專利名稱：一種制造電子元器件金屬外殼用金剛石膜拉深模具的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及制造電子元器件外殼用拉深模具，尤其涉及一種制造電子元器件金屬外殼用金剛石膜拉深模具。
電子元器件是構(gòu)成電子產(chǎn)品的一個基本器件，相當(dāng)一部分電子元器件是由金屬外殼構(gòu)成。金屬外殼通常采用厚0．25mm的鋅白銅合金帶或黃銅帶材由送料裝置自動送入連續(xù)沖床，按工藝要求經(jīng)過一個以上拉深模具，逐步?jīng)_壓而成。金屬外殼尺寸精度要求高，特別是封焊面要求高精度和高光潔度，以保證封焊后的密封效果。而目前以Cr12為代表的冷作模具鋼或硬質(zhì)合金材料制造的拉深模具，在耐磨性方面還存在不足之處，影響了拉深模具的使用壽命。中國技術(shù)市場管理促進(jìn)中心主辦的《中國新技術(shù)新產(chǎn)品精選》(刊號CN11-3375／7)P16～19頁介紹了深圳市雷地科技實業(yè)有限公司研發(fā)的90年代人工合成尖端新材料-金剛石膜材料。金剛石膜生成的基本工藝過程是將含碳?xì)怏w變?yōu)闅鈶B(tài)活性碳原子，定向沉積在被鍍物體表面，生成一層致密、均勻、光滑、牢固的碳-碳原子鍵結(jié)構(gòu)的固態(tài)晶體膜，該模層具有高硬度、耐磨損、耐腐蝕、導(dǎo)熱性、電學(xué)性、透光性、生物親和性、表面光潔度高等其它任何材料無法媲美的顯著性能。采用原子晶體沉積法生成金剛石膜，為拉深模具提高使用壽命創(chuàng)造了條件。
本實用新型的目的是提供一種高硬度、耐磨損、沖壓工作面光潔度高，使用壽命長的一種制造電子元器件金屬外殼用金剛石膜拉深模具。
本實用新型由凸模及凹模構(gòu)成拉深模具，其特征在于凸模、凹模配合沖壓工作面上鍍有金剛石膜。
本實用新型的優(yōu)點是將具有高硬度、耐磨損、表面光潔度高的金剛石膜材料鍍覆在拉深模具沖壓工作面上，從而大大提高拉深模具的使用壽命。
以下結(jié)合附圖及實施例對本實用新型作進(jìn)一步的描述。


圖1是本實用新型示意圖。
圖1給出了生產(chǎn)晶振49U金屬外殼主要工序拉深成形拉深模具示意圖。如
圖1所示，將凸模1、凹模2置于金剛石膜生產(chǎn)設(shè)備鍍膜機(jī)中，氣態(tài)活性碳原子，定向在凸模1沖壓工作面A上及凹模2沖壓工作面B上沉積，生成一層0．2～0．4μmm厚度的金剛石膜，取出凈化即可使用。
權(quán)利要求1.一種制造電子元器件金屬外殼用金剛石膜拉深模具，包括凸模及凹模，其特征在于凸模、凹模配合沖壓工作上面鍍有金剛石膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所示的拉深模具，其特征在于凸模、凹模配合沖壓工作面上的金剛石膜厚度為0．2～0．4μmm。
專利摘要本實用新型公開了一種制造電子元器件金屬外殼用金剛石膜拉深模具,其主要特征是在凸模及凹模配合沖壓工作面上鍍有一層高硬度、耐磨損、表面光潔度高的金剛石膜,從而大大提高現(xiàn)有拉深模具的使用壽命,降低生產(chǎn)費用。
文檔編號B21D37/12GK2429278SQ0023755
公開日2001年5月9日 申請日期2000年6月14日 優(yōu)先權(quán)日2000年6月14日
發(fā)明者周水軍 申請人:周水軍