專利名稱：準(zhǔn)連續(xù)波二極管泵浦固體紫外激光系統(tǒng)及其使用方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明有關(guān)二極管泵浦固體激光，且特別地有關(guān)諸如用于形成通孔于電路板中的準(zhǔn)連續(xù)波二極管泵浦紫外激光系統(tǒng)及使用其的處理方法。
背景技術(shù)：
不同形式的激光系統(tǒng)已使用于鉆孔通孔于諸如印刷電路板(PCBs)的電子裝置或工件上的點(diǎn)對(duì)點(diǎn)的標(biāo)靶區(qū)域處。下文解說僅以二極管泵浦固體紫外(UV)激光系統(tǒng)及工件標(biāo)靶為例，而不應(yīng)視為限制本發(fā)明之范疇。
當(dāng)使用諸如包含光波電子(LWE)型號(hào)為210的激光器的ElectroScientific Industries Inc.(ESI)型號(hào)為5200的聲光(A-Q)Q開關(guān)式，連續(xù)波(CW)二極管泵浦(DP)固體(SS)激光系統(tǒng)來產(chǎn)生通孔時(shí)，該泵浦二極管或二極管會(huì)持續(xù)地維持作用狀態(tài)。無論何時(shí)只要定位系統(tǒng)指向電子裝置上新的靶區(qū)域時(shí)，通過關(guān)閉Q開關(guān)而阻止激光發(fā)射。在該定位系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)新的標(biāo)靶區(qū)域之后，激光系統(tǒng)將由以一預(yù)定的重復(fù)率開啟Q開關(guān)而發(fā)射含有一或更多個(gè)激光脈沖的激光輸出。
LWE型號(hào)210使用兩個(gè)20瓦(W)的用于泵浦的連續(xù)波(CW)二極管且以10KHz的重復(fù)率來產(chǎn)生3瓦的紫外線(UV)輸出功率。到二極管的連續(xù)波泵電流受限于二極管的熱負(fù)載。若一應(yīng)用保證更大的紫外線輸出功率時(shí)，則必須使用更多二極管或具有更高電流/功率的二極管，如兩個(gè)30瓦二極管激光條(diode laser bars)或四個(gè)20瓦二極管激光條的二極管。此類設(shè)計(jì)可望達(dá)到大約8瓦的紫外線輸出功率。然而，若使用較高的泵功率，則會(huì)增加固體激光介質(zhì)上的熱負(fù)載，而熱過載該激光介質(zhì)則會(huì)永久地?fù)p壞它，或造成激光束品質(zhì)及功率大大地惡化，該限制使激光系統(tǒng)設(shè)計(jì)及制造面臨關(guān)鍵的工程挑戰(zhàn)。
然而，諸如脈沖泵浦及準(zhǔn)連續(xù)波泵浦的其它泵浦設(shè)計(jì)可用于激光設(shè)計(jì)，諸如Lambda Physics’Model早期形式的“Gator”紫外線的電光(E-O)Q開關(guān)脈沖式DPSS紫外線激光使用E-OQ開關(guān)，其以低脈沖重復(fù)率提供較高的激光脈沖功率。對(duì)于各泵浦脈沖，僅產(chǎn)生一紫外線激光脈沖，該泵浦持續(xù)時(shí)間限制于數(shù)百微秒(μs)，所以激光輸出脈沖重復(fù)率典型地限制于2KHz以下。該泵設(shè)計(jì)對(duì)于鉆孔并非優(yōu)選，因?yàn)槠鋵⒉焕赜绊戙@孔的產(chǎn)出量。
現(xiàn)有的準(zhǔn)連續(xù)波泵浦相似于脈沖泵浦，但卻以較低的峰值泵浦功率而具有較長的泵浦持續(xù)時(shí)間。根據(jù)所使用的二極管的重復(fù)率及工作周期，該泵浦設(shè)計(jì)也可具有大約1至2KHz的泵浦重復(fù)率而泵浦持續(xù)時(shí)間可從數(shù)百微秒至數(shù)毫秒(ms)。此泵浦設(shè)計(jì)允許比連續(xù)波泵浦泵浦至更高水平，這是由于只要泵浦關(guān)閉，二極管就“休息”(且熱負(fù)載減少或停止)。所以，在泵浦期間，該激光輸出功率相比較于相當(dāng)?shù)倪B續(xù)波泵浦激光的激光輸出功率高。該激光輸出由控制至二極管的電流而予以控制。然而，此泵浦設(shè)計(jì)的泵浦重復(fù)率仍為重大的缺點(diǎn)。準(zhǔn)連續(xù)波泵浦的典型應(yīng)用包含利用長的激光脈沖寬度以及適度的峰值功率，諸如激光粘接及焊接。
因此，包含可促成較高功率及較快重復(fù)率的泵浦設(shè)計(jì)以增加鉆孔產(chǎn)出量的激光系統(tǒng)是所期望的。

發(fā)明內(nèi)容
現(xiàn)有的紫外線激光鉆孔系統(tǒng)利用一標(biāo)準(zhǔn)頻率轉(zhuǎn)換設(shè)計(jì)以將激光基本波長從紅外線(IR)區(qū)中轉(zhuǎn)換為紫外線(UV)。這樣的系統(tǒng)優(yōu)選采用高紫外功率和高脈沖重復(fù)率來取得通孔形成的高產(chǎn)出量。因此，A-OQ開關(guān)DPSS激光系統(tǒng)至今已優(yōu)選用于鉆孔。
然而，商業(yè)上所企望的系統(tǒng)將優(yōu)選較高的紫外線功率以用于降低鉆孔時(shí)間，或在諸如銅及FR4的若干“難以鉆孔”的材料上完成可接受的通孔。所以，在高重復(fù)率(數(shù)KHz至數(shù)十KHz)下的高紫外線輸出功率(5至15瓦)是優(yōu)選的。
而且，為有用于商業(yè)，例如在PCB上形成通孔將需要激光系統(tǒng)能在每秒完成300至400個(gè)通孔，因此，激光定位系統(tǒng)必須每秒鐘移動(dòng)到300至400個(gè)新位置。典型地，激光系統(tǒng)花費(fèi)少于1毫秒(ms)來鉆一個(gè)通孔，但在若干情況中?；ㄙM(fèi)比1毫秒更長的時(shí)間移動(dòng)至新的位置以用于下一個(gè)通孔。因此，實(shí)際上，激光處于開啟(ON)的時(shí)間會(huì)比處于關(guān)閉(OFF)的時(shí)間更少，而使激光的使用率相當(dāng)?shù)汀?br> 本發(fā)明提供一種準(zhǔn)連續(xù)波二極管/燈泵浦A-OQ開關(guān)固體紫外線激光，當(dāng)定位系統(tǒng)從一個(gè)標(biāo)靶區(qū)移動(dòng)到下一標(biāo)靶區(qū)時(shí)，可使該準(zhǔn)連續(xù)波泵浦之時(shí)序同步而避免或減少泵浦，且在鉆孔時(shí)增加泵浦水平而超過連續(xù)波泵浦水平。所以，用于通孔形成的有效的紫外線功率較高，即使是對(duì)于激光介質(zhì)的平均泵浦功率和泵浦二極管的熱負(fù)載維持相同于現(xiàn)有的具有激光二極管的現(xiàn)有連續(xù)波泵浦。該準(zhǔn)連續(xù)波泵浦電流波形可進(jìn)一步地校正以實(shí)現(xiàn)一優(yōu)選的紫外線脈沖振幅波形。
此一準(zhǔn)連續(xù)波二極管或燈泵浦A-OQ開關(guān)固體紫外激光是新穎的；準(zhǔn)連續(xù)波泵浦和束掃描同步化是新穎的；以及該激光系統(tǒng)使用于通孔形成也是新穎的。
從下文附圖的優(yōu)選實(shí)施例的詳細(xì)說明可清楚明了本發(fā)明的額外目的及優(yōu)點(diǎn)。
附圖簡單說明

圖1是一具有腔內(nèi)三頻率轉(zhuǎn)換的準(zhǔn)連續(xù)波二極管泵浦A-OQ開關(guān)激光的實(shí)施例的簡化示意圖；2圖A是準(zhǔn)連續(xù)波泵浦二極管電流的范例波形的簡化圖形說明；以及圖2B為范例A-OQ開關(guān)激光脈沖重迭在圖2A中所示的準(zhǔn)泵浦二極管電流上的簡化的圖形說明。
優(yōu)選實(shí)施例詳細(xì)說明圖1為準(zhǔn)連續(xù)波脈沖式二極管泵浦A-OQ開關(guān)固體紫外線激光系統(tǒng)10的優(yōu)選實(shí)施例的簡化示意圖，該系統(tǒng)10具有同步的尋靶(targeting)、泵浦、及燒灼(firing)而以高產(chǎn)出率形成通孔。參閱圖1，顯示具有二極管14泵浦激光介質(zhì)16于其側(cè)邊的激光系統(tǒng)10的激光共振器12，然而，本領(lǐng)域的技術(shù)人員將理解的是，共振器12可折迭且該泵浦設(shè)計(jì)可為“末端泵浦”或該激光系統(tǒng)10可利用其它可行的熟知配置。示例性二極管14包含，但不局限于SDL，Inc.of San Jose，California所售的型號(hào)為SDL-3200的系列100瓦準(zhǔn)連續(xù)波陣列及960瓦高工作因子堆棧陣列。示例性固體激光介質(zhì)16包含具有YAG，YLF，及YVO4成份的化合物。在IR反射鏡18與紫外線(第三諧波)透射性輸出藕合器20之間，共振器12沿其光軸22包含一聲光(A-O)Q開關(guān)24、一頻率倍增器(doubler)26、及一用腔內(nèi)頻率轉(zhuǎn)換的頻率三倍器(tripler)28。本領(lǐng)域的技術(shù)人員將理解的是，頻率轉(zhuǎn)換可于共振器12外部完成。
圖2A及2B(共成圖2)分別地簡化地圖示準(zhǔn)泵浦二極管電流脈沖或間隔50a，50b及50c(總稱為電流間隔50)的范例波形以及重迭在圖2A中所示的準(zhǔn)泵浦二極管電流波形上的范例A-OQ開關(guān)激光脈沖60a，60b及60c(總稱稱為激光脈沖60)。參閱圖1及2，使激光系統(tǒng)操作同步，使得當(dāng)激光系統(tǒng)10于工件30上之一第一標(biāo)靶區(qū)31完成一通孔時(shí)，中央處理單元(CPU)32會(huì)藉控制電源34來停止二極管泵浦(轉(zhuǎn)變二極管電流為零)或降低二極管泵浦到一預(yù)定的低電流水平。范例電源供應(yīng)器34包含，但不局限于型號(hào)SDL-820，用于具有典型的10微秒(μs)電流轉(zhuǎn)變時(shí)間的10至15安培連續(xù)波激光二極管驅(qū)動(dòng)器；型號(hào)SDL-830，用于約50安培連續(xù)波激光驅(qū)動(dòng)器；或型號(hào)SDL-928，用于約150安培峰值準(zhǔn)連續(xù)波激光二極管陣列驅(qū)動(dòng)器，均售自SDL，Inc.of San Jose，California。
然后，定位系統(tǒng)36移動(dòng)光束輸出位置至一新的標(biāo)靶區(qū)31。優(yōu)選地，該光束定位系統(tǒng)36包含一平移臺(tái)定位器，該平移臺(tái)定位器利用至少兩個(gè)橫向臺(tái)而允許快速移動(dòng)于相同或不同工件30上的標(biāo)靶區(qū)31之間。在一優(yōu)選實(shí)施例中，該平移臺(tái)定位器為一分軸系統(tǒng)，其中Y臺(tái)移動(dòng)工件30而X臺(tái)移動(dòng)一快速定位器及相關(guān)聯(lián)的聚焦透鏡，在該X臺(tái)與Y臺(tái)間之Z空間尺寸也可調(diào)整。定位鏡會(huì)通過激光共振器12與快速定位器間的任何轉(zhuǎn)向來對(duì)準(zhǔn)光學(xué)路徑22，例如該快速定位器可使用高精度線性馬達(dá)和/或一對(duì)檢流計(jì)鏡而可根據(jù)所提供的測試或設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)來執(zhí)行單一或重復(fù)的處理操作。該類臺(tái)及定位器可被控制及獨(dú)立協(xié)調(diào)地移動(dòng)。
光束定位系統(tǒng)36可利用現(xiàn)有的視覺或光束來操作對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，該類對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)可通過一物鏡作業(yè)或以一分離式攝影機(jī)離軸作業(yè)，且該類對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)為本領(lǐng)域的技術(shù)人員所熟知。在一實(shí)施例中，由Electro ScientificIndustries，Inc.所售的定位系統(tǒng)36中使用自由庫軟件的HRVX視覺盒，其用于執(zhí)行激光共振器12與工件30上之標(biāo)靶區(qū)之間的對(duì)準(zhǔn)。其它適用的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)可于市面上取得。
此外，光束定位系統(tǒng)36最好使用無接點(diǎn)、小位移傳感器，以確定由于該類臺(tái)的節(jié)距(pitch)，偏搖(yaw)，或滾動(dòng)(roll)所造成Abbe誤差，該誤差不由諸如線性比例尺編碼器或激光干涉儀的軸上位置指示器加以指示。Abbe誤差校正系統(tǒng)可相對(duì)于精確的參考標(biāo)準(zhǔn)予以校準(zhǔn)，所以校正僅依據(jù)感測到傳感器讀數(shù)小的改變而不會(huì)依據(jù)傳感器讀數(shù)的絕對(duì)準(zhǔn)確性。該Abbe誤差校正系統(tǒng)詳細(xì)地說明于2001年7月19日所公告的國際公布WO 01/52004 A1號(hào)及2001年10月18日所公布的美國專利2001-0029674 A1號(hào)中。Cutler的相對(duì)應(yīng)的美國專利申請(qǐng)09/755950揭示的相關(guān)部分將引用于本文中供參考。
定位系統(tǒng)36的許多變化為本領(lǐng)域的技術(shù)人員所熟知，且定位系統(tǒng)36的一些實(shí)施例詳細(xì)地描述于Cutler等人的美國專利5751585中，售自Electro Scientific Industries，Inc.of Portland，Oregon的ESI型號(hào)5320微通孔鉆孔系統(tǒng)是定位系統(tǒng)36的優(yōu)選應(yīng)用，且已使用于電子工業(yè)的樹脂涂覆的銅封裝的激光鉆孔，也可使用諸如由Electro ScientificIndustries，Inc.in Portland，Oregon所制造的型號(hào)系列27××、43××、44××、或53××的其它優(yōu)選的定位系統(tǒng)。本領(lǐng)域的技術(shù)人員，將理解的是，可選擇性地使用具有單一X-Y臺(tái)的系統(tǒng)，借助固定光束位置和/或用于光束定位的固定檢流計(jì)來進(jìn)行工件定位，可選擇兩者中的一個(gè)。本領(lǐng)域的技術(shù)人員將認(rèn)識(shí)到，這樣的系統(tǒng)可被編程以利用工具路徑文件而動(dòng)態(tài)地高速定位聚焦的紫外激光系統(tǒng)輸出脈沖40，以產(chǎn)生周期性或非周期性的大量有用圖案。
當(dāng)定位系統(tǒng)36抵達(dá)或?qū)⒁诌_(dá)一新的或第二標(biāo)靶區(qū)31，或在一個(gè)二極管泵浦抑制或減低之后的預(yù)定的時(shí)間間隔，CPU 32會(huì)施加電流或增加的電流至二極管14。該CPU 32會(huì)指示Q開關(guān)控制器38打開Q開關(guān)24而以預(yù)定重復(fù)率發(fā)射激光脈沖60，直到完成第二通孔為止。
泵浦電流間隔50的波形可予以調(diào)變以控制準(zhǔn)連續(xù)波泵浦期間的激光脈沖60的峰值功率波形的形狀，諸如在持續(xù)期間平坦、從低到高(圖2A中所示)、或從高到低。此外，該類電流波形可調(diào)變而具有不同的振幅，使得例如視需要地可使用高峰值功率用于于鉆孔金屬層及可使用較低峰值功率用于鉆孔介電層。同樣地，可調(diào)整電流泵浦間隔50的時(shí)間持續(xù)以適合將處理的通孔的大小、深度、及材料，諸如較長的電流間隔50用于較大直徑的通孔。圖2A及2B顯示，當(dāng)工作周期可保持相同時(shí)，該激光系統(tǒng)10容許，但并非必須，電流泵浦間隔50間的可變周期及電流泵浦周期50之間的可變周期。然而，若希望激光輸出波形化，則該工作周期可同樣地變化。
準(zhǔn)連續(xù)波泵浦的重復(fù)率可易于達(dá)成高到2kHz，該準(zhǔn)連續(xù)波泵浦之間的間隔時(shí)間無需恒定，只要對(duì)于激光泵浦二極管14和/或激光介質(zhì)16的平均熱負(fù)載保持相對(duì)地恒定或在熱損壞水平以下即可。
在一實(shí)施例中，連續(xù)波泵浦5瓦紫外激光系統(tǒng)10的二極管14及電源供應(yīng)器34被改變?yōu)閷?dǎo)通于可變電流泵浦，所產(chǎn)生的激光系統(tǒng)10能在500KHz以2比1的工作周期運(yùn)轉(zhuǎn)。在該類二極管14停止以為了泵浦另一1毫秒之前它們會(huì)泵浦激光介質(zhì)16一毫秒，所以，在泵浦持續(xù)的期間，約高至兩倍的電流會(huì)進(jìn)入二極管14之內(nèi)(而不會(huì)不利地影響二極管14或激光介質(zhì)16上的平均熱負(fù)載)。因此，在該1毫秒泵浦持續(xù)期間的激光功率會(huì)超過兩倍多地大于來自相當(dāng)?shù)倪B續(xù)波泵浦激光的激光功率(特別是在非線性頻率轉(zhuǎn)換之后)。使用于激光共振器12中的A-OQ開關(guān)24會(huì)確保以例如10KHz或高達(dá)50KHz的預(yù)定重復(fù)率發(fā)射激光脈沖60。
工件30例如可為IC(集成電路)芯片封裝、MCM(多重芯片模塊)、電容器、電路板、電阻器、或混合式或半導(dǎo)體微電路。為便利起見，將以僅具有四層的工件30描述于下。例如頂部及底部導(dǎo)電層可含有標(biāo)準(zhǔn)的金屬，諸如鋁，銅，金，鉬，鎳，鈀，鉑，銀，鈦，鎢，金屬氮化物或其組合?，F(xiàn)有的金屬層厚度會(huì)變化，典型地在9至36微米之間(其中7.8×10-3公斤之金屬等于約9微米之厚度)，但可為更薄或?yàn)?2微米的厚度。典型地，導(dǎo)電層由同一材料所制成。
介電質(zhì)基體或?qū)邮菉A置于導(dǎo)電層之間且例如可含有標(biāo)準(zhǔn)的有機(jī)介電材料，諸如苯環(huán)丁烷(BCB)，順二丁烯乙酰胺三嗪(BT)，卡片板，氰酸鹽酯，環(huán)氧，酚醛，聚酰亞胺，聚四氟乙烯(PTFE)，種種聚合物合金或其組成物?，F(xiàn)有的有機(jī)介電層的厚度變化相當(dāng)大，但典型地比金屬層厚得多。有機(jī)介電層典型的厚度范圍約為30至400微米。
該介電層也可含有包含纖維物質(zhì)或分散的顆粒，例如芳香尼龍纖維、陶瓷或玻璃編織或分散的有機(jī)介電物質(zhì)?，F(xiàn)有的強(qiáng)化成分典型地為個(gè)別的細(xì)絲或顆粒，大小約1至10微米和/或10微米至數(shù)百微米的編織束。本領(lǐng)域的技術(shù)人員將理解的是，強(qiáng)化成分可以粉狀物引入有機(jī)介電質(zhì)之中且可為非相鄰的及非均勻的。該復(fù)合物或強(qiáng)化介電層典型地需要比燒蝕未強(qiáng)化的介電層所需的能量密度更高的激光處理。本領(lǐng)域的技術(shù)人員也將理解的是，該類不同的層亦可為內(nèi)部非相鄰、非均勻及非層次化的。具有若干層金屬、介電質(zhì)、及強(qiáng)化材料的堆棧可比2毫米更厚。
優(yōu)選地，通孔直徑的范圍從25到300微米，但激光系統(tǒng)10可產(chǎn)生具有直徑小至大約5至25微米或大于1毫米的通孔。因?yàn)榧す饷}沖60的優(yōu)選的燒蝕點(diǎn)大小直徑約為25至75微米，大于25微米的通孔可藉環(huán)鋸法(trepanning)、同心圓處理法、或螺旋處理法予以處理。本領(lǐng)域的技術(shù)人員將理解的是，通孔可為諸如方形、矩形、橢圓形、槽形、或其它表面幾何形狀的非圓形狀。
貫穿孔通孔整潔地且均勻地穿透工件30的所有層及材料且優(yōu)選地顯示可予以忽略的錐形，自頂部至其底部。盲孔并不穿透所有層和/或材料，通常駐止于底部導(dǎo)電層處。適當(dāng)選擇激光參數(shù)可允許底部導(dǎo)電層保持不受影響，即使是其含有相同于頂部金屬層的材料。
選擇激光輸出40的參數(shù)以有助于在各式各樣的金屬、介電質(zhì)及其它材料標(biāo)靶中達(dá)成實(shí)質(zhì)上整潔、連續(xù)的鉆孔(也即通孔形成)，的各式各樣的金屬、介電質(zhì)及其它材料標(biāo)靶可具有不同的光學(xué)吸收性、燒蝕閾值、或其它的特征以響應(yīng)紫外線或可見光。優(yōu)選的激光系統(tǒng)輸出40參數(shù)包含在工作表面處所測量的每個(gè)脈沖的平均能量大約比120微焦耳(μJ)大，優(yōu)選地大于200微焦耳；光斑尺寸直徑或空間主軸約小于50微米，優(yōu)選地從大約1至50微米；以及約大于1kHz的重復(fù)率，優(yōu)選地大于5kHz，而優(yōu)選地甚至高于20kHz；波長優(yōu)選地在大約190至532納米之間，且更優(yōu)選地大約在250納米與400納米之間。特定的優(yōu)選波長包含，但不局限于1064納米、532納米、355納米、349納米、或266納米。
激光輸出40的優(yōu)選參數(shù)的選擇在于避免某些熱損壞效應(yīng)，這通過利用短于約150納秒(ns)，且優(yōu)選地從大約40至90納秒或更低的瞬時(shí)脈沖寬度。本領(lǐng)域的技術(shù)人員也將理解的是，激光脈沖60的光斑區(qū)域大致為圓形，但可稍微地為橢圓形。優(yōu)選的紫外激光鉆孔參數(shù)揭示于美國專利5593606及5841099中。
盲孔，且特別地具有大直徑的盲孔優(yōu)選地藉兩次貫穿處理而產(chǎn)生，其中所有標(biāo)靶區(qū)的導(dǎo)電層在第一次貫穿處理中去除而接著在第二次貫穿處理期間以激光輸出的能量密度小于導(dǎo)電層燒蝕閾值來去除所有標(biāo)靶區(qū)的介電層。在去除標(biāo)靶區(qū)的頂部所有導(dǎo)電層之后，在第二次貫穿處理期間用于激光輸出的能量密度可藉散焦激光光點(diǎn)和/或藉增加重復(fù)率以及藉減少至激光泵浦二極管14的電流而予以降低。
本領(lǐng)域的技術(shù)人員將理解的是，盲孔也可產(chǎn)生于一單次的貫穿處理中，其中各標(biāo)靶的導(dǎo)電及介電層在定位系統(tǒng)36移動(dòng)至下一標(biāo)靶區(qū)31之前去除，單次的貫穿處理優(yōu)選地用于產(chǎn)生較小直徑的通孔。在一單次貫穿處理中，當(dāng)激光脈沖60開始去除介電層時(shí)，維持適當(dāng)高的能量密度，這將會(huì)較有效率，但當(dāng)激光脈沖60清除掉介電層且曝露底部導(dǎo)電層，使其開始吸收來自激光輸出40的熱量時(shí)，則底部導(dǎo)電層最好使用較低的能量密度予以保護(hù)。所以，在去除介電質(zhì)時(shí)，激光光斑逐漸去聚焦或泵浦電流減少將很快，更有效，且比用用單一能量密度去除介電質(zhì)更好地保護(hù)底部金屬層。該類及其它用于鉆孔方法的激光輸出波形技術(shù)詳細(xì)地描述于美國專利09/823922以及2001年11月29日所公布的美國專利US2001-0045419，美國專利09/823922的詳細(xì)說明及圖式引用于本文中供參考。
本領(lǐng)域的技術(shù)人員將明白的是，于不背離本發(fā)明基本原理下，可對(duì)上述本發(fā)明實(shí)施例的細(xì)節(jié)做許多改變。因此，本發(fā)明的范疇由權(quán)利要求的范圍予以界定。
權(quán)利要求
1.一種以一激光系統(tǒng)穿過一工件上多重標(biāo)靶區(qū)的至少一層標(biāo)靶材料的加工方法，該激光系統(tǒng)利用一固體激光介質(zhì)和一泵浦源，固體激光介質(zhì)被限制于一定量的泵浦功率，以便該固體激光介質(zhì)能容允一延長的由于熱誘導(dǎo)的畸變時(shí)間周期，其包括尋址一光束定位器朝向該工件上的一第一標(biāo)靶區(qū)；以一第一較高電流水平供應(yīng)電流到該激光泵浦源，以用于泵浦該固體激光介質(zhì)于第一時(shí)間間隔；操作一腔內(nèi)聲光Q開關(guān)，而產(chǎn)生一具有至少2kHz重復(fù)率的至少兩個(gè)激光脈沖的第一激光輸出于第一時(shí)間間隔；施加該第一激光輸出至該第一標(biāo)靶區(qū)，以從該第一標(biāo)靶區(qū)去除標(biāo)靶材料；減少至一較低電流水平，該電流供應(yīng)至激光泵浦源，以便在第二時(shí)間間隔中減少固體激光介質(zhì)的熱負(fù)載；尋址該光束定位器朝向該工件上一相異于該第一標(biāo)靶區(qū)的第二標(biāo)靶區(qū)；增加至一第二較高電流水平，該電流供應(yīng)至激光源以泵浦該固體激光介質(zhì)于第三時(shí)間間隔；操作該Q開關(guān)，以便產(chǎn)生一具有至少2kHz重復(fù)率的至少兩個(gè)激光脈沖的第二激光輸出；以及施加該第二激光輸出至該第二標(biāo)靶區(qū)，以便從該第二標(biāo)靶區(qū)去除標(biāo)靶材料。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中該激光泵浦源包括一激光泵浦二極管，所述第一和第二激光輸出，該第一，第二輸出具有的功率水平是作為供應(yīng)至激光泵浦二極管的電流水平的函數(shù)而變，且其中所述激光泵浦二極管有電流誘導(dǎo)的，累積性熱相關(guān)的泵浦容量，其限制泵浦功率量，該泵浦功率可于第一至第三時(shí)間間隔從激光泵浦二極管轉(zhuǎn)移到激光介質(zhì)，以便第二時(shí)間間隔中較低的電流供應(yīng)水平允許第一和第三時(shí)間間隔供應(yīng)的電流水平超過激光泵浦二極管最大連續(xù)波電流水平，以便激光泵浦二極管連續(xù)波時(shí)間間隔等于第一至第三時(shí)間間隔，且當(dāng)激光泵浦二極管以最大連續(xù)波電流水平泵浦激光介質(zhì)時(shí)，對(duì)以給定的脈沖重復(fù)率的激光介質(zhì)來說，第一和第二激光輸出的輸出功率水平以給定的脈沖重復(fù)率超過最大連續(xù)波泵浦激光輸出功率水平。
3.如權(quán)利要求2所述的方法，其中第一和第二激光輸出的輸出功率水平超過最大連續(xù)波泵浦激光輸出功率水平，且第一和第二激光輸出分別從第一和第二標(biāo)靶區(qū)去除第一層標(biāo)靶材料。
4.如權(quán)利要求2所述的方法，其中該第一或第二較高電流水平之一可低于該最大連續(xù)波電流水平。
5.如權(quán)利要求2所述的方法，其中激光系統(tǒng)具有一作為激光輸出功率水平的函數(shù)而變化的鉆孔產(chǎn)量，且對(duì)該激光系統(tǒng)而言，當(dāng)其被操作于最大連續(xù)波泵浦激光輸出時(shí)，該鉆孔產(chǎn)量超過一最大連續(xù)波泵浦激光激光鉆孔產(chǎn)量。
6.如權(quán)利要求1所述的方法，其中在該第一及第三時(shí)間間隔代表相等的時(shí)間量，且其中在第一和第三時(shí)間間隔中，被供應(yīng)等量的電流。
7.如權(quán)利要求1所述的方法，其中在該第一及第三時(shí)間間隔代表不同量的時(shí)間。
8.如權(quán)利要求1所述的方法，其中在第一時(shí)間間隔供應(yīng)第一電流量，而在第三時(shí)間間隔供應(yīng)第三電流量，且第一和第三電流量是不同的。
9.如權(quán)利要求1所述的方法，其中較低的電流水平基本沒有電流。
10.如權(quán)利要求1所述的方法，其中在該第一和/或第二較高電流水平被調(diào)制以包括至少第一和第二不同電流水平值于第一和第三時(shí)間間隔。
11.如權(quán)利要求10所述的方法，其中該第一電流水平值比第二電流水平值高，在處理標(biāo)靶區(qū)域中金屬層時(shí)第一電流水平值被應(yīng)用，當(dāng)處理標(biāo)靶區(qū)域中介電層時(shí)，第二電流水平值被應(yīng)用。
12.如權(quán)利要求1所述的方法，其中該第一和第二激光輸出具有的功率水平作為供應(yīng)至激光泵浦二極管的電流水平的函數(shù)而變，且其中激光介質(zhì)展示出熱誘導(dǎo)累積畸變，其限制可于第一至第三時(shí)間間隔施加到激光介質(zhì)的泵浦功率量，以便對(duì)激光介質(zhì)來說，在一個(gè)等于第一至第三時(shí)間間隔的連續(xù)波時(shí)間間隔，一低水平的泵浦功率被供應(yīng)至激光介質(zhì)于第一和第三時(shí)間間隔以超過一最大連續(xù)波泵浦功率，且對(duì)激光介質(zhì)來說，當(dāng)以最大連續(xù)波泵浦功率泵浦時(shí)，以致第一和第二激光輸出功率水平超過一最大連續(xù)波泵浦激光輸出。
13.如權(quán)利要求12所述的方法，其中所述激光系統(tǒng)的鉆孔產(chǎn)量是作為激光輸出功率水平的函數(shù)而變化的，且對(duì)該激光系統(tǒng)來說，當(dāng)以最大連續(xù)波泵浦激光輸出操作時(shí)，鉆孔產(chǎn)量超過最大連續(xù)波泵浦激光鉆孔產(chǎn)量。
14.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述Q開關(guān)以大于2kHz的重復(fù)率產(chǎn)生激光脈沖。
15.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述第一和第二激光輸出包括一大約短于400nm的波長。
16.如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述第一和第二激光輸出包括一YAG或YLF激光發(fā)射的波長，或包括1064nm，532nm，355nm，或266nm這樣的波長(但不局限于這些)的一個(gè)諧波。
17.如權(quán)利要求1所述的方法，其中光束定位器從第二標(biāo)靶區(qū)域改變輸出位置至一第三分立標(biāo)靶區(qū)域于一第四時(shí)間間隔，其代表第二時(shí)間間隔不同的時(shí)間量。
18.如權(quán)利要求1所述的方法，其中單層中的通孔形成于一單個(gè)通過操作。
19.如權(quán)利要求1所述的方法，其中通過多于一個(gè)標(biāo)靶層的通孔由加倍的通過操作形成。
20.如權(quán)利要求1所述的方法，其中通過多于一個(gè)標(biāo)靶層的通孔由單個(gè)通過操作形成。
21.一種用于加工一工件上多個(gè)分立標(biāo)靶區(qū)域的至少一個(gè)標(biāo)靶材料層的激光系統(tǒng)，其包括一固體激光介質(zhì)，其位于一激光諧振器以至少產(chǎn)生沿一光學(xué)通路朝向一輸出位置的第一和第二激光輸出；一激光泵浦二極管，其至少于第一和第三非交疊的時(shí)間間隔中泵浦所述固體激光介質(zhì)；一可變地可控制電源，其供應(yīng)一較高電流水平至激光泵浦二極管于第一和第三時(shí)間間隔，且供應(yīng)一較低水平地電流于第一和第三時(shí)間間隔之間的第二時(shí)間間隔；一腔內(nèi)，聲光Q開關(guān)，其提供至少兩個(gè)激光脈沖于第一和第三時(shí)間間隔中的第一和第二激光輸出中；一光束定位器，其尋址朝向一第一標(biāo)靶區(qū)域的第一激光輸出的輸出位置于第一時(shí)間間隔，且尋址朝向第二標(biāo)靶區(qū)域的第二激光輸出的輸出位置于第三時(shí)間間隔，且為了從第一標(biāo)靶區(qū)域改變輸出位置至第二標(biāo)靶區(qū)域于第二時(shí)間間隔；以及一接口控制，其用于直接地或間接地協(xié)調(diào)光束定位系統(tǒng)的活動(dòng)，電源和Q開關(guān)，以便當(dāng)?shù)谝缓偷诙す廨敵霎a(chǎn)生時(shí)電源供應(yīng)較高水平的電流至激光泵浦二極管于第一和第三時(shí)間間隔，且當(dāng)輸出位置改變時(shí)，供應(yīng)較低水平的電流至激光泵浦二極管于第三時(shí)間間隔。
22.如權(quán)利要求21所述的激光系統(tǒng)，其中該第一和第二激光輸出具有作為供應(yīng)至激光泵浦二極管的電流水平的函數(shù)而變化的功率水平，且其中激光泵浦二極管有電流誘導(dǎo)的累積性熱相關(guān)的泵浦容量，其限制泵浦功率量，其可以從激光二極管傳輸至激光介質(zhì)于第一至第三時(shí)間間隔，以便對(duì)激光二極管來說，在連續(xù)波時(shí)間間隔等于第一至第三時(shí)間間隔時(shí)，于第二時(shí)間間隔被供應(yīng)的較低電流水平允許第一和第三時(shí)間間隔供應(yīng)的較高的電流水平超過一最大連續(xù)波電流水平，且對(duì)以給定脈沖重復(fù)率的激光介質(zhì)來說，當(dāng)被激光泵浦二極管以最大連續(xù)波電流水平泵浦時(shí)，以給定的脈沖重復(fù)率的第一和第二激光輸出的功率水平超過連續(xù)波泵浦激光輸出。
23.如權(quán)利要求22所述的激光系統(tǒng)，其中所述激光系統(tǒng)的鉆孔產(chǎn)量是作為激光輸出的功率水平的函數(shù)而變化的，且當(dāng)操作于最大連續(xù)波泵浦激光輸出時(shí)，該激光系統(tǒng)鉆孔產(chǎn)量超過一最大連續(xù)波泵浦激光的鉆孔產(chǎn)量。
24.如權(quán)利要求21所述的激光系統(tǒng)，其中所述的第一和第三時(shí)間間隔代表相等的時(shí)間量。
25.如權(quán)利要求21所述的激光系統(tǒng)，其中所述第一和第三時(shí)間間隔代表不同時(shí)間量。
26.如權(quán)利要求21所述的激光系統(tǒng)，其中于第一和第三時(shí)間間隔供應(yīng)的較高水平的電流代表相等的電流量。
27.如權(quán)利要求21所述的激光系統(tǒng)，其中于第一時(shí)間間隔供應(yīng)的較高水平的電流和第三時(shí)間間隔供應(yīng)的電流水平不同。
28.如權(quán)利要求21所述的激光系統(tǒng)，其中較低水平的電流包括基本為零的電流。
29.如權(quán)利要求21所述的激光系統(tǒng)，其中較高水平的電流在第一和第三時(shí)間間隔有至少第一和第二不同水平的電流值。
30.如權(quán)利要求29所述的激光系統(tǒng)，其中于處理標(biāo)靶區(qū)域內(nèi)單層材料時(shí)，施加第一和第二水平的電流值。
31.如權(quán)利要求29所述的激光系統(tǒng)，其中第一電流水平值比第二電流水平值高，于處理標(biāo)靶區(qū)域內(nèi)的金屬層時(shí)施加第一電流水平值，在處理標(biāo)靶區(qū)域內(nèi)介電層時(shí)施加第二電流水平值。
32.如權(quán)利要求21所述的激光系統(tǒng)，其中第一和第二激光輸出有作為施加至激光泵浦二極管的電流水平的函數(shù)而變化的功率，其中該激光介質(zhì)展示出熱誘導(dǎo)的累積變形，其限制激光介質(zhì)在第一至第三時(shí)間間隔能容許的泵浦功率的量，以便對(duì)激光介質(zhì)來說，在連續(xù)波時(shí)間間隔等于第一至第三時(shí)間間隔時(shí)，于第二時(shí)間間隔供應(yīng)至激光介質(zhì)的泵浦功率的較低水平允許一于第一和第三時(shí)間間隔供應(yīng)至激光介質(zhì)較高的泵浦功率水平超過連續(xù)波泵浦功率，且對(duì)激光介質(zhì)來說，當(dāng)以最大連續(xù)波功率泵浦時(shí)，第一和第二激光輸出的功率水平超過一最大連續(xù)波泵浦激光輸出。
33.如權(quán)利要求32所述的激光系統(tǒng)，其中該激光系統(tǒng)的鉆孔產(chǎn)量作為激光輸出功率水平的函數(shù)而變化，且對(duì)該激光系統(tǒng)來說，當(dāng)操作于最大連續(xù)波泵浦激光輸出時(shí)，鉆孔產(chǎn)量超過最大連續(xù)波泵浦激光鉆孔產(chǎn)量。
34.如權(quán)利要求21所述的激光系統(tǒng)，其中Q開關(guān)以大于2kHz的重復(fù)率產(chǎn)生激光脈沖。
35.如權(quán)利要求21所述的激光系統(tǒng)，其中第一和第二激光輸出包括一大約短于400nm的波長。
36.如權(quán)利要求21所述的激光系統(tǒng)，其中該第一和第二激光輸出包括一YAG或YLF發(fā)射的波長，或包括(但不局限于)1064nm，532nm，355nm或266nm這些波長之一的諧波。
37.如權(quán)利要求21所述的激光系統(tǒng)，其中光束定位器從第二標(biāo)靶區(qū)域改變輸出位置至一第三分立標(biāo)靶區(qū)域于一第四時(shí)間間隔，其表示一不同于第二時(shí)間間隔的時(shí)間量。
38.如權(quán)利要求21所述的激光系統(tǒng)，其中通過多于一層的通孔形成于單個(gè)通過操作。
39.如權(quán)利要求21所述的激光系統(tǒng)，其中通過多于一層的通孔形成于加倍的通過操作。
40.如權(quán)利要求21所述的激光系統(tǒng)，其中光束定位器從第二標(biāo)靶區(qū)域改變輸出位置至一第三分立標(biāo)靶區(qū)域于一第四時(shí)間間隔，其可以表示與第二時(shí)間間隔不同量的時(shí)間，其中第一和第三時(shí)間間隔克包括不同時(shí)間段，且在第一時(shí)間間隔中供應(yīng)的較高的電流水平可以與第三時(shí)間間隔中供應(yīng)的較高的電流水平不同。
41.一種用激光系統(tǒng)在一工件上的多個(gè)標(biāo)靶區(qū)域加工至少一層標(biāo)靶材料的方法，該激光系統(tǒng)采用一激光泵浦二極管和一固體激光器，激光泵浦二極管具有電流誘導(dǎo)的累積熱相關(guān)的泵浦容量，其限制在一延長的時(shí)間段里，激光二極管能傳輸至固體激光介質(zhì)的泵浦功率量，包括尋址朝向工件上一第一標(biāo)靶區(qū)域的光束定位器；以一第一較高電流水平供應(yīng)電流至激光泵浦二極管以泵浦該固體激光介質(zhì)；操作一腔內(nèi)聲光Q開關(guān)以產(chǎn)生一第一激光輸出，其在2kHz的重復(fù)率時(shí)有至少兩個(gè)激光脈沖；施加第一激光輸出至第一標(biāo)靶區(qū)域以從第一標(biāo)靶區(qū)域除去標(biāo)靶材料；減少供應(yīng)至激光泵浦二極管的電流至一較低電流水平以減少激光泵浦二極管的熱負(fù)載；尋址朝向一第二標(biāo)靶區(qū)域的光束定位器，該標(biāo)靶區(qū)域不同于工件上的第一標(biāo)靶區(qū)域；增加供應(yīng)至激光泵浦二極管的電流至一第二較高電流水平以泵浦該固體激光介質(zhì)；操作Q開關(guān)以產(chǎn)生一第二激光輸出，其在2kHz的重復(fù)率時(shí)具有至少兩個(gè)激光脈沖；以及施加第二激光輸出至第二標(biāo)靶區(qū)域以從該第二標(biāo)靶區(qū)域移去標(biāo)靶材料。
42.如權(quán)利要求41所述的方法，其中分別在第一和第三時(shí)間激間隔以第一和第二較高水平的電流供應(yīng)電流至激光泵浦二極管，其中在以較低電流水平供應(yīng)電流至激光泵浦二極管發(fā)生在一第二時(shí)間間隔，且其中該第一和第二激光輸出具有的功率水平作為供應(yīng)至激光泵浦二極管的電流水平的函數(shù)而變化，且其中該激光泵浦二極管有電流誘導(dǎo)的累積熱相關(guān)的泵浦容量，其限制從第一至第三時(shí)間間隔能從激光二極管傳輸?shù)郊す饨橘|(zhì)的泵浦功率量，以便對(duì)激光二極管來說，在一等于該第一至第三時(shí)間間隔中，連續(xù)波時(shí)間間隔在第二時(shí)間間隔供應(yīng)的較低的電流水平允許在第一和第三時(shí)間間隔供應(yīng)的該第一和第二較高的電流水平超過一最大連續(xù)波電流水平，且以便對(duì)以給定的脈沖重復(fù)率的激光介質(zhì)來說，當(dāng)其被激光泵浦二極管以最大連續(xù)波電流水平泵浦時(shí)，第一和第二間隔激光輸出功率水平以給定的重復(fù)率超過一最大連續(xù)波泵浦激光輸出。
43.如權(quán)利要求42所述的方法，其中激光系統(tǒng)的鉆孔產(chǎn)量是作為間隔輸出的輸出功率水平的函數(shù)變化的，且當(dāng)該激光系統(tǒng)以最大連續(xù)波泵浦間隔輸出操作時(shí)，其鉆孔產(chǎn)量超過一最大連續(xù)波泵浦激光鉆孔產(chǎn)量。
44.如權(quán)利要求41所述的方法，其中于第一和第二較高電流水平供應(yīng)電流至激光泵浦二極管分別發(fā)生在第一和第三時(shí)間間隔，其中，于較低電流水平供應(yīng)電流至激光泵浦二極管發(fā)生在一第二時(shí)間間隔，且其中第一和第三時(shí)間間隔代表相等的時(shí)間量。
45.如權(quán)利要求41所述的方法，其中于第一和第二較高電流水平供應(yīng)電流至激光泵浦二極管分別發(fā)生在第一和第三時(shí)間間隔，其中，于較低電流水平供應(yīng)電流至激光泵浦二極管發(fā)生在一第二時(shí)間間隔，且其中第一和第三時(shí)間間隔代表不同的時(shí)間量。
46.如權(quán)利要求41所述的方法，其中于第一和第二較高電流水平供應(yīng)電流至激光泵浦二極管分別發(fā)生在第一和第三時(shí)間間隔，其中，于較低電流水平供應(yīng)電流至激光泵浦二極管發(fā)生在一第二時(shí)間間隔，且其中在第一和第三時(shí)間間隔供應(yīng)相等量的電流。
47.如權(quán)利要求41所述的方法，其中于第一和第二較高電流水平供應(yīng)電流至激光泵浦二極管分別發(fā)生在第一和第三時(shí)間間隔，其中，于較低電流水平供應(yīng)電流至激光泵浦二極管發(fā)生在一第二時(shí)間間隔，且其中在第一和第三時(shí)間間隔供應(yīng)不等量的電流。
48.如權(quán)利要求41所述的方法，其中較低的電流水平基本沒有電流。
49.如權(quán)利要求41所述的方法，其中供應(yīng)電流至激光泵浦二極管于第一和第二較高電流水平分別發(fā)生在第一和第三時(shí)間間隔，其中供應(yīng)電流至激光泵浦二極管于較低電流水平發(fā)生在一第二時(shí)間間隔，且其中在每個(gè)第一和第三時(shí)間間隔，第一和第二較高電流水平包括至少第一和第二不同電流水平值。
50.如權(quán)利要求49所述的方法，其中第一和第二電流水平值在處理標(biāo)靶區(qū)域的單層材料時(shí)被應(yīng)用。
51.如權(quán)利要求49所述的方法，其中第一電流水平值比第二電流水平值高，在處理標(biāo)靶區(qū)域內(nèi)的金屬層時(shí)，該第一電流水平值被應(yīng)用，且在處理標(biāo)靶區(qū)域內(nèi)的介電層時(shí)，該第二電流水平值被應(yīng)用。
52.如權(quán)利要求41所述的方法，其中以第一和第二較高電流水平供應(yīng)電流至激光泵浦二極管分別發(fā)生在第一和第三時(shí)間間隔，其中以較低的電流水平供應(yīng)電流至激光泵浦二極管發(fā)生在第二時(shí)間間隔，其中，該第一和第二激光輸出的輸出功率水平是作為供應(yīng)至激光泵浦二極管的電流水平的函數(shù)而變化的，且其中激光介質(zhì)由于熱誘導(dǎo)變形而能在第一至第三時(shí)間間隔中容許有限量的泵浦功率，以便對(duì)于激光介質(zhì)來說，在等于第一至第三時(shí)間間隔的連續(xù)波時(shí)間間隔中，一于第二時(shí)間間隔供應(yīng)至激光介質(zhì)的較低水平的泵浦功率允許一于第一和第三時(shí)間間隔供應(yīng)至激光介質(zhì)較高水平的泵浦功率超過一最大連續(xù)波泵浦功率，且對(duì)激光介質(zhì)來說，當(dāng)其被最大連續(xù)波泵浦功率泵浦時(shí)，第一和第二激光輸出的輸出功率水平超過一最大連續(xù)波泵浦激光輸出。
53.如權(quán)利要求52所述的方法，其中該激光系統(tǒng)的鉆孔產(chǎn)量是作為激光輸出的輸出功率水平的函數(shù)而變化的，且對(duì)該激光系統(tǒng)來說，當(dāng)其被操作于最大連續(xù)波泵浦激光輸出時(shí)，鉆孔產(chǎn)量超過一最大連續(xù)波泵浦激光鉆孔產(chǎn)量。
54.如權(quán)利要求41所述的方法，其中該Q開關(guān)以一大于2kHz的重復(fù)率產(chǎn)生激光脈沖。
55.如權(quán)利要求41所述的方法，其中該第一和第二激光輸出包括一大約短于400nm的波長。
56.如權(quán)利要求41所述的方法，其中該第一和第二激光輸出包括一YAG或YLF激光器發(fā)射的波長，或包括1064nm，532nm，355nm，或266nm(但不局限于這些)波長的諧波之一。
57.如權(quán)利要求41所述的方法，其中以第一和第二較高電流水平供應(yīng)電流至激光泵浦二極管分別發(fā)生在第一和第三時(shí)間間隔，其中，以較低的電流水平供應(yīng)電流至激光泵浦二極管發(fā)生在一第二時(shí)間間隔，且在一第四時(shí)間間隔中，光束定位器從第二標(biāo)靶區(qū)域改變其輸出位置至一第三分立標(biāo)靶區(qū)域，該第四時(shí)間間隔表示一不等于第二時(shí)間間隔的時(shí)間量。
58.如權(quán)利要求41所述的方法，其中單層中的通孔形成于單個(gè)通過操作。
59.如權(quán)利要求41所述的方法，其中通過超過一個(gè)標(biāo)靶層的通孔形成于加倍的通過操作。
60.如權(quán)利要求1所述的方法，其中通過超過一個(gè)標(biāo)靶層的通孔形成于單個(gè)通過操作。
全文摘要
一種準(zhǔn)連續(xù)波二極管或燈泵浦A－OQ開關(guān)固體紫外激光系統(tǒng)(10)，當(dāng)定位系統(tǒng)(36)正從一標(biāo)靶區(qū)域(31)移動(dòng)到下一標(biāo)靶區(qū)域(31)時(shí)，使該準(zhǔn)連續(xù)波泵浦的時(shí)序與該定位系統(tǒng)(36)的移動(dòng)同步以便減少泵浦，從而以高產(chǎn)出量于一基板地形成多個(gè)通孔。所以，用于通孔形成的有效的紫外線功率較高，即使是對(duì)于激光介質(zhì)(16)及激光泵浦二極管(14)的熱負(fù)載的平均泵浦功率維持和目前可得到的，通過具有傳統(tǒng)可得到的激光泵浦二極管(14)的傳統(tǒng)連續(xù)波泵浦功率相同。該準(zhǔn)連續(xù)波泵電流波形可進(jìn)一步地修改，以實(shí)現(xiàn)一優(yōu)選的紫外脈沖振幅波形。
文檔編號(hào)B23K26/00GK1714318SQ02806403
公開日2005年12月28日 申請(qǐng)日期2002年3月12日 優(yōu)先權(quán)日2001年3月12日
發(fā)明者Y·孫, R·S·哈里斯 申請(qǐng)人:電子科學(xué)工業(yè)公司