但在該方法中，其問題是，泵噴出壓力的變化會影響噴嘴的噴出狀態(tài)，其結(jié)果噴出量的變化易引起涂敷不均勻等，從而難以形成致密均勻的電子束反射膜。而且，在涂敷電子束反射膜時，供給噴嘴的涂料供給壓力會隨噴嘴的噴出量也隨之變化，與上述一樣，出現(xiàn)的問題是，易引起涂敷不均勻等，難以形成致密均勻的電子束反射膜。
在利用噴涂法向玻璃面板表面涂敷表面涂層用涂料中，為了具有低反射功能和防止帶電功能，必須要有更致密的涂敷，但已有技術(shù)噴涂法的方法易于發(fā)生涂敷不均勻等，故難以充分實現(xiàn)具有上述功能的表面涂層。而若用旋涂法涂敷表面涂層用涂料時，問題是涂敷效率低且費用高。
本發(fā)明的目的在于通過形成致密均勻的電子束反射膜抑制“拱起”來提高圖像質(zhì)量，提供良好的電子管制造方法。本發(fā)明目的還在于利用涂敷效率高化費低的噴涂法形成致密均勻的表面涂覆膜，提供良好的電子管制造方法。
本發(fā)明如權(quán)利要求1所述的發(fā)明，是一種涂料，其特征在于，將氧化鉍分散，氧化鉍粒子的平均粒徑D50在0.6μm以下，且粒度分布形狀在D40至D60間的粒子的體積分布占整體的20％以上，由于鉍粒子的粒徑?jīng)]有偏差，故即使涂敷重量小也能形成致密被覆率高的電子束反射膜。
本發(fā)明如權(quán)利要求2所述的發(fā)明，是一種涂料，其特征在于，將水作為溶媒(溶劑)分散氧化鉍，氧化鉍粒子的平均粒徑D50在0.6μm以下，且粒度分布形狀在D40至D60之間的粒子的體積分布占整個的20％以上，與上述一樣，即使涂敷重量小也能形成致密被覆率高的電子束反射膜。
本發(fā)明如權(quán)利要求3所述的發(fā)明，是一種涂料，其特征在于，以水為溶媒并以水玻璃為粘合劑分散氧化鉍，氧化鉍粒子的平均粒徑D50在0.6μm以下，且粒度分布形狀在D40至D60之間的粒子的體積分布占整個的20％以上，與上述一樣，即使涂敷重量小也能形成致密被覆率高的電子束反射膜。
本發(fā)明如權(quán)利要求4所述的發(fā)明，是一種涂料，其特征在于，取乙醇或甲醇為溶媒分散氧化鉍，氧化鉍粒子的平均粒徑D50在0.6μm以下，且粒度分布形狀在D40至D60之間的粒子的體積分布占整個的20％以上，與上述一樣，即使涂敷重量小也能形成致密被覆率高的電子束反射膜。
本發(fā)明如權(quán)利要求5所述的發(fā)明，是一種涂料，其特征在于，取乙醇或甲醇為溶媒并取二氧化硅的醇化物為粘合劑分散氧化鉍，氧化鉍粒子的平均粒徑D50在0.6μm以下，且粒度分布形狀在D40至D60之間的粒子的體積分布占整個的20％以上，與上述一樣，即使涂敷重量小也能形成致密被覆率高的電子束反射膜。
本發(fā)明如權(quán)利要求6所述的發(fā)明，是一種涂料，是一種如權(quán)利要求1至5任一權(quán)利要求所述的的涂料，其特征在于，固體比率在20％以下，不會發(fā)生孔眼堵塞或液體滴流，能形成致密被覆率高的電子束反射膜。
本發(fā)明如權(quán)利要求7所述的發(fā)明，是一種電子管，其特征在于，蔭罩的電子束照射面涂敷有如權(quán)利要求1至6任一權(quán)利要求所述的涂料，即使涂敷重量小也能形成致密被覆率高的電子束反射膜，對“拱起現(xiàn)象”具有足夠的抑制效果，從而提供良好的圖像質(zhì)量(以下稱為“畫質(zhì)”)。
本發(fā)明如權(quán)利要求8所述的發(fā)明，是一種電子管，其特征在于，蔭罩的電子束照射面涂敷有如權(quán)利要求1至6任一權(quán)利要求所述的涂料，且涂敷重量小于0.2mg/cm2，即使涂敷重量小也能形成致密被覆率高的電子束反射膜，對“拱起現(xiàn)象”具有足夠的抑制效果，從而提供良好的圖像質(zhì)量。
本發(fā)明如權(quán)利要求9所述的發(fā)明，是一種電子管，其特征在于，蔭罩的電子束照射面涂敷有如權(quán)利要求1至6任一權(quán)利要求所述的涂料，且所述電子束反射膜的被覆率在40％以上，即使涂敷重量小也能形成致密被覆率高的電子束反射膜，對“拱起現(xiàn)象”具有足夠的抑制效果，從而提供良好的圖像質(zhì)量。
本發(fā)明如權(quán)利要求10所述的發(fā)明，是一種電子管，其特征在于，用線速度30m/s以上的攪拌機分散處理上述任一權(quán)利要求所述的涂料，并涂敷于蔭罩的電子束照射，即使涂敷重量小也能形成致密被覆率高的電子束反射膜，對“拱起現(xiàn)象”具有足夠的抑制效果，從而提供良好的圖像質(zhì)量。
本發(fā)明如權(quán)利要求11所述的發(fā)明，是一種涂敷方法，采用帶有噴嘴的涂敷裝置，其特征在于，所述噴嘴相對配置于被涂敷對面，利用使所述噴嘴掃描進行涂敷，驅(qū)動壓電元件，利用其振動向所述噴嘴提供涂料進行涂敷，由于利用所述壓電元件的精密細微的振動將涂料供給所述噴嘴，故能抑制噴出的脈動實現(xiàn)平穩(wěn)的涂敷。
本發(fā)明如權(quán)利要求12所述的發(fā)明，是一種涂敷方法，采用帶有噴嘴的涂敷裝置，其特征在于，所述噴嘴相對配置于被涂敷對面，利用使所述噴嘴掃描進行涂敷，用20Hz以上的頻率驅(qū)動壓電元件，向所述噴嘴供給涂料，由于利用所述壓電元件的高頻振動能抑制涂料供給壓力的變動，故能從所述噴嘴平穩(wěn)地噴出。
本發(fā)明如權(quán)利要求13所述的發(fā)明，是一種涂敷方法，采用帶有噴嘴的涂敷裝置，其特征在于，所述噴嘴相對配置于被涂敷對面，利用使所述噴嘴掃描進行涂敷，改變所述噴嘴的傾斜，使涂料貯藏部中液面與所述噴嘴中心的高低差保持不變進行涂敷，在進行大面積涂敷時，由于保持所述噴嘴中心與涂料貯藏部液面的高低差不變進行涂敷，使供給所述噴嘴的涂料供給壓力不變，從而可進行涂敷重量偏差小的平穩(wěn)噴出。
本發(fā)明如權(quán)利要求14所述的發(fā)明，是一種涂敷方法，采用帶有噴嘴的涂敷裝置，其特征在于，所述噴嘴相對配置于被涂敷對面，利用使所述噴嘴掃描進行涂敷，利用壓電元件的致密細微的振動將涂料供給所述噴嘴，改變所述噴嘴的傾斜使涂料貯藏部中液面與所述噴嘴中心的高低保持不變進行涂敷，利用壓電元件產(chǎn)生的精密涂料供給能穩(wěn)定噴嘴的涂料噴出量，在進行大面積涂敷時，由于保持所述噴嘴中心與涂料貯藏部液面的高低差不變進行涂敷，故所述噴嘴的涂料供給壓力不變，從而可進行涂敷重量偏差小的平穩(wěn)噴出。
本發(fā)明如權(quán)利要求15所述的發(fā)明，是一種涂敷方法，采用帶有噴嘴的涂敷裝置，其特征在于，所述噴嘴相對配置于被涂敷對面，利用使所述噴嘴掃描進行涂敷，壓電泵與噴嘴中心處于同一高度并成為一體，使兩者位置關(guān)系不變進行掃描，利用壓電元件的振動向所述噴嘴提供涂料，改變噴嘴的傾斜使涂料貯藏部中液面與所述噴嘴中心及壓電泵的高低差保持不變進行涂敷，故能抑制因噴嘴與壓電泵的距離和位置關(guān)系變化引起的涂料供給壓力變動，向噴嘴精密提供涂料，從而實現(xiàn)穩(wěn)定的涂料噴出量。
本發(fā)明如權(quán)利要求16所述的發(fā)明，是一種涂敷方法，采用帶有噴嘴的涂敷裝置，其特征在于，所述噴嘴相對配置于被涂敷對面，利用使所述噴嘴掃描進行涂敷，僅在被涂敷對面的平行的水平方向上使所述噴嘴掃描，改變噴嘴的傾斜使涂料貯藏部中液面與噴嘴中心的高低差保持不變，或利用壓電泵向噴嘴提供涂料改變噴嘴傾斜涂料貯藏部中液面與噴嘴中心的高低差保持不變，或使壓電泵與噴嘴中心為同一高度并作成一體、保持兩者位置關(guān)系不變進行掃描，一邊利用壓電泵將涂料供給噴嘴，一邊改變噴嘴傾斜使涂料貯藏部中液面與噴嘴中心的高低差保持不變進行涂敷，能向噴嘴精密提供涂料，通過抑制由于噴嘴上下運動引起的涂料供給壓力變動而能穩(wěn)定涂料噴出量，從而能實現(xiàn)精密涂敷。
本發(fā)明如權(quán)利要求17所述的發(fā)明，是一種涂敷方法，采用帶有噴嘴的涂敷裝置，其特征在于，所述噴嘴相對配置于被涂敷對面，利用使所述噴嘴掃描進行涂敷，在涂料的循環(huán)路徑中設(shè)有精密閥，利用其開度控制向噴嘴的涂料供給壓力，用20Hz以上的頻率驅(qū)動壓電元件將涂料供給所述噴嘴，或僅在被涂敷對面平行的水平方向使所述噴嘴掃描，改變噴嘴的傾斜使涂料貯藏部中液面與噴嘴中心的高低差保持不變，或利用壓電泵將涂料供給噴嘴，改變噴嘴的傾斜使涂料貯域部中液面與噴嘴中心的高低差保持不變，或使壓電泵與噴嘴中心取同一高度，并作成一體，保持兩者位置關(guān)系不變進行掃描，一邊利用壓電泵將涂料供給噴嘴，一邊改變噴嘴的傾斜使涂料貯藏部中液面與噴嘴中心的高低差保持不變進行涂敷，這樣不受泵的流量特性等影響，能對涂料供給壓力進行精密的控制，實現(xiàn)穩(wěn)定的噴出，從而實現(xiàn)精密涂敷。
本發(fā)明如權(quán)利要求18所述的發(fā)明，是一種涂敷方法，其特征在于，按照權(quán)利要求11至17的任一權(quán)利要求所述的內(nèi)容將噴嘴限定為噴涂噴嘴進行涂敷，通過對噴涂噴嘴進行精密供給涂料的控制和抑制涂料供給壓力的變化，從而能實現(xiàn)利用噴涂法的精密涂敷。
本發(fā)明如權(quán)利要求19所述的發(fā)明，是一種制造電子管的電子管制造方法，其特征在于，按照權(quán)利要求11至18任一權(quán)利要求所述的內(nèi)容將電子束反射膜用涂料涂敷于蔭罩，通過對噴嘴精密供給涂料和抑制涂料供給壓力變動，能夠形成細密均勻的電子束反射膜，從而獲得良好的圖像質(zhì)量。
本發(fā)明如權(quán)利要求20所述的發(fā)明，是一種制造電子管的電子管制造方法，其特征在于，按照權(quán)利要求11至18任一權(quán)利要求所述的內(nèi)容將表面涂層用涂料涂敷于電子管的玻屏表面，通過對噴嘴精密供給涂料和抑制涂料供給壓力變動，能實現(xiàn)致密均勻的涂敷，從而使表面涂敷覆膜具有強的低反射功能或防止帶電功能。
附圖概述圖1為已有技術(shù)例電子管結(jié)構(gòu)的剖面圖；圖2為本發(fā)明實施形態(tài)2中分散處理機的結(jié)構(gòu)圖；圖3為本發(fā)明實施形態(tài)2中涂敷離心力分散處理、混砂機分散處理、及未處理的涂料時不同處理法和被覆率的關(guān)系圖；圖4為本發(fā)明實施形態(tài)4中壓電泵的結(jié)構(gòu)圖；圖5為本發(fā)明實施形態(tài)4中噴霧涂敷裝置的結(jié)構(gòu)圖；圖6為本發(fā)明實施形態(tài)4中涂敷狀態(tài)相對于涂敷方向的關(guān)系圖；圖7為本發(fā)明實施形態(tài)4中利用精密閥的涂料供給壓力控制系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖；圖8表示本發(fā)明實施形態(tài)5中保持涂料液面與噴嘴的高低差不變而使噴嘴角度變化的涂敷方法；圖9為本發(fā)明實施形態(tài)5中泵與噴嘴一體化后的涂敷系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖。
(實施形態(tài)1)在本實施例中將含有氧化鉍、水玻璃和水的涂料進行分散處理制成電子束反射膜用涂料。表1顯示將鉍粒子的平均粒徑D50為0.4μm、D40～D60的體積分布不同的涂料涂敷于蔭罩的電子束照射面時，“拱起”抑制效果的評價結(jié)果。
表1
×拱起不良；××孔堵塞不良利用蔭罩產(chǎn)生熱膨脹前后的電子束移動量來評價拱起抑制效果。熱膨脹越大電子束移動量越大，作為判別基準(zhǔn)，若電子束移動量小于60μm，則認(rèn)為對畫質(zhì)的不利影響很小，具有良好的拱起抑制效果。從表1可見，采用D40～D60的體積分布大于等于20％的涂料且涂敷重量大于等于0.1mg/cm2，蔭罩孔不會堵塞，能獲得良好的拱起抑制結(jié)果。與此相反，采用D40～D60的體積分布小于20％的涂料，由于涂料所含鉍粒子的粒徑不均勻，故不能形成致密被覆率高的涂膜，在0.2mg/cm2以下會產(chǎn)生不良的拱起。因此，若要獲得更高的拱起抑制效果，則涂敷0.2mg/cm2以上的涂敷重量，但會產(chǎn)生不良的蔭罩孔堵塞。
從上述可見，在涂敷D40～D60體積分布在20％以上的涂料情況下，由于能形成致密被覆率高的電子束反射膜，故能以小涂敷重量獲得好的拱起抑制效果，其結(jié)果不會發(fā)生膜的自然剝離而能獲得良好的畫質(zhì)。
在高清晰度和高分辨率大型電視機用高規(guī)格中，要求更高的拱起抑制效果，而且由于孔距縮短，更希望涂敷方法不產(chǎn)生孔堵塞。對于這種高規(guī)格，要求在小涂敷重量下形成致密被覆率高的電子束反射膜，故希望涂敷范圍在表1中的涂敷重量在0.1mg/cm2以上0.2mg/cm2以下。
這里示出涂敷的涂料為平均粒徑D50=0.4μm、固體比率為10％的情況，但對于D50在0.1m以上0.6μm以下、固體比率在5％以上2％以下的涂料，確認(rèn)可獲得同樣的結(jié)果。對于D50未滿0.1μm的涂料，由于鉍粒子粒徑過小，電子束易于通過鉍粒子而減小電子束反射效果，另一方面剝落的鉍粒子從蔭罩孔落入玻屏側(cè)，易于使畫質(zhì)下降。對于固體比率小于5％的涂料，由于水份過多，易于產(chǎn)生滴液。難以涂敷獲得足夠拱起抑制效果的涂敷重量。
(實施形態(tài)2)在本實施例中，用線速度30m/s以上的攪拌機分散處理含有氧化鉍、水玻璃和水的材料，制成電子束反射膜用涂料。水玻璃起粘合劑的作用粘接氧化鉍和蔭罩，作為舉例，主要有硅酸鈉，硅酸鉀，硅酸鋰等。這里采用其中粘接力最強的硅酸鈉。
下面，參照


電子束反射膜用材料的分散方法。圖2為分散處理機的結(jié)構(gòu)圖。6為攪拌葉，7為容器，8為涂料。使攪拌葉6旋轉(zhuǎn)，利用離心力使涂料8靠近容器側(cè)面進行分散處理(下面，稱為離心力分散)。該方法能以高線速度進行分散處理，由于不用媒體，故能量效率極高。
表2示出利用混砂機及上述離心力分散對含有氧化鉍、水玻璃及水的電子束反射膜用材料加以處理情況下的平均粒徑及pH值。這里示出的平均粒徑是由激光衍射式測定裝置測定的D50值。
表2
從表2可見，用混砂機分散，分散后會產(chǎn)生凝集，平均粒徑增加，pH值增加，涂料狀態(tài)不穩(wěn)定。但用離心力分散，pH值無變化，而且平均粒徑在靜置一年后也無變化。
表3示出改變轉(zhuǎn)速進行離心力分散的涂料在靜止一年后的平均粒徑及pH值的變化情況。
表3
從表3可見，在離心力分散情況下，線速度為20m/s進行處理時平均粒徑增加，但線速度在30m/s以上，即使靜置一年后，平均粒徑也無變化，pH值也不改變。
根據(jù)上述結(jié)果，利用轉(zhuǎn)速在30m/s以上的離心力進行分散，可制成材料性質(zhì)不受破壞且不發(fā)生凝集的涂料，應(yīng)用這些涂料在噴嘴及管道內(nèi)不會發(fā)生堵塞，可平穩(wěn)噴出。
下面，圖3示出用噴涂法涂敷經(jīng)離心力分散處理的涂料、涂敷經(jīng)混砂機處理的涂料、及涂敷未加處理的涂料情況下的被覆率的曲線圖。從圖3可見，由于離心力分散處理能形成致密均勻的膜，故即便在相同涂敷重量情況下，也能比混砂機處理涂料或未處理涂料獲得高的被覆率。
從上述可見，用離心力分散，涂敷重量小于0.2mg/cm2，能形成被覆率在80％以上的電子束反射膜，故能使膜不會自然剝離且能得到良好的畫質(zhì)。
下面，表4示出對涂敷經(jīng)離心力分散處理的平均粒徑不同的涂料情況下被覆率的統(tǒng)計結(jié)果。
表4
>*固體比率為10％從表4可見，平均粒徑在0.8μm以上，為了獲得高被覆率增加涂敷重量時，涂敷會堵塞蔭罩的開孔。然而，平均粒徑在0.6μm以下，不會發(fā)生蔭罩孔的堵塞。而且，涂敷重量小于0.2mg/cm2，能獲得被覆率在80％以上。這里，示出的結(jié)果是固體比率為10％的涂料的涂敷情況，但也能確認(rèn)，固體比率在20％以下不同的固體比率情況下也能獲得同樣的結(jié)果。
從上述可見，平均粒徑在0.6μm以下的涂料，用小涂敷重量能形成不會堵塞蔭罩孔且被覆率高的電子束反射膜，其結(jié)果，因膜不會自然剝離而能獲得良好畫質(zhì)。
下面，表5示出在涂敷固體比率不同經(jīng)離心力分散處理的涂料情況下對被覆率統(tǒng)計的結(jié)果。
表5
平均粒徑為0.4μm從表5可見，固體比率在30％以上，噴嘴及管道內(nèi)發(fā)生涂料堵塞，在表5中表示為“堵塞”，此時，噴嘴的噴出量不穩(wěn)定。若增加涂敷重量，會堵塞蔭罩孔。但是，固體比率在20％以下，不會堵塞孔，在涂敷重量小于0.2mg/cm2可獲得80％以上的被覆率。這里的結(jié)果雖顯示平均粒徑為0.4μm涂料的涂敷情況，但能確認(rèn)對于平均粒徑在0.6μm以下的不同平均粒徑情況也能獲得同樣的結(jié)果。
從上述可見，固體比率在20％以下，能以小的涂敷重量形成致密被覆率高的電子束反射膜，不會發(fā)生蔭罩孔堵塞，另外，由外膜不會自然剝離，因此能獲得良好的圖像。
下面，表6示出離心力分散處理的涂料相對于涂敷重量產(chǎn)生剝離的研究結(jié)果。
表6
平徑粒徑0.4μm、固體比率10％從表6可見，涂敷重量在0.2mg/cm2以上為過剩涂敷，會發(fā)生自然剝離，使畫質(zhì)下降。但是，對于涂敷重量小于0.2mg/cm2的情況，不發(fā)生自然剝離，未見畫質(zhì)下降。這里，雖示出平均粒徑為0.4μm、固體比率為10％的涂料的涂敷情況的結(jié)果，但也能確認(rèn)平均粒徑在0.6μm以下的涂料及固體比率在20％以下的涂料，也能獲得同樣結(jié)果。
從上述可見，對蔭罩的涂敷重量在0.2mg/cm2以上為過剩涂敷，會發(fā)生自然剝離，但涂敷重量小于0.2mg/cm2為合適的涂敷重量，不發(fā)生剝離，不影響畫質(zhì)。因此，用小于0.2mg/cm2的涂敷重量將經(jīng)離心力分散處理的涂料涂敷蔭罩，能形成致密均勻被覆率高的電子束反射膜，從而獲得無膜剝離的良好畫質(zhì)。
(實施形態(tài)3)取代所述氧化鉍、水玻璃和水，而用含有氧化鉍、二氧化硅的醇化物、和乙醇或甲醇的涂料加以涂敷時，也能獲得同樣結(jié)果。
(實施形態(tài)4)涂敷電子束反射膜用涂料，該涂料由對含有氧化鉍、水玻璃和水的材料加以分散處理后獲得，從而在蔭罩的電子束照射面上形成電子束反射膜。
下面，參照

噴涂涂敷裝置及電子束反射膜的涂敷方法。圖4為壓電泵的結(jié)構(gòu)圖。12為壓電元件，13為單向閥，14為涂料入口，15為涂料出口。使壓電元件12在箭頭方向高頻振動，可從涂料入口14吸入涂料，并從涂料出口15噴出，此時波動很小。
圖5為噴霧器涂敷裝置的結(jié)構(gòu)圖。16為噴霧器噴嘴，10為泵，17為涂料貯藏部，18為涂料，19為循環(huán)系統(tǒng)，20為被涂敷物。相對于被涂敷物20在水平方向上平行掃描的方向為X軸，作為噴嘴16的掃描方向，而在平行于被涂敷物的垂直方向上掃描的方向為Y軸。
利用圖4所示壓電泵將貯藏在涂料貯藏部17的涂料18供給噴霧器噴嘴16向蔭罩20進行涂敷。對噴霧器噴嘴16的涂料供給壓力的變化反映到噴霧器噴嘴16噴出的涂料。
表7示出采用壓電泵(振動頻率為120Hz)和采用至今的已有技術(shù)中所用泵情況下涂料供給壓力變化的大小，及產(chǎn)生各壓力變化時噴嘴噴出量的變化幅度。
表7
從表7可見，對于采用至今的已往的管泵或電磁泵的情況，涂料供給壓力變化大，噴霧器噴嘴的噴出量隨這種變化也有大的變化。但是，采用壓電泵時能抑制涂料供給壓力變化，可見，從噴霧器噴嘴噴出的噴出量是穩(wěn)定的。
為防止電子束轟擊蔭罩產(chǎn)生的蔭罩熱膨脹而形成的電子束反射膜，蔭罩表面覆蓋面積越大，效果越好。但是，若涂敷蔭罩的電子束反射膜用涂料的涂敷重量大，則電子管作成后，在電子管內(nèi)會發(fā)生電子束反射膜剝離，污染管內(nèi)，使畫質(zhì)下降。因此，取涂敷重量的基準(zhǔn)為0.3mg/cm2，進行被覆率測定及拱起抑制效果的測定并進行了比較。拱起抑制結(jié)果，利用蔭罩產(chǎn)生熱膨脹前后的電子束移動量加以評價。熱膨脹越大電子束移動量也越大，作為基準(zhǔn)，若電子束移動量在60μm以下，則對畫質(zhì)影響小，拱起抑制效果也好。
表8示出利用已往方式(管泵，電磁泵)和壓電泵(振動頻率為120Hz)涂敷方式將固體比率為20％的電子束反射膜用涂料涂敷于蔭罩時相對于涂敷重量的拱起評價結(jié)果。
表8
表9示出利用已往方式(管泵，電磁泵)和壓電泵(振動頻率為120Hz)涂敷方式將固體比率為20％的電子束反射膜用涂料按照涂敷重量0.3mg/cm2涂敷于蔭罩時對被覆率及拱起的評價結(jié)果。
表9
從表8和表9可見，即使是采用已往方式被覆率低、拱起抑制效果不佳的涂敷重量，利用壓電泵因噴出狀態(tài)穩(wěn)定而能形成致密均勻的電子束反射膜，故也能獲得良好的畫質(zhì)。
表10示出使壓電泵振動頻率變化向噴嘴16供給涂料對蔭罩20進行涂敷時噴嘴噴出量變化幅度、拱起抑制效果及被覆率的結(jié)果。
表10
從表10可見，壓電泵振動頻率在20Hz以上，與已有方法相比能抑制噴嘴噴出量變化，即便相同的涂敷重量也能提高被覆率，具有良好的拱起抑制效果。
下面，用120Hz驅(qū)動壓電泵向噴嘴16提供涂料，用圖6所示的水平方向、垂直向上方向及垂直向下方向三種方法，按涂敷重量為0.3mg/cm2進行了涂敷。
用噴霧器噴嘴16使涂料18利用霧化氣形成微粒子化，微粒子粒徑不均勻會產(chǎn)生大大小小的微粒。在水平方向涂敷中，粒徑大不足以霧化的粒子在到達被涂敷物20之前會下落，只有那些細小微粒子化的粒子被涂敷。結(jié)果能完成均勻致密的涂敷。與此相比，垂直向上涂敷，不能到達被涂敷物20的粒徑大的粒子及由被涂敷物20彈回來的外層部分落向噴嘴16的噴出部，構(gòu)成污染或堵塞噴嘴前端部的原因，使噴出量不穩(wěn)定。而垂直向下的涂敷，粒徑不同的粒子全部降落在被涂敷物，故被未充分霧化的粒徑大的粒子涂敷的部分涂得厚，而被粒徑小的粒子涂敷的部分涂得薄，從而存在涂敷不均勻的缺點。
表11示出按照上述3種方法對涂敷重量為0.3mg/cm2的涂敷樣品測定電子束移動量及被覆率的結(jié)果。表12示出按電子束移動量評價的拱起抑制效果的評價基準(zhǔn)。
表11
涂敷重量0.3mg/cm2表12
從表11和表12可見，不管3種涂敷方法的哪一種，能滿足標(biāo)準(zhǔn)型評價基準(zhǔn)，能獲得拱起抑制效果良好的結(jié)果。但是，垂直向上及垂直向下的涂敷不滿足高清晰度用基準(zhǔn)，作為更嚴(yán)格基準(zhǔn)的高清晰度用規(guī)格(技術(shù)規(guī)范)，希望采用水平方向涂敷，能完成更致密被覆率高的涂敷。而且最好在涂料循環(huán)路徑19內(nèi)進一步設(shè)置精密閥21，利用其開度控制噴嘴16的涂料供給壓力(參見圖7)。
按照已往不采用閥的方式，涂料供給壓力由泵的能力確定，在利用泵輸出控制涂料供給壓力情況下，易受其流量特性的影響，缺乏穩(wěn)定性，故難以任意地進行涂料供給壓力的精密控制。然而，在循環(huán)路徑19內(nèi)設(shè)置閥21，泵10輸出保持不變，故不受其流量特性等的影響，能夠精密地控制涂料供給壓力，實現(xiàn)穩(wěn)定地噴出。
從上述可見，利用壓電泵可精密地向噴霧器噴嘴16提供涂料18，再在從涂料貯藏部17經(jīng)噴霧器噴嘴16再循環(huán)到涂料貯藏部17的循環(huán)路徑19內(nèi)設(shè)置閥21，控制對噴嘴16的涂料供給壓力，能精密控制涂料供給壓力實現(xiàn)穩(wěn)定的噴出狀態(tài)，從而能形成致密被覆率高的電子束反射膜，獲得良好的畫質(zhì)。
(實施形態(tài)5)與所述實施形態(tài)4一樣，用含有氧化鉍、水玻璃和水的材料加以分散處理后的電子束反射膜用涂料進行涂敷，在蔭罩表面形成電子束反射膜。
下面，參照

噴霧器涂敷裝置及電子束反射膜的涂敷方法。用圖5所示涂敷裝置僅在X軸方向使噴嘴16進行掃描，如圖8所示，保持涂料貯藏部17中液面與噴嘴中心o的高低差h不變，改變噴霧器噴嘴16的傾斜涂敷電子束反射膜用涂料，在蔭罩表面形成電子束反射膜。
圖7的涂敷方法1是一種已有技術(shù)的方法，使噴霧器噴嘴16上升下降對大范圍蔭罩20進行涂敷。用該方法，噴嘴16在X、Y兩軸的方向掃描，隨噴嘴上升下降，涂料貯藏部液面與噴嘴中心的高低差在變化，因而噴嘴的涂料供給壓力也隨之變化，結(jié)果蔭罩上部涂得薄，而蔭罩下部涂得厚。
圖8的涂敷方法2是一種保持噴嘴中心高度不變的(即噴嘴僅作X軸向掃描)一邊上下擺動角度一邊進行涂敷的方法，按照該方法，涂料貯藏部液面與噴嘴中心o的高低差h保持不變，故不會發(fā)生上述涂料供給壓力的變化。
表13示出按照上述2種涂敷法涂敷后的蔭罩上部(圖7、8中A)中部(圖7、8中B)和下部(圖7、8中C)的涂敷重量偏差和被覆率。
表13
如上所述，通過噴嘴中心o與涂料貯藏部液面的高低差h不變化，而改變噴霧器噴嘴的傾斜僅在X軸方向掃描，能夠使噴嘴16的涂料供給壓力不變，涂敷重量偏差小，能穩(wěn)定噴出，形成致密被覆率高的電子反射膜，從而獲得良好的畫質(zhì)，在實施形態(tài)4中，說明了按照高清晰度用技術(shù)規(guī)范(規(guī)格)最好采用水平方向的涂敷方法，但是當(dāng)采用大畫面超過32英寸時，其蔭罩面積也大，要求比高清晰度用有更嚴(yán)格的基準(zhǔn)。對于這種最嚴(yán)格基準(zhǔn)的規(guī)范，合適的方法是，保持噴霧器噴嘴中心o與涂料貯藏部液面的高低差h不變，改變噴霧器噴嘴16的傾斜僅在X軸方向掃描。最好是，進一步將泵10與噴嘴16的各個中心部處于同一高度并一體化，使兩位置關(guān)系始終保持相同進行掃描，通過這樣能抑制因兩者距離或高低差變化產(chǎn)生的噴嘴16的涂料供給壓力的變化，而且在循環(huán)路徑19內(nèi)設(shè)置精密閥21，利用其開度控制噴嘴16的涂料供給壓力，能精密控制涂敷重量，能實現(xiàn)致密均勻的涂敷以滿足最嚴(yán)格的基準(zhǔn)(參看圖9)。表14示出對用圖9涂敷方法按照0.3mg/cm2涂敷重量涂敷后的樣品測定電子束移動量及被覆率的結(jié)果。
表14
如上所述，按照圖9所示方法進行涂敷，能形成滿足表12所示大型用最嚴(yán)格的基準(zhǔn)的致密均勻的電子束反射膜，從而能獲得良好畫質(zhì)。
(實施形態(tài)6)代替所述氧化鉍、水玻璃和水，用含有SiO2或ITO的涂料進行涂敷時，同樣能穩(wěn)定地噴出，利用均勻致密的涂敷能實現(xiàn)具有強的低反射功能或防止帶電功能的表面涂層涂敷。
按照實施形態(tài)1～6所記載的本發(fā)明電子管的制造方法，用氧化鉍粒子的平均粒徑D50在0.6μm以下、且粒度分布形狀為D40至D60間的粒子體積分布占整體20％以上的涂料進行涂敷，即使涂敷重量小也能形成被覆率高的電子束反射膜，能獲得拱起抑制效果好、無自然剝離、良好的電子管。
另外，采用一種涂敷方法，利用壓電元件的高頻振動向噴嘴精密提供涂料并保持噴嘴與涂料貯藏部液面的高低差不變，同時僅改變噴嘴的角度，按照該方法，能抑制噴嘴的涂料供給壓力的變化，實現(xiàn)穩(wěn)定的噴出，從而能形成細密均勻的電子束反射膜。其結(jié)果是，能以小的涂敷重量形成高被覆率的電子束反射膜，拱起抑制效果好，不會產(chǎn)生自然剝離，能獲得良好的電子管。
對于表面涂層涂覆，也用同樣的涂敷方法對玻屏表面進行涂敷，能形成均勻細密的涂敷，從而能在表面涂層膜實現(xiàn)具有強的低反射功能或防止帶電功能的表面涂層涂敷。
權(quán)利要求
1．一種涂料，其特征在于，將氧化鉍分散，氧化鉍粒子的平均粒徑D50在0.6μm以下，且粒度分布形狀在D40至D60間粒子的體積分布占整體的20％以上。
2．如權(quán)利要求1所述的涂料，其特征在于，取水為溶媒。
3．如權(quán)利要求2所述的涂料，其特征在于，取水玻璃為粘合劑。
4．如權(quán)利要求1所述的涂料，其特征在于，取乙醇或甲醇為溶媒。
5．如權(quán)利要求4所述的涂料，其特征在于，取二氧化硅的醇化物作為粘合劑。
6．如權(quán)利要求1-5任一權(quán)利要求所述的涂料，其特征在于，固體比率在20％以下。
7．一種電子管，其特征在于，將權(quán)利要求1至6任一權(quán)利要求所述的涂料涂敷于蔭罩的電子束照射面。
8．一種電子管，其特征在于，用小于0.2mg/cm2的涂敷重量將權(quán)利要求1至6任一權(quán)利要求所述的涂料涂敷于蔭罩的電子束照射面。
9．一種電子管，其特征在于，將權(quán)利要求1至6任一權(quán)利要求所述的涂料涂敷于蔭罩，形成被覆率在40％以上的電子束反射膜。
10．一種電子管，其特征在于，用線速度在30m/s以上的攪拌機分散處理權(quán)利要求1至6任一權(quán)利要求所述的涂料，并涂敷在蔭罩的電子束照射面。
11．一種涂敷方法，其特征在于，采用具有噴嘴的涂敷裝置，所述噴嘴相對配置在被涂敷對面，通過使噴嘴進行掃描將涂料進行涂敷，利用壓電元件振動的壓電泵將涂料供給所述噴嘴進行涂敷。
12．如權(quán)利要求11所述的涂敷方法，其特征在于，用頻率在20Hz以上的振動頻率驅(qū)動所述壓電元件，利用該振動將涂料供給所述噴嘴進行涂敷。
13．一種涂敷方法，其特征在于，采用具有噴嘴的涂敷裝置，所述噴嘴相對配置在被涂敷對面，通過使所述噴嘴進行掃描將涂料進行涂敷，保持涂料貯藏部液面與所述噴嘴中心的高低差不變，而改變所述噴嘴的傾斜來涂敷。
14．如權(quán)利要求13所述的涂敷方法，其特征在于，用壓電泵將涂料供給所述噴嘴。
15．如權(quán)利要求14所述的涂敷方法，其特征在于，使所述壓電泵與所述噴嘴中心的高度為同一高度并一體化，保持兩者位置關(guān)系不變進行掃描涂敷。
16．如權(quán)利要求13至15任一權(quán)利要求所述的涂敷方法，其特征在于，僅在被涂敷對面平行的水平方向上使所述噴嘴進行掃描加以涂敷。
17．如權(quán)利要求12至16所述的涂敷方法，其特征在于，在涂料的循環(huán)路徑內(nèi)設(shè)置精密閥，利用該閥的開度控制所述噴嘴的涂料供給壓力。
18．如權(quán)利要求11至17所述的涂敷方法，其特征在于，所述噴嘴是噴霧器噴嘴。
19．一種電子管的制造方法，所述電子管具有蔭罩，其特征在于，利用權(quán)利要求11至18任一權(quán)利要求所述的涂敷方法將電子束反射膜用涂料涂敷于所述蔭罩。
20．一種電子管的制造方法，其特征在于，利用權(quán)利要求11至18任一權(quán)利要求所述的涂敷方法將表面涂層用涂料涂敷于電子管的玻屏表面，具有低反射功能或防止帶電功能。
全文摘要
一種電子管的制造方法,其特征在于,涂料的氧化鉍粒子的平均粒徑D50在0.6μm以下,粒度分布形狀在D40至D60間的粒子體積分布占整體的20%以上,用這種涂料進行涂敷,即使涂敷重量小也能形成被覆率高的電子束反射膜。采用壓電元件振動的方法作為向噴霧器噴嘴提供涂料的手段,或保持噴嘴器中心與涂料貯藏部液面的高低差不變,同時僅改變噴嘴的角度使噴霧器噴嘴進行掃描,以此進行涂敷。
文檔編號H01J9/14GK1226737SQ99102339
公開日1999年8月25日 申請日期1999年2月13日 優(yōu)先權(quán)日1998年2月16日
發(fā)明者堀川晃宏, 大畠積, 三舩達 申請人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社