專(zhuān)利名稱(chēng)：電子探針微分析儀的平臺(tái)驅(qū)動(dòng)方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種電子探針微分析儀的控制方法，特別涉及試料平臺(tái)在高度方向上的驅(qū)動(dòng)控制方法。
在采用波長(zhǎng)分散型分光器的電子探針微分析儀(EPMA)中，作為檢測(cè)由電子束照射試料所放射出的特性X線(xiàn)的集光條件，要求將試料和分光結(jié)晶、檢測(cè)器的X線(xiàn)分光器高精度地配置在洛蘭德圓的圓周上。通常，通過(guò)調(diào)整試料面的高度位置來(lái)滿(mǎn)足該X線(xiàn)分光器的集光條件。
在采用電子探針微分析儀的分析中，除了在試料面上的一點(diǎn)進(jìn)行分析的點(diǎn)分析之外，還有在試料面上逐步改變分析位置的同時(shí)檢測(cè)該處的X線(xiàn)信號(hào)以獲得一維或者二維分布的線(xiàn)分析和面分析。
在線(xiàn)分析和面分析中，讓試料在X、Y平面上以一定的速度移動(dòng)，在該移動(dòng)期間以一定間隔進(jìn)行X線(xiàn)信號(hào)的測(cè)定。對(duì)于有凹凸的試料面，在進(jìn)行點(diǎn)分析、線(xiàn)分析和面分析時(shí)，隨著試料在X、Y平面上的移動(dòng)，分析位置處的試料面的高度變化。為此，為了進(jìn)行高精度的測(cè)定，有必要隨時(shí)控制試料平臺(tái)的高度方向以便在各分析位置讓試料面的高度滿(mǎn)足X線(xiàn)分光器的集光條件。
目前，作為控制試料平臺(tái)高度方向的方法，已知的方法是預(yù)先在分析區(qū)域整個(gè)面上計(jì)算出試料面的高度滿(mǎn)足X線(xiàn)分光器的集光條件時(shí)的試料平臺(tái)的Z軸坐標(biāo)值的實(shí)測(cè)值或者近似值，根據(jù)所求出的Z軸坐標(biāo)值控制試料平臺(tái)的Z軸坐標(biāo)。
而作為控制試料平臺(tái)高度方向的驅(qū)動(dòng)方法，已知的方法是將分析區(qū)域整體近似成一平面，通過(guò)對(duì)于X、Y軸方向的一定速度的移動(dòng)以一定速度移動(dòng)Z軸沿平面傾斜的驅(qū)動(dòng)方法。
在將分析區(qū)域整體近似成一平面、根據(jù)平面傾斜一定速度移動(dòng)Z軸的驅(qū)動(dòng)方法中，由于其前提是假定試料的分析區(qū)域面近似為一平面，對(duì)于近似成一平面比較困難的復(fù)雜的凹凸面而言，要補(bǔ)正分析面的高度，就必需細(xì)分割分析區(qū)域，才能將各分割區(qū)域近似成平面。
由該驅(qū)動(dòng)方法對(duì)復(fù)雜的凹凸面進(jìn)行面分析時(shí)，有必要(a)在各分割區(qū)域按照近似平面的傾斜進(jìn)行多次分割的面分析，然后將各面分析所得到的結(jié)果最終進(jìn)行合成，或者(b)一次的面分析動(dòng)作進(jìn)行分析全分析區(qū)域的控制。
在(a)的分割面分析的控制方法中，對(duì)于每一分割都要重復(fù)進(jìn)行試料平臺(tái)的停止和再啟動(dòng)，與不分割的情況相比較，存在著分析時(shí)間長(zhǎng)的問(wèn)題。又，在(b)的一次面分析的控制方法中，每次分析位置移動(dòng)到新的分割區(qū)域時(shí)，對(duì)照分割區(qū)域的近似平面的傾斜有必要每次變更驅(qū)動(dòng)速度。又，Z軸的驅(qū)動(dòng)條件不是給出移動(dòng)目的地的坐標(biāo)而是給出移動(dòng)速度，為此，由于移動(dòng)速度變更時(shí)間的延遲和速度計(jì)算的誤差等原因，會(huì)發(fā)生偏離目的地坐標(biāo)的情況。而且，該偏離量在每次重復(fù)驅(qū)動(dòng)速度變更時(shí)積蓄下來(lái)，使得正確補(bǔ)正困難。
圖5為表示上述(b)的控制所產(chǎn)生的Z軸方向的位置誤差的圖。圖5(a)表示對(duì)于近似成平面的試料面，對(duì)應(yīng)于X、Y方向移動(dòng)的試料平臺(tái)的Z軸方向的控制值的Z軸坐標(biāo)值D。試料平臺(tái)的Z軸是在各分割平面中，按照?qǐng)D5(b)所示的速度F那樣，以一定的速度進(jìn)行上下移動(dòng)。在該一定速度的控制下，在各分析區(qū)域進(jìn)行切換時(shí)，產(chǎn)生控制延遲時(shí)間T，如圖5(c)的實(shí)線(xiàn)所示，偏離了虛線(xiàn)所示的目標(biāo)值D。5(d)表示在該Z軸方向上的位置誤差H，該位置誤差H是隨著X、Y方向的移動(dòng)積累下來(lái)的。
為此，本發(fā)明的目的在于解決上述現(xiàn)有的問(wèn)題，在有凹凸的試料面的線(xiàn)分析和面分析中，可以一直滿(mǎn)足X線(xiàn)分光器的集光條件，高精度地控制Z軸方向的高度。
本發(fā)明的電子探針微分析儀的平臺(tái)驅(qū)動(dòng)方法，是在線(xiàn)分析或面分析中，根據(jù)預(yù)先確定的條件補(bǔ)正試料平臺(tái)在高度方向的Z軸坐標(biāo)的方法，在分析中將要驅(qū)動(dòng)的Z軸坐標(biāo)以階梯狀函數(shù)的形式確定，根據(jù)該階梯狀的Z軸補(bǔ)正函數(shù)逐次控制Z軸坐標(biāo)值，在分析方向的各分析位置中，滿(mǎn)足了X線(xiàn)分光器的集光條件的試料平臺(tái)的Z軸補(bǔ)正值作成為階梯狀的Z軸補(bǔ)正函數(shù)，根據(jù)Z軸補(bǔ)正函數(shù)和當(dāng)前分析方向的分析位置，求出下一個(gè)分析方向的分析位置的Z軸補(bǔ)正值，將試料平臺(tái)的Z軸驅(qū)動(dòng)到所求出的Z軸補(bǔ)正值。
采用階梯狀的Z軸補(bǔ)正函數(shù)，由此對(duì)Z軸方向逐次進(jìn)行位置控制，可以降低進(jìn)行速度控制時(shí)所產(chǎn)生的累計(jì)的位置誤差，進(jìn)行高精度的Z軸方向高度的控制。
本發(fā)明的試料平臺(tái)可以在X軸、Y軸以及Z軸的各軸方向進(jìn)行驅(qū)動(dòng)，當(dāng)在由X軸和Y軸形成的X、Y平面上放置試料時(shí)，通過(guò)驅(qū)動(dòng)X軸和Y軸，將試料面的分析位置向線(xiàn)分析或面分析的分析方向移動(dòng)，又，通過(guò)對(duì)Z軸的驅(qū)動(dòng)滿(mǎn)足X線(xiàn)分光器的集光條件。
Z軸補(bǔ)正函數(shù)是對(duì)于測(cè)定對(duì)象的試料，在沿分析方向的各分析位置上，預(yù)先求出為滿(mǎn)足X線(xiàn)分光器的集光條件補(bǔ)正試料平臺(tái)的Z軸補(bǔ)正值，將該Z軸補(bǔ)正值作成階梯狀的函數(shù)的一種函數(shù)。因此，通過(guò)求出各分析位置中的Z軸補(bǔ)正函數(shù)，可以獲取該分析位置中為補(bǔ)正試料平臺(tái)的Z軸補(bǔ)正值，通過(guò)用該Z軸補(bǔ)正值控制試料平臺(tái)的高度方向，滿(mǎn)足X線(xiàn)分光器的集光條件。以階梯狀函數(shù)的形式給出的Z軸補(bǔ)正值是對(duì)各分析位置的高度方向的位置數(shù)據(jù)，對(duì)于給定分析位置由于是指示高度本身的控制，因而Z軸方向的控制成逐次位置控制，可以降低像速度控制那樣的控制延遲所伴隨的位置誤差。
當(dāng)試料平臺(tái)由步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)時(shí)，向步進(jìn)電機(jī)供給對(duì)應(yīng)于Z軸補(bǔ)正值大小的位置脈沖，進(jìn)行高度方向的位置補(bǔ)正。用相同大小的Z軸補(bǔ)正值進(jìn)行的分析方向的幅度由補(bǔ)正函數(shù)的階梯狀部分的步幅確定，該步幅可以通過(guò)對(duì)為進(jìn)行分析方向的移動(dòng)而向步進(jìn)電機(jī)供給的脈沖數(shù)進(jìn)行計(jì)數(shù)求出。
因此，用Z軸補(bǔ)正值進(jìn)行高度方向的位置補(bǔ)正后，對(duì)為驅(qū)動(dòng)X軸、Y軸所供給的脈沖進(jìn)行計(jì)數(shù)，在該計(jì)數(shù)值達(dá)到相當(dāng)于階梯狀部分的步幅的數(shù)時(shí)，用下一階梯狀部分的Z軸補(bǔ)正值進(jìn)行高度方向的位置補(bǔ)正，對(duì)應(yīng)于該Z軸補(bǔ)正值的步幅以驅(qū)動(dòng)X軸、Y軸的脈沖數(shù)進(jìn)行計(jì)數(shù)。通過(guò)重復(fù)這樣的處理，進(jìn)行由階梯狀Z軸函數(shù)的平臺(tái)驅(qū)動(dòng)。
下面對(duì)附圖進(jìn)行簡(jiǎn)要說(shuō)明。


圖1為表示適用于本發(fā)明電子探針微分析儀的平臺(tái)驅(qū)動(dòng)方法的構(gòu)成例的概略框圖。
圖2為表示說(shuō)明本發(fā)明平臺(tái)驅(qū)動(dòng)方法的概略例的流程圖。
圖3為表示說(shuō)明本發(fā)明平臺(tái)驅(qū)動(dòng)方法的概略例的波形圖。
圖4為表示為比較本發(fā)明平臺(tái)驅(qū)動(dòng)方法所產(chǎn)生的誤差和現(xiàn)有的平臺(tái)驅(qū)動(dòng)方法所產(chǎn)生的誤差的曲線(xiàn)圖。
圖5為表示說(shuō)明現(xiàn)有的控制在Z軸方向所產(chǎn)生的位置誤差的曲線(xiàn)圖。
圖中，1-電子探針微分析儀、2-計(jì)算機(jī)、3-平臺(tái)控制器、4-驅(qū)動(dòng)器、5-攝像裝置、6-監(jiān)視器、11-鎢絲、12-電子束、13-聚光鏡、14-物鏡、15-分光元件、16-檢測(cè)器、17-試料平臺(tái)、21-Z軸補(bǔ)正函數(shù)、22-Z軸補(bǔ)正值形成部、23-計(jì)數(shù)器部、24-中斷處理部、25-數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器、26-數(shù)據(jù)處理部。
以下參照附圖詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方案圖1為表示適用于本發(fā)明電子探針微分析儀的平臺(tái)驅(qū)動(dòng)方法的構(gòu)成例的概略框圖。在圖1所示的電子探針微分析儀1中從鎢絲11所發(fā)射的電子束12通過(guò)聚光鏡13、物鏡14照射放置在試料平臺(tái)17上的試料S。從試料S發(fā)射出來(lái)的X線(xiàn)由包含根據(jù)波長(zhǎng)分光的分光元件15和檢測(cè)所分光出來(lái)的特性X線(xiàn)的檢測(cè)器16的X線(xiàn)分光器進(jìn)行分析。
試料平臺(tái)17通過(guò)接受來(lái)自平臺(tái)控制器3的控制脈沖的驅(qū)動(dòng)器4可以在X、Y、Z軸方向上移動(dòng)。通過(guò)X、Y軸的驅(qū)動(dòng)，相對(duì)于電子束12在X、Y面上移動(dòng)試料S，進(jìn)行線(xiàn)分析或者面分析。
平臺(tái)控制器3由來(lái)自計(jì)算機(jī)2的控制命令完成X、Y軸方向上的位置確定和Z軸方向的高度調(diào)整。試料S的觀(guān)察通過(guò)用CCD攝象機(jī)等攝像裝置5拍攝由反射鏡18反射的像，并顯示在監(jiān)視器6上來(lái)實(shí)現(xiàn)。線(xiàn)分析和面分析通過(guò)對(duì)由檢測(cè)器16所得到的測(cè)定信號(hào)由計(jì)算機(jī)2內(nèi)的各功能塊進(jìn)行數(shù)據(jù)處理進(jìn)行。計(jì)算機(jī)2包括數(shù)據(jù)存儲(chǔ)器25和數(shù)據(jù)處理部26的功能，實(shí)施測(cè)定信號(hào)的數(shù)據(jù)處理和在監(jiān)視器6上的顯示。
計(jì)算機(jī)2包括為進(jìn)行Z軸方向的高度補(bǔ)正，輸入以階梯狀的函數(shù)表示Z軸坐標(biāo)值的Z軸補(bǔ)正值，計(jì)算Z軸補(bǔ)正函數(shù)的Z軸補(bǔ)正函數(shù)裝置21、根據(jù)Z軸補(bǔ)正函數(shù)形成與Z軸補(bǔ)正值和步幅相應(yīng)的脈沖數(shù)的Z軸補(bǔ)正值形成部22、計(jì)數(shù)分析方向的移動(dòng)量的計(jì)數(shù)器2 3，以及確定將Z軸補(bǔ)正值輸入到平臺(tái)控制器3的時(shí)序的中斷處理部24等各功能模塊。
此外，在圖1中，雖然各功能模塊由塊21-26表示，但這些各功能也可以由軟件實(shí)現(xiàn)，并不一定具有對(duì)應(yīng)的構(gòu)成部分。
Z軸補(bǔ)正函數(shù)在沿測(cè)定對(duì)象的試料的分析方向的各分析位置上，將為滿(mǎn)足X線(xiàn)分光器的集光條件補(bǔ)正試料平臺(tái)的Z軸補(bǔ)正值成階梯狀的函數(shù)。通常，在電子探針微分析器中，讓成為X線(xiàn)分光器的集光條件的位置和由光學(xué)顯微鏡的觀(guān)察像的焦點(diǎn)位置一致進(jìn)行構(gòu)成。由光學(xué)顯微鏡的觀(guān)察像可以由攝像裝置5獲得，該觀(guān)察像的焦點(diǎn)位置可以由圖中未畫(huà)出的自動(dòng)對(duì)焦功能求得。為此，通過(guò)由電子探針微分析器1的圖中未畫(huà)出的裝置，在分析區(qū)域的多個(gè)分析位置中，試料面滿(mǎn)足X線(xiàn)分光器的集光條件時(shí)的Z軸坐標(biāo)值可以從由光學(xué)顯微鏡的觀(guān)察像的焦點(diǎn)位置求出。此外，Z軸坐標(biāo)值觸由光學(xué)顯微鏡的觀(guān)察像求出以外，也可以由其它的測(cè)定裝置獲得。
Z軸補(bǔ)正函數(shù)裝置21輸入所求出的Z軸坐標(biāo)值，在分析區(qū)域中的各分析位置中分別滿(mǎn)足集光條件的Z軸坐標(biāo)值作為Z軸補(bǔ)正值求出，并求出所求出的Z軸補(bǔ)正值的分布。進(jìn)一步，將對(duì)線(xiàn)分析或面分析的分析方向的Z軸補(bǔ)正值的的變化作為階梯狀的Z軸補(bǔ)正函數(shù)形成。
因此，Z軸補(bǔ)正函數(shù)根據(jù)線(xiàn)分析或面分析的分析區(qū)域或分析線(xiàn)的不同而成為不同的函數(shù)。此外，Z軸坐標(biāo)值的變化幅度可以任意設(shè)定。
Z軸補(bǔ)正值形成部22是形成為進(jìn)行試料平臺(tái)17的高度方向的補(bǔ)正控制的參數(shù)，將該參數(shù)輸出給平臺(tái)控制器3的部分。Z軸補(bǔ)正值形成部22將Z軸補(bǔ)正值的參數(shù)輸出給平臺(tái)控制器3，相當(dāng)于該Z軸補(bǔ)正值的步幅的脈沖數(shù)輸出給中斷處理部24。
平臺(tái)控制器3將控制試料平臺(tái)17的步進(jìn)電機(jī)的脈沖輸送給驅(qū)動(dòng)器4。X軸方向的移動(dòng)以及Y軸方向的移動(dòng)距離由所送的脈沖數(shù)確定，通過(guò)計(jì)數(shù)該脈沖數(shù)，可以求出在線(xiàn)分析或面分析的分析方向中的分析位置。又，平臺(tái)控制器3根據(jù)來(lái)自Z軸補(bǔ)正值形成部22的Z軸補(bǔ)正值驅(qū)動(dòng)驅(qū)動(dòng)器4，進(jìn)行試料平臺(tái)17的高度補(bǔ)正。
計(jì)數(shù)器23統(tǒng)計(jì)平臺(tái)控制器3輸出X軸、Y軸方向的脈沖數(shù)n，求出分析位置。
中斷處理部24接受來(lái)自Z軸補(bǔ)正值形成部22的相當(dāng)于步幅的脈沖數(shù)N，輸入計(jì)數(shù)器23所計(jì)數(shù)的脈沖計(jì)數(shù)n，并將脈沖數(shù)N和脈沖計(jì)數(shù)n進(jìn)行比較。當(dāng)脈沖計(jì)數(shù)n達(dá)到脈沖數(shù)N的時(shí)候產(chǎn)生中斷信號(hào)，由下一個(gè)Z軸補(bǔ)正值進(jìn)行高度補(bǔ)正。
此外，計(jì)算機(jī)2和平臺(tái)控制器3之間的通信可以用通信電纜進(jìn)行。
下面參照?qǐng)D2的流程圖以及圖3的曲線(xiàn)說(shuō)明本發(fā)明的平臺(tái)驅(qū)動(dòng)法的概略。
在圖2的流程圖中，Z軸補(bǔ)正函數(shù)裝置21輸入預(yù)先求出的Z軸補(bǔ)正值，將滿(mǎn)足集光條件的Z軸坐標(biāo)值作為Z軸補(bǔ)正值求出，從該Z軸補(bǔ)正值的分布求出對(duì)線(xiàn)分析或面分析的分析方向的Z軸補(bǔ)正值的變化作為階梯狀的Z軸補(bǔ)正函數(shù)。圖3(a)作為階梯狀的Z軸補(bǔ)正函數(shù)的一例，形成在Z軸補(bǔ)正值Zm處步幅為Wm的階梯狀(第S1步)。Z軸補(bǔ)正值形成部22根據(jù)Z軸補(bǔ)正函數(shù)求出Z軸補(bǔ)正值Zm(圖3(b)的B)和相當(dāng)于該Z軸補(bǔ)正值Zm的步幅Wm的脈沖數(shù)Nm(圖3(c))(第S2步)。
Z軸補(bǔ)正值形成部22按照以下的第S3～10步，依次將圖3(b)所示的Z軸補(bǔ)正值Zm在每隔圖3(c)所示的脈沖數(shù)Nm后輸出給平臺(tái)控制器3。
首先，將為計(jì)數(shù)階梯狀的步的計(jì)數(shù)器值設(shè)置為1(第S3步)，讀出相當(dāng)于第1階梯的步的步幅W1的脈沖數(shù)N1，按照第S5～8步，進(jìn)行第1階梯的Z軸的補(bǔ)正。在第S5步中，將脈沖計(jì)數(shù)n初始化為1，在第S6步中將第1階梯的Z軸補(bǔ)正值Z1輸出給平臺(tái)控制器3，由Z軸補(bǔ)正值Z1進(jìn)行高度補(bǔ)正。之后，由第S7、S8步，在脈沖計(jì)數(shù)n達(dá)到脈沖數(shù)N1之前，依次計(jì)數(shù)控制平臺(tái)3所輸出的脈沖。
在第S7步中，當(dāng)脈沖計(jì)數(shù)n達(dá)到脈沖數(shù)N1時(shí)，表明分析方向中的分析位置到達(dá)第1步的端部。之后，計(jì)數(shù)值m加1后(第S9步)，重復(fù)執(zhí)行第S4～S8步，進(jìn)行由下一階梯的Z軸補(bǔ)正。
在計(jì)數(shù)值m到達(dá)階梯數(shù)M之前，重復(fù)執(zhí)行第S4～S9步的工序，從而進(jìn)行由階梯狀的Z軸函數(shù)的Z軸補(bǔ)正。
此外，在通常的程序中，在確認(rèn)進(jìn)行了中斷處理時(shí)，而Z軸沒(méi)有被驅(qū)動(dòng)，則開(kāi)始驅(qū)動(dòng)到作為當(dāng)前設(shè)定的目標(biāo)的Z軸坐標(biāo)值上。
圖4為表示為比較本發(fā)明平臺(tái)驅(qū)動(dòng)方法所產(chǎn)生的誤差和現(xiàn)有的平臺(tái)驅(qū)動(dòng)方法所產(chǎn)生的誤差的曲線(xiàn)圖。
在圖4(a)中，階梯狀的Z軸函數(shù)A將由D所表示的Z軸坐標(biāo)值近似成階梯狀。為此，如圖4(b)所示，產(chǎn)生由近似引起的誤差E。該誤差E由于在每一階梯中進(jìn)行復(fù)位，不會(huì)累計(jì)。又，在隔階梯中，誤差E的大小隨著階梯數(shù)的增加而減少，和圖4(c)所示的現(xiàn)有的平臺(tái)驅(qū)動(dòng)方法所引起的誤差H進(jìn)行比較可以減小。
依據(jù)本發(fā)明的平臺(tái)驅(qū)動(dòng)方法，對(duì)于現(xiàn)在的分析位置，由于是預(yù)先給定應(yīng)驅(qū)動(dòng)到的Z軸坐標(biāo)值，在實(shí)際的Z軸驅(qū)動(dòng)中，不需要像現(xiàn)有的驅(qū)動(dòng)方法那樣每次都要計(jì)算驅(qū)動(dòng)速度，因而不會(huì)產(chǎn)生因計(jì)算時(shí)間引起的控制延遲。又，即使Z軸控制的時(shí)序產(chǎn)生了延遲，由于一直預(yù)備了用于控制的參數(shù)作為下一移動(dòng)目的地的Z軸坐標(biāo)值，由重復(fù)控制引起目標(biāo)位置的偏離不會(huì)擴(kuò)大。為此，即使在分析時(shí)變更了分析位置的移動(dòng)速度，在相同補(bǔ)正條件下可以讓其動(dòng)作，沒(méi)有必要變更符合分析時(shí)的試料平臺(tái)的移動(dòng)速度的補(bǔ)正條件。
在本發(fā)明的實(shí)施方案中，由于是由中斷處理程序進(jìn)行作為目標(biāo)的Z軸坐標(biāo)值的變更，沒(méi)有必要在逐次當(dāng)前位置和Z軸坐標(biāo)值后求出作為當(dāng)前目標(biāo)的Z軸坐標(biāo)值，不會(huì)產(chǎn)生由于比較運(yùn)算所產(chǎn)生的控制延遲。
又，在階梯的一步內(nèi)控制到Z軸坐標(biāo)值的狀態(tài)下，不進(jìn)行新的Z軸的驅(qū)動(dòng)控制，因而不會(huì)出現(xiàn)Z軸驅(qū)動(dòng)中的速度急劇變化、或者瞬間停止，不會(huì)對(duì)試料平臺(tái)加重機(jī)械性的負(fù)擔(dān)。
根據(jù)以上的說(shuō)明，依據(jù)本發(fā)明，在具有凹凸的試料面的線(xiàn)分析和面分析中，可以在一直滿(mǎn)足X線(xiàn)分光器的集光條件的情況下進(jìn)行高精度的高度的控制。
權(quán)利要求
1.一種電子探針微分析儀的平臺(tái)驅(qū)動(dòng)方法，其特征是在分析方向的各分析位置中滿(mǎn)足了X線(xiàn)分光器的集光條件的Z軸補(bǔ)正值作成為階梯狀的Z軸補(bǔ)正函數(shù)，根據(jù)所述Z軸補(bǔ)正函數(shù)和當(dāng)前分析方向的分析位置，求出下一分析方向的分析位置中Z軸補(bǔ)正值，將試料平臺(tái)的Z軸驅(qū)動(dòng)到所求出的Z軸補(bǔ)正值。
全文摘要
一種電子探針微分析儀的平臺(tái)驅(qū)動(dòng)方法,在線(xiàn)和面分析中,根據(jù)預(yù)先設(shè)定的條件補(bǔ)正試料平臺(tái)的高度方向上的Z軸坐標(biāo),將要驅(qū)動(dòng)的Z軸坐標(biāo)以階梯狀函數(shù)的形式確定,根據(jù)該Z軸補(bǔ)正函數(shù)逐次控制Z軸坐標(biāo)值;在分析方向的各分析位置中,滿(mǎn)足了X線(xiàn)分光器的集光條件的試料平臺(tái)的Z軸補(bǔ)正值作成為階梯狀的Z軸補(bǔ)正函數(shù),根據(jù)Z軸補(bǔ)正函數(shù)和當(dāng)前分析方向的分析位置,求出下一個(gè)分析方向的分析位置的Z軸補(bǔ)正值,將試料平臺(tái)的Z軸驅(qū)動(dòng)到所求出的Z軸補(bǔ)正值。
文檔編號(hào)H01J37/252GK1256418SQ9911944
公開(kāi)日2000年6月14日 申請(qǐng)日期1999年9月24日 優(yōu)先權(quán)日1998年12月9日
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