專利名稱：多束微加工系統(tǒng)和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明一般涉及多激光束定位和能量傳送系統(tǒng)，尤其涉及應(yīng)用于在電路基片上鉆出孔的激光微加工系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
各種各樣的激光加工設(shè)備用于微加工基片上的圖案。這樣的系統(tǒng)通常用在電路板的制造中。電路板制造包括使諸如導(dǎo)線和襯墊之類的導(dǎo)電元件沉積在非導(dǎo)電的、通常絕緣的基片上。幾個(gè)這樣的基片粘在一起，形成一個(gè)電路板。為了使電路板的各層之間電互連，需要通過(guò)所選的基片層鉆出稱為通道的孔，并且用導(dǎo)體鋪設(shè)起來(lái)。電路板通常包括數(shù)以萬(wàn)計(jì)的通道，甚至多達(dá)數(shù)以十萬(wàn)計(jì)的通道。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明試圖提供改進(jìn)的激光微加工設(shè)備，諸如對(duì)于在電路板中形成通道特別有用的設(shè)備。
本發(fā)明還試圖提供起一般說(shuō)來(lái)同時(shí)獨(dú)立定位數(shù)個(gè)激光束作用的改進(jìn)激光束定位系統(tǒng)。
本發(fā)明還試圖提供應(yīng)用起同時(shí)獨(dú)立定位數(shù)個(gè)激光束作用的激光束定位系統(tǒng)的激光微加工設(shè)備。
本發(fā)明還試圖提供激光能損失最小的、起獨(dú)立定位數(shù)個(gè)脈沖激光束作用的激光微加工設(shè)備。
本發(fā)明還試圖提供有效利用由脈沖激光，諸如固態(tài)Q開(kāi)關(guān)激光供應(yīng)的激光能，在電路基片上生成通道的激光微加工設(shè)備。
本發(fā)明還試圖提供通過(guò)把輸入激光束分解成用于微加工基片的至少一個(gè)輸出激光束，控制激光束的能量特性的激光微加工設(shè)備。至少一個(gè)輸出激光束可以是單個(gè)激光束，也可以是數(shù)個(gè)激光束。
本發(fā)明還試圖提供起把輸入激光束分解成可選個(gè)輸出子束作用的動(dòng)態(tài)分束器。
本發(fā)明還試圖提供起有選擇地把輸入激光束分解成具有一般說(shuō)來(lái)均勻的能量特性的數(shù)個(gè)子束作用的動(dòng)態(tài)分束器。
本發(fā)明還試圖提供有選擇地使脈沖束偏轉(zhuǎn)到預(yù)先定位在適合于把能量傳送到基片上的可選位置的方向的可選定位束反射器的系統(tǒng)?？梢砸灾辽倥c激光束的脈沖重復(fù)一樣快的工作循環(huán)使激光束偏轉(zhuǎn)。以慢于脈沖重復(fù)率的工作循環(huán)定位反射器。
本發(fā)明還試圖提供起把輸入激光束分解成每一個(gè)指向可選方向的數(shù)個(gè)輸出激光束作用的動(dòng)態(tài)分束器。按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，輸出激光束的每一個(gè)是從分束器的不同空間部分發(fā)出的。
本發(fā)明還試圖提供起接收一般說(shuō)來(lái)沿著公共面?zhèn)鞑サ臄?shù)個(gè)激光束，和使每個(gè)激光束轉(zhuǎn)向到平面之外的二維位置陳列中的一個(gè)位置作用的激光束轉(zhuǎn)向器。
按照本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的一個(gè)總的方面，對(duì)，例如，微加工基片有用的激光束定位系統(tǒng)起提供沿著可選方向動(dòng)態(tài)偏轉(zhuǎn)的數(shù)個(gè)子束的作用。每個(gè)子束被偏轉(zhuǎn)成照射在位于可獨(dú)立定位偏轉(zhuǎn)器的陣列中的一個(gè)偏轉(zhuǎn)器上，在那里子束被偏轉(zhuǎn)器進(jìn)一步偏轉(zhuǎn)成照射在可選位置上的基片上。按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，數(shù)個(gè)子束是可動(dòng)態(tài)控制的分束器從單個(gè)輸入束中生成的。
按照本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的一個(gè)總的方面，把能量傳送到基片的系統(tǒng)包括可動(dòng)態(tài)定向輻射能量源，用于提供沿著可動(dòng)態(tài)選擇方向傳播的數(shù)個(gè)輻射束。數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元中的可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元起接收激光束和把它們引向基片上的可選位置的作用。
按照本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的另一個(gè)總的方面，把能量傳送到基片的系統(tǒng)包括提供一個(gè)輻射束的至少一個(gè)輻射能量源；起把激光束分解成數(shù)個(gè)子束作用的分束器，每個(gè)子束沿著可選方向傳播；和數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元，其中的一些接收數(shù)個(gè)子束和把它們引向基片上的可選位置。
按照本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的另一個(gè)總的方面，把能量傳送到基片的系統(tǒng)包括提供一個(gè)輻射束的至少一個(gè)輻射能量源和布置在輻射能量源和基片之間的可動(dòng)態(tài)配置分束器。
按照本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的另一個(gè)總的方面，把能量傳送到基片的系統(tǒng)包括提供一個(gè)輻射束的至少一個(gè)輻射能量源和布置在輻射能量源和基片之間的光電多束發(fā)生器。多束發(fā)生器起從激光束中生成至少兩個(gè)子束和選擇每個(gè)子束的能量密度特性的作用。
按照本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的另一個(gè)總的方面，把能量傳送到基片的系統(tǒng)包括沿著光軸提供脈沖輻射束的至少一個(gè)脈沖輻射能量源，脈沖束包括通過(guò)時(shí)間脈沖間距分開(kāi)的多個(gè)脈沖；和布置在輻射能量源和基片之間的多束、角度可選擇和可改變輸出束分束器。角度可選擇和可改變輸出束分束器起以相對(duì)于光軸的所選角度輸出數(shù)個(gè)子束的作用。角度可以小于時(shí)間脈沖間距的時(shí)間量為單位改變。
按照本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的另一個(gè)總的方面，把能量傳送到基片的系統(tǒng)包括提供脈沖輻射束的至少一個(gè)脈沖輻射能量源，脈沖束包括通過(guò)時(shí)間脈沖間距分開(kāi)的多個(gè)脈沖；布置在輻射能量源和基片之間的分束器，分束器起以可改變的可選角度輸出數(shù)個(gè)子束的作用；和數(shù)個(gè)可選空間取向偏轉(zhuǎn)器。偏轉(zhuǎn)器起以大于時(shí)間脈沖間距的時(shí)間量為單位改變空間取向的作用。一些空間取向偏轉(zhuǎn)器被安排成接收子束和把子束引向基片。
按照本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的另一個(gè)總的方面，把能量傳送到基片的系統(tǒng)包括提供一個(gè)輻射束的至少一個(gè)輻射能量源；起把激光束分解成可選個(gè)輸出束作用的分束器，輸出束具有在功能上與可選個(gè)數(shù)有關(guān)的能量特性；和束導(dǎo)引單元，用于接收輸出束和引導(dǎo)輸出束，以便微加工一部分基片。
按照本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的另一個(gè)總的方面，把能量傳送到基片的系統(tǒng)包括提供在平面內(nèi)傳播的數(shù)個(gè)輻射束的至少一個(gè)輻射能量源、和接收數(shù)個(gè)激光束和把至少一些激光束偏轉(zhuǎn)到平面之外的預(yù)定位置的數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器。
按照本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的另一個(gè)總的方面，把能量傳送到基片的系統(tǒng)包括提供一個(gè)輻射束的至少一個(gè)輻射能量源、起接收激光束和輸出在平面內(nèi)傳播的數(shù)個(gè)子束的分束器、和接收數(shù)個(gè)子束和把數(shù)個(gè)子束的至少一些偏轉(zhuǎn)到平面之外的預(yù)定位置的數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器。
按照本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的另一個(gè)總的方面，把能量傳送到基片的方法包括在第一時(shí)間間隔，把第一數(shù)個(gè)輻射束引向第一數(shù)個(gè)可選定位偏轉(zhuǎn)器，以便把第一數(shù)個(gè)激光束引向第一數(shù)個(gè)位置，在該第一時(shí)間間隔，有選擇地定位第二數(shù)個(gè)可選定位偏轉(zhuǎn)器，和在第二時(shí)間間隔，把第一數(shù)個(gè)輻射束引向第二數(shù)個(gè)可選定位偏轉(zhuǎn)器，以便把第一數(shù)個(gè)激光束引向第二數(shù)個(gè)位置。
按照本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的另一個(gè)總的方面，把能量傳送到基片的系統(tǒng)包括提供至少一個(gè)輻射束的至少一個(gè)輻射束源；和至少第一和第二偏轉(zhuǎn)器，被布置成接收至少一個(gè)激光束，以便把激光束傳送到基片上各自的、至少第一和第二的、至少部分重疊的位置上。
按照本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的另一個(gè)總的方面，激光微加工設(shè)備包括提供數(shù)個(gè)輻射束的至少一個(gè)輻射束源；布置在至少一個(gè)輻射束源和要微加工的基片之間的數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位偏轉(zhuǎn)器，數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位偏轉(zhuǎn)器起把至少一個(gè)輻射束獨(dú)立傳送到基片上的可選位置的作用；和布置在至少一個(gè)輻射束源和基片之間的聚焦透鏡，聚焦透鏡接收數(shù)個(gè)輻射束和起把這些激光束同時(shí)聚焦在基片上的可選位置上的作用。
按照本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的另一個(gè)總的方面，聲光設(shè)備包括沿著光軸接收一個(gè)輻射束的光學(xué)元件；和與光學(xué)元件相聯(lián)系的換能器，換能器在光學(xué)元件中形成同時(shí)具有不同聲音頻率的聲波，光學(xué)元件起以相對(duì)于光軸的不同角度輸出數(shù)個(gè)子束的作用。
按照本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的另一個(gè)總的方面，微加工基片的方法包括把激光束提供給分束器器件，把激光束分解成第一個(gè)數(shù)的輸出束和引導(dǎo)第一個(gè)數(shù)的輸出束，以便在多層基片的第一層中形成至少一個(gè)孔隙，然后，把激光束分解成第二個(gè)數(shù)的輸出束和引導(dǎo)第二個(gè)數(shù)的輸出束的一些，以便通過(guò)至少一個(gè)孔隙消除多層基片的第二層的所選部分。
本發(fā)明的其它特征和方面包括如下的一個(gè)或多個(gè)的各種組合輻射能量源包括輸出每一個(gè)通過(guò)輻射能量的脈沖定義的數(shù)個(gè)激光束的脈沖輻射能量源。
脈沖輻射能量源包括至少一個(gè)Q開(kāi)關(guān)激光器。
可動(dòng)態(tài)定向輻射能量源包括起接收一個(gè)輻射能量束和把該激光束分解成可選個(gè)子束作用的分束器。
可動(dòng)態(tài)定向輻射能量源包括起接收一個(gè)輻射能量束，把該激光束分解成數(shù)個(gè)子束和沿著每個(gè)可選方向引導(dǎo)子束作用的分束器。
分束器包括其操作受控制信號(hào)支配的聲光偏轉(zhuǎn)器。
分束器包括受控制信號(hào)支配的、含有聲波發(fā)生器的聲光偏轉(zhuǎn)器，聲波發(fā)生器生成決定聲光偏轉(zhuǎn)器輸出的子束的個(gè)數(shù)的聲波。
分束器包括受控制信號(hào)支配的、含有聲波發(fā)生器的聲光偏轉(zhuǎn)器，聲波發(fā)生器生成決定子束的可選方向的聲波。
聲光偏轉(zhuǎn)器中的聲波包括數(shù)個(gè)空間不同聲波段，每個(gè)空間不同聲波段通過(guò)具有不同頻率的控制信號(hào)的一部分來(lái)定義。
聲波中的每個(gè)空間不同聲波段決定是與聲波段相對(duì)應(yīng)的控制信號(hào)的一部分的頻率的函數(shù)的相應(yīng)子束的相應(yīng)空間不同方向。
空間不同聲波段的個(gè)數(shù)決定相應(yīng)子束的個(gè)數(shù)。
可動(dòng)態(tài)定向輻射能量源包括接收一個(gè)輻射能量束和將該激光束分解成可選個(gè)子束的可動(dòng)態(tài)配置分束器?？蓜?dòng)態(tài)配置分束器能夠在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變子束的個(gè)數(shù)和方向的至少一個(gè)，和輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)大于重新配置時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變子束的方向，和輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
束導(dǎo)引單元的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。致動(dòng)器包括壓電器件或MEMs器件。
束導(dǎo)引器件的個(gè)數(shù)超過(guò)包括在數(shù)個(gè)子束中的子束的個(gè)數(shù)。數(shù)個(gè)子束的至少一些被引向數(shù)個(gè)束導(dǎo)引器件的至少一些，而數(shù)個(gè)束導(dǎo)引器件的其它一些被重新定位。
可選個(gè)子束都位于同一平面內(nèi)，二維陣列的束導(dǎo)引單元位于平面之外，和在光學(xué)上置于至少一個(gè)可動(dòng)態(tài)定向輻射能量源和數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元之間的固定偏轉(zhuǎn)器陣列起把位于平面之內(nèi)的激光束引向平面之外的位置的作用。
附圖簡(jiǎn)述通過(guò)結(jié)合附圖，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行如下詳細(xì)描述，可以更全面地理解和認(rèn)識(shí)本發(fā)明，在附圖中

圖1A是制造按照本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例構(gòu)造和起作用的電路的系統(tǒng)和功能的簡(jiǎn)化局部圖示的、局部方塊圖例圖；圖1B是用在圖1的系統(tǒng)和功能中的激光器輸出的激光脈沖的時(shí)序圖；圖2是在圖1的系統(tǒng)和功能中微加工電基片的設(shè)備的一部分的更詳細(xì)一點(diǎn)局部圖示的、局部方塊圖例圖；圖3是圖2的系統(tǒng)和功能的一部分的一個(gè)方面操作的更詳細(xì)一點(diǎn)局部圖示的、局部方塊圖例圖；
圖4是按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例制造電路的方法的流程圖；圖5是顯示在圖1A和2的系統(tǒng)和功能中，改變由動(dòng)態(tài)分束器產(chǎn)生的激光束的個(gè)數(shù)和角度的結(jié)果的例圖；圖6是顯示在圖1A和2的系統(tǒng)和功能中，改變由動(dòng)態(tài)分束器產(chǎn)生的多個(gè)激光束的角度的結(jié)果的例圖；圖7是顯示在圖1A和2的系統(tǒng)和功能中，改變通過(guò)包括多個(gè)至少部分重疊不同頻率成分的調(diào)制控制信號(hào)產(chǎn)生的、由動(dòng)態(tài)分束器產(chǎn)生的多個(gè)至少部分重疊激光束的角度的結(jié)果的例圖；圖8是顯示在圖1A和2的系統(tǒng)和功能中，改變由動(dòng)態(tài)分束器產(chǎn)生的多個(gè)激光束中的能量分布的結(jié)果的例圖；圖9A和9B是顯示在圖1A和2的系統(tǒng)和功能中，改變由動(dòng)態(tài)分束器產(chǎn)生的直徑不變激光束的個(gè)數(shù)的結(jié)果的例圖；和圖10A和10B是顯示按照本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，改變?nèi)鐖D9A和9B所示的由動(dòng)態(tài)分束器產(chǎn)生的直徑不變激光束的個(gè)數(shù)的結(jié)果的例圖。
優(yōu)選實(shí)施例詳述現(xiàn)在參考圖1A和圖1B，圖1A是制造按照本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例構(gòu)造和起作用的電路的系統(tǒng)和功能的簡(jiǎn)化局部圖示的、局部方塊圖例圖，和圖1B是用在圖1的系統(tǒng)和功能中的激光器輸出的激光脈沖的時(shí)序圖。圖1A所示的系統(tǒng)包括激光微加工設(shè)備10，它還包括將能量傳送到基片的功能。
在制造印刷電路板的過(guò)程中，在在印刷電路板14中微加工像通道12那樣的小孔的情況下，設(shè)備10尤其有用。設(shè)備10也可以用在應(yīng)用微加工的其它適當(dāng)制造過(guò)程中，包括(不限于此)平板顯示器上非晶硅的有選擇退火和電路上焊接掩模的消除。由此，盡管是在微加工印刷電路板的背景下對(duì)本發(fā)明加以描述的，但本發(fā)明的范圍不應(yīng)該僅僅局限于這種應(yīng)用。
適合于利用如下所述的系統(tǒng)和方法微加工的、像基片14那樣的印刷電路板基片通常包括含有一個(gè)或多個(gè)電路層的絕緣基片，例如，環(huán)氧玻璃，每個(gè)電路層在上面有選擇地形成導(dǎo)體圖案16。基片可以由單層組成，也可以由幾個(gè)基片層粘合在一起形成的疊層組成。另外，如圖1A所示，基片14的最外層可以包括在上面形成的導(dǎo)體圖案16?？蛇x地，基片14的最外層可以包括，例如，像，例如，標(biāo)號(hào)17所指的區(qū)域所示的那樣的、基本上與基片14的外表的連續(xù)部分重疊的金屬箔。
在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，如圖1A所示，激光微加工設(shè)備10包括輸出脈沖激光束22的脈沖激光器20。脈沖激光束22通過(guò)激光脈沖圖26(圖1B)中的峰24示意性指出的一串光脈沖來(lái)定義。按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，脈沖激光器20是以在10-50KHz之間，最好在大約10-20KHz之間的脈沖重復(fù)率提供脈沖UV激光束22的三倍頻Q開(kāi)頭YAG激光器。適用的Q開(kāi)關(guān)激光器目前可從，例如，Spectra Physics，Lightwave Electronics and Coherent Inc.all ofCalifomia U.S.A(美國(guó)加州)公司購(gòu)買(mǎi)到。與應(yīng)用于制造印刷電路板的典型材料適當(dāng)配合的其它商用脈沖激光器也可使用。
在本申請(qǐng)人與本申請(qǐng)同時(shí)提出的和要求美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)第60/362,084號(hào)的權(quán)益的同時(shí)待審美國(guó)專利申請(qǐng)第＿＿＿＿號(hào)中描述了適合用作脈沖激光器20、起輸出特別適合微加工包含玻璃的基片的脈沖UV激光束作用的另一種激光器，特此全文引用，以供參考。
在高度簡(jiǎn)化地示意性表示激光微加工設(shè)備10的圖1A所示的實(shí)施例中，脈沖激光束22照射在第一透鏡28上，第一透鏡28最好是起把激光束22平化在像聲光偏轉(zhuǎn)器(AOD)30那樣的第一可變偏轉(zhuǎn)器組件中的像面(未示出)上作用的柱面透鏡。最好，AOD 30包括換能器單元32和由石英或其它適當(dāng)晶狀材料組成的半透明晶體構(gòu)件34。
換能器32接收控制信號(hào)36和生成穿過(guò)AOD 30的晶體構(gòu)件34的聲波38。控制信號(hào)36最好是RF(射頻)調(diào)制器40提供的RF信號(hào)，RF調(diào)制器40最好由直接數(shù)字合成器(DDS)42，或其它適當(dāng)信號(hào)發(fā)生器，例如，電壓控制振蕩器(VCO)來(lái)驅(qū)動(dòng)。提供與DDS 42和激光器驅(qū)動(dòng)器47可操作通信的系統(tǒng)控制器44來(lái)協(xié)調(diào)控制信號(hào)36的生成和定義脈沖激光束22的激光脈沖24，以便按照要制造的電路的所需設(shè)計(jì)圖案，通過(guò)，例如，燒蝕，消除基片14的某些部分。這樣的設(shè)計(jì)圖案可以由，例如，代表要制造的電路的CAM數(shù)據(jù)文件46或其它適當(dāng)計(jì)算機(jī)文件提供。
如現(xiàn)有技術(shù)所知，當(dāng)激光束22照射在上面時(shí)，在晶體構(gòu)件34中存在聲波38使激光束22偏轉(zhuǎn)了角度θn，根據(jù)如下公式，θn是波26的頻率fn的函數(shù)
θn=Δfn×λυs]]>其中Δfn＝fn-f0；λ＝激光束22的波長(zhǎng)；υs＝AOD 30的晶體34中的聲速；和n是如下所述，代表子激光束的索引號(hào)的整數(shù)。
按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，AOD起動(dòng)態(tài)分束器的作用，它支配著激光束22分解成的若干個(gè)分段的至少一個(gè)分段和它的偏轉(zhuǎn)角?？梢赃@樣有選擇地提供信號(hào)36，使聲波38以不變頻率穿過(guò)晶體構(gòu)件34。可選地，也可以這樣有選擇地提供信號(hào)36，使聲波38以不同頻率穿過(guò)晶體構(gòu)件34。
下面參照?qǐng)D5-7，描述用作動(dòng)態(tài)分束器的AOD 30的結(jié)構(gòu)、功能和操作的方方面面。在本申請(qǐng)人與本申請(qǐng)同時(shí)提出的、名稱為“動(dòng)態(tài)多徑、聲光分束器和偏轉(zhuǎn)器(Dynamic Multi-Pass，Acousto-Optic Beam Splitter and Deflector)”的同時(shí)待審專利申請(qǐng)第＿＿＿＿號(hào)中描述了被配置和安排成起動(dòng)態(tài)分束器和偏轉(zhuǎn)器作用的另一種類型AOD的結(jié)構(gòu)和操作。
按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，信號(hào)36使聲波38在AOD 30中以不同頻率生成，以便在聲波38與激光脈沖24相結(jié)合的那個(gè)時(shí)刻，聲波38包括至少兩個(gè)不同頻率。通過(guò)生成多于一個(gè)頻率的聲波38，激光束22分解成多于一個(gè)的分段。通常，在激光脈沖照射在上面的時(shí)候，在AOD 30中不同的頻率在空間上可能是分開(kāi)的?；蛘?，不同的頻率可能以復(fù)波形的方式疊加在一起。
因此，當(dāng)聲波38以非均勻波形穿過(guò)晶體構(gòu)件32和與激光束22相結(jié)合時(shí)，激光束22被分段成幾個(gè)束段50或子束。在峰24(圖1B)所代表的激光束22照射在上面的時(shí)候，每個(gè)分段偏轉(zhuǎn)了角度θn，角度θn是晶體構(gòu)件34中聲波38的一個(gè)聲頻或幾個(gè)頻率的函數(shù)。
按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，AOD 30以小于激光束22的脈沖重復(fù)率的工作循環(huán)工作。換句話說(shuō)，當(dāng)激光脈沖24照射在上面時(shí)，重新配置AOD 30中的聲波38，以包括不同頻率成分所需的時(shí)間小于激光束22中相繼脈沖24之間的時(shí)間間距。
無(wú)論通過(guò)，例如，均勻聲波提供了單個(gè)分段，還是提供了如圖1所示的幾個(gè)分段，束段50的每一個(gè)都被引向第二可變偏轉(zhuǎn)器組件52。第二可變偏轉(zhuǎn)器組件52由數(shù)個(gè)可獨(dú)立傾斜束導(dǎo)引反射器單元54組成。
按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，第二可變偏轉(zhuǎn)器組件52包括光學(xué)MEMs器件，或者由可通過(guò)適當(dāng)壓電電機(jī)傾斜的反向鏡陣列構(gòu)成，或者由檢流計(jì)陣列構(gòu)成，或者包括任何其它適當(dāng)?shù)目瑟?dú)立傾斜反射器陣列。在如圖1A所示的第二可變偏轉(zhuǎn)器組件52的配置中，提供了6×6陣列的反射器單元54?？梢允褂萌魏纹渌m當(dāng)數(shù)量的可獨(dú)立傾斜反射器單元45。
提供可獨(dú)立控制數(shù)字光開(kāi)關(guān)陣列的適用光學(xué)MEMs器件是用在數(shù)字微型反向鏡器件(DMDTM)中的應(yīng)用技術(shù)，數(shù)字微型反向鏡器件(DMDTM)可從Texas Instruments ofDalla，U.S.A公司購(gòu)買(mǎi)到。或者，可以按照Mignardi等人詳細(xì)描述的DMDTM制造原理(Mignardi et al.，The Digital Micromirror Device-a Micro-Optical Electromechanical Device for Display Applica-tions，presentedin MEMS and MOEMS Technology and Applications(Rai-Choudhury，editor)，SPIE Press，2000)構(gòu)造適當(dāng)陣列的反射器單元54，將這個(gè)參考文獻(xiàn)列在這里，以供參考。
反射器單元54的每一個(gè)起分開(kāi)地和獨(dú)立地導(dǎo)引照射在上面的束段50，使其照射在基片14上，目標(biāo)區(qū)55中的可選位置上，以便微加工，鉆孔，要不然消除基片14在所需位置上的那一部分。
如圖1A所示，反射器單元45的操作可由，例如，與系統(tǒng)控制器44可操作通信的伺服控制器57來(lái)控制，以保證反射器單元45按照要制造的電路的所需設(shè)計(jì)圖案，適當(dāng)?shù)匾龑?dǎo)束段50，照射在基片14上的所需位置上。這樣的設(shè)計(jì)圖案可以由，例如，代表要制造的電路的CAM數(shù)據(jù)文件46或其它適當(dāng)計(jì)算機(jī)文件提供。
反射器單元54的每一個(gè)是這樣配置的，可以把照射在上面的激光束導(dǎo)引相應(yīng)覆蓋區(qū)中的可選位置。按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，與反射器單元54的至少一些相對(duì)應(yīng)的覆蓋區(qū)至少部分相互重疊。
按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，第二可變偏轉(zhuǎn)器組件52中反射器單元54的個(gè)數(shù)超過(guò)AOD 30輸出的束段50的最大個(gè)數(shù)。反射器單元54通常以慢于激光束22的脈沖重復(fù)率的工作循環(huán)工作。換句話說(shuō)，重新定向指定反射器單元54，以便可以把照射在上面的束段50重新定向到基片14上的新位置所需的時(shí)間大于激光束22中相繼脈沖24之間的時(shí)間間距。
由于反射器單元54的冗余度，對(duì)于激光束22中的任何給定脈沖24，束段50都只照射在反射器單元54的一些上，而未照射在其它一些上。因此，不接收子束50的反射器單元54可以被重新定位到新的空間方向，準(zhǔn)備接收來(lái)自隨后激光脈沖24的子束50，而一般說(shuō)來(lái)，與此同時(shí)，其它反射器單元54正在引導(dǎo)束段50，使其照射在基片14上。
如圖1A所示，折疊式反射鏡、聚焦透鏡63和焦闌成像透鏡64置在第二可變偏轉(zhuǎn)器組件52和基片14之間，把束段50傳送到基片14的表面。應(yīng)該認(rèn)識(shí)到，透鏡63和64的光學(xué)設(shè)計(jì)應(yīng)該適應(yīng)沿著朝相互不同方向延伸的光軸傳播的束段50。
還應(yīng)該認(rèn)識(shí)到，作為系統(tǒng)幾何和工程設(shè)計(jì)的函數(shù)，可以提供單個(gè)折疊式反射鏡，非折疊式反射鏡或多個(gè)折疊式反射鏡。另外，可以把聚焦透鏡63和焦闌透鏡64組合成單個(gè)光學(xué)元件，或者，可選地，透鏡62和64的每一個(gè)可以包括多個(gè)透鏡元件。此外，系統(tǒng)10可以包括變焦透鏡(未示出)，變焦透鏡起支配一個(gè)或多個(gè)束段50的橫截面大小，以便，例如，在基片14上形成直徑不等的小孔和通道的作用?？蛇x地，變焦光學(xué)可應(yīng)用于調(diào)整可以由AOD以不同直徑輸出的束段50的直徑和使該直徑保持不變。
按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，相對(duì)于入射束22的光軸的、AOD 30使束段50偏轉(zhuǎn)的角度θn通常是非常小的，數(shù)量級(jí)為10-2弧度。為了提供更緊湊的系統(tǒng)，最好在AOD 30的下游提供起提高束段50的相互角發(fā)散作用的、如透鏡56所示意性表示的、像可伸縮光學(xué)元件那樣的激光束擴(kuò)角器。
AOD 30一般起使子束50偏轉(zhuǎn)，以便束段50的光軸位于平面內(nèi)的作用。如圖1A所示，第二可變偏轉(zhuǎn)器組件52包括位于束段50的光軸構(gòu)成的平面之外的二維陣列。如圖1A所示，從線性到二維映射組件58位于AOD 30和第二可變偏轉(zhuǎn)器組件52之間，映射組件58接收在同一平面內(nèi)傳播的束段50，并且把束段50重新定向到子束50的平面之外的二維陣列的位置。
按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，映射組件58包括數(shù)個(gè)映射部分60，映射部分60的每一個(gè)被定位在適當(dāng)空間方向，以便AOD 30輸出、照射在給定映射部分60上的束段50被引向映射給它的反射器單元54。
如下是系統(tǒng)10的操作和功能的簡(jiǎn)化、一般性描述在晶體34中與激光束22的脈沖24同步地生成聲波38，以便在第一激光束脈沖照射在那里的時(shí)候，所需聲波結(jié)構(gòu)出現(xiàn)在晶體構(gòu)件34中。聲波38可以具有在整個(gè)晶體34內(nèi)不變的頻率，這將產(chǎn)生單個(gè)束段50?？蛇x地，聲波也可以具有幾個(gè)不同的頻率。通常，不同頻率可以處在，例如，沿著聲波38的長(zhǎng)度方向的各個(gè)空間分段上，以生成隔開(kāi)一點(diǎn)的束段50。按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，AOD 30的工作循環(huán)足夠快，使它可以被動(dòng)態(tài)重新配置成有選擇地和不同地分解或偏轉(zhuǎn)激光束22中的每個(gè)脈沖24。在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，分束器的動(dòng)態(tài)重新配置是通過(guò)在定義激光束22的每個(gè)脈沖24照射在AOD 30上的那一時(shí)刻，在AOD 30中形成具有相互不同結(jié)構(gòu)的聲波完成的。
聲波38中的不同頻率使每個(gè)束段50偏轉(zhuǎn)可選角度θn，最好在穿過(guò)擴(kuò)束器透鏡56之后，照射在映射組件58的所選映射部分上。每個(gè)束段50被適當(dāng)?shù)挠成洳糠?0引向第二可變反射器組件52上反射器單元54之一上的相應(yīng)位置。使反射器單元54適當(dāng)傾斜，以便束段50隨后被進(jìn)一步引向基片14上的一個(gè)位置，供微加工或鉆孔基片14的所需位置之用。
按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，盡管AOD 30以一般說(shuō)來(lái)大于激光束22的脈沖重復(fù)率的工作循環(huán)工作，但它貢獻(xiàn)的偏轉(zhuǎn)相對(duì)有限，因?yàn)樗故?0偏轉(zhuǎn)相對(duì)小的偏轉(zhuǎn)角。束段50通常都位于同一平面內(nèi)。
相反，定位第二可變偏轉(zhuǎn)器組件52中的各個(gè)偏轉(zhuǎn)器單元54所需的時(shí)間通常大于定義激光束22的相繼脈沖之間的時(shí)間間距。但是，由于每個(gè)偏轉(zhuǎn)器單元54可能在相對(duì)大角范圍上，最好在至少二維內(nèi)傾斜，照射在反射器單元54上的子激光束可能被傳送成覆蓋相對(duì)大的空間范圍。
按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，使反射器單元54的每一個(gè)適當(dāng)傾斜，以便相鄰反射器單元54起把束段50傳送成覆蓋基片14的表面上相互重疊區(qū)域的作用。此外，第二可變偏轉(zhuǎn)器組件52中的偏轉(zhuǎn)器單元54能夠把束段50傳送到透鏡63和64的視域68內(nèi)的幾乎任何位置。
在微加工視域68中的所需部分55之后，相對(duì)于系統(tǒng)10相互移動(dòng)基片14和設(shè)備10，以便視域68覆蓋基片14的不同部分。
按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，組件52中反射器單元54的個(gè)數(shù)通常超過(guò)AOD 30把激光束22分解成束段50的個(gè)數(shù)。在初始時(shí)間間隔內(nèi)，束段50照射在第一數(shù)個(gè)反射器單元54上，但不照射在其它反射器單元54上。如下所述，初始時(shí)間間隔用于重新定位沒(méi)有接收到束段50的其它反射器單元54。
在隨后第二時(shí)間間隔內(nèi)，束段50經(jīng)AOD 30偏轉(zhuǎn)，照射在在前一個(gè)時(shí)間間隔內(nèi)沒(méi)有接收到束段50的反射器單元54的至少一些上?，F(xiàn)在，適當(dāng)?shù)刂匦露ㄎ粦?yīng)用在第二時(shí)間間隔中的反射器單元54，使子束50偏轉(zhuǎn)到基片14。在第二時(shí)間間隔內(nèi)，重新定位可能包括用在第一時(shí)間間隔中的、束段50沒(méi)有照射在上面的反射器單元的至少一些，供隨后的時(shí)間間隔使用。重復(fù)這個(gè)重新定位在給定時(shí)間間隔內(nèi)沒(méi)有使用的反射器單元54的過(guò)程。
一般說(shuō)來(lái)，可以認(rèn)為，與照射在所選反射器單元54的來(lái)自第一激光脈沖的束段50同時(shí)，其它反射器被同時(shí)重新定位成接收來(lái)自隨后激光束脈沖的束段50。
通常，與20KHz Q開(kāi)關(guān)激光器的大約20-200個(gè)脈沖相對(duì)應(yīng)，定位單個(gè)反射器單元54所需的時(shí)間是1-10毫秒的數(shù)量級(jí)。用于定位反射器54的、超過(guò)激光脈沖24的工作循環(huán)的時(shí)間長(zhǎng)度保證了穩(wěn)定束定點(diǎn)精度。另外，多個(gè)反射器54的使用保證了在在微加工基片14上的位置之后，重新定位反射器54的同時(shí)，使脈沖損失降到最小的冗余度。應(yīng)該認(rèn)識(shí)到，為了提高設(shè)備10的速度，和為了提供每個(gè)束段50中的受控能量劑量，對(duì)于多于一個(gè)的束段50，也許有必要使它們同時(shí)照射在基片14的表面上的同一位置上。在這樣的安排中，多個(gè)束段50的每一個(gè)被分別偏轉(zhuǎn)成照射在分開(kāi)的反射器54上，這些分開(kāi)的反射器54的每一個(gè)朝著把子束50引向照射在基片14上的同一位置上的方向。
現(xiàn)有參考圖2，圖2是在圖1的系統(tǒng)和功能中微加工電路的設(shè)備110的一部分的更詳細(xì)一點(diǎn)局部圖示的、局部方塊圖例圖。一般說(shuō)來(lái)，可以把激光加工設(shè)備110當(dāng)作把能量傳送到基片的系統(tǒng)。
在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，如圖1所示，激光微加工設(shè)備110包括輸出脈沖激光束122的脈沖激光器120。脈沖激光束122通過(guò)一串光脈沖來(lái)定義。按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，脈沖激光器120是是以在10-50KHz之間，最好在大約10-20KHz之間的脈沖重復(fù)率提供脈沖UV光束122的三倍頻Q開(kāi)頭YAG激光器。適用的Q開(kāi)關(guān)激光器目前可從，例如，Spectra Physics，Light-wave Electronics and Coherent Inc.all of California U.S.A(美國(guó)加州)公司購(gòu)買(mǎi)到。與應(yīng)用于制造印刷電路板的典型材料適當(dāng)配合的其它商用脈沖激光器也可使用。
在本申請(qǐng)人與本申請(qǐng)同時(shí)提出的和要求美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)第60/362,084號(hào)的權(quán)益的同時(shí)待審美國(guó)專利申請(qǐng)第＿＿＿＿號(hào)中描述了適合用作脈沖激光器120、起輸出特別適合微加工包含玻璃的基片的脈沖UV激光束作用的另一種激光器，特此全文引用，以供參考。
在高度簡(jiǎn)化地示意性表示激光微加工設(shè)備110的優(yōu)選實(shí)施例的圖2所示的實(shí)施例中，脈沖激光束122照射在第一透鏡128上，第一透鏡128最好是起把激光束122平化在像聲光偏轉(zhuǎn)器(AOD)130那樣的第一可變偏轉(zhuǎn)器組件中的像面(未示出)上作用的柱面透鏡。最好，AOD 130包括換能器單元132和由石英或任何其它適當(dāng)晶狀材料組成的半透明晶體構(gòu)件134。
換能器132受與圖1A的控制信號(hào)36相對(duì)應(yīng)的控制信號(hào)(未示出)控制，并且，與參照?qǐng)D1A所述的類似，起生成穿過(guò)AOD 130的晶體構(gòu)件134的聲波138的作用。聲波138起與晶體構(gòu)件134中的激光束122結(jié)合，動(dòng)態(tài)地和選擇地分解激光束122中的脈沖和使激光束122中的脈沖偏轉(zhuǎn)，以輸出束段150或子束150的作用。
因此，AOD 130起動(dòng)態(tài)分束器的作用，它通過(guò)形成具有可選波配置的適當(dāng)聲波138，控制激光束122分解成的若干個(gè)分段150的至少一個(gè)和所得束段所指的方向的。
下面參照?qǐng)D5-7，描述用作動(dòng)態(tài)分束器的AOD 130的結(jié)構(gòu)、功能和操作的方方面面。在本申請(qǐng)人與本申請(qǐng)同時(shí)提出的、名稱為“動(dòng)態(tài)多徑、聲光分束器和偏轉(zhuǎn)器(Dynamic Multi-Pass，Acousto-Optic Beam Splitter and Deflector)”的同時(shí)待審專利申請(qǐng)第＿＿＿＿號(hào)中描述了被配置和安排成起動(dòng)態(tài)分束器作用的另一種類型AOD的結(jié)構(gòu)和操作。
按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，在AOD 30中可以以幾種不同頻率形成聲波138，以便在聲波138與激光脈沖122相結(jié)合的那個(gè)時(shí)刻，聲波138包括至少兩個(gè)不同頻率。通過(guò)形成多于一個(gè)頻率的聲波138，激光束122分解成多于一個(gè)的分段150。在激光脈沖照射在上面的時(shí)候，在AOD 30中不同的頻率在空間上可能是分開(kāi)的?；蛘?，不同的頻率可能以復(fù)波形的方式疊加在一起。
因此，當(dāng)聲波138以非均勻波形穿過(guò)晶體構(gòu)件132時(shí)，激光束122可能被分段成幾個(gè)束段150或子束。在激光束122中的激光脈沖照射在上面的時(shí)候，每個(gè)束段150偏轉(zhuǎn)了角度θn，角度θn是晶體構(gòu)件134中聲波138的一個(gè)聲頻或幾個(gè)頻率的函數(shù)。
按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，AOD 30以短于激光束122的脈沖重復(fù)率的工作循環(huán)工作。因此，當(dāng)與激光束122中的激光脈沖結(jié)合時(shí)，重新配置AOD 130中的聲波138，使其包括不同頻率成分，以便改變子束150的個(gè)數(shù)和各自方向的至少一個(gè)所需的時(shí)間小于激光束22中相繼脈沖122之間的時(shí)間間距。
無(wú)論通過(guò)，例如，均勻聲波提供了單個(gè)分段，還是提供了如圖2所示的幾個(gè)分段，束段150的每一個(gè)都被引向位于第二可變偏轉(zhuǎn)器組件152的第一可選目的。第二可變偏轉(zhuǎn)器組件152由數(shù)個(gè)可獨(dú)立傾斜束導(dǎo)引反射器單元154組成。
反射器單元154的每一個(gè)像參照?qǐng)D1A所述的那樣，也起進(jìn)一步分開(kāi)地和獨(dú)立地導(dǎo)引照射在上面的束段150，使其照射在基片14上，隨后，微加工，鉆孔，要不然消除基片14在這樣的位置上的那一部分的作用。
按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，每個(gè)反射器單元154包括安裝在定位器組件242上的反射鏡240，或其它適當(dāng)可反射單元，定位器組件242包括基座244、反射鏡支架246、至少一個(gè)可選致動(dòng)器248、和一個(gè)偏動(dòng)簧片(未示出)，在圖中顯示了以星形排列組裝起來(lái)的3個(gè)致動(dòng)器?？蛇x致動(dòng)器248的每一個(gè)是，例如，像可從Marco Systemanalyse und Entwicklung GmbH of Germany(德國(guó))公司購(gòu)買(mǎi)的TOROUE-BLOCKTM致動(dòng)器那樣的壓電致動(dòng)器，它獨(dú)立地提供如箭頭249所指的上下定位，以便有選擇地使反射鏡240傾斜到接收束段150的所需空間方向，隨后，引導(dǎo)束段150照射在基片14的表面上的所需位置上。
將圖2與圖1A合在一起考慮，從中可以認(rèn)識(shí)到，致動(dòng)器248的每一個(gè)可操作地與伺服控制器57相連接，正如上面參照?qǐng)D1A所述的那樣，伺服控制器57又可操作地與系統(tǒng)控制器44相連接，并且受系統(tǒng)控制器44控制。因此，可以認(rèn)識(shí)到，與，例如，包含在CAM數(shù)據(jù)文件46中的、印刷電路板中通道的圖案的圖案設(shè)計(jì)相對(duì)應(yīng)，與定義激光束122的激光脈沖同步地和與控制AOD 130的操作的控制信號(hào)的生成同步地獨(dú)立控制反射器單元154的相對(duì)空間取向，或傾斜，以便動(dòng)態(tài)地分解激光束122和使激光束122偏轉(zhuǎn)。束段150被偏轉(zhuǎn)到也適當(dāng)取向的所需反射器單元154，以便束段150最終照射在基片14上的所需位置上。
按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，反射器單元154的每一個(gè)是這樣配置的，可以把子束150導(dǎo)引基片14上相應(yīng)覆蓋區(qū)中的可選位置。與反射器單元154的至少一些相對(duì)應(yīng)的覆蓋區(qū)至少部分相互重疊。
第二可變偏轉(zhuǎn)器組件152中反射器單元154的個(gè)數(shù)通常超過(guò)AOD 30輸出的束段150的最大個(gè)數(shù)。因此，如圖2所示，第二可變偏轉(zhuǎn)器組件152包括36個(gè)反射器單元，而AOD 130輸出6個(gè)子束150。反射器單元154通常以小于激光束122的脈沖重復(fù)率的工作循環(huán)工作。因此，機(jī)械地重新定位反射器單元154，以便可以把照射在上面的束段150重新定向到基片14上的新位置所需的時(shí)間大于定義激光束122的相繼脈沖之間的時(shí)間間距。
由于反射器單元154中超過(guò)束段150的個(gè)數(shù)的冗余度，對(duì)于激光束122中的任何給定脈沖，束段150都發(fā)生偏轉(zhuǎn)，照射在一些反射器單元154上，而未照射在其它一些可反射單元154上。因此，不接收子束150的一些反射器單元170可以被重新定位到新的空間方向，準(zhǔn)備接收來(lái)自隨后激光脈沖24，而與此同時(shí)，其它接收束段150的反射器單元172正在引導(dǎo)束段150，使其在下游照射在基片14上。
按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，相對(duì)于入射束122的光軸的、AOD 130使束段150偏轉(zhuǎn)的角度θn通常是非常小的，數(shù)量級(jí)為10-2弧度。為了提供更緊湊的系統(tǒng)，最好在AOD 30的下游提供起提高束段150的相互角發(fā)散作用的、如透鏡156所示意性表示的、像可伸縮光學(xué)元件那樣的激光束擴(kuò)角器。
AOD 30一般起使子束150偏轉(zhuǎn)，以便束段150的光軸一般說(shuō)來(lái)位于平面內(nèi)的作用，而第二可變偏轉(zhuǎn)器組件152包括位于束段150的光軸構(gòu)成的平面之外的二維陣列。
二維映射組件180置于AOD 130和第二可變偏轉(zhuǎn)器組件152之間。映射組件180接收一般說(shuō)來(lái)都在同一平面內(nèi)傳播的束段150，并且把束段150重新定向到子束150的平面之外的二維陣列的位置。
按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，映射組件180包括一個(gè)陣列的支承件182和數(shù)個(gè)可反射部分186，該列支承構(gòu)件182包括數(shù)個(gè)束段150可以穿過(guò)的光可透射部分184，和可反射部分186起反射照射在上面的束段150的作用。
如圖2所示，在每個(gè)支承件182上，可反射部分186一般說(shuō)來(lái)是相互隔開(kāi)的，可反射部分186的各自位置最好相互側(cè)邊叉排在支承件當(dāng)中。每個(gè)可反射部分186一般說(shuō)來(lái)被映射到相應(yīng)反射器單元154。因此，進(jìn)入組件180中的每個(gè)束段150被第一支承件187上的各個(gè)可反射部分186接收，或者，穿過(guò)一個(gè)或多個(gè)支承件，直到被其它支承件182之一上的可反射部分186接收到為止。
因此，組件180提供了重新定向沿著處在束傳播面內(nèi)的光軸傳播的束段150，使它們照射在位于傳播面之外的二維陣列的位置上的手段。AOD 130有選擇地使束段150偏轉(zhuǎn)，照射在在組件180中支承件182之一上形成的可反射部分186之一。由于可反射部分186沿著傳播面中的X軸和Y軸兩者，在相交叉排的位置上與傳播面相交，AOD 130有選擇地使束段150偏轉(zhuǎn)的角度決定照射在上面的可反射部分186。因此，在二維陣列的可選位置中，像在第二可變偏轉(zhuǎn)器組件152上那樣的位置位于傳播面之外。
現(xiàn)在參考圖3，圖3是圖2的系統(tǒng)和功能的一部分的一個(gè)方面操作的更詳細(xì)一點(diǎn)局部圖示的、局部方塊圖例圖。激光脈沖時(shí)序圖226中的激光脈沖224分別被指定為234、236和238。激光122通常包括在時(shí)間上隔開(kāi)的激光脈沖224?？刂菩盘?hào)244、246和248分別顯示在激光脈沖234、236和238的下面。控制脈沖138生成的控制信號(hào)244-248被顯示成饋送到與AOD 260相聯(lián)系的換能器252。AOD 260通常與圖2中的AOD 130相對(duì)應(yīng)。與控制信號(hào)相對(duì)應(yīng)的聲波264-268顯示在AOD 260中。聲波264對(duì)應(yīng)于控制信號(hào)244，聲波266對(duì)應(yīng)于控制信號(hào)246，和聲波268對(duì)應(yīng)于控制信號(hào)248。為了簡(jiǎn)化例圖，對(duì)于激光脈沖224的每一個(gè)，只顯示了AOD 260的一部分。
在與激光脈沖224的發(fā)射相對(duì)應(yīng)的那一時(shí)刻，輸入激光束270照射在AOD 260上。聲波264-268分別使激光束270分段成統(tǒng)統(tǒng)指定為250的束段，束段的每一個(gè)偏轉(zhuǎn)了與聲波264-268中的相應(yīng)頻率存在函數(shù)關(guān)系的偏轉(zhuǎn)角。
與圖2中的束導(dǎo)引反射器單元154相對(duì)應(yīng)的第一、第二和第三反射器單元280、282和284分別顯示在AOD 260的每一個(gè)的下面。在與每個(gè)激光脈沖224相對(duì)應(yīng)的時(shí)刻，束段250被偏轉(zhuǎn)成照射在反射器單元280、282和284之一上。
圖3還具體顯示了激光脈沖224之間的時(shí)序關(guān)系、作為具有比脈沖224所代表的脈沖重復(fù)率快的工作循環(huán)的動(dòng)態(tài)分束器的AOD 260的操作、和具有比脈沖重復(fù)率慢的工作循環(huán)的反射器單元280、282和284的操作。
如上所述，把不同聲波引入AOD 260中所需的重新配置時(shí)間小于脈沖234之間的時(shí)間間距。因此，控制信號(hào)244-248的各自波形、和聲波264-268的各自波形每一個(gè)都是不同的，從而，對(duì)于脈沖224的每一個(gè)，導(dǎo)致束段250的可選偏轉(zhuǎn)。但是，應(yīng)該注意到，在相繼提供的控制信號(hào)244和246、和相應(yīng)的相繼提供的聲波264和266中，第一空間波段290中的頻率發(fā)生改變，而第二空間波段292中的頻率保持不變。
對(duì)于脈沖234和236兩者，與第二空間波段292相對(duì)應(yīng)的第一束段294照射在第三反射器單元284上。反射器單元284保持靜止，為脈沖234和236的每一個(gè)分別接收第一束段298。
第二束段296被聲波264的第一空間波段290偏轉(zhuǎn)到第一方向，而第三束段298被聲波266中的第一空間波段290偏轉(zhuǎn)到不同的方向。
此外，對(duì)于脈沖234和236，沒(méi)有一個(gè)束段250分別照射在第一和第二偏轉(zhuǎn)器單元280和282上，而是使它們指向未示出的其它反射器單元。脈沖234和236之間的時(shí)間間隔用于在空間上重新定位第一和第二反射器單元280和282。
在AOD 260中形成聲波268的新波形，以便在脈沖238那個(gè)時(shí)刻有選擇地分解激光束270和使激光束270偏轉(zhuǎn)。從脈沖238的下面可以看出，沒(méi)有束段250照射在第一反射器單元280或第三反射器單元284上。
第四束段300照射在反射器單元282上。束段300被偏轉(zhuǎn)到與第二空間波段292中聲波268的頻率存在函數(shù)關(guān)系的方向。應(yīng)該注意到，聲波268在第二空間波段292中的頻率隨聲波264和266而改變。第五束段302被偏轉(zhuǎn)到與第一空間波段290中聲波268的頻率存在函數(shù)關(guān)系的方向。
因此，從上文可以看出，像束導(dǎo)引反射器單元154那樣的反射器單元280-284的重新定位時(shí)間慢于脈沖224之間的時(shí)間間距。不過(guò)，由于動(dòng)態(tài)分束器的重新配置時(shí)間小于脈沖之間的時(shí)間間距，可以在大于脈沖間間距的時(shí)間間隔上重新定位任何冗余的反射器單元。然后，可以在小于脈沖之間的時(shí)間間距的時(shí)間間隔內(nèi)選擇處在適當(dāng)位置的反射器單元。
現(xiàn)在參考圖4，圖4是按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例制造電路的方法的流程圖320。下面在在含有疊加在絕緣基片上的金屬箔層的多層印刷電路板基片中形成微型通道的處理背景下，描述本方法。
目前所述的制造電路的方法應(yīng)用提供數(shù)個(gè)輻射束的至少一個(gè)可動(dòng)態(tài)定向輻射能量源，每個(gè)激光束沿著可動(dòng)態(tài)選擇的方向傳播。這些激光束被有選擇地引向數(shù)個(gè)可動(dòng)態(tài)定位束導(dǎo)引單元。束導(dǎo)引單元的一些接收這些激光束，并且將它們引向要微加工的印刷電路板基片上的可選位置。
適合于生成沿著可動(dòng)態(tài)選擇方向傳播的數(shù)個(gè)激光束的設(shè)備是參照?qǐng)D1A所述的激光微加工設(shè)備10、和參照?qǐng)D2所述的激光微加工設(shè)備110。因此，例如，通過(guò)讓至少一個(gè)Q開(kāi)關(guān)激光器輸出的一個(gè)或多個(gè)激光束穿過(guò)至少一個(gè)動(dòng)態(tài)分束和偏轉(zhuǎn)器件，可以產(chǎn)生沿著可動(dòng)態(tài)選擇方向傳播的激光束。
按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，動(dòng)態(tài)偏轉(zhuǎn)器器件起有選擇地提供至少一個(gè)金屬加工束段的作用。盡管可以配備提供可選分束功能的分離分束器件，但是，在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，分束功能是由動(dòng)態(tài)偏轉(zhuǎn)器提供的。金屬加工束段具有適當(dāng)于通過(guò)，例如，燃燒或燒蝕消除一部分金屬箔層的能量密度。
每個(gè)金屬加工束段被動(dòng)態(tài)偏轉(zhuǎn)成照射在像圖2中的可傾斜反射器單元154那樣的束導(dǎo)引器件上。對(duì)束導(dǎo)引器件加以適當(dāng)定位，以便把金屬加工束段導(dǎo)引到PCB(印刷電路板)基片上消除一部分金屬箔，以便暴露出下面的絕緣基片的可選位置。
雖然金屬加工束正在消除第一位置上的一部分金屬箔，但可以適當(dāng)?shù)刂匦露ㄎ划?dāng)前沒(méi)有使用的束導(dǎo)引器件，供消除其它可選位置上的金屬箔之用。因此，每個(gè)隨后的脈沖可以被動(dòng)態(tài)束偏轉(zhuǎn)器偏轉(zhuǎn)成照射在已經(jīng)定位的束導(dǎo)引器件上。
繼續(xù)在可選位置上消除一些部分的金屬箔，直到為所需數(shù)個(gè)位置都消除了金屬箔為止。
在隨后的操作中，動(dòng)態(tài)偏轉(zhuǎn)器器件提供具有與金屬加工束段不同的能量特性的至少一個(gè)絕緣體加工束段。分束功能可以由，例如，動(dòng)態(tài)偏轉(zhuǎn)器，或適當(dāng)分束器器件提供。例如，絕緣體加工束段具有比金屬加工束段低的能量密度。絕緣體加工束段的能量特性適合于通過(guò)，例如，燃燒或燒蝕消除一部分絕緣層，但是，不適合于消除一部分金屬箔。
按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，通過(guò)把激光束22和122分解成可選個(gè)束段50和150，和與束段的個(gè)數(shù)無(wú)關(guān)地保持所得束段150的直徑不變，控制束段50和150的各自能量密度。
每個(gè)絕緣體加工束段被動(dòng)態(tài)偏轉(zhuǎn)成照射在像圖2中的可傾斜反射器單元154那樣的束導(dǎo)引器件上。對(duì)束導(dǎo)引器件加以適當(dāng)定位，以便把每個(gè)絕緣體加工束段導(dǎo)引到一部分金屬箔已經(jīng)被消除，暴露出絕緣層的可選位置，并且消除所需部分的絕緣體。
雖然絕緣體加工束正在消除第一組位置上的一部分絕緣體，但可以適當(dāng)?shù)刂匦露ㄎ划?dāng)前沒(méi)有使用的束導(dǎo)引器件，供消除其它可選位置上的絕緣體之用。因此，每個(gè)隨后的脈沖可以被動(dòng)態(tài)束偏轉(zhuǎn)器偏轉(zhuǎn)成照射在已經(jīng)定位的束導(dǎo)引器件上。應(yīng)該認(rèn)識(shí)到，由于需要降低的能量密度來(lái)消除絕緣體，可以將激光束122劃分成數(shù)量更大的絕緣體加工束段，使得與消除金屬箔相比，消除絕緣體需要更大的系統(tǒng)吞吐量。
繼續(xù)在可選位置上消除絕緣體，直到對(duì)前面消除了金屬箔的幾乎所有位置都消除了絕緣體為止。一旦完成了這個(gè)操作，可以重新定位基片，供微加工它的隨后部分之用。
如上所述，按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，AOD被配置成起動(dòng)態(tài)地和有選擇地把輸入輻射束分解成可選個(gè)束段的作用，這些束段的每一個(gè)被動(dòng)態(tài)地引向可選方向。
現(xiàn)在參考圖5，圖5是在圖1A和2的系統(tǒng)和功能中，改變由動(dòng)態(tài)分束器產(chǎn)生的激光束的個(gè)數(shù)和角度的例圖。激光脈沖時(shí)序圖426中的激光脈沖424被分別指定為434、436和438。激光脈沖424定義，例如，圖2中的激光束122，并且在時(shí)間上相互隔開(kāi)。
控制信號(hào)444、446和448分別與脈沖434、436和438相對(duì)應(yīng)，顯示在激光脈沖時(shí)序圖426的上面?？刂菩盘?hào)444-448被顯示成饋送到與AOD 460相聯(lián)系的換能器452，AOD 460與圖2中的AOD 130相對(duì)應(yīng)。與控制信號(hào)444-448相對(duì)應(yīng)的聲波464、466和468顯示在AOD 460中。聲波464對(duì)應(yīng)于控制信號(hào)444，聲波466對(duì)應(yīng)于控制信號(hào)446，和聲波468對(duì)應(yīng)于控制信號(hào)448。
在與激光脈沖424的發(fā)射相對(duì)應(yīng)的那一時(shí)刻，輸入激光束470照射在AOD 460上。聲波464-468分別使激光束470分段成統(tǒng)統(tǒng)指定為450的可選個(gè)束段。束段450的每一個(gè)偏轉(zhuǎn)了與聲波464-468的一部分中的相應(yīng)頻率存在函數(shù)關(guān)系的偏轉(zhuǎn)角。
圖5具體顯示了激光脈沖424之間的時(shí)序關(guān)系、和作為動(dòng)態(tài)分束器的AOD 460的操作，動(dòng)態(tài)分束器起以比脈沖424所代表的脈沖重復(fù)率小的工作循環(huán)將輸入束470分解成可選個(gè)束段450的作用。
具有一般說(shuō)來(lái)不變的頻率的控制信號(hào)444在也具有一般說(shuō)來(lái)不變的頻率的AOD 460中生成聲波464。當(dāng)與脈沖434相聯(lián)系的激光束470照射在AOD460上時(shí)，輸出單個(gè)束段480。應(yīng)該注意到，激光束470的一部分可能沒(méi)有發(fā)生偏轉(zhuǎn)。為了簡(jiǎn)化例圖，對(duì)這種情況未加考慮。
具有六個(gè)空間不同分段482-492(每個(gè)分段具有一般說(shuō)來(lái)不變的頻率和與相鄰分段不同的頻率)的控制信號(hào)446在也具有六個(gè)空間不同分段502、504、506、508、510和512的AOD 460中生成聲波466?？臻g不同分段502-512的每一個(gè)分別具有一般說(shuō)來(lái)不變的聲頻和與相鄰分段不同的聲頻。當(dāng)與脈沖436相聯(lián)系的激光束470照射在AOD 460上時(shí)，輸出六個(gè)不同束段522-532。應(yīng)該注意到，激光束470的一部分可能沒(méi)有發(fā)生偏轉(zhuǎn)。為了簡(jiǎn)化例圖，對(duì)這種情況未加考慮。
具有兩個(gè)空間不同分段542和544(每個(gè)分段具有一般說(shuō)來(lái)不變的頻率和與相鄰分段不同的頻率)的控制信號(hào)448在也具有兩個(gè)空間不同分段562和564的AOD 460中生成聲波468?？臻g不同分段562和564的每一個(gè)分別具有一般說(shuō)來(lái)不變的聲頻和與相鄰分段不同的聲頻。當(dāng)與脈沖438相聯(lián)系的激光束470照射在AOD 460上時(shí)，輸出兩個(gè)不同束段572和574。應(yīng)該注意到，激光束470的一部分可能沒(méi)有發(fā)生偏轉(zhuǎn)。為了簡(jiǎn)化例圖，對(duì)這種情況未加考慮。
在如圖5所示的實(shí)施例中，激光束470被劃分成不同個(gè)數(shù)的束段450導(dǎo)致每一個(gè)都不同的束段450具有不同的寬度。在這樣的實(shí)施例中，最好在AOD460的下游提供適當(dāng)?shù)墓鈱W(xué)元件，以便控制由，束段450的每個(gè)不同個(gè)數(shù)引起的、照射在基片14上的斑點(diǎn)的大小，例如，以保證直徑不變。
現(xiàn)在參考圖6，圖6是在圖1A和2的系統(tǒng)和功能中，改變由動(dòng)態(tài)分束器產(chǎn)生的多個(gè)激光束的角度的例圖。激光脈沖時(shí)序圖626中的激光脈沖624被分別指定為634和636。激光脈沖624定義，例如，圖1中的激光束22和圖2中的激光束122，并且在時(shí)間上相互隔開(kāi)。
控制信號(hào)644和646分別與脈沖634和636相對(duì)應(yīng)，顯示在激光脈沖時(shí)序圖626的上面?？刂菩盘?hào)644和646被顯示成饋送到與AOD 660相聯(lián)系的換能器652，AOD 660與圖1中的AOD 30和圖2中的AOD 130相對(duì)應(yīng)。與控制信號(hào)644和646相對(duì)應(yīng)的聲波644和646顯示在AOD 660中。聲波664對(duì)應(yīng)于控制信號(hào)644，和聲波666對(duì)應(yīng)于控制信號(hào)646。
在與激光脈沖624的發(fā)射相對(duì)應(yīng)的那一時(shí)刻，輸入激光束670照射在AOD 660上。正如參照?qǐng)D5所述的那樣，聲波664和666分別使激光束670分段成統(tǒng)統(tǒng)指定為650的可選個(gè)束段。束段650的每一個(gè)偏轉(zhuǎn)了與聲波664-666的一部分中的相應(yīng)頻率存在函數(shù)關(guān)系的偏轉(zhuǎn)角。
圖6具體顯示了激光脈沖634之間的時(shí)序關(guān)系、和作為動(dòng)態(tài)分束器的AOD 660的操作，動(dòng)態(tài)分束器起均以比脈沖624所代表的脈沖重復(fù)率小的工作循環(huán)將輸入束670分解成可選個(gè)束段650和使束段650分開(kāi)地偏轉(zhuǎn)不同偏轉(zhuǎn)解的作用。
具有六個(gè)空間不同分段682-692(每個(gè)分段具有一般說(shuō)來(lái)不變的頻率和與相鄰分段不同的頻率)的控制信號(hào)644在也具有六個(gè)空間不同分段702、704、706、708、710和712的AOD 660中生成聲波664。空間不同分段702-712的每一個(gè)分別具有一般說(shuō)來(lái)不變的聲頻和與相鄰分段不同的聲頻。當(dāng)與脈沖634相聯(lián)系的激光束670照射在AOD 660上時(shí)，輸出六個(gè)不同束段722-732。應(yīng)該注意到，在分段702-712的每一個(gè)中的各自頻率相對(duì)于前一個(gè)分段，遞進(jìn)式地增加，結(jié)果，激光束722-732發(fā)生偏轉(zhuǎn)的角度也以相應(yīng)方式增加。
具有六個(gè)空間不同分段742-752(每個(gè)分段具有一般說(shuō)來(lái)不變的頻率和與相鄰分段不同的頻率)的控制信號(hào)646在也具有六個(gè)空間不同分段762、764、766、768、770和772的AOD 660中分別生成聲波666。空間不同分段762-772的每一個(gè)分別具有一般說(shuō)來(lái)不變的聲頻和與相鄰分段不同的聲頻。當(dāng)與脈沖636相聯(lián)系的激光束670照射在AOD 660上時(shí)，輸出六個(gè)不同束段782-790，其中，束段782對(duì)應(yīng)于聲波段762，束段784對(duì)應(yīng)于聲波段764，束段786對(duì)應(yīng)于聲波段766，束段788對(duì)應(yīng)于聲波段768，束段790對(duì)應(yīng)于聲波段770，和束段792對(duì)應(yīng)于聲波段792。
可以看出，在聲波段762-772的每一個(gè)中的各自頻率的排列不以老的方式改變。結(jié)果，激光束782-790的一些發(fā)生重疊。這使激光束782-790能夠有選擇地發(fā)生偏轉(zhuǎn)，照射在，例如，映射單元60(圖1)上。還應(yīng)該注意到，相對(duì)于激光束722-732，出現(xiàn)在激光束782-792中的角度改變來(lái)源于AOD 660中聲波的重新配置。因此，在小于脈沖634和636之間的時(shí)間間距的時(shí)間間隔內(nèi)實(shí)現(xiàn)從聲波664到聲波666、聲波配置的改變。
現(xiàn)在參考圖7，圖7是在圖1A和2的系統(tǒng)和功能中，改變由動(dòng)態(tài)分束器通過(guò)調(diào)制，例如，包括多個(gè)至少部分重疊不同頻率成分的控制信號(hào)產(chǎn)生的的多個(gè)至少部分重疊激光束的角度的例圖?？刂菩盘?hào)844被顯示成饋送到與AOD 860相聯(lián)系的換能器852，AOD 860與圖1中的AOD 30和圖2中的AOD130相對(duì)應(yīng)。與控制信號(hào)844相對(duì)應(yīng)的聲波864顯示在AOD 860中。
控制信號(hào)844與每一個(gè)具有不同頻率的三個(gè)控制信號(hào)(未示出)的相互疊加相對(duì)應(yīng)。應(yīng)該注意到，可以疊加個(gè)數(shù)更多或更少的控制信號(hào)，和選擇三個(gè)控制信號(hào)的疊加只是為了簡(jiǎn)化例圖。
在與脈沖激光束22或122中的激光脈沖的發(fā)射相對(duì)應(yīng)的那一時(shí)刻，輸入激光束870照射在AOD 860上，并且分解成三個(gè)束段880、882、和884。束段880-884的每一個(gè)具有一般說(shuō)來(lái)不同變的寬度，該寬度一般說(shuō)來(lái)與AOD860中聲波864的寬度有關(guān)。束段880、882和884的每一個(gè)偏轉(zhuǎn)了與聲波864中的頻率分量之一存在函數(shù)關(guān)系的角度，并且至少部分相互重疊。
現(xiàn)在參考圖8，圖8是在圖1A和2的系統(tǒng)和功能中，改變由動(dòng)態(tài)分束器產(chǎn)生的多個(gè)激光束段中的能量分布的例圖。通常，由于典型激光束的高斯能量輪廓，激光束的均勻空間分解導(dǎo)致不具有均勻能量特性的、像圖2中的束段150那樣的束段。應(yīng)該認(rèn)識(shí)到，可以配備位于動(dòng)態(tài)分束器上游的束成形單元，以形成具有非高斯，最好大禮帽型能量輪廓的、像激光束22或122那樣的激光束。按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，無(wú)需使用外部束成形單元，就可以形成當(dāng)前所述的、具有一般說(shuō)來(lái)均勻的能量特性的子束。另外，可以在小于脈沖激光中的脈沖之間的時(shí)間間距的時(shí)間間隔內(nèi)改變子束的能量特性。
在圖8中，激光脈沖時(shí)序圖926中的激光脈沖924被分別指定為934和936。激光脈沖924定義，例如，圖2中的激光束122，并且，在時(shí)間上是相互隔開(kāi)的。輸入能量圖940表示像激光束122那樣的激光束在一維下的典型高斯能量特性。
控制信號(hào)944和446顯示在激光脈沖時(shí)序圖926的上面，并且分別與脈沖934和936相對(duì)應(yīng)。控制信號(hào)944和946被顯示成饋送到與AOD 960相聯(lián)系的換能器952，AOD 960與圖1中的AOD 30和圖2中的AOD 130相對(duì)應(yīng)。與控制信號(hào)944和946相對(duì)應(yīng)的聲波顯示在AOD 960中。聲波964對(duì)應(yīng)于控制信號(hào)944，和聲波966對(duì)應(yīng)于控制信號(hào)946。
在與激光脈沖924的發(fā)射相對(duì)應(yīng)的那一時(shí)刻，輸入激光束970照射在AOD 960上。聲波964和966分別使激光束970分段成統(tǒng)統(tǒng)指定為950的可選個(gè)束段。束段950的每一個(gè)偏轉(zhuǎn)了與聲波964和966的一部分中的相應(yīng)頻率存在函數(shù)關(guān)系的偏轉(zhuǎn)角，并且，束段的寬度與具有不同頻率的聲波964和966的一部分的寬度有關(guān)。
從圖8中可以看出，信號(hào)944被劃分成寬度不等的六個(gè)分段945，因此，所得的聲波964同樣由寬度不等的六個(gè)分段組成。此外，所得束段972-982的各自寬度也是不等的。
應(yīng)該認(rèn)識(shí)到，分段945的各自寬度可以被動(dòng)態(tài)安排和調(diào)整成產(chǎn)生盡管具有不同空間寬度，但具有一般說(shuō)來(lái)均勻的能量特性的束段。因此，聲波964到非均勻分段945的可選劃分產(chǎn)生輸出能量圖984下面的區(qū)域所指的、每個(gè)激光束972-982的可選能量特性。例如，激光束970的動(dòng)態(tài)分解可以是這樣的，使激光束970的高能部分的相對(duì)小空間部分用于產(chǎn)生束段976和978，使激光束970的低能部分的相對(duì)大空間部分用于產(chǎn)生束段972和982，和激光束970的中等大小空間部分用于產(chǎn)生束段974和980。從直方圖990中可看出能量均勻性。
因此，一般說(shuō)來(lái)無(wú)需使輸入激光束970的能量衰減，通過(guò)在束段972-982中分配能量就可以控制輸出束段的能量均勻性，并且，使輸出束段的能量一般說(shuō)來(lái)是均勻的。此外，可以與激光束970分解成的束段984的個(gè)數(shù)或各個(gè)束段的偏轉(zhuǎn)方向無(wú)關(guān)地控制能量均勻性。按照本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，在AOD 960的下游配備適當(dāng)?shù)墓鈱W(xué)元件(未示出)，以便調(diào)整和控制每一個(gè)具有不同寬度，但具有一般說(shuō)來(lái)均勻的能量分布的束段942-982的各自直徑。
從圖8還可以看出，束段972-982當(dāng)中的能量分布在脈沖924之間可以不同。因此，在與脈沖936相聯(lián)系的圖形中，已經(jīng)使控制信號(hào)946的分段1005一般說(shuō)來(lái)是均勻的。結(jié)果，由聲波966產(chǎn)生的束段950的每一個(gè)的空間寬度一般說(shuō)來(lái)是均勻的，但是，如直方圖1010所示，由聲波966和激光束970的相互作用產(chǎn)生的束段當(dāng)中的能量分布是不均勻的。
通過(guò)配備，例如，起形成輸入束970的能量輪廓作用、在AOD 960的外部的束成形單元(未示出)，可以提高由聲波966形成的束段當(dāng)中能量特性的均勻性?？蛇x地，可以改變按慣例表示成幅度的、聲波966在各個(gè)分段1015上的功率。一般說(shuō)來(lái)，聲波966的功率的增加導(dǎo)致經(jīng)過(guò)AOD的透射率更高，即，相對(duì)較大的一部分能量穿過(guò)AOD 960。因此，為了提供具有一般說(shuō)來(lái)均勻的能量特性的子束950、和972-982，通過(guò)在上面降低聲波966的功率，可以衰減從具有相應(yīng)高能量電平的激光束970的空間部分中形成的束段的能量特性。
圖9A和9B是在圖1A和2的系統(tǒng)和功能中，改變由動(dòng)態(tài)分束器產(chǎn)生的直徑不變激光束的個(gè)數(shù)的例圖。如圖9A和9B所示，配備了束大小調(diào)節(jié)器1120，以便有選擇地改變照射在AOD 1130上的輸入束1170的大小。束大小調(diào)節(jié)器可以是，例如，擴(kuò)束器，變焦透鏡，或圓柱形望遠(yuǎn)鏡。
如圖9A所示，從束大小調(diào)節(jié)器1120輸出大小調(diào)整束1172。在如圖9A所示的例子中，大小調(diào)整束1172只照射在AOD 1130的一部分上，從而縮小了AOD 1130的工作部分。提供控制信號(hào)1136以便在AOD 1130中形成聲波1138，AOD 1130又起有選擇地把大小調(diào)整束1172分解成每一個(gè)具有，例如，標(biāo)準(zhǔn)化模大小的兩個(gè)束段1150的作用。
如圖9B所示，從束大小調(diào)節(jié)器1120輸出大小調(diào)整束1182。在如圖9B所示的例子中，激光束1182的大小與激光束1172的大小不同，相對(duì)于激光束1170基本上沒(méi)有改變，并且?guī)缀跽丈湓贏OD 1130的整個(gè)工作部分上。提供控制信號(hào)1146以便在AOD 1130中形成聲波1148，AOD 1130又起有選擇地把激光束1182分解成六個(gè)束段1190的作用。束段的每一個(gè)具有，例如，與束段1150的大小相對(duì)應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)化模大小。
圖10A和10B是按照本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，改變?nèi)鐖D9所示的由動(dòng)態(tài)分束器產(chǎn)生的直徑不變激光束的個(gè)數(shù)的例圖。以級(jí)聯(lián)方式配備了部分透射分束器單元1202-1212的一個(gè)陣列1200，以便產(chǎn)生提供給動(dòng)態(tài)束偏轉(zhuǎn)器1230的數(shù)個(gè)分離束段。
每個(gè)分束器單元的透射率被確定為它相對(duì)于陣列中最后一個(gè)分束器單元的位置的函數(shù)。因此，如圖10A和10B所示，第一分束器單元1202使輸入束的16.7％偏轉(zhuǎn)，第二分束器單元1204使到達(dá)它的輸入束的20％偏轉(zhuǎn)，第三分束器單元1206使到達(dá)它的輸入束的25％偏轉(zhuǎn)，第四分束器單元1208使到達(dá)它的輸入束的33.3％偏轉(zhuǎn)，第五分束器單元1210使到達(dá)它的輸入束的50％偏轉(zhuǎn)，和第六分束器單元1212使到達(dá)它的輸入束的100％偏轉(zhuǎn)。
如圖10A所示，分束器1202-1212均位于一條直線上，接收激光輸入束1222，輸出每一個(gè)具有大約輸入束1222的總能量的16.7％的六個(gè)不同束段1224，照射在動(dòng)態(tài)束偏轉(zhuǎn)器1230上。如上所述，一般說(shuō)來(lái)，空間分段的聲波1238是在AOD 1230中形成的，并且起動(dòng)態(tài)地使束段1222的每一個(gè)偏轉(zhuǎn)的作用。
如圖10B所示，分束器單元1202-1208不在激光輸入束1222的光路上，使得輸入束1222首先照射在分束器單元1210上。只輸出每一個(gè)具有大約輸入束1222的總能量的50％的兩個(gè)不同束段1226，照射在動(dòng)態(tài)束偏轉(zhuǎn)器1230上。如上所述，一般說(shuō)來(lái)，空間分段的聲波1238是在AOD 1230中形成的，并且起動(dòng)態(tài)地使束段1222的每一個(gè)偏轉(zhuǎn)的作用。
從上面參照?qǐng)D5-10B的描述中可以注意到，動(dòng)態(tài)偏轉(zhuǎn)器包括AOD，并且起執(zhí)行如下功能的至少一個(gè)的作用有選擇地把輸入束分解成可選個(gè)輸出束，選擇輸出束的能量特性，和引導(dǎo)每一個(gè)在可選角上的輸出束。
本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)該認(rèn)識(shí)到，本發(fā)明不局限于上面具體圖示和描述的內(nèi)容。而是，本發(fā)明包括本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員根據(jù)上面的描述所作的和不在現(xiàn)有技術(shù)中的各種各樣的修正和改變。
權(quán)利要求
1.一種把能量傳送到基片的系統(tǒng)，包括至少一個(gè)可動(dòng)態(tài)定向輻射能量源，用于提供每一個(gè)沿著可動(dòng)態(tài)選擇方向傳播的數(shù)個(gè)輻射束；和數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元，所述束導(dǎo)引單元的一些接收所述數(shù)個(gè)輻射束和把它們引向所述基片上的可選位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)可動(dòng)態(tài)定向輻射能量源包括脈沖輻射能量源，用于輸出每一個(gè)通過(guò)輻射能量的脈沖定義的數(shù)個(gè)輻射束。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射能量源包括至少一個(gè)脈沖激光器，和其中，所述數(shù)個(gè)輻射束包括至少一個(gè)脈沖激光束。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)脈沖激光器是Q開(kāi)關(guān)激光器。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)可動(dòng)態(tài)定向輻射能量源包括Q開(kāi)關(guān)激光器。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)可動(dòng)態(tài)定向輻射能量源包括分束器，用于接收輻射能量束和把所述激光束分解成可選個(gè)子束。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)可動(dòng)態(tài)定向輻射能量源包括分束器，用于接收輻射能量束，把所述激光束分解成數(shù)個(gè)子束，和把所述子束的每一個(gè)引向可選方向。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其中，所述分束器起把所述子束引向可選方向的作用。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其中，所述分束器包括其操作受控制信號(hào)支配的聲光偏轉(zhuǎn)器。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器包括受所述控制信號(hào)控制的聲波發(fā)生器，所述聲波發(fā)生器生成決定所述子束的個(gè)數(shù)的聲波。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器包括受所述控制信號(hào)控制的聲波發(fā)生器，所述聲波發(fā)生器生成決定所述子束的所述可選方向的聲波。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的系統(tǒng)，其中，所述聲波還決定所述子束的所述可選方向。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其中，所述聲波包括數(shù)個(gè)空間不同聲波段，每個(gè)空間不同聲波段通過(guò)具有不同頻率的所述控制信號(hào)的一部分來(lái)定義。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的系統(tǒng)，其中，所述每個(gè)空間不同聲波段決定相應(yīng)子束的相應(yīng)空間不同方向，所述方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的系統(tǒng)，其中，所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)決定相應(yīng)子束的個(gè)數(shù)。
16.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其中所述至少一個(gè)可動(dòng)態(tài)定向輻射能量源包括可動(dòng)態(tài)配置分束器，用于接收輻射能量束和把所述輻射能量束分解成可選個(gè)子束，所述可動(dòng)態(tài)配置分束器能夠在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的個(gè)數(shù)和方向的至少一個(gè)；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)大于所述重新配置時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
17.根據(jù)權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其中所述數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其中所述數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
19.根據(jù)權(quán)利要求3所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
20.根據(jù)權(quán)利要求18所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
22.根據(jù)權(quán)利要求19所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
23.根據(jù)權(quán)利要求18所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元包括個(gè)數(shù)超過(guò)包括在所述數(shù)個(gè)子束中的子束個(gè)數(shù)的若干個(gè)束導(dǎo)引單元，和其中，所述數(shù)個(gè)子束的至少一些被引向所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元的至少一些，而所述數(shù)個(gè)所述束導(dǎo)引單元的其它一些被重新定位。
24.根據(jù)權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其中，所述可選個(gè)子束都位于一個(gè)平面內(nèi)。
25.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元包括二維陣列的束導(dǎo)引單元。
26.根據(jù)權(quán)利要求25所述的系統(tǒng)，還包括一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器，所述一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器在光學(xué)上置于所述至少一個(gè)可動(dòng)態(tài)定向輻射能量源和所述數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元之間。
27.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元起引導(dǎo)所述輻射束，以消除所述基片在所述位置上的那一部分的作用。
28.一種把能量傳送到基片的系統(tǒng)，包括至少一個(gè)輻射能量源，用于提供輻射束；分束器，起把所述激光束分解成數(shù)個(gè)子束的作用，每個(gè)子束沿著可選方向傳播；數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元，所述束導(dǎo)引單元的一些接收所述數(shù)個(gè)子束和把它們引向所述基片上的可選位置。
29.根據(jù)權(quán)利要求28所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射能量源包括脈沖輻射能量源，所述輻射束通過(guò)輻射能量的脈沖來(lái)定義。
30.根據(jù)權(quán)利要求28所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射能量源包括至少一個(gè)脈沖激光器，和其中，所述輻射束包括脈沖激光束。
31.根據(jù)權(quán)利要求30所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)脈沖激光器是Q開(kāi)關(guān)激光器。
32.根據(jù)權(quán)利要求28所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射能量源包括Q開(kāi)關(guān)激光器。
33.根據(jù)權(quán)利要求28所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)子束包括可選個(gè)子束。
34.根據(jù)權(quán)利要求33所述的系統(tǒng)，其中，所述分束器包括其操作受控制信號(hào)支配的聲光偏轉(zhuǎn)器。
35.根據(jù)權(quán)利要求34所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器包括受所述控制信號(hào)控制的聲波發(fā)生器，所述聲波發(fā)生器生成決定所述子束的個(gè)數(shù)的聲波。
36.根據(jù)權(quán)利要求34所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器包括受所述控制信號(hào)控制的聲波發(fā)生器，所述聲波發(fā)生器生成決定所述子束的所述可選方向的聲波。
37.根據(jù)權(quán)利要求35所述的系統(tǒng)，其中，所述聲波還決定所述子束的所述可選方向。
38.根據(jù)權(quán)利要求37所述的系統(tǒng)，其中，所述聲波包括數(shù)個(gè)空間不同聲波段，每個(gè)空間不同聲波段通過(guò)具有不同頻率的所述控制信號(hào)的一部分來(lái)定義。
39.根據(jù)權(quán)利要求38所述的系統(tǒng)，其中，所述每個(gè)空間不同聲波段決定相應(yīng)子束的相應(yīng)空間不同方向，所述方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
40.根據(jù)權(quán)利要求38所述的系統(tǒng)，其中，所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)決定相應(yīng)子束的個(gè)數(shù)。
41.根據(jù)權(quán)利要求29所述的系統(tǒng)，其中所述分束器包括接收所述束的可動(dòng)態(tài)配置分束器；所述數(shù)個(gè)子束是可選個(gè)子束；所述可動(dòng)態(tài)配置分束器能夠在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的個(gè)數(shù)和方向的至少一個(gè)；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)大于所述重新配置時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
42.根據(jù)權(quán)利要求29所述的系統(tǒng)，其中所述數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
43.根據(jù)權(quán)利要求41所述的系統(tǒng)，其中所述數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
44.根據(jù)權(quán)利要求30所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
45.根據(jù)權(quán)利要求43所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
46.根據(jù)權(quán)利要求44所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
47.根據(jù)權(quán)利要求44所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
48.根據(jù)權(quán)利要求43所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元包括個(gè)數(shù)超過(guò)包括在所述數(shù)個(gè)子束中的子束個(gè)數(shù)的若干個(gè)束導(dǎo)引單元，和其中，所述數(shù)個(gè)子束的至少一些被引向所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元的至少一些，而所述數(shù)個(gè)所述束導(dǎo)引單元的其它一些被重新定位。
49.根據(jù)權(quán)利要求33所述的系統(tǒng)，其中，所述可選個(gè)子束都位于一個(gè)平面內(nèi)。
50.根據(jù)權(quán)利要求28所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元包括二維陣列的束導(dǎo)引單元。
51.根據(jù)權(quán)利要求50所述的系統(tǒng)，還包括一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器，所述一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器在光學(xué)上置于所述至少一個(gè)輻射能量源和所述數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元之間。
52.根據(jù)權(quán)利要求28所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元起引導(dǎo)所述輻射束，以消除所述基片在所述位置上的那一部分的作用。
53.一種把能量傳送到基片的系統(tǒng)，包括至少一個(gè)輻射能量源，用于提供輻射束；和置于所述輻射能量源和所述基片之間分束器，所述分束器起把所述激光束分解成可選個(gè)子束的作用。
54.根據(jù)權(quán)利要求53所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射能量源包括脈沖輻射能量源，所述輻射束通過(guò)輻射能量的脈沖來(lái)定義。
55.根據(jù)權(quán)利要求53所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射能量源包括至少一個(gè)脈沖激光器，和其中，所述輻射束包括脈沖激光束。
56.根據(jù)權(quán)利要求55所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)脈沖激光器是Q開(kāi)關(guān)激光器。
57.根據(jù)權(quán)利要求53所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射能量源包括Q開(kāi)關(guān)激光器。
58.根據(jù)權(quán)利要求53所述的系統(tǒng)，其中，所述分束器起把所述數(shù)個(gè)子束的每一個(gè)引向可選方向的作用。
59.根據(jù)權(quán)利要求58所述的系統(tǒng)，其中，所述分束器包括其操作受控制信號(hào)支配的聲光偏轉(zhuǎn)器。
60.根據(jù)權(quán)利要求59所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器包括受所述控制信號(hào)控制的聲波發(fā)生器，所述聲波發(fā)生器生成決定所述數(shù)個(gè)子束的個(gè)數(shù)的聲波。
61.根據(jù)權(quán)利要求59所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器包括受所述控制信號(hào)控制的聲波發(fā)生器，所述聲波發(fā)生器生成決定所述子束的所述可選方向的聲波。
62.根據(jù)權(quán)利要求60所述的系統(tǒng)，其中，所述聲波還決定所述子束的所述可選方向。
63.根據(jù)權(quán)利要求62所述的系統(tǒng)，其中，所述聲波包括數(shù)個(gè)空間不同聲波段，每個(gè)空間不同聲波段通過(guò)具有不同頻率的所述控制信號(hào)的一部分來(lái)定義。
64.根據(jù)權(quán)利要求63所述的系統(tǒng)，其中，所述每個(gè)空間不同聲波段決定相應(yīng)子束的相應(yīng)空間不同方向，所述方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
65.根據(jù)權(quán)利要求63所述的系統(tǒng)，其中，所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)決定相應(yīng)子束的個(gè)數(shù)。
66.根據(jù)權(quán)利要求54所述的系統(tǒng)，其中所述分束器包括接收所述束的可動(dòng)態(tài)配置分束器；所述分束器能夠在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的個(gè)數(shù)和方向的至少一個(gè)；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)大于所述重新配置時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
67.根據(jù)權(quán)利要求54所述的系統(tǒng)，還包括能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向的數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元，和其中所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
68.根據(jù)權(quán)利要求66所述的系統(tǒng)，還包括能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向的數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元，和其中所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
69.根據(jù)權(quán)利要求55所述的系統(tǒng)，還包括數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元，每一個(gè)都包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
70.根據(jù)權(quán)利要求68所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
71.根據(jù)權(quán)利要求69所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
72.根據(jù)權(quán)利要求69所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
73.根據(jù)權(quán)利要求68所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元包括個(gè)數(shù)超過(guò)包括在所述數(shù)個(gè)子束中的子束個(gè)數(shù)的若干個(gè)束導(dǎo)引單元，和其中，所述數(shù)個(gè)子束的至少一些被引向所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元的至少一些，而所述數(shù)個(gè)所述束導(dǎo)引單元的其它一些被重新定位。
74.根據(jù)權(quán)利要求60所述的系統(tǒng)，其中，所述可選個(gè)子束都位于一個(gè)平面內(nèi)。
75.根據(jù)權(quán)利要求67所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元包括二維陣列的束導(dǎo)引單元。
76.根據(jù)權(quán)利要求75所述的系統(tǒng)，還包括一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器，所述一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器在光學(xué)上置于所述至少一個(gè)輻射能量源和所述數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元之間。
77.根據(jù)權(quán)利要求67所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元起引導(dǎo)所述輻射束，以消除所述基片在所述位置上的那一部分的作用。
78.一種把能量傳送到基片的系統(tǒng)，包括至少一個(gè)輻射能量源，用于提供輻射束；和置于所述輻射能量源和所述基片之間的聲光多束發(fā)生器，所述聲光多束發(fā)生器起把從所述激光束中生成至少兩個(gè)子束和選擇每個(gè)子束的能量密度特性的作用。
79.根據(jù)權(quán)利要求78所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射能量源包括脈沖輻射能量源，和所述輻射束通過(guò)輻射能量的脈沖來(lái)定義。
80.根據(jù)權(quán)利要求78所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射能量源包括至少一個(gè)脈沖激光器，和其中，所述輻射束包括脈沖激光束。
81.根據(jù)權(quán)利要求80所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)脈沖激光器是Q開(kāi)關(guān)激光器。
82.根據(jù)權(quán)利要求78所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射能量源包括Q開(kāi)關(guān)激光器。
83.根據(jù)權(quán)利要求78所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光多束發(fā)生器起生成可選個(gè)子束的作用。
84.根據(jù)權(quán)利要求78所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光多束發(fā)生器起生成數(shù)個(gè)子束和把所述子束的每一個(gè)引向可選方向的作用。
85.根據(jù)權(quán)利要求83所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光多束發(fā)生器起把所述子束的每一個(gè)引向可選方向的作用。
86.根據(jù)權(quán)利要求85所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光多束發(fā)生器包括其操作受控制信號(hào)控制的聲光偏轉(zhuǎn)器。
87.根據(jù)權(quán)利要求86所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器包括受所述控制信號(hào)控制的聲波發(fā)生器，所述聲波發(fā)生器生成決定所述子束的個(gè)數(shù)的聲波。
88.根據(jù)權(quán)利要求86所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器包括受所述控制信號(hào)控制的聲波發(fā)生器，所述聲波發(fā)生器生成決定所述子束的所述可選方向的聲波。
89.根據(jù)權(quán)利要求87所述的系統(tǒng)，其中，所述聲波還決定所述子束的所述可選方向。
90.根據(jù)權(quán)利要求89所述的系統(tǒng)，其中，所述聲波包括數(shù)個(gè)空間不同聲波段，每個(gè)空間不同聲波段通過(guò)具有不同頻率的所述控制信號(hào)的一部分來(lái)定義。
91.根據(jù)權(quán)利要求90所述的系統(tǒng)，其中，所述每個(gè)空間不同聲波段決定相應(yīng)子束的相應(yīng)空間不同方向，所述方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
92.根據(jù)權(quán)利要求90所述的系統(tǒng)，其中，所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)決定相應(yīng)子束的個(gè)數(shù)。
93.根據(jù)權(quán)利要求79所述的系統(tǒng)，其中所述聲光多束發(fā)生器包括可動(dòng)態(tài)配置聲光多束發(fā)生器，用于生成可選個(gè)子束，所述可動(dòng)態(tài)配置聲光多束發(fā)生器能夠在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的個(gè)數(shù)和方向的至少一個(gè)；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)大于所述重新配置時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
94.根據(jù)權(quán)利要求79所述的系統(tǒng)，還包括能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向的數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元，和其中所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
95.根據(jù)權(quán)利要求93所述的系統(tǒng)，還包括能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向的數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元，和其中所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
96.根據(jù)權(quán)利要求80所述的系統(tǒng)，還包括數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元，每一個(gè)都包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
97.根據(jù)權(quán)利要求95所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
98.根據(jù)權(quán)利要求96所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
99.根據(jù)權(quán)利要求96所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
100.根據(jù)權(quán)利要求95所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元包括個(gè)數(shù)超過(guò)包括在所述數(shù)個(gè)子束中的子束個(gè)數(shù)的若干個(gè)束導(dǎo)引單元，和其中，所述數(shù)個(gè)子束的至少一些被引向所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元的至少一些，而所述數(shù)個(gè)所述束導(dǎo)引單元的其它一些被重新定位。
101.根據(jù)權(quán)利要求83所述的系統(tǒng)，其中，所述可選個(gè)子束都位于一個(gè)平面內(nèi)。
102.根據(jù)權(quán)利要求94所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元包括二維陣列的束導(dǎo)引單元。
103.根據(jù)權(quán)利要求102所述的系統(tǒng)，還包括一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器，所述一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器在光學(xué)上置于所述至少一個(gè)輻射能量源和所述數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元之間。
104.根據(jù)權(quán)利要求94所述的系統(tǒng)，其中，所述可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元起引導(dǎo)所述輻射束，以消除所述基片在所述位置上的那一部分的作用。
105.一種微加工基片的系統(tǒng)，包括至少一個(gè)脈沖輻射能量源，用于沿著光軸提供脈沖輻射束，所述脈沖束包括相隔時(shí)間脈沖間距的多個(gè)脈沖；和置于所述輻射能量源和所述基片之間的多束、角度可選擇和可改變輸出束分束器，所述多束、角度可選擇和可改變輸出束分束器起以相對(duì)于光軸的所選角度輸出數(shù)個(gè)子束的作用，其角度可以小于所述時(shí)間脈沖間距的時(shí)間量為單位改變。
106.根據(jù)權(quán)利要求105所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)脈沖輻射能量源包括至少一個(gè)脈沖激光器，和其中，所述輻射束包括脈沖激光束。
107.根據(jù)權(quán)利要求106所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)脈沖激光器是Q開(kāi)關(guān)激光器。
108.根據(jù)權(quán)利要求105所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)脈沖輻射能量源包括Q開(kāi)關(guān)激光器。
109.根據(jù)權(quán)利要求105所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)子束包括可選個(gè)子束。
110.根據(jù)權(quán)利要求105所述的系統(tǒng)，其中，所述分束器起把所述數(shù)個(gè)子束的每一個(gè)引向可選方向的作用。
111.根據(jù)權(quán)利要求100所述的系統(tǒng)，其中，所述分束器起把所述子束引向可選方向的作用。
112.根據(jù)權(quán)利要求111所述的系統(tǒng)，其中，所述分束器包括其操作受控制信號(hào)控制的聲光偏轉(zhuǎn)器。
113.根據(jù)權(quán)利要求112所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器包括受所述控制信號(hào)控制的聲波發(fā)生器，所述聲波發(fā)生器生成決定所述子束的個(gè)數(shù)的聲波。
114.根據(jù)權(quán)利要求112所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器包括受所述控制信號(hào)控制的聲波發(fā)生器，所述聲波發(fā)生器生成決定所述子束的所述可選方向的聲波。
115.根據(jù)權(quán)利要求113所述的系統(tǒng)，其中，所述聲波還決定所述子束的所述可選方向。
116.根據(jù)權(quán)利要求115所述的系統(tǒng)，其中，所述聲波包括數(shù)個(gè)空間不同聲波段，每個(gè)空間不同聲波段通過(guò)具有不同頻率的所述控制信號(hào)的一部分來(lái)定義。
117.根據(jù)權(quán)利要求116所述的系統(tǒng)，其中，所述每個(gè)空間不同聲波段決定相應(yīng)子束的相應(yīng)空間不同方向，所述方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
118.根據(jù)權(quán)利要求116所述的系統(tǒng)，其中，所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)決定相應(yīng)子束的個(gè)數(shù)。
119.根據(jù)權(quán)利要求105所述的系統(tǒng)，其中所述分束器包括可動(dòng)態(tài)配置分束器，用于接收所述脈沖輻射束和把所述束分解成可選個(gè)子束，所述可動(dòng)態(tài)配置分束器能夠在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的個(gè)數(shù)和方向的至少一個(gè)；和所述時(shí)間脈沖間距大于所述重新配置時(shí)間間隔。
120.根據(jù)權(quán)利要求105所述的系統(tǒng)，還包括能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向的數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元，和其中所述時(shí)間脈沖間距小于所述重新定向時(shí)間間隔。
121.根據(jù)權(quán)利要求119所述的系統(tǒng)，還包括能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向的數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元，和其中所述時(shí)間脈沖間距小于所述重新定向時(shí)間間隔。
122.根據(jù)權(quán)利要求106所述的系統(tǒng)，還包括數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元，每一個(gè)都包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
123.根據(jù)權(quán)利要求121所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
124.根據(jù)權(quán)利要求122所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
125.根據(jù)權(quán)利要求122所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
126.根據(jù)權(quán)利要求121所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元包括個(gè)數(shù)超過(guò)包括在所述數(shù)個(gè)子束中的子束個(gè)數(shù)的若干個(gè)束導(dǎo)引單元，和其中，所述數(shù)個(gè)子束的至少一些被引向所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元的至少一些，而所述數(shù)個(gè)所述束導(dǎo)引單元的其它一些被重新定位。
127.根據(jù)權(quán)利要求109所述的系統(tǒng)，其中，所述可選個(gè)子束都位于一個(gè)平面內(nèi)。
128.根據(jù)權(quán)利要求120所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元包括二維陣列的束導(dǎo)引單元。
129.根據(jù)權(quán)利要求128所述的系統(tǒng)，還包括一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器，所述一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器在光學(xué)上置于所述至少一個(gè)脈沖輻射能量源和所述數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元之間。
130.根據(jù)權(quán)利要求120所述的系統(tǒng)，其中，所述可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元起引導(dǎo)所述輻射束，以消除所述基片在所述位置上的那一部分的作用。
131.一種微加工基片的系統(tǒng)，包括至少一個(gè)脈沖輻射能量源，用于提供脈沖輻射束，所述脈沖束包括相隔時(shí)間脈沖間距的多個(gè)脈沖；和置于所述輻射能量源和基片之間的分束器，所述分束器起在可改變的可選角度輸出數(shù)個(gè)子束的作用；和數(shù)個(gè)可選空間取向偏轉(zhuǎn)器，所述可選空間取向偏轉(zhuǎn)器的一些起以大于所述時(shí)間脈沖間距的時(shí)間量為單位改變空間取向的作用，所述空間取向偏轉(zhuǎn)器的一些被安排成接收所述子束和把所述子束引向所述基片。
132.根據(jù)權(quán)利要求131所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)脈沖輻射能量源包括至少一個(gè)脈沖激光器，和其中，所述輻射束包括脈沖激光束。
133.根據(jù)權(quán)利要求132所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)脈沖激光器是Q開(kāi)關(guān)激光器。
134.根據(jù)權(quán)利要求131所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)脈沖輻射能量源包括Q開(kāi)關(guān)激光器。
135.根據(jù)權(quán)利要求131所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)子束包括可選個(gè)子束。
136.根據(jù)權(quán)利要求131所述的系統(tǒng)，其中，所述分束器包括其操作受控制信號(hào)控制的聲光偏轉(zhuǎn)器。
137.根據(jù)權(quán)利要求136所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器包括受所述控制信號(hào)控制的聲波發(fā)生器，所述聲波發(fā)生器生成決定所述子束的個(gè)數(shù)的聲波。
138.根據(jù)權(quán)利要求136所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器包括受所述控制信號(hào)控制的聲波發(fā)生器，所述聲波發(fā)生器生成決定所述子束的所述可選角度的聲波。
139.根據(jù)權(quán)利要求137所述的系統(tǒng)，其中，所述聲波還決定所述子束的所述可選角度。
140.根據(jù)權(quán)利要求139所述的系統(tǒng)，其中，所述聲波包括數(shù)個(gè)空間不同聲波段，每個(gè)空間不同聲波段通過(guò)具有不同頻率的所述控制信號(hào)的一部分來(lái)定義。
141.根據(jù)權(quán)利要求140所述的系統(tǒng)，其中，所述每個(gè)空間不同聲波段決定相應(yīng)子束的相應(yīng)空間不同方向，所述方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
142.根據(jù)權(quán)利要求140所述的系統(tǒng)，其中，所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)決定相應(yīng)子束的個(gè)數(shù)。
143.根據(jù)權(quán)利要求131所述的系統(tǒng)，其中所述分束器包括可動(dòng)態(tài)配置分束器，用于接收所述脈沖輻射束和把所述脈沖束分解成可選個(gè)子束，所述可動(dòng)態(tài)配置分束器能夠在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的個(gè)數(shù)和角度的至少一個(gè)；和所述時(shí)間脈沖間距大于所述重新配置時(shí)間間隔。
144.根據(jù)權(quán)利要求131所述的系統(tǒng)，還包括能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的角度的所述數(shù)個(gè)可選空間取向偏轉(zhuǎn)器；和所述時(shí)間脈沖間距小于所述重新定向時(shí)間間隔。
145.根據(jù)權(quán)利要求143所述的系統(tǒng)，其中所述數(shù)個(gè)可選空間取向偏轉(zhuǎn)器能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的角度；和所述時(shí)間脈沖間距小于所述重新定向時(shí)間間隔。
146.根據(jù)權(quán)利要求132所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)可選空間取向偏轉(zhuǎn)器的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
147.根據(jù)權(quán)利要求145所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)可選空間取向偏轉(zhuǎn)器的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
148.根據(jù)權(quán)利要求146所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
149.根據(jù)權(quán)利要求146所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
150.根據(jù)權(quán)利要求145所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)可選空間取向偏轉(zhuǎn)器包括個(gè)數(shù)超過(guò)包括在所述數(shù)個(gè)子束中的子束個(gè)數(shù)的若干個(gè)可選空間取向偏轉(zhuǎn)器，和其中，所述數(shù)個(gè)子束的至少一些被引向所述數(shù)個(gè)可選空間取向偏轉(zhuǎn)器的至少一些，而所述數(shù)個(gè)所述可選空間取向偏轉(zhuǎn)器的其它一些被重新定位。
151.根據(jù)權(quán)利要求135所述的系統(tǒng)，其中，所述可選個(gè)子束都位于一個(gè)平面內(nèi)。
152.根據(jù)權(quán)利要求131所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)可選空間取向偏轉(zhuǎn)器包括二維陣列的可選空間取向偏轉(zhuǎn)器。
153.根據(jù)權(quán)利要求152所述的系統(tǒng)，還包括一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器，所述一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器在光學(xué)上置于所述至少一個(gè)脈沖輻射能量源和所述數(shù)個(gè)可選空間取向偏轉(zhuǎn)器之間。
154.根據(jù)權(quán)利要求131所述的系統(tǒng)，其中，所述可選空間取向偏轉(zhuǎn)器起引導(dǎo)所述輻射子束，以消除所述基片在所述位置上的那一部分的作用。
155.一種微加工基片的系統(tǒng)，包括至少一個(gè)輻射能量源，用于提供輻射束；起把所述束分解成可選個(gè)輸出束作用的分束器，所述輸出束具有與所述可選個(gè)數(shù)存在函數(shù)關(guān)系的能量特性；和至少一個(gè)束導(dǎo)引單元，用于接收至少一個(gè)輸出束和引導(dǎo)所述至少一個(gè)輸出束，以微加工所述基片的一部分。
156.根據(jù)權(quán)利要求155所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射能量源包括脈沖輻射能量源，和所述輸出束的每一個(gè)通過(guò)輻射能量的脈沖來(lái)定義。
157.根據(jù)權(quán)利要求155所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射能量源包括至少一個(gè)脈沖激光器，和其中，所述輻射束包括脈沖激光束。
158.根據(jù)權(quán)利要求157所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)脈沖激光器是Q開(kāi)關(guān)激光器。
159.根據(jù)權(quán)利要求155所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射能量源包括Q開(kāi)關(guān)激光器。
160.根據(jù)權(quán)利要求155所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)分束器起把所述輸出束的每一個(gè)引向可選方向的作用。
161.根據(jù)權(quán)利要求160所述的系統(tǒng)，其中，所述分束器包括其操作受控制信號(hào)控制的聲光偏轉(zhuǎn)器。
162.根據(jù)權(quán)利要求161所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器包括受所述控制信號(hào)控制的聲波發(fā)生器，所述聲波發(fā)生器生成決定所述輸出束的個(gè)數(shù)的聲波。
163.根據(jù)權(quán)利要求161所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器包括受所述控制信號(hào)控制的聲波發(fā)生器，所述聲波發(fā)生器生成決定所述輸出束的所述可選方向的聲波。
164.根據(jù)權(quán)利要求162所述的系統(tǒng)，其中，所述聲波還決定所述輸出束的所述可選方向。
165.根據(jù)權(quán)利要求164所述的系統(tǒng)，其中，所述聲波包括數(shù)個(gè)空間不同聲波段，每個(gè)空間不同聲波段通過(guò)具有不同頻率的所述控制信號(hào)的一部分來(lái)定義。
166.根據(jù)權(quán)利要求165所述的系統(tǒng)，其中，所述每個(gè)空間不同聲波段決定相應(yīng)輸出束的相應(yīng)空間不同方向，所述方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
167.根據(jù)權(quán)利要求165所述的系統(tǒng)，其中，所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)決定相應(yīng)輸出束的個(gè)數(shù)。
168.根據(jù)權(quán)利要求156所述的系統(tǒng)，其中所述分束器包括可動(dòng)態(tài)配置分束器，所述可動(dòng)態(tài)配置分束器能夠在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輸出束的個(gè)數(shù)和方向的至少一個(gè)；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)大于所述重新配置時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
169.根據(jù)權(quán)利要求156所述的系統(tǒng)，其中所述至少一個(gè)束導(dǎo)引單元能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輸出束的方向；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
170.根據(jù)權(quán)利要求168所述的系統(tǒng)，其中所述至少一個(gè)束導(dǎo)引單元能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輸出束的方向；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
171.根據(jù)權(quán)利要求157所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)束導(dǎo)引單元的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
172.根據(jù)權(quán)利要求170所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)束導(dǎo)引單元的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
173.根據(jù)權(quán)利要求171所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
174.根據(jù)權(quán)利要求171所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
175.根據(jù)權(quán)利要求170所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)束導(dǎo)引單元包括個(gè)數(shù)超過(guò)包括在所述數(shù)個(gè)輸出束中的輸出束個(gè)數(shù)的若干個(gè)束導(dǎo)引單元，和其中，所述可選個(gè)輸出束的至少一些被引向所述至少一個(gè)束導(dǎo)引單元的至少一些，而所述至少一個(gè)束導(dǎo)引單元的其它一些被重新定位。
176.根據(jù)權(quán)利要求155所述的系統(tǒng)，其中，所述可選個(gè)輸出束都位于一個(gè)平面內(nèi)。
177.根據(jù)權(quán)利要求155所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)束導(dǎo)引單元包括二維陣列的束導(dǎo)引單元。
178.根據(jù)權(quán)利要求177所述的系統(tǒng)，還包括一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器，所述一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器在光學(xué)上置于所述至少一個(gè)脈沖輻射能量源和所述至少一個(gè)束導(dǎo)引單元之間。
179.根據(jù)權(quán)利要求155所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)束導(dǎo)引單元起引導(dǎo)所述輸出束，以消除所述基片的所述部分的作用。
180.一種把能量傳送到基片的系統(tǒng)，包括至少一個(gè)輻射能量源，用于提供在一個(gè)平面內(nèi)傳播的數(shù)個(gè)輻射束；和數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器，用于接收所述數(shù)個(gè)輻射束和把所述輻射束的至少一些偏轉(zhuǎn)到所述平面之外的預(yù)定位置。
181.根據(jù)權(quán)利要求180所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射能量源包括脈沖輻射能量源，和所述數(shù)個(gè)輻射束的每一個(gè)通過(guò)輻射能量的脈沖來(lái)定義。
182.根據(jù)權(quán)利要求180所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射能量源包括至少一個(gè)脈沖激光器，和其中，所述數(shù)個(gè)輻射束包括至少一個(gè)脈沖激光束。
183.根據(jù)權(quán)利要求182所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)脈沖激光器是Q開(kāi)關(guān)激光器。
184.根據(jù)權(quán)利要求180所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射能量源包括Q開(kāi)關(guān)激光器。
185.根據(jù)權(quán)利要求180所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)輻射束包括可選個(gè)輻射束。
186.根據(jù)權(quán)利要求180所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射能量源起把所述數(shù)個(gè)輻射束的每一個(gè)引向可選方向的作用。
187.根據(jù)權(quán)利要求185所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射能量源起把所述數(shù)個(gè)輻射束的每一個(gè)引向可選方向的作用。
188.根據(jù)權(quán)利要求187所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器的至少一個(gè)包括其操作受控制信號(hào)控制的聲光偏轉(zhuǎn)器。
189.根據(jù)權(quán)利要求188所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器包括受所述控制信號(hào)控制的聲波發(fā)生器，所述聲波發(fā)生器生成決定所述輻射束的個(gè)數(shù)的聲波。
190.根據(jù)權(quán)利要求188所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器包括受所述控制信號(hào)控制的聲波發(fā)生器，所述聲波發(fā)生器生成決定所述輻射束的所述可選方向的聲波。
191.根據(jù)權(quán)利要求189所述的系統(tǒng)，其中，所述聲波還決定所述輻射束的所述可選方向。
192.根據(jù)權(quán)利要求191所述的系統(tǒng)，其中，所述聲波包括數(shù)個(gè)空間不同聲波段，每個(gè)空間不同聲波段通過(guò)具有不同頻率的所述控制信號(hào)的一部分來(lái)定義。
193.根據(jù)權(quán)利要求192所述的系統(tǒng)，其中，所述每個(gè)空間不同聲波段決定相應(yīng)輻射束的相應(yīng)空間不同方向，所述方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
194.根據(jù)權(quán)利要求192所述的系統(tǒng)，其中，所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)決定相應(yīng)輻射束的個(gè)數(shù)。
195.根據(jù)權(quán)利要求181所述的系統(tǒng)，其中所述至少一個(gè)輻射能量源能夠在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述數(shù)個(gè)輻射束的個(gè)數(shù)和方向的至少一個(gè)；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)大于所述重新配置時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
196.根據(jù)權(quán)利要求181所述的系統(tǒng)，其中所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述數(shù)個(gè)輻射束的方向；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
197.根據(jù)權(quán)利要求195所述的系統(tǒng)，其中所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述數(shù)個(gè)輻射束的方向；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
198.根據(jù)權(quán)利要求182所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
199.根據(jù)權(quán)利要求197所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
200.根據(jù)權(quán)利要求198所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
201.根據(jù)權(quán)利要求198所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
202.根據(jù)權(quán)利要求197所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器包括個(gè)數(shù)超過(guò)包括在所述數(shù)個(gè)輻射束中的輻射束個(gè)數(shù)的若干個(gè)偏轉(zhuǎn)器，和其中，所述數(shù)個(gè)輻射束的至少一些被引向所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器的至少一些，而所述數(shù)個(gè)所述偏轉(zhuǎn)器的其它一些被重新定位。
203.根據(jù)權(quán)利要求185所述的系統(tǒng)，其中，所述可選個(gè)輻射束都位于一個(gè)平面內(nèi)。
204.根據(jù)權(quán)利要求180所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器包括二維陣列的偏轉(zhuǎn)器。
205.根據(jù)權(quán)利要求204所述的系統(tǒng)，還包括一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器，所述一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器在光學(xué)上置于所述至少一個(gè)脈沖輻射能量源和所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器之間。
206.根據(jù)權(quán)利要求180所述的系統(tǒng)，其中，所述偏轉(zhuǎn)器起引導(dǎo)所述數(shù)個(gè)輻射束，以消除所述基片在所述位置上的那一部分的作用。
207.一種把能量傳送到基片的系統(tǒng)，包括至少一個(gè)輻射能量源，用于提供輻射束；分束器，起接收所述輻射束和輸出在一個(gè)平面內(nèi)傳播的數(shù)個(gè)子束的作用；和數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器，用于接收所述數(shù)個(gè)子束和把所述子束的至少一些偏轉(zhuǎn)到所述平面之外的預(yù)定位置。
208.根據(jù)權(quán)利要求207所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射能量源包括脈沖輻射能量源，和所述子束的每一個(gè)通過(guò)輻射能量的脈沖來(lái)定義。
209.根據(jù)權(quán)利要求207所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射能量源包括至少一個(gè)脈沖激光器，和其中，所述輻射束包括脈沖激光束。
210.根據(jù)權(quán)利要求209所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)脈沖激光器是Q開(kāi)關(guān)激光器。
211.根據(jù)權(quán)利要求207所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射能量源包括Q開(kāi)關(guān)激光器。
212.根據(jù)權(quán)利要求207所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)子束包括可選個(gè)子束。
213.根據(jù)權(quán)利要求207所述的系統(tǒng)，其中，所述分束器起把所述數(shù)個(gè)子束的每一個(gè)引向可選方向的作用。
214.根據(jù)權(quán)利要求212所述的系統(tǒng)，其中，所述分束器起把所述數(shù)個(gè)子束的每一個(gè)引向可選方向的作用。
215.根據(jù)權(quán)利要求214所述的系統(tǒng)，其中，所述分束器包括其操作受控制信號(hào)控制的聲光偏轉(zhuǎn)器。
216.根據(jù)權(quán)利要求215所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器包括受所述控制信號(hào)控制的聲波發(fā)生器，所述聲波發(fā)生器生成決定所述子束的個(gè)數(shù)的聲波。
217.根據(jù)權(quán)利要求215所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器包括受所述控制信號(hào)控制的聲波發(fā)生器，所述聲波發(fā)生器生成決定所述子束的所述可選方向的聲波。
218.根據(jù)權(quán)利要求216所述的系統(tǒng)，其中，所述聲波還決定所述子束的所述可選方向。
219.根據(jù)權(quán)利要求218所述的系統(tǒng)，其中，所述聲波包括數(shù)個(gè)空間不同聲波段，每個(gè)空間不同聲波段通過(guò)具有不同頻率的所述控制信號(hào)的一部分來(lái)定義。
220.根據(jù)權(quán)利要求219所述的系統(tǒng)，其中，所述每個(gè)空間不同聲波段決定相應(yīng)子束的相應(yīng)空間不同方向，所述方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
221.根據(jù)權(quán)利要求219所述的系統(tǒng)，其中，所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)決定相應(yīng)子束的個(gè)數(shù)。
222.根據(jù)權(quán)利要求208所述的系統(tǒng)，其中所述數(shù)個(gè)子束是可選個(gè)子束；所述分束器包括可動(dòng)態(tài)配置分束器，所述可動(dòng)態(tài)配置分束器能夠在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的個(gè)數(shù)和方向的至少一個(gè)；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)大于所述重新配置時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
223.根據(jù)權(quán)利要求208所述的系統(tǒng)，其中所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
224.根據(jù)權(quán)利要求222所述的系統(tǒng)，其中所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
225.根據(jù)權(quán)利要求209所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
226.根據(jù)權(quán)利要求224所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
227.根據(jù)權(quán)利要求225所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
228.根據(jù)權(quán)利要求225所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
229.根據(jù)權(quán)利要求224所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器包括個(gè)數(shù)超過(guò)包括在所述數(shù)個(gè)子束中的子束個(gè)數(shù)的若干個(gè)偏轉(zhuǎn)器，和其中，所述數(shù)個(gè)子束的至少一些被引向所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器的至少一些，而所述數(shù)個(gè)所述偏轉(zhuǎn)器的其它一些被重新定位。
230.根據(jù)權(quán)利要求212所述的系統(tǒng)，其中，所述可選個(gè)子束都位于一個(gè)平面內(nèi)。
231.根據(jù)權(quán)利要求207所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器包括二維陣列的偏轉(zhuǎn)器。
232.根據(jù)權(quán)利要求231所述的系統(tǒng)，還包括一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器，所述一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器在光學(xué)上置于所述至少一個(gè)脈沖輻射能量源和所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器之間。
233.根據(jù)權(quán)利要求207所述的系統(tǒng)，其中，所述偏轉(zhuǎn)器起引導(dǎo)所述數(shù)個(gè)子束，以消除所述基片在所述位置上的那一部分的作用。
234.一種把能量傳送到基片的系統(tǒng)，包括至少一個(gè)輻射能量源，用于提供數(shù)個(gè)輻射束；第一數(shù)個(gè)可選定位偏轉(zhuǎn)器；和第二數(shù)個(gè)可選定位偏轉(zhuǎn)器，在第一時(shí)間間隔，把所述第一數(shù)個(gè)輻射束引向所述第一數(shù)個(gè)可選定位偏轉(zhuǎn)器，以便把所述數(shù)個(gè)輻射束引向第一數(shù)個(gè)位置；在所述第一時(shí)間間隔，有選擇地定位所述第二數(shù)個(gè)可選定位偏轉(zhuǎn)器；和在第二時(shí)間間隔，把所述第一數(shù)個(gè)輻射束引向所述第二數(shù)個(gè)可選定位偏轉(zhuǎn)器，以便把所述數(shù)個(gè)輻射束引向第二數(shù)個(gè)位置。
235.根據(jù)權(quán)利要求234所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射能量源包括脈沖輻射能量源，和所述數(shù)個(gè)輻射束的每一個(gè)通過(guò)輻射能量的脈沖來(lái)定義。
236.根據(jù)權(quán)利要求234所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射能量源包括至少一個(gè)脈沖激光器，和其中，所述數(shù)個(gè)輻射束包括至少一個(gè)脈沖激光束。
237.根據(jù)權(quán)利要求236所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)脈沖激光器是Q開(kāi)關(guān)激光器。
238.根據(jù)權(quán)利要求234所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射能量源包括Q開(kāi)關(guān)激光器。
239.根據(jù)權(quán)利要求234所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)輻射束包括可選個(gè)輻射束。
240.根據(jù)權(quán)利要求234所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)輻射束的每一個(gè)被引向可選方向。
241.根據(jù)權(quán)利要求239所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)輻射束的每一個(gè)被引向可選方向。
242.根據(jù)權(quán)利要求241所述的系統(tǒng)，其中，所述第一數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器的至少一個(gè)包括其操作受控制信號(hào)控制的聲光偏轉(zhuǎn)器。
243.根據(jù)權(quán)利要求242所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器包括受所述控制信號(hào)控制的聲波發(fā)生器，所述聲波發(fā)生器生成決定所述輻射束的個(gè)數(shù)的聲波。
244.根據(jù)權(quán)利要求242所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器包括受所述控制信號(hào)控制的聲波發(fā)生器，所述聲波發(fā)生器生成決定所述輻射束的所述可選方向的聲波。
245.根據(jù)權(quán)利要求243所述的系統(tǒng)，其中，所述聲波還決定所述輻射束的所述可選方向。
246.根據(jù)權(quán)利要求245所述的系統(tǒng)，其中，所述聲波包括數(shù)個(gè)空間不同聲波段，每個(gè)空間不同聲波段通過(guò)具有不同頻率的所述控制信號(hào)的一部分來(lái)定義。
247.根據(jù)權(quán)利要求246所述的系統(tǒng)，其中，所述每個(gè)空間不同聲波段決定相應(yīng)輻射束的相應(yīng)空間不同方向，所述方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
248.根據(jù)權(quán)利要求246所述的系統(tǒng)，其中，所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)決定相應(yīng)輻射束的個(gè)數(shù)。
249.根據(jù)權(quán)利要求235所述的系統(tǒng)，其中所述數(shù)個(gè)輻射束是可選個(gè)輻射束；所述至少一個(gè)輻射能量源能夠在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輻射束的個(gè)數(shù)和方向的至少一個(gè)；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)大于所述重新配置時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
250.根據(jù)權(quán)利要求235所述的系統(tǒng)，其中所述第一數(shù)個(gè)可選定位偏轉(zhuǎn)器能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輻射束的方向；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
251.根據(jù)權(quán)利要求249所述的系統(tǒng)，其中所述第一數(shù)個(gè)可選定位偏轉(zhuǎn)器能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輻射束的方向；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
252.根據(jù)權(quán)利要求236所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)可選定位偏轉(zhuǎn)器的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
253.根據(jù)權(quán)利要求251所述的系統(tǒng)，其中，所述數(shù)個(gè)可選定位偏轉(zhuǎn)器的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
254.根據(jù)權(quán)利要求252所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
255.根據(jù)權(quán)利要求252所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
256.根據(jù)權(quán)利要求251所述的系統(tǒng)，其中，所述第一數(shù)個(gè)可選定位偏轉(zhuǎn)器包括個(gè)數(shù)超過(guò)包括在所述數(shù)個(gè)輻射束中的輻射束個(gè)數(shù)的若干個(gè)可選定位偏轉(zhuǎn)器，和其中，所述數(shù)個(gè)輻射束的至少一些被引向所述數(shù)個(gè)可選定位偏轉(zhuǎn)器的至少一些，而所述數(shù)個(gè)所述可選定位偏轉(zhuǎn)器的其它一些被重新定位。
257.根據(jù)權(quán)利要求239所述的系統(tǒng)，其中，所述可選個(gè)輻射束都位于一個(gè)平面內(nèi)。
258.根據(jù)權(quán)利要求234所述的系統(tǒng)，其中，所述第一數(shù)個(gè)可選定位偏轉(zhuǎn)器包括二維陣列的可選定位偏轉(zhuǎn)器。
259.根據(jù)權(quán)利要求258所述的系統(tǒng)，還包括一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器，所述一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器在光學(xué)上置于所述至少一個(gè)脈沖輻射能量源和所述數(shù)個(gè)可選定位偏轉(zhuǎn)器之間。
260.根據(jù)權(quán)利要求234所述的系統(tǒng)，其中，所述第二數(shù)個(gè)可選定位偏轉(zhuǎn)器起引導(dǎo)所述數(shù)個(gè)輻射束，以消除所述基片在所述第二數(shù)個(gè)位置上的那一部分的作用。
261.一種把能量傳送到基片的系統(tǒng)，包括至少一個(gè)輻射束源，用于提供至少一個(gè)輻射束；至少第一和第二偏轉(zhuǎn)器，被布置成接收至少一個(gè)輻射束，以便把所述輻射束傳送到所述基片上，各自的、至少第一和第二的、至少部分重疊的位置上。
262.根據(jù)權(quán)利要求261所述的系統(tǒng)，包括與每個(gè)偏轉(zhuǎn)器相聯(lián)系的偏轉(zhuǎn)器定位器，每個(gè)偏轉(zhuǎn)器定位器起沿著這樣空間方向定位與之聯(lián)系的偏轉(zhuǎn)器，以便把照射在偏轉(zhuǎn)器上的輻射束傳送到所述基片上，與照射在不同偏轉(zhuǎn)器上的輻射束傳送到的相應(yīng)區(qū)域至少部分重疊的區(qū)域內(nèi)的作用。
263.根據(jù)權(quán)利要求262所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射束源包括脈沖輻射束源，和所述至少一個(gè)輻射束通過(guò)輻射能量的脈沖來(lái)定義。
264.根據(jù)權(quán)利要求262所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射束源包括至少一個(gè)脈沖激光器，和其中，所述至少一個(gè)輻射束包括至少一個(gè)脈沖激光束。
265.根據(jù)權(quán)利要求264所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)脈沖激光器是Q開(kāi)關(guān)激光器。
266.根據(jù)權(quán)利要求262所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射束源包括Q開(kāi)關(guān)激光器。
267.根據(jù)權(quán)利要求262所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射束包括可選個(gè)輻射束。
268.根據(jù)權(quán)利要求262所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射束源起把所述至少一個(gè)輻射束引向可選方向的作用。
269.根據(jù)權(quán)利要求267所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)輻射束源起把所述至少一個(gè)輻射束引向可選方向的作用。
270.根據(jù)權(quán)利要求269所述的系統(tǒng)，其中，所述至少第一和第二偏轉(zhuǎn)器的至少一個(gè)包括其操作受控制信號(hào)控制的聲光偏轉(zhuǎn)器。
271.根據(jù)權(quán)利要求270所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器包括受所述控制信號(hào)控制的聲波發(fā)生器，所述聲波發(fā)生器生成決定所述輻射束的個(gè)數(shù)的聲波。
272.根據(jù)權(quán)利要求270所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器包括受所述控制信號(hào)控制的聲波發(fā)生器，所述聲波發(fā)生器生成決定所述輻射束的所述可選方向的聲波。
273.根據(jù)權(quán)利要求271所述的系統(tǒng)，其中，所述聲波還決定所述輻射束的所述可選方向。
274.根據(jù)權(quán)利要求273所述的系統(tǒng)，其中，所述聲波包括數(shù)個(gè)空間不同聲波段，每個(gè)空間不同聲波段通過(guò)具有不同頻率的所述控制信號(hào)的一部分來(lái)定義。
275.根據(jù)權(quán)利要求274所述的系統(tǒng)，其中，所述每個(gè)空間不同聲波段決定相應(yīng)輻射束的相應(yīng)空間不同方向，所述方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
276.根據(jù)權(quán)利要求274所述的系統(tǒng)，其中，所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)決定相應(yīng)輻射束的個(gè)數(shù)。
277.根據(jù)權(quán)利要求263所述的系統(tǒng)，其中所述至少一個(gè)輻射束是可選個(gè)輻射束；所述輻射束源能夠在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輻射束的個(gè)數(shù)和方向的至少一個(gè)；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)大于所述重新配置時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
278.根據(jù)權(quán)利要求263所述的系統(tǒng)，其中所述至少第一和第二偏轉(zhuǎn)器能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輻射束的方向；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
279.根據(jù)權(quán)利要求277所述的系統(tǒng)，其中所述至少第一和第二偏轉(zhuǎn)器能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輻射束的方向；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
280.根據(jù)權(quán)利要求264所述的系統(tǒng)，其中，所述至少第一和第二偏轉(zhuǎn)器的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
281.根據(jù)權(quán)利要求279所述的系統(tǒng)，其中，所述至少第一和第二偏轉(zhuǎn)器的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
282.根據(jù)權(quán)利要求282所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
283.根據(jù)權(quán)利要求280所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
284.根據(jù)權(quán)利要求267所述的系統(tǒng)，其中，所述可選個(gè)輻射束都位于一個(gè)平面內(nèi)。
285.根據(jù)權(quán)利要求262所述的系統(tǒng)，其中，所述至少第一和第二偏轉(zhuǎn)器包括二維陣列的偏轉(zhuǎn)器。
286.根據(jù)權(quán)利要求285所述的系統(tǒng)，還包括一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器，所述一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器在光學(xué)上置于所述至少一個(gè)脈沖輻射能量源和所述至少第一和第二偏轉(zhuǎn)器之間。
287.根據(jù)權(quán)利要求262所述的系統(tǒng)，其中，所述第一和第二偏轉(zhuǎn)器起引導(dǎo)所述至少一個(gè)輻射束，以消除所述基片在所述部分重疊位置上的那一部分的作用。
288.一種激光微加工設(shè)備，包括至少一個(gè)輻射束源，用于提供數(shù)個(gè)輻射束；被安排成置于所述至少一個(gè)輻射束源和要微加工的基片之間的數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位偏轉(zhuǎn)器，所述數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位偏轉(zhuǎn)器起把所述至少一個(gè)輻射束獨(dú)立地傳送到所述基片上的可選位置的作用；和置于所述至少一個(gè)輻射束源和所述基片之間的聚焦透鏡，所述聚焦透鏡接收所述數(shù)個(gè)輻射束和起把所述輻射束同時(shí)聚焦在所述基片上的所述可選位置上的作用。
289.根據(jù)權(quán)利要求288所述的設(shè)備，其中，所述至少一個(gè)輻射束源包括脈沖輻射束源，和所述數(shù)個(gè)輻射束的每一個(gè)通過(guò)輻射能量的脈沖來(lái)定義。
290.根據(jù)權(quán)利要求288所述的設(shè)備，其中，所述至少一個(gè)輻射束源包括至少一個(gè)脈沖激光器，和其中，所述數(shù)個(gè)輻射束包括至少一個(gè)脈沖激光束。
291.根據(jù)權(quán)利要求290所述的設(shè)備，其中，所述至少一個(gè)脈沖激光器是Q開(kāi)關(guān)激光器。
292.根據(jù)權(quán)利要求288所述的設(shè)備，其中，所述至少一個(gè)輻射束源包括Q開(kāi)關(guān)激光器。
293.根據(jù)權(quán)利要求288所述的設(shè)備，其中，所述數(shù)個(gè)輻射束包括可選個(gè)輻射束。
294.根據(jù)權(quán)利要求288所述的設(shè)備，其中，所述至少一個(gè)輻射束源起把所述數(shù)個(gè)輻射束的每一個(gè)引向可選方向的作用。
295.根據(jù)權(quán)利要求293所述的設(shè)備，其中，所述至少一個(gè)輻射束源起把所述數(shù)個(gè)輻射束的每一個(gè)引向可選方向的作用。
296.根據(jù)權(quán)利要求295所述的設(shè)備，其中，所述可獨(dú)立定位偏轉(zhuǎn)器的至少一個(gè)包括其操作受控制信號(hào)控制的聲光偏轉(zhuǎn)器。
297.根據(jù)權(quán)利要求296所述的設(shè)備，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器包括受所述控制信號(hào)控制的聲波發(fā)生器，所述聲波發(fā)生器生成決定所述輻射束的個(gè)數(shù)的聲波。
298.根據(jù)權(quán)利要求296所述的設(shè)備，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器包括受所述控制信號(hào)控制的聲波發(fā)生器，所述聲波發(fā)生器生成決定所述輻射束的所述可選方向的聲波。
299.根據(jù)權(quán)利要求297所述的設(shè)備，其中，所述聲波還決定所述輻射束的所述可選方向。
300.根據(jù)權(quán)利要求299所述的設(shè)備，其中，所述聲波包括數(shù)個(gè)空間不同聲波段，每個(gè)空間不同聲波段通過(guò)具有不同頻率的所述控制信號(hào)的一部分來(lái)定義。
301.根據(jù)權(quán)利要求300所述的設(shè)備，其中，所述每個(gè)空間不同聲波段決定相應(yīng)輻射束的相應(yīng)空間不同方向，所述方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
302.根據(jù)權(quán)利要求300所述的設(shè)備，其中，所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)決定相應(yīng)輻射束的個(gè)數(shù)。
303.根據(jù)權(quán)利要求289所述的設(shè)備，其中所述數(shù)個(gè)輻射束包括可選個(gè)輻射束；所述至少一個(gè)輻射束源能夠在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輻射束的個(gè)數(shù)和方向的至少一個(gè)；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)大于所述重新配置時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
304.根據(jù)權(quán)利要求289所述的設(shè)備，其中所述數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位偏轉(zhuǎn)器能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輻射束的方向；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
305.根據(jù)權(quán)利要求303所述的設(shè)備，其中所述數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位偏轉(zhuǎn)器能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輻射束的方向；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
306.根據(jù)權(quán)利要求290所述的設(shè)備，其中，所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
307.根據(jù)權(quán)利要求305所述的設(shè)備，其中，所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
308.根據(jù)權(quán)利要求306所述的設(shè)備，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
309.根據(jù)權(quán)利要求306所述的設(shè)備，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
310.根據(jù)權(quán)利要求305所述的設(shè)備，其中，所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器包括個(gè)數(shù)超過(guò)包括在所述數(shù)個(gè)輻射束中的輻射束個(gè)數(shù)的若干個(gè)偏轉(zhuǎn)器，和其中，所述數(shù)個(gè)輻射束的至少一些被引向所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器的至少一些，而所述數(shù)個(gè)所述偏轉(zhuǎn)器的其它一些被重新定位。
311.根據(jù)權(quán)利要求293所述的設(shè)備，其中，所述可選個(gè)輻射束都位于一個(gè)平面內(nèi)。
312.根據(jù)權(quán)利要求288所述的設(shè)備，其中，所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器包括二維陣列的偏轉(zhuǎn)器。
313.根據(jù)權(quán)利要求312所述的設(shè)備，還包括一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器，所述一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器在光學(xué)上置于所述至少一個(gè)輻射能量源和所述數(shù)個(gè)可獨(dú)立定位偏轉(zhuǎn)器之間。
314.根據(jù)權(quán)利要求288所述的設(shè)備，其中，所述可獨(dú)立定位偏轉(zhuǎn)器起引導(dǎo)所述輻射束，以消除所述基片在所述位置上的那一部分的作用。
315.一種光電器件，包括輻射能量源，用于沿著光軸提供輻射束；接收所述輻射束的光學(xué)元件；和與所述光學(xué)元件相聯(lián)系的換能器，所述換能器在所述光學(xué)元件中形成同時(shí)具有不同聲頻的聲波，所述光學(xué)元件起相對(duì)于所述光軸在不同角度上輸出當(dāng)個(gè)子束的作用。
316.根據(jù)權(quán)利要求315所述的器件，其中，所述輻射能量源包括脈沖輻射能量源，和所述輻射束通過(guò)輻射能量的脈沖來(lái)定義。
317.根據(jù)權(quán)利要求315所述的器件，其中，所述輻射能量源包括至少一個(gè)脈沖激光器，和其中，所述輻射束包括脈沖激光束。
318.根據(jù)權(quán)利要求317所述的器件，其中，所述至少一個(gè)脈沖激光器是Q開(kāi)關(guān)激光器。
319.根據(jù)權(quán)利要求315所述的器件，其中，所述輻射能量源包括Q開(kāi)關(guān)激光器。
320.根據(jù)權(quán)利要求315所述的器件，其中，所述數(shù)個(gè)子束包括可選個(gè)子束。
321.根據(jù)權(quán)利要求315所述的器件，其中，所述不同角度包括可選角度。
322.根據(jù)權(quán)利要求320所述的器件，其中，所述不同角度包括可選角度。
323.根據(jù)權(quán)利要求322所述的器件，其中，所述換能器包括其操作受控制信號(hào)控制的聲光偏轉(zhuǎn)器。
324.根據(jù)權(quán)利要求323所述的器件，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器包括受所述控制信號(hào)控制的聲波發(fā)生器，所述聲波發(fā)生器生成決定所述子束的個(gè)數(shù)的聲波。
325.根據(jù)權(quán)利要求324所述的器件，所述聲波包括數(shù)個(gè)空間不同聲波段，每個(gè)空間不同聲波段通過(guò)具有不同頻率的所述控制信號(hào)的一部分來(lái)定義。
326.根據(jù)權(quán)利要求325所述的器件，其中，所述每個(gè)空間不同聲波段決定相應(yīng)子束的相應(yīng)空間不同方向，所述方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
327.根據(jù)權(quán)利要求325所述的器件，其中，所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)決定相應(yīng)子束的個(gè)數(shù)。
328.根據(jù)權(quán)利要求316所述的器件，其中所述數(shù)個(gè)子束包括可選個(gè)子束；所述換能器能夠在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的個(gè)數(shù)和方向的至少一個(gè)；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)大于所述重新配置時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
329.根據(jù)權(quán)利要求316所述的器件，其中所述換能器能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
330.根據(jù)權(quán)利要求328所述的器件，其中所述換能器能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輻射束的方向；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
331.根據(jù)權(quán)利要求317所述的器件，其中，所述換能器包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
332.根據(jù)權(quán)利要求330所述的器件，其中，所述換能器包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
333.根據(jù)權(quán)利要求331所述的器件，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
334.根據(jù)權(quán)利要求331所述的器件，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
335.根據(jù)權(quán)利要求320所述的器件，其中，所述可選個(gè)子束都位于一個(gè)平面內(nèi)。
336.根據(jù)權(quán)利要求315所述的器件，還包括一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器，所述一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器在光學(xué)上置于所述至少一個(gè)輻射能量源和所述光學(xué)元件之間。
337.根據(jù)權(quán)利要求315所述的器件，其中，所述換能器起引導(dǎo)所述子束，以消除基片在特定位置上的那一部分的作用。
338.一種微加工基片的系統(tǒng)，包括激光束發(fā)送器，用于提供激光束；分束器，用于接收所述激光束和把所述激光束分解成第一個(gè)數(shù)的輸出束和第二個(gè)數(shù)的輸出束；第一數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元，用于引導(dǎo)所述第一個(gè)數(shù)的輸出來(lái)，以便在多層基片的第一層中形成至少一個(gè)孔隙；和第二數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元，用于引導(dǎo)所述第二個(gè)數(shù)的輸出束的一些，以便通過(guò)所述至少一個(gè)孔隙消除所述多層基片的第二層的所選部分。
339.根據(jù)權(quán)利要求338所述的系統(tǒng)，其中，所述激光束發(fā)生器是Q開(kāi)關(guān)激光器。
340.根據(jù)權(quán)利要求338所述的系統(tǒng)，其中，所述第一個(gè)數(shù)的輸出束包括可選個(gè)輸出束。
341.根據(jù)權(quán)利要求338所述的系統(tǒng)，其中，所述第二個(gè)數(shù)的輸出束包括可選個(gè)輸出束。
342.根據(jù)權(quán)利要求338所述的系統(tǒng)，其中，所述第一數(shù)個(gè)束導(dǎo)引器件把所述第一個(gè)數(shù)的輸出束的每一個(gè)引向可選方向。
343.根據(jù)權(quán)利要求338所述的系統(tǒng)，其中，所述第二數(shù)個(gè)束導(dǎo)引器件把所述第二個(gè)數(shù)的輸出束的每一個(gè)引向可選方向。
344.根據(jù)權(quán)利要求340所述的系統(tǒng)，其中，所述第一數(shù)個(gè)束導(dǎo)引器件把所述第一個(gè)數(shù)的輸出束的每一個(gè)引向可選方向。
345.根據(jù)權(quán)利要求341所述的系統(tǒng)，其中，所述第二數(shù)個(gè)束導(dǎo)引器件把所述第二個(gè)數(shù)的輸出束的每一個(gè)引向可選方向。
346.根據(jù)權(quán)利要求344所述的系統(tǒng)，其中，所述第一數(shù)個(gè)束導(dǎo)引器件的至少一個(gè)包括其操作受控制信號(hào)控制的聲光偏轉(zhuǎn)器。
347.根據(jù)權(quán)利要求346所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器包括受所述控制信號(hào)控制的聲波發(fā)生器，所述聲波發(fā)生器生成決定所述輸出束的個(gè)數(shù)的聲波。
348.根據(jù)權(quán)利要求346所述的系統(tǒng)，其中，所述聲光偏轉(zhuǎn)器包括受所述控制信號(hào)控制的聲波發(fā)生器，所述聲波發(fā)生器生成決定所述輸出束的所述可選方向的聲波。
349.根據(jù)權(quán)利要求347所述的系統(tǒng)，其中，所述聲波還決定所述輸出束的所述可選方向。
350.根據(jù)權(quán)利要求349所述的系統(tǒng)，其中，所述聲波包括數(shù)個(gè)空間不同聲波段，每個(gè)空間不同聲波段通過(guò)具有不同頻率的所述控制信號(hào)的一部分來(lái)定義。
351.根據(jù)權(quán)利要求350所述的系統(tǒng)，其中，所述每個(gè)空間不同聲波段決定相應(yīng)輸出束的相應(yīng)空間不同方向，所述方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
352.根據(jù)權(quán)利要求350所述的系統(tǒng)，其中，所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)決定相應(yīng)輸出束的個(gè)數(shù)。
353.根據(jù)權(quán)利要求338所述的系統(tǒng)，其中所述第一個(gè)數(shù)的輸出束包括可選個(gè)輸出束；所述第二個(gè)數(shù)的輸出束包括可選個(gè)輸出束；所述分束器包括可動(dòng)態(tài)配置分束器，所述可動(dòng)態(tài)配置分束器能夠在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輸出束的個(gè)數(shù)和方向的至少一個(gè)；和所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)大于所述重新配置時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
354.根據(jù)權(quán)利要求338所述的系統(tǒng)，其中所述第一數(shù)個(gè)束導(dǎo)引器件能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輸出束的方向；所述第二數(shù)個(gè)束導(dǎo)引器件能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輸出束的方向；所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
355.根據(jù)權(quán)利要求353所述的系統(tǒng)，其中所述第一數(shù)個(gè)束導(dǎo)引器件能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輸出束的方向；所述第二數(shù)個(gè)束導(dǎo)引器件能夠在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輸出束的方向；
356.根據(jù)權(quán)利要求338所述的系統(tǒng)，其中，所述第一和第二數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
357.根據(jù)權(quán)利要求355所述的系統(tǒng)，其中，所述第一和第二數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
358.根據(jù)權(quán)利要求356所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
359.根據(jù)權(quán)利要求356所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
360.根據(jù)權(quán)利要求355所述的系統(tǒng)，其中，所述第一數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元包括個(gè)數(shù)超過(guò)包括在所述第一數(shù)個(gè)輸出束中的輸出束個(gè)數(shù)的若干個(gè)束導(dǎo)引單元，和其中，所述第一數(shù)個(gè)輸出束的至少一些被引向所述第一數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元的至少一些，而所述第一數(shù)個(gè)所述束導(dǎo)引單元的其它一些被重新定位。
361.根據(jù)權(quán)利要求355所述的系統(tǒng)，其中，所述第二數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元包括個(gè)數(shù)超過(guò)包括在所述第二數(shù)個(gè)輸出束中的輸出束個(gè)數(shù)的若干個(gè)束導(dǎo)引單元，和其中，所述第二數(shù)個(gè)輸出束的至少一些被引向所述第二數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元的至少一些，而所述第二數(shù)個(gè)所述束導(dǎo)引單元的其它一些被重新定位。
362.根據(jù)權(quán)利要求340所述的系統(tǒng)，其中，所述可選個(gè)第一輸出束都位于一個(gè)平面內(nèi)。
363.根據(jù)權(quán)利要求341所述的系統(tǒng)，其中，所述可選個(gè)第二輸出束都位于一個(gè)平面內(nèi)。
364.根據(jù)權(quán)利要求338所述的系統(tǒng)，其中，所述第一數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元包括二維陣列的束導(dǎo)引單元。
365.根據(jù)權(quán)利要求338所述的系統(tǒng)，其中，所述第二數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元包括二維陣列的束導(dǎo)引單元。
366.根據(jù)權(quán)利要求364所述的系統(tǒng)，還包括一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器，所述一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器在光學(xué)上置于所述激光束發(fā)生器和所述第一數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元之間。
367.根據(jù)權(quán)利要求365所述的系統(tǒng)，還包括一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器，所述一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器在光學(xué)上置于所述第一數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元和所述第二數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元之間。
368.一種把能量傳送到基片的方法，包括提供數(shù)個(gè)輻射束；沿著可動(dòng)態(tài)選擇方向傳播所述數(shù)個(gè)輻射束的每一個(gè)；和把所述數(shù)個(gè)輻射束引向所述基片上的可選位置。
369.根據(jù)權(quán)利要求368所述的方法，其中，所述提供包括生成每一個(gè)通過(guò)輻射能量的脈沖定義的數(shù)個(gè)輻射束。
370.根據(jù)權(quán)利要求368所述的方法，其中，所述提供包括利用至少一個(gè)脈沖激光器生成所述數(shù)個(gè)輻射束，所述數(shù)個(gè)輻射束包括至少一個(gè)脈沖激光束。
371.根據(jù)權(quán)利要求370所述的方法，其中，所述至少一個(gè)脈沖激光器是Q開(kāi)關(guān)激光器。
372.根據(jù)權(quán)利要求368所述的方法，其中，所述提供包括利用Q開(kāi)關(guān)激光器生成所述數(shù)個(gè)輻射束。
373.根據(jù)權(quán)利要求368所述的方法，其中，所述提供包括生成輻射能量束；和把所述輻射束分解成可選個(gè)子束。
374.根據(jù)權(quán)利要求368所述的方法，其中，所述提供包括生成輻射能量束；把所述輻射束分解成可選個(gè)子束；和把所述子束的每一個(gè)引向可選方向。
375.根據(jù)權(quán)利要求373所述的方法，還包括把所述子束的每一個(gè)引向可選方向。
376.根據(jù)權(quán)利要求375所述的方法，其中，所述分解包括提供聲光偏轉(zhuǎn)器；和控制所述聲光偏轉(zhuǎn)器。
377.根據(jù)權(quán)利要求376所述的方法，其中，所述控制包括生成聲波；和決定所述子束的可選個(gè)數(shù)。
378.根據(jù)權(quán)利要求376所述的方法，其中，所述控制包括生成聲波；和決定所述子束的所述可選方向。
379.根據(jù)權(quán)利要求377所述的方法，其中，所述控制還包括決定所述子束的所述可選方向。
380.根據(jù)權(quán)利要求379所述的方法，其中，所述生成聲波包括生成數(shù)個(gè)空間不同聲波段；和通過(guò)具有不同頻率的所述控制信號(hào)的一部分定義每個(gè)空間不同聲波段。
381.根據(jù)權(quán)利要求380所述的方法，還包括從所述每個(gè)空間不同聲波段中決定相應(yīng)子束的相應(yīng)空間不同方向，所述方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
382.根據(jù)權(quán)利要求380所述的方法，還包括從所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)中決定相應(yīng)子束的個(gè)數(shù)。
383.根據(jù)權(quán)利要求369所述的方法，其中，所述提供包括生成輻射能量束；把所述輻射束分解成可選個(gè)子束；在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的個(gè)數(shù)和方向的至少一個(gè)；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)大于所述重新配置時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
384.根據(jù)權(quán)利要求369所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
385.根據(jù)權(quán)利要求383所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
386.根據(jù)權(quán)利要求370所述的方法，其中，所述引導(dǎo)還包括提供數(shù)個(gè)反射器，每一個(gè)安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上。
387.根據(jù)權(quán)利要求385所述的方法，其中，所述引導(dǎo)還包括提供數(shù)個(gè)反射器，每一個(gè)安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上。
388.根據(jù)權(quán)利要求386所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
389.根據(jù)權(quán)利要求386所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
390.根據(jù)權(quán)利要求385所述的方法，其中，所述引導(dǎo)包括提供數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元，所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元包括個(gè)數(shù)超過(guò)包括在所述數(shù)個(gè)子束中的子束個(gè)數(shù)的若干個(gè)束導(dǎo)引單元；把所述數(shù)個(gè)子束的至少一些引向所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元的至少一些；和同時(shí)重新定位所述數(shù)個(gè)所述束導(dǎo)引單元的其它一些。
391.根據(jù)權(quán)利要求373所述的方法，其中，所述分解包括把所述輻射束分解成都位于一個(gè)平面內(nèi)的可選個(gè)子束。
392.根據(jù)權(quán)利要求390所述的方法，其中，所述提供數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元包括提供二維陣列的束導(dǎo)引單元。
393.根據(jù)權(quán)利要求392所述的方法，還包括在把所述數(shù)個(gè)輻射束引向所述可選方向之前，利用一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器使所述數(shù)個(gè)輻射束偏轉(zhuǎn)。
394.根據(jù)權(quán)利要求368所述的方法，還包括消除所述基片在所述位置上的那一部分。
395.一種把能量傳送到基片的方法，包括提供輻射束；把所述輻射束分解成數(shù)個(gè)子束；沿著可選方向傳播所述數(shù)個(gè)子束的每一個(gè)；和把所述數(shù)個(gè)子束引向所述基片上的可選位置。
396.根據(jù)權(quán)利要求395所述的方法，其中，所述提供包括生成通過(guò)輻射能量的脈沖定義的輻射束。
397.根據(jù)權(quán)利要求395所述的方法，其中，所述提供包括利用至少一個(gè)脈沖激光器生成所述輻射束，和其中，所述輻射束包括脈沖激光束。
398.根據(jù)權(quán)利要求397所述的方法，其中，所述至少一個(gè)脈沖激光器是Q開(kāi)關(guān)激光器。
399.根據(jù)權(quán)利要求395所述的方法，其中，所述提供包括利用Q開(kāi)關(guān)激光器生成所述輻射束。
400.根據(jù)權(quán)利要求395所述的方法，其中，所述分解包括把所述輻射束分解成可選個(gè)子束。
401.根據(jù)權(quán)利要求400所述的方法，其中，所述分解包括提供聲光偏轉(zhuǎn)器；和控制所述聲光偏轉(zhuǎn)器。
402.根據(jù)權(quán)利要求401所述的方法，其中，所述控制包括生成聲波；和決定所述子束的可選個(gè)數(shù)。
403.根據(jù)權(quán)利要求401所述的方法，其中，所述控制包括生成聲波；和決定所述子束的所述可選方向。
404.根據(jù)權(quán)利要求402所述的方法，其中，所述控制還包括決定所述子束的所述可選方向。
405.根據(jù)權(quán)利要求404所述的方法，其中，所述生成聲波包括生成數(shù)個(gè)空間不同聲波段；和通過(guò)具有不同頻率的所述控制信號(hào)的一部分定義每個(gè)空間不同聲波段。
406.根據(jù)權(quán)利要求405所述的方法，還包括從所述每個(gè)空間不同聲波段中決定相應(yīng)子束的相應(yīng)空間不同方向，所述方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
407.根據(jù)權(quán)利要求405所述的方法，還包括從所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)中決定相應(yīng)子束的個(gè)數(shù)。
408.根據(jù)權(quán)利要求396所述的方法，其中，所述分解包括把所述輻射束分解成可選個(gè)子束；在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的個(gè)數(shù)和方向的至少一個(gè)；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)大于所述重新配置時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
409.根據(jù)權(quán)利要求396所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
410.根據(jù)權(quán)利要求408所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
411.根據(jù)權(quán)利要求397所述的方法，其中，所述引導(dǎo)還包括提供數(shù)個(gè)反射器，每一個(gè)安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上。
412.根據(jù)權(quán)利要求410所述的方法，其中，所述引導(dǎo)還包括提供數(shù)個(gè)反射器，每一個(gè)安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上。
413.根據(jù)權(quán)利要求411所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
414.根據(jù)權(quán)利要求411所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
415.根據(jù)權(quán)利要求410所述的方法，其中，所述引導(dǎo)包括提供數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元，所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元包括個(gè)數(shù)超過(guò)包括在所述數(shù)個(gè)子束中的子束個(gè)數(shù)的若干個(gè)束導(dǎo)引單元；把所述數(shù)個(gè)子束的至少一些引向所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元的至少一些；和同時(shí)重新定位所述數(shù)個(gè)所述束導(dǎo)引單元的其它一些。
416.根據(jù)權(quán)利要求400所述的方法，其中，所述分解包括把所述輻射束分解成都位于一個(gè)平面內(nèi)的可選個(gè)子束。
417.根據(jù)權(quán)利要求415所述的方法，其中，所述提供數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元包括提供二維陣列的束導(dǎo)引單元。
418.根據(jù)權(quán)利要求417所述的方法，還包括在把所述數(shù)個(gè)輻射束引向所述可選方向之前，利用一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器使所述數(shù)個(gè)輻射束偏轉(zhuǎn)。
419.根據(jù)權(quán)利要求395所述的方法，還包括消除所述基片在所述位置上的那一部分。
420.一種把能量傳送到基片的方法，包括提供輻射束；把所述輻射束分解成數(shù)個(gè)子束，所述數(shù)個(gè)子束由可選個(gè)子束組成。
421.根據(jù)權(quán)利要求420所述的方法，其中，所述提供包括生成通過(guò)輻射能量的脈沖定義的輻射束。
422.根據(jù)權(quán)利要求420所述的方法，其中，所述提供包括利用至少一個(gè)脈沖激光器生成所述輻射束，和其中，所述輻射束包括脈沖激光束。
423.根據(jù)權(quán)利要求422所述的方法，其中，所述至少一個(gè)脈沖激光器是Q開(kāi)關(guān)激光器。
424.根據(jù)權(quán)利要求420所述的方法，其中，所述提供包括利用Q開(kāi)關(guān)激光器生成所述輻射束。
425.根據(jù)權(quán)利要求420所述的方法，其中，所述分解還包括把所述數(shù)個(gè)子束的每一個(gè)引向可選方向。
426.根據(jù)權(quán)利要求425所述的方法，其中，所述分解還包括提供聲光偏轉(zhuǎn)器；和控制所述聲光偏轉(zhuǎn)器。
427.根據(jù)權(quán)利要求426所述的方法，其中，所述控制包括生成聲波；和決定所述子束的可選個(gè)數(shù)。
428.根據(jù)權(quán)利要求426所述的方法，其中，所述控制包括生成聲波；和決定所述子束的所述可選方向。
429.根據(jù)權(quán)利要求427所述的方法，其中，所述控制還包括決定所述子束的所述可選方向。
430.根據(jù)權(quán)利要求429所述的方法，其中，所述生成聲波包括生成數(shù)個(gè)空間不同聲波段；和通過(guò)具有不同頻率的所述控制信號(hào)的一部分定義每個(gè)空間不同聲波段。
431.根據(jù)權(quán)利要求430所述的方法，還包括從所述每個(gè)空間不同聲波段中決定相應(yīng)子束的相應(yīng)空間不同方向，所述方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
432.根據(jù)權(quán)利要求430所述的方法，還包括從所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)中決定相應(yīng)子束的個(gè)數(shù)。
433.根據(jù)權(quán)利要求421所述的方法，其中，所述分解包括在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的個(gè)數(shù)和方向的至少一個(gè)；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)大于所述重新配置時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
434.根據(jù)權(quán)利要求421所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
435.根據(jù)權(quán)利要求433所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
436.根據(jù)權(quán)利要求422所述的方法，還包括提供數(shù)個(gè)反射器，每一個(gè)安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上。
437.根據(jù)權(quán)利要求435所述的方法，還包括提供數(shù)個(gè)反射器，每一個(gè)安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上。
438.根據(jù)權(quán)利要求436所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
439.根據(jù)權(quán)利要求436所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
440.根據(jù)權(quán)利要求435所述的方法，還包括提供數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元，所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元包括個(gè)數(shù)超過(guò)包括在所述數(shù)個(gè)子束中的子束個(gè)數(shù)的若干個(gè)束導(dǎo)引單元；把所述數(shù)個(gè)子束的至少一些引向所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元的至少一些；和同時(shí)重新定位所述數(shù)個(gè)所述束導(dǎo)引單元的其它一些。
441.根據(jù)權(quán)利要求427所述的方法，其中，所述分解包括把所述輻射束分解成都位于一個(gè)平面內(nèi)的可選個(gè)子束。
442.根據(jù)權(quán)利要求440所述的方法，其中，所述提供數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元包括提供二維陣列的束導(dǎo)引單元。
443.根據(jù)權(quán)利要求442所述的方法，還包括利用一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器使所述數(shù)個(gè)子束偏轉(zhuǎn)。
444.根據(jù)權(quán)利要求434所述的方法，還包括消除所述基片在特定位置上的那一部分。
445.一種把能量傳送到基片的方法，包括利用至少一個(gè)輻射能量源提供輻射束；把光電多束發(fā)生器置于所述至少一個(gè)輻射能量源和所述基片之間；從所述輻射束中生成至少兩個(gè)子束；和選擇每個(gè)子束的能量寬度特性。
446.根據(jù)權(quán)利要求445所述的方法，其中，所述提供包括利用脈沖輻射能量源生成通過(guò)輻射能量的脈沖定義的所述輻射束。
447.根據(jù)權(quán)利要求445所述的方法，其中，所述提供包括利用至少一個(gè)脈沖激光器生成所述輻射束，所述輻射束包括脈沖激光束。
448.根據(jù)權(quán)利要求447所述的方法，其中，所述至少一個(gè)脈沖激光器是Q開(kāi)關(guān)激光器。
449.根據(jù)權(quán)利要求445所述的方法，其中，所述提供包括利用Q開(kāi)關(guān)激光器生成所述輻射束。
450.根據(jù)權(quán)利要求445所述的方法，其中，所述生成包括生成可選個(gè)子束。
451.根據(jù)權(quán)利要求445所述的方法，還包括把所述子束的每一個(gè)引向可選方向。
452.根據(jù)權(quán)利要求450所述的方法，還包括把所述子束的每一個(gè)引向可選方向。
453.根據(jù)權(quán)利要求452所述的方法，還包括提供聲光偏轉(zhuǎn)器；和控制所述聲光偏轉(zhuǎn)器。
454.根據(jù)權(quán)利要求453所述的方法，其中，所述控制包括生成聲波；和決定所述子束的可選個(gè)數(shù)。
455.根據(jù)權(quán)利要求453所述的方法，其中，所述控制包括生成聲波；和決定所述子束的所述可選方向。
456.根據(jù)權(quán)利要求454所述的方法，其中，所述控制還包括決定所述子束的所述可選方向。
457.根據(jù)權(quán)利要求456所述的方法，其中，生成所述聲波包括生成數(shù)個(gè)空間不同聲波段；和通過(guò)具有不同頻率的所述控制信號(hào)的一部分定義每個(gè)空間不同聲波段。
458.根據(jù)權(quán)利要求457所述的方法，還包括從所述每個(gè)空間不同聲波段中決定相應(yīng)子束的相應(yīng)空間不同方向，所述不同方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
459.根據(jù)權(quán)利要求457所述的方法，還包括從所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)中決定相應(yīng)子束的個(gè)數(shù)。
460.根據(jù)權(quán)利要求446所述的方法，其中，所述生成包括生成可選個(gè)子束，在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的個(gè)數(shù)和方向的至少一個(gè)；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)大于所述重新配置時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
461.根據(jù)權(quán)利要求446所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
462.根據(jù)權(quán)利要求460所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
463.根據(jù)權(quán)利要求447所述的方法，還包括提供數(shù)個(gè)反射器，每一個(gè)安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上。
464.根據(jù)權(quán)利要求462所述的方法，還包括提供數(shù)個(gè)反射器，每一個(gè)安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上。
465.根據(jù)權(quán)利要求463所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
466.根據(jù)權(quán)利要求463所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
467.根據(jù)權(quán)利要求462所述的方法，還包括提供數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元，所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元包括個(gè)數(shù)超過(guò)包括在所述數(shù)個(gè)子束中的子束個(gè)數(shù)的若干個(gè)束導(dǎo)引單元；把所述數(shù)個(gè)子束的至少一些引向所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元的至少一些；和同時(shí)重新定位所述數(shù)個(gè)所述束導(dǎo)引單元的其它一些。
468.根據(jù)權(quán)利要求450所述的方法，其中，所述生成所述可選個(gè)子束包括生成都位于一個(gè)平面內(nèi)的所述可選個(gè)子束。
469.根據(jù)權(quán)利要求467所述的方法，其中，所述提供數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元包括提供二維陣列的束導(dǎo)引單元。
470.根據(jù)權(quán)利要求469所述的方法，還包括利用一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器使所述數(shù)個(gè)子束偏轉(zhuǎn)。
471.根據(jù)權(quán)利要求445所述的方法，還包括消除所述基片在特定位置上的那一部分。
472.一種微加工基片的方法，包括沿著光軸提供脈沖輻射束，所述脈沖束包括相隔時(shí)間脈沖間距的多個(gè)脈沖；把所述輻射束分解成數(shù)個(gè)子束；和相對(duì)于所述光軸在所選角度輸出所述數(shù)個(gè)子束，其角度以小于所述時(shí)間脈沖間距的時(shí)間量為單位改變。
473.根據(jù)權(quán)利要求472所述的方法，其中，所述提供包括利用至少一個(gè)脈沖激光器生成所述脈沖輻射束，所述脈沖束包括脈沖激光束。
474.根據(jù)權(quán)利要求473所述的方法，其中，所述至少一個(gè)脈沖激光器是Q開(kāi)關(guān)激光器。
475.根據(jù)權(quán)利要求472所述的方法，其中，所述提供包括利用Q開(kāi)關(guān)激光器生成所述輻射束。
476.根據(jù)權(quán)利要求472所述的方法，其中，所述分解包括把所述輻射束分解成可選個(gè)子束。
477.根據(jù)權(quán)利要求472所述的方法，其中，所述分解還包括把所述數(shù)個(gè)子束的每一個(gè)引向可選方向。
478.根據(jù)權(quán)利要求476所述的方法，其中，所述分解還包括把所述數(shù)個(gè)子束的每一個(gè)引向可選方向。
479.根據(jù)權(quán)利要求478所述的方法，其中，所述分解還包括提供聲光偏轉(zhuǎn)器；和控制所述聲光偏轉(zhuǎn)器。
480.根據(jù)權(quán)利要求479所述的方法，其中，所述控制包括生成聲波；和決定所述子束的可選個(gè)數(shù)。
481.根據(jù)權(quán)利要求479所述的方法，其中，所述控制包括生成聲波；和決定所述子束的可選方向。
482.根據(jù)權(quán)利要求480所述的方法，其中，所述控制還包括決定所述子束的可選方向。
483.根據(jù)權(quán)利要求482所述的方法，其中，生成所述聲波包括生成數(shù)個(gè)空間不同聲波段；和通過(guò)具有不同頻率的所述控制信號(hào)的一部分定義每個(gè)空間不同聲波段。
484.根據(jù)權(quán)利要求483所述的方法，還包括從所述每個(gè)空間不同聲波段中決定相應(yīng)子束的相應(yīng)空間不同方向，所述不同方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
485.根據(jù)權(quán)利要求483所述的方法，還包括從所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)中決定相應(yīng)子束的個(gè)數(shù)。
486.根據(jù)權(quán)利要求472所述的方法，其中，所述分解還包括把所述輻射束分解成可選個(gè)子束，和所述方法還包括在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的個(gè)數(shù)和方向的至少一個(gè)；和其中，所述時(shí)間脈沖間距大于所述重新配置時(shí)間間隔。
487.根據(jù)權(quán)利要求472所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向，其中，所述時(shí)間脈沖間距小于所述重新定向時(shí)間間隔。
488.根據(jù)權(quán)利要求486所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向，其中，所述時(shí)間脈沖間距小于所述重新定向時(shí)間間隔。
489.根據(jù)權(quán)利要求473所述的方法，還包括提供數(shù)個(gè)反射器，每一個(gè)安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上。
490.根據(jù)權(quán)利要求488所述的方法，還包括提供數(shù)個(gè)反射器，每一個(gè)安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上。
491.根據(jù)權(quán)利要求489所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
492.根據(jù)權(quán)利要求489所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
493.根據(jù)權(quán)利要求488所述的方法，還包括提供數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元，所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元包括個(gè)數(shù)超過(guò)包括在所述數(shù)個(gè)子束中的子束個(gè)數(shù)的若干個(gè)束導(dǎo)引單元；把所述數(shù)個(gè)子束的至少一些引向所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元的至少一些；和同時(shí)重新定位所述數(shù)個(gè)所述束導(dǎo)引單元的其它一些。
494.根據(jù)權(quán)利要求476所述的方法，其中，所述分解包括把所述輻射束分解成都位于一個(gè)平面內(nèi)的可選個(gè)子束。
495.根據(jù)權(quán)利要求493所述的方法，其中，所述提供數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元包括提供二維陣列的束導(dǎo)引單元。
496.根據(jù)權(quán)利要求495所述的方法，還包括利用一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器使所述數(shù)個(gè)子束偏轉(zhuǎn)。
497.根據(jù)權(quán)利要求472所述的方法，還包括消除所述基片在特定位置上的那一部分。
498.一種微加工基片的方法，包括提供脈沖輻射束，所述脈沖束包括相隔時(shí)間脈沖間距的多個(gè)脈沖；把所述輻射束分解成數(shù)個(gè)子束；在可改變的可選角度輸出所述數(shù)個(gè)子束；和利用數(shù)個(gè)可選空間取向偏轉(zhuǎn)器接收所述子束；利用所述可選空間取向偏轉(zhuǎn)器的幾個(gè)，以大于所述時(shí)間脈沖間距的時(shí)間量為單位改變空間取向；和利用所述可選空間取向偏轉(zhuǎn)器的一些把所述子束引向所述基片。
499.根據(jù)權(quán)利要求498所述的方法，其中，所述提供包括利用至少一個(gè)脈沖激光器生成所述脈沖輻射束，所述脈沖束包括脈沖激光束。
500.根據(jù)權(quán)利要求499所述的方法，其中，所述至少一個(gè)脈沖激光器是Q開(kāi)關(guān)激光器。
501.根據(jù)權(quán)利要求498所述的方法，其中，所述提供包括利用Q開(kāi)關(guān)激光器生成所述輻射束。
502.根據(jù)權(quán)利要求498所述的方法，其中，所述分解包括把所述輻射束分解成可選個(gè)子束。
503.根據(jù)權(quán)利要求498所述的方法，其中，所述分解還包括提供聲光偏轉(zhuǎn)器；和控制所述聲光偏轉(zhuǎn)器。
504.根據(jù)權(quán)利要求503所述的方法，其中，所述控制包括生成聲波；和決定所述子束的可選個(gè)數(shù)。
505.根據(jù)權(quán)利要求503所述的方法，其中，所述控制包括生成聲波；和決定所述子束的可選角度。
506.根據(jù)權(quán)利要求504所述的方法，其中，所述控制還包括決定所述子束的可選角度。
507.根據(jù)權(quán)利要求506所述的方法，其中，生成所述聲波包括生成數(shù)個(gè)空間不同聲波段；和通過(guò)具有不同頻率的控制信號(hào)的一部分定義每個(gè)空間不同聲波段。
508.根據(jù)權(quán)利要求507所述的方法，還包括從所述每個(gè)空間不同聲波段中決定相應(yīng)子束的相應(yīng)空間不同方向，所述不同方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
509.根據(jù)權(quán)利要求507所述的方法，還包括從所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)中決定相應(yīng)子束的個(gè)數(shù)。
510.根據(jù)權(quán)利要求598所述的方法，其中，所述分解還包括把所述輻射束分解成可選個(gè)子束，和所述方法還包括在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的個(gè)數(shù)和角度的至少一個(gè)；和其中，所述時(shí)間脈沖間距大于所述重新配置時(shí)間間隔。
511.根據(jù)權(quán)利要求498所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的角度，其中，所述時(shí)間脈沖間距小于所述重新定向時(shí)間間隔。
512.根據(jù)權(quán)利要求510所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的角度，其中，所述時(shí)間脈沖間距小于所述重新定向時(shí)間間隔。
513.根據(jù)權(quán)利要求499所述的方法，還包括提供數(shù)個(gè)反射器，每一個(gè)安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上。
514.根據(jù)權(quán)利要求512所述的方法，還包括提供數(shù)個(gè)反射器，每一個(gè)安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上。
515.根據(jù)權(quán)利要求513所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
516.根據(jù)權(quán)利要求513所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
517.根據(jù)權(quán)利要求512所述的方法，還包括提供數(shù)個(gè)可選空間取向偏轉(zhuǎn)器，所述數(shù)個(gè)可選空間取向偏轉(zhuǎn)器包括個(gè)數(shù)超過(guò)包括在所述數(shù)個(gè)子束中的子束個(gè)數(shù)的若干個(gè)可選空間取向偏轉(zhuǎn)器；把所述數(shù)個(gè)子束的至少一些引向所述數(shù)個(gè)可選空間取向偏轉(zhuǎn)器的至少一些；和同時(shí)重新定位所述數(shù)個(gè)所述可選空間取向偏轉(zhuǎn)器的其它一些。
518.根據(jù)權(quán)利要求502所述的方法，其中，所述分解包括把所述輻射束分解成都位于一個(gè)平面內(nèi)的可選個(gè)子束。
519.根據(jù)權(quán)利要求517所述的方法，其中，所述提供數(shù)個(gè)可選空間取向偏轉(zhuǎn)器包括提供二維陣列的可選空間取向偏轉(zhuǎn)器。
520.根據(jù)權(quán)利要求519所述的方法，還包括利用一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器使所述數(shù)個(gè)子束偏轉(zhuǎn)。
521.根據(jù)權(quán)利要求498所述的方法，還包括消除所述基片在特定位置上的那一部分。
522.一種微加工基片的方法，包括提供輻射束；把所述輻射束分解成可選個(gè)輸出束，所述輸出束具有與所述可選個(gè)數(shù)存在函數(shù)關(guān)系的能量特性；利用至少一個(gè)束導(dǎo)引單元接收所述輸出束的至少一個(gè)；和引導(dǎo)所述輸出束的至少一個(gè)，以便微加工所述基片的一部分。
523.根據(jù)權(quán)利要求522所述的方法，其中，所述提供包括生成通過(guò)輻射能量的脈沖定義的所述輻射束。
524.根據(jù)權(quán)利要求522所述的方法，其中，所述提供包括利用至少一個(gè)脈沖激光器生成所述輻射束，所述輻射束包括脈沖激光束。
525.根據(jù)權(quán)利要求524所述的方法，其中，所述至少一個(gè)脈沖激光器是Q開(kāi)關(guān)激光器。
526.根據(jù)權(quán)利要求522所述的方法，其中，所述提供包括利用Q開(kāi)關(guān)激光器生成所述輻射束。
527.根據(jù)權(quán)利要求522所述的方法，還包括把所述輸出束的每一個(gè)引向可選方向。
528.根據(jù)權(quán)利要求527所述的方法，其中，所述分解還包括提供聲光偏轉(zhuǎn)器；和控制所述聲光偏轉(zhuǎn)器。
529.根據(jù)權(quán)利要求528所述的方法，其中，所述控制包括生成聲波；和決定所述輸出束的可選個(gè)數(shù)。
530.根據(jù)權(quán)利要求529所述的方法，其中，所述控制包括生成聲波；和決定所述輸出束的可選方向。
531.根據(jù)權(quán)利要求529所述的方法，其中，所述控制還包括決定所述輸出束的所述可選方向。
532.根據(jù)權(quán)利要求531所述的方法，其中，所述生成聲波包括生成數(shù)個(gè)空間不同聲波段；和通過(guò)具有不同頻率的控制信號(hào)的一部分定義每個(gè)空間不同聲波段。
533.根據(jù)權(quán)利要求532所述的方法，還包括從所述每個(gè)空間不同聲波段中決定相應(yīng)輸出束的相應(yīng)空間不同方向，所述不同方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
534.根據(jù)權(quán)利要求532所述的方法，還包括從所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)中決定相應(yīng)輸出束的個(gè)數(shù)。
535.根據(jù)權(quán)利要求523所述的方法，還包括在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輸出束的個(gè)數(shù)和方向的至少一個(gè)；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)大于所述重新配置時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
536.根據(jù)權(quán)利要求523所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
537.根據(jù)權(quán)利要求535所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
538.根據(jù)權(quán)利要求524所述的方法，其中，所述引導(dǎo)還包括提供數(shù)個(gè)反射器，每一個(gè)安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上。
539.根據(jù)權(quán)利要求537所述的方法，其中，所述引導(dǎo)還包括提供數(shù)個(gè)反射器，每一個(gè)安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上。
540.根據(jù)權(quán)利要求538所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
541.根據(jù)權(quán)利要求538所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
542.根據(jù)權(quán)利要求537所述的方法，其中，所述接收包括利用數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元的至少一個(gè)束導(dǎo)引單元接收所述輸出束的所述至少一個(gè)，所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元包括個(gè)數(shù)超過(guò)包括在所述數(shù)個(gè)輸出束中的輸出束個(gè)數(shù)的若干個(gè)束導(dǎo)引單元；和所述引導(dǎo)包括把所述數(shù)個(gè)輸出束的至少一些引向所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元的至少一些；和同時(shí)重新定位所述數(shù)個(gè)所述束導(dǎo)引單元的其它一些。
543.根據(jù)權(quán)利要求522所述的方法，其中，所述分解包括把所述輻射束分解成都位于一個(gè)平面內(nèi)的可選個(gè)子束。
544.根據(jù)權(quán)利要求542所述的方法，其中，所述數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元包括二維陣列的束導(dǎo)引單元。
545.根據(jù)權(quán)利要求544所述的方法，還包括在把所述數(shù)個(gè)束引向所述可選位置之前，利用一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器使所述數(shù)個(gè)束偏轉(zhuǎn)。
546.根據(jù)權(quán)利要求522所述的方法，還包括消除所述基片的所述部分。
547.一種把能量傳送到基片的方法，包括提供在一個(gè)平面內(nèi)傳播的數(shù)個(gè)輻射束；利用數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器接收所述數(shù)個(gè)輻射束；和使所述輻射束的至少一些偏轉(zhuǎn)到所述平面之外的預(yù)定位置。
548.根據(jù)權(quán)利要求547所述的方法，其中，所述提供包括生成每一個(gè)通過(guò)輻射能量的脈沖定義的數(shù)個(gè)輻射束。
549.根據(jù)權(quán)利要求547所述的方法，其中，所述提供包括利用至少一個(gè)脈沖激光器生成所述數(shù)個(gè)輻射束，所述數(shù)個(gè)輻射束包括至少一個(gè)脈沖激光束。
550.根據(jù)權(quán)利要求549所述的方法，其中，所述至少一個(gè)脈沖激光器是Q開(kāi)關(guān)激光器。
551.根據(jù)權(quán)利要求547所述的方法，其中，所述提供包括利用Q開(kāi)關(guān)激光器生成所述數(shù)個(gè)輻射束。
552.根據(jù)權(quán)利要求547所述的方法，其中，所述提供包括提供可選個(gè)輻射能量束。
553.根據(jù)權(quán)利要求547所述的方法，還包括把所述數(shù)個(gè)輻射束的每一個(gè)引向可選方向。
554.根據(jù)權(quán)利要求552所述的方法，還包括把所述數(shù)個(gè)輻射束的每一個(gè)引向可選方向。
555.根據(jù)權(quán)利要求554所述的方法，其中，所述偏轉(zhuǎn)包括提供聲光偏轉(zhuǎn)器；和控制所述聲光偏轉(zhuǎn)器。
556.根據(jù)權(quán)利要求555所述的方法，其中，所述控制包括生成聲波；和決定所述輻射束的可選個(gè)數(shù)。
557.根據(jù)權(quán)利要求555所述的方法，其中，所述控制包括生成聲波；和決定所述輻射束的可選方向。
558.根據(jù)權(quán)利要求556所述的方法，其中，所述控制還包括決定所述輻射束的所述可選方向。
559.根據(jù)權(quán)利要求558所述的方法，其中，所述生成聲波包括生成數(shù)個(gè)空間不同聲波段；和通過(guò)具有不同頻率的控制信號(hào)的一部分定義每個(gè)空間不同聲波段。
560.根據(jù)權(quán)利要求559所述的方法，還包括從所述每個(gè)空間不同聲波段中決定相應(yīng)輸出束的相應(yīng)空間不同方向，所述不同方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
561.根據(jù)權(quán)利要求559所述的方法，還包括從所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)中決定相應(yīng)輻射束的個(gè)數(shù)。
562.根據(jù)權(quán)利要求548所述的方法，其中，所述提供包括提供可選個(gè)輻射束；和所述方法還包括在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輻射束的個(gè)數(shù)和方向的至少一個(gè)；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)大于所述重新配置時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
563.根據(jù)權(quán)利要求548所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輻射束的方向；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
564.根據(jù)權(quán)利要求562所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輻射束的方向；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
565.根據(jù)權(quán)利要求549所述的方法，其中，所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
566.根據(jù)權(quán)利要求564所述的方法，其中，所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
567.根據(jù)權(quán)利要求565所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
568.根據(jù)權(quán)利要求565所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
569.根據(jù)權(quán)利要求564所述的方法，其中，所述接收包括利用所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器接收所述數(shù)個(gè)輻射束，所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器包括個(gè)數(shù)超過(guò)包括在所述數(shù)個(gè)輻射束中的輻射束個(gè)數(shù)的若干個(gè)偏轉(zhuǎn)器；和所述偏轉(zhuǎn)包括把所述數(shù)個(gè)輻射束的至少一些引向所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器的至少一些；和同時(shí)重新定位所述數(shù)個(gè)所述偏轉(zhuǎn)器的其它一些。
570.根據(jù)權(quán)利要求522所述的方法，其中，所述提供可選個(gè)輻射束包括提供都位于一個(gè)平面內(nèi)的可選個(gè)輻射束。
571.根據(jù)權(quán)利要求547所述的方法，其中，所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器包括二維陣列的偏轉(zhuǎn)器。
572.根據(jù)權(quán)利要求571所述的方法，還包括在把所述數(shù)個(gè)輻射束的至少一些引向所述預(yù)定位置之前，利用一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器使所述數(shù)個(gè)輻射束偏轉(zhuǎn)。
573.根據(jù)權(quán)利要求547所述的方法，還包括消除所述基片在所述預(yù)定位置上的那一部分。
574.一種把能量傳送到基片的方法，包括提供輻射束；把所述輻射束分解成在一個(gè)平面內(nèi)傳播的數(shù)個(gè)子束；利用數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器接收所述數(shù)個(gè)子束；和使所述數(shù)個(gè)子束的至少一些偏轉(zhuǎn)到所述平面之外的預(yù)定位置。
575.根據(jù)權(quán)利要求574所述的方法，其中，所述提供包括生成通過(guò)輻射能量的脈沖定義的輻射束。
576.根據(jù)權(quán)利要求574所述的方法，其中，所述提供包括利用至少一個(gè)脈沖激光器生成所述輻射束，所述輻射束包括至少一個(gè)脈沖激光束。
577.根據(jù)權(quán)利要求576所述的方法，其中，所述至少一個(gè)脈沖激光器是Q開(kāi)關(guān)激光器。
578.根據(jù)權(quán)利要求574所述的方法，其中，所述提供包括利用Q開(kāi)關(guān)激光器生成所述輻射束。
579.根據(jù)權(quán)利要求574所述的方法，其中，所述分解包括把所述輻射束分解成可選個(gè)子束。
580.根據(jù)權(quán)利要求574所述的方法，還包括把所述子束的每一個(gè)引向可選方向。
581.根據(jù)權(quán)利要求579所述的方法，還包括把所述子束的每一個(gè)引向可選方向。
582.根據(jù)權(quán)利要求581所述的方法，其中，還包括提供聲光偏轉(zhuǎn)器；和控制所述聲光偏轉(zhuǎn)器。
583.根據(jù)權(quán)利要求582所述的方法，其中，所述控制包括生成聲波；和決定所述子束的可選個(gè)數(shù)。
584.根據(jù)權(quán)利要求582所述的方法，其中，所述控制包括生成聲波；和決定所述子束的可選方向。
585.根據(jù)權(quán)利要求583所述的方法，其中，所述控制還包括決定所述輻射束的所述可選方向。
586.根據(jù)權(quán)利要求585所述的方法，其中，所述生成聲波包括生成數(shù)個(gè)空間不同聲波段；和通過(guò)具有不同頻率的控制信號(hào)的一部分定義每個(gè)空間不同聲波段。
587.根據(jù)權(quán)利要求586所述的方法，還包括從所述每個(gè)空間不同聲波段中決定相應(yīng)子束的相應(yīng)空間不同方向，所述不同方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
588.根據(jù)權(quán)利要求586所述的方法，還包括從所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)中決定相應(yīng)子束的個(gè)數(shù)。
589.根據(jù)權(quán)利要求575所述的方法，其中，所述分解包括把所述輻射束分解成可選個(gè)子束；和所述方法還包括在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的個(gè)數(shù)和方向的至少一個(gè)；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)大于所述重新配置時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
590.根據(jù)權(quán)利要求575所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
591.根據(jù)權(quán)利要求589所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
592.根據(jù)權(quán)利要求576所述的方法，其中，所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
593.根據(jù)權(quán)利要求591所述的方法，其中，所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
594.根據(jù)權(quán)利要求592所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
595.根據(jù)權(quán)利要求592所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
596.根據(jù)權(quán)利要求591所述的方法，其中，所述接收包括利用所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器接收所述數(shù)個(gè)輻射束，所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器包括個(gè)數(shù)超過(guò)包括在所述數(shù)個(gè)子束中的子束個(gè)數(shù)的若干個(gè)偏轉(zhuǎn)器；和所述偏轉(zhuǎn)包括把所述數(shù)個(gè)子束的至少一些引向所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器的至少一些；和同時(shí)重新定位所述數(shù)個(gè)所述偏轉(zhuǎn)器的其它一些。
597.根據(jù)權(quán)利要求579所述的方法，其中，所述分解包括把所述輻射束分解成都位于一個(gè)平面內(nèi)的可選個(gè)子束。
598.根據(jù)權(quán)利要求574所述的方法，其中，所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器包括二維陣列的偏轉(zhuǎn)器。
599.根據(jù)權(quán)利要求598所述的方法，還包括在接收所述數(shù)個(gè)子束之前，利用一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器使所述數(shù)個(gè)子束偏轉(zhuǎn)。
600.根據(jù)權(quán)利要求574所述的方法，還包括消除所述基片在所述預(yù)定位置上的那一部分。
601.一種把能量傳送到基片的方法，包括在第一時(shí)間間隔，把數(shù)個(gè)輻射束引向第一數(shù)個(gè)可選定位偏轉(zhuǎn)器，以便把所述數(shù)個(gè)輻射束引向第一數(shù)個(gè)位置；在所述第一時(shí)間間隔，有選擇地定位第二數(shù)個(gè)可選定位偏轉(zhuǎn)器；和在第二時(shí)間間隔，把所述數(shù)個(gè)輻射束引向所述第二數(shù)個(gè)可選定位偏轉(zhuǎn)器，以便把所述數(shù)個(gè)輻射束引向第二數(shù)個(gè)位置。
602.根據(jù)權(quán)利要求601所述的方法，還包括通過(guò)輻射能量的脈沖定義所述數(shù)個(gè)輻射束的每一個(gè)。
603.根據(jù)權(quán)利要求601所述的方法，還包括利用至少一個(gè)脈沖激光器生成所述數(shù)個(gè)輻射束，所述輻射束包括至少一個(gè)脈沖激光束。
604.根據(jù)權(quán)利要求601所述的方法，其中，所述至少一個(gè)脈沖激光器是Q開(kāi)關(guān)激光器。
605.根據(jù)權(quán)利要求601所述的方法，還包括利用Q開(kāi)關(guān)激光器生成所述數(shù)個(gè)輻射束。
606.根據(jù)權(quán)利要求601所述的方法，其中，所述數(shù)個(gè)輻射束包括可選個(gè)輻射束。
607.根據(jù)權(quán)利要求601所述的方法，其中，所述引導(dǎo)包括把所述輻射束的每一個(gè)引向可選方向。
608.根據(jù)權(quán)利要求606所述的方法，還包括把所述輻射束的每一個(gè)引向可選方向。
609.根據(jù)權(quán)利要求608所述的方法，還包括提供聲光偏轉(zhuǎn)器；和控制所述聲光偏轉(zhuǎn)器。
610.根據(jù)權(quán)利要求609所述的方法，其中，所述控制包括生成聲波；和決定所述輻射束的可選個(gè)數(shù)。
611.根據(jù)權(quán)利要求609所述的方法，其中，所述控制包括生成聲波；和決定所述輻射束的所述可選方向。
612.根據(jù)權(quán)利要求610所述的方法，其中，所述控制還包括決定所述輻射束的所述可選方向。
613.根據(jù)權(quán)利要求612所述的方法，其中，所述生成聲波包括生成數(shù)個(gè)空間不同聲波段；和通過(guò)具有不同頻率的控制信號(hào)的一部分定義每個(gè)空間不同聲波段。
614.根據(jù)權(quán)利要求613所述的方法，還包括從所述每個(gè)空間不同聲波段中決定相應(yīng)輻射束的相應(yīng)空間不同方向，所述不同方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
615.根據(jù)權(quán)利要求613所述的方法，還包括從所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)中決定相應(yīng)子束的個(gè)數(shù)。
616.根據(jù)權(quán)利要求602所述的方法，其中，所述輻射束包括可選個(gè)輻射束；和所述方法還包括在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輻射束的個(gè)數(shù)和方向的至少一個(gè)；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)大于所述重新配置時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
617.根據(jù)權(quán)利要求602所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輻射束的方向；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
618.根據(jù)權(quán)利要求616所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輻射束的方向；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
619.根據(jù)權(quán)利要求603所述的方法，其中，所述第一和第二數(shù)個(gè)可選定位偏轉(zhuǎn)器的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
620.根據(jù)權(quán)利要求618所述的方法，其中，所述第一和第二數(shù)個(gè)可選定位偏轉(zhuǎn)器的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
621.根據(jù)權(quán)利要求619所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
622.根據(jù)權(quán)利要求619所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
623.根據(jù)權(quán)利要求618所述的方法，其中，所述第一數(shù)個(gè)可選定位偏轉(zhuǎn)器包括個(gè)數(shù)超過(guò)包括在所述數(shù)個(gè)輻射束中的輻射束個(gè)數(shù)的若干個(gè)可選定位偏轉(zhuǎn)器；和所述數(shù)個(gè)輻射束的至少一些被引向所述數(shù)個(gè)所述可選定位偏轉(zhuǎn)器的至少一些，而所述數(shù)個(gè)所述可選定位偏轉(zhuǎn)器的其它一些被重新定位。
624.根據(jù)權(quán)利要求606所述的方法，其中，所述可選個(gè)輻射束都位于一個(gè)平面內(nèi)。
625.根據(jù)權(quán)利要求601所述的方法，其中，所述第一數(shù)個(gè)可選定位偏轉(zhuǎn)器包括二維陣列的可選定位偏轉(zhuǎn)器。
626.根據(jù)權(quán)利要求625所述的方法，還包括利用一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器使所述數(shù)個(gè)輻射束偏轉(zhuǎn)。
627.根據(jù)權(quán)利要求601所述的方法，還包括消除所述基片在所述第二數(shù)個(gè)位置上的那一部分。
628.一種把能量傳送到基片的方法，包括提供至少一個(gè)輻射束；利用至少一個(gè)第一偏轉(zhuǎn)器和至少一個(gè)第二偏轉(zhuǎn)器接收至少一個(gè)輻射束；布置所述至少一個(gè)第一偏轉(zhuǎn)器和所述至少一個(gè)第二偏轉(zhuǎn)器，以便把所述輻射束傳送到所述基片上，各自的、至少第一和第二的、至少部分重疊的位置。
629.根據(jù)權(quán)利要求628所述的方法，還包括將偏轉(zhuǎn)器定位器與每個(gè)偏轉(zhuǎn)器相聯(lián)系；和利用與之相聯(lián)系的所述偏轉(zhuǎn)器定位器，沿著這樣的空間方向定位每個(gè)偏轉(zhuǎn)器，以便把照射在偏轉(zhuǎn)器上的輻射束傳送到所述基片上，與照射在不同偏轉(zhuǎn)器上的輻射束傳送到的相應(yīng)區(qū)域至少部分重疊的區(qū)域內(nèi)。
630.根據(jù)權(quán)利要求629所述的方法，其中，所述提供包括生成通過(guò)輻射能量的脈沖定義的所述至少一個(gè)輻射束。
631.根據(jù)權(quán)利要求629所述的方法，其中，所述提供包括利用至少一個(gè)脈沖激光器生成所述至少一個(gè)輻射束，所述至少一個(gè)輻射束包括至少一個(gè)脈沖激光束。
632.根據(jù)權(quán)利要求631所述的方法，其中，所述至少一個(gè)脈沖激光器是Q開(kāi)關(guān)激光器。
633.根據(jù)權(quán)利要求629所述的方法，其中，所述提供包括利用Q開(kāi)關(guān)激光器生成所述至少一個(gè)輻射束。
634.根據(jù)權(quán)利要求629所述的方法，其中，所述提供包括生成可選個(gè)輻射束。
635.根據(jù)權(quán)利要求629所述的方法，還包括把所述至少一個(gè)輻射束的每一個(gè)引向可選方向。
636.根據(jù)權(quán)利要求635所述的方法，還包括把所述至少一個(gè)輻射束的每一個(gè)引向可選方向。
637.根據(jù)權(quán)利要求636所述的方法，還包括提供聲光偏轉(zhuǎn)器；和控制所述聲光偏轉(zhuǎn)器。
638.根據(jù)權(quán)利要求637所述的方法，其中，所述控制包括生成聲波；和決定所述輻射束的可選個(gè)數(shù)。
639.根據(jù)權(quán)利要求637所述的方法，其中，所述控制包括生成聲波；和決定所述輻射束的所述可選方向。
640.根據(jù)權(quán)利要求638所述的方法，其中，所述控制還包括決定所述輻射束的所述可選方向。
641.根據(jù)權(quán)利要求640所述的方法，其中，所述生成聲波包括生成數(shù)個(gè)空間不同聲波段；和通過(guò)具有不同頻率的控制信號(hào)的一部分定義每個(gè)空間不同聲波段。
642.根據(jù)權(quán)利要求641所述的方法，還包括從所述每個(gè)空間不同聲波段中決定相應(yīng)輻射束的相應(yīng)空間不同方向，所述不同方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
643.根據(jù)權(quán)利要求641所述的方法，還包括從所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)中決定相應(yīng)輻射束的個(gè)數(shù)。
644.根據(jù)權(quán)利要求630所述的方法，其中，所述提供包括生成可選個(gè)輻射束；和所述方法還包括在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輻射束的個(gè)數(shù)和方向的至少一個(gè)；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)大于所述重新配置時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
645.根據(jù)權(quán)利要求630所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輻射束的方向；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
646.根據(jù)權(quán)利要求644所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輻射束的方向；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
647.根據(jù)權(quán)利要求631所述的方法，其中，所述至少一個(gè)第一偏轉(zhuǎn)器的每一個(gè)和至少一個(gè)第二偏轉(zhuǎn)器的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
648.根據(jù)權(quán)利要求646所述的方法，其中，所述至少一個(gè)第一偏轉(zhuǎn)器的每一個(gè)和至少一個(gè)第二偏轉(zhuǎn)器的每一個(gè)包括安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上的反射器。
649.根據(jù)權(quán)利要求647所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
650.根據(jù)權(quán)利要求647所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
651.根據(jù)權(quán)利要求634所述的方法，其中，所述可選個(gè)輻射束都位于一個(gè)平面內(nèi)。
652.根據(jù)權(quán)利要求629所述的方法，其中，所述至少一個(gè)第一偏轉(zhuǎn)器和所述至少一個(gè)第二偏轉(zhuǎn)器包括二維陣列的偏轉(zhuǎn)器。
653.根據(jù)權(quán)利要求652所述的方法，還包括在所述接收之前，利用一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器使所述至少一個(gè)輻射束偏轉(zhuǎn)。
654.根據(jù)權(quán)利要求628所述的方法，還包括消除所述基片在所述重疊位置上的那一部分。
655.一種用于激光微加工的方法，包括提供數(shù)個(gè)輻射束；使所述數(shù)個(gè)輻射束的每一個(gè)獨(dú)立地偏轉(zhuǎn)到要微加工的基片上的可選位置；和把所述數(shù)個(gè)輻射聚焦在所述基片上的所述可選位置上。
656.根據(jù)權(quán)利要求655所述的方法，其中，所述提供包括生成每一個(gè)通過(guò)輻射能量的脈沖定義的所述數(shù)個(gè)輻射束。
657.根據(jù)權(quán)利要求655所述的方法，其中，所述提供包括利用至少一個(gè)脈沖激光器生成所述數(shù)個(gè)輻射束，所述數(shù)個(gè)輻射束包括至少一個(gè)脈沖激光束。
658.根據(jù)權(quán)利要求657所述的方法，其中，所述至少一個(gè)脈沖激光器是Q開(kāi)關(guān)激光器。
659.根據(jù)權(quán)利要求655所述的方法，其中，所述提供包括利用Q開(kāi)關(guān)激光器生成所述數(shù)個(gè)輻射束。
660.根據(jù)權(quán)利要求655所述的方法，其中，所述提供包括生成可選個(gè)輻射束。
661.根據(jù)權(quán)利要求655所述的方法，還包括把所述數(shù)個(gè)輻射束的每一個(gè)引向可選方向。
662.根據(jù)權(quán)利要求660所述的方法，還包括把所述數(shù)個(gè)輻射束的每一個(gè)引向可選方向。
663.根據(jù)權(quán)利要求662所述的方法，還包括提供聲光偏轉(zhuǎn)器；和控制所述聲光偏轉(zhuǎn)器。
664.根據(jù)權(quán)利要求663所述的方法，其中，所述控制包括生成聲波；和決定所述輻射束的可選個(gè)數(shù)。
665.根據(jù)權(quán)利要求663所述的方法，其中，所述控制包括生成聲波；和決定所述輻射束的所述可選方向。
666.根據(jù)權(quán)利要求664所述的方法，其中，所述控制還包括決定所述輻射束的所述可選方向。
667.根據(jù)權(quán)利要求666所述的方法，其中，所述生成聲波包括生成數(shù)個(gè)空間不同聲波段；和通過(guò)具有不同頻率的控制信號(hào)的一部分定義每個(gè)空間不同聲波段。
668.根據(jù)權(quán)利要求667所述的方法，還包括從所述每個(gè)空間不同聲波段中決定相應(yīng)輻射束的相應(yīng)空間不同方向，所述不同方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
669.根據(jù)權(quán)利要求667所述的方法，還包括從所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)中決定相應(yīng)輻射束的個(gè)數(shù)。
670.根據(jù)權(quán)利要求656所述的方法，其中，所述提供包括生成可選個(gè)輻射束；和所述方法還包括在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輻射束的個(gè)數(shù)和方向的至少一個(gè)；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)大于所述重新配置時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
671.根據(jù)權(quán)利要求656所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輻射束的方向；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
672.根據(jù)權(quán)利要求670所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輻射束的方向；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
673.根據(jù)權(quán)利要求657所述的方法，還包括提供數(shù)個(gè)反射器，每一個(gè)安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上。
674.根據(jù)權(quán)利要求672所述的方法，還包括提供數(shù)個(gè)反射器，每一個(gè)安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上。
675.根據(jù)權(quán)利要求673所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
676.根據(jù)權(quán)利要求673所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
677.根據(jù)權(quán)利要求672所述的方法，其中，所述偏轉(zhuǎn)包括提供數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器，所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器包括個(gè)數(shù)超過(guò)包括在所述數(shù)個(gè)輻射束中的輻射束個(gè)數(shù)的若干個(gè)偏轉(zhuǎn)器；把所述數(shù)個(gè)輻射束的至少一些引向所述數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器的至少一些；和同時(shí)重新定位所述數(shù)個(gè)所述偏轉(zhuǎn)器的其它一些。
678.根據(jù)權(quán)利要求660所述的方法，其中，所述生成包括生成都位于一個(gè)平面內(nèi)的所述可選個(gè)輻射束。
679.根據(jù)權(quán)利要求677所述的方法，其中，所述提供數(shù)個(gè)偏轉(zhuǎn)器包括提供二維陣列的偏轉(zhuǎn)器。
680.根據(jù)權(quán)利要求679所述的方法，還包括利用一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器使所述數(shù)個(gè)輻射束偏轉(zhuǎn)。
681.根據(jù)權(quán)利要求655所述的方法，還包括消除所述基片在所述可選位置上的那一部分。
682.一種光電方法，包括沿著光軸提供輻射束；利用光學(xué)元件接收所述輻射束；將換能器與所述光學(xué)元件相聯(lián)系；在所述光學(xué)元件中形成同時(shí)具有不同聲頻的聲波；和相對(duì)于所述光軸，在不同角度輸出數(shù)個(gè)子束。
683.根據(jù)權(quán)利要求682所述的方法，其中，所述提供包括生成通過(guò)輻射能量的脈沖定義的所述輻射束。
684.根據(jù)權(quán)利要求682所述的方法，其中，所述提供包括利用至少一個(gè)脈沖激光器生成所述輻射束，所述輻射束包括至少一個(gè)脈沖激光束。
685.根據(jù)權(quán)利要求684所述的方法，其中，所述至少一個(gè)脈沖激光器是Q開(kāi)關(guān)激光器。
686.根據(jù)權(quán)利要求682所述的方法，其中，所述提供包括利用Q開(kāi)關(guān)激光器生成所述輻射束。
687.根據(jù)權(quán)利要求682所述的方法，其中，所述輸出包括輸出可選個(gè)子束。
688.根據(jù)權(quán)利要求682所述的方法，其中，所述不同角度包括可選角度。
689.根據(jù)權(quán)利要求687所述的方法，其中，所述不同角度包括可選角度。
690.根據(jù)權(quán)利要求689所述的方法，還包括提供聲光偏轉(zhuǎn)器；和控制所述聲光偏轉(zhuǎn)器。
691.根據(jù)權(quán)利要求690所述的方法，其中，所述控制包括生成聲波；和決定所述子束的可選個(gè)數(shù)。
692.根據(jù)權(quán)利要求691所述的方法，其中，所述生成聲波包括生成數(shù)個(gè)空間不同聲波段；和通過(guò)具有不同頻率的控制信號(hào)的一部分定義每個(gè)空間不同聲波段。
693.根據(jù)權(quán)利要求692所述的方法，還包括從所述每個(gè)空間不同聲波段中決定相應(yīng)子束的相應(yīng)空間不同方向，所述不同方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
694.根據(jù)權(quán)利要求692所述的方法，還包括從所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)中決定相應(yīng)子束的個(gè)數(shù)。
695.根據(jù)權(quán)利要求683所述的方法，其中，所述輸出包括生成可選個(gè)子束；和所述方法還包括在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的個(gè)數(shù)和方向的至少一個(gè)；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)大于所述重新配置時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
696.根據(jù)權(quán)利要求683所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
697.根據(jù)權(quán)利要求695所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述子束的方向；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
698.根據(jù)權(quán)利要求684所述的方法，還包括提供數(shù)個(gè)反射器，每一個(gè)安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上。
699.根據(jù)權(quán)利要求697所述的方法，還包括提供數(shù)個(gè)反射器，每一個(gè)安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上。
700.根據(jù)權(quán)利要求698所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
701.根據(jù)權(quán)利要求687所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
702.根據(jù)權(quán)利要求687所述的方法，其中，所述輸出包括輸出都位于一個(gè)平面內(nèi)的所述可選個(gè)子束。
703.根據(jù)權(quán)利要求682所述的方法，還包括利用一個(gè)陣列的固定偏轉(zhuǎn)器使所述數(shù)個(gè)子束偏轉(zhuǎn)。
704.根據(jù)權(quán)利要求682所述的方法，還包括消除基片在特定位置上的那一部分。
705.一種微加工基片的方法，包括把激光束提供給分束器器件；把所述激光束分解成第一個(gè)數(shù)的輸出束和引導(dǎo)所述第一個(gè)數(shù)的輸出束，以便在多層基片的第一層中形成至少一個(gè)孔隙；和然后把所述激光束分解成第二個(gè)數(shù)的輸出束和引導(dǎo)所述第二個(gè)數(shù)的輸出束的一些，以便通過(guò)所述至少一個(gè)孔隙消除所述多層基片的第二層的所選部分。
706.根據(jù)權(quán)利要求705所述的方法，其中，所述提供包括利用Q開(kāi)關(guān)激光器生成所述激光束。
707.根據(jù)權(quán)利要求705所述的方法，其中，所述把所述激光束分解成第一個(gè)數(shù)的輸出束包括把所述激光束分解成可選第一個(gè)數(shù)的輸出束。
708.根據(jù)權(quán)利要求705所述的方法，其中，所述把所述激光束分解成第二個(gè)數(shù)的輸出束包括把所述激光束分解成可選第二個(gè)數(shù)的輸出束。
709.根據(jù)權(quán)利要求705所述的方法，其中，所述引導(dǎo)所述第一個(gè)數(shù)的輸出束包括把所述第一個(gè)數(shù)的輸出束的每一個(gè)引向可選方向。
710.根據(jù)權(quán)利要求705所述的方法，其中，所述引導(dǎo)所述第二個(gè)數(shù)的輸出束的一些包括把所述第二個(gè)數(shù)的輸出束的一些引向可選方向。
711.根據(jù)權(quán)利要求707所述的方法，其中，所述引導(dǎo)所述第一個(gè)數(shù)的輸出束包括把所述第一個(gè)數(shù)的輸出束的每一個(gè)引向可選方向。
712.根據(jù)權(quán)利要求708所述的方法，其中，所述引導(dǎo)所述第二個(gè)數(shù)的輸出束的一些包括把所述第二個(gè)數(shù)的輸出束的一些引向可選方向。
713.根據(jù)權(quán)利要求711所述的方法，還包括提供聲光偏轉(zhuǎn)器；和控制所述聲光偏轉(zhuǎn)器。
714.根據(jù)權(quán)利要求713所述的方法，其中，所述控制包括生成聲波；和決定所述輸出束的可選第一個(gè)數(shù)。
715.根據(jù)權(quán)利要求713所述的方法，其中，所述控制包括生成聲波；和決定所述第一個(gè)數(shù)的輸出束的所述可選方向。
716.根據(jù)權(quán)利要求714所述的方法，其中，所述控制還包括決定所述第一個(gè)數(shù)的輸出束的所述可選方向。
717.根據(jù)權(quán)利要求716所述的方法，其中，所述生成聲波包括生成數(shù)個(gè)空間不同聲波段；和通過(guò)具有不同頻率的控制信號(hào)的一部分定義每個(gè)空間不同聲波段。
718.根據(jù)權(quán)利要求717所述的方法，還包括從所述每個(gè)空間不同聲波段中決定相應(yīng)輸出束的相應(yīng)空間不同方向，所述不同方向是控制信號(hào)與所述聲波段相對(duì)應(yīng)的那一部分的頻率的函數(shù)。
719.根據(jù)權(quán)利要求717所述的方法，還包括從所述空間不同聲波段的個(gè)數(shù)中決定相應(yīng)輸出束的個(gè)數(shù)。
720.根據(jù)權(quán)利要求705所述的方法，其中所述第一個(gè)數(shù)的輸出束包括可選個(gè)輸出束；所述第二個(gè)數(shù)的輸出束包括可選個(gè)輸出束；和所述方法還包括在重新配置時(shí)間間隔內(nèi)改變所述輸出束的個(gè)數(shù)和方向的至少一個(gè)；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)大于所述重新配置時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
721.根據(jù)權(quán)利要求705所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述第一個(gè)數(shù)的輸出束的方向；在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述第二個(gè)數(shù)的輸出束的方向；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
722.根據(jù)權(quán)利要求720所述的方法，還包括在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述第一個(gè)數(shù)的輸出束的方向；在重新定向時(shí)間間隔內(nèi)改變所述第二個(gè)數(shù)的輸出束的方向；和使所述輻射能量的脈沖在時(shí)間上相互隔開(kāi)小于所述重新定向時(shí)間間隔的時(shí)間間距。
723.根據(jù)權(quán)利要求705所述的方法，還包括提供數(shù)個(gè)反射器，每一個(gè)安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上。
724.根據(jù)權(quán)利要求722所述的方法，還包括提供數(shù)個(gè)反射器，每一個(gè)安裝在至少一個(gè)可選傾斜致動(dòng)器上。
725.根據(jù)權(quán)利要求723所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括壓電器件。
726.根據(jù)權(quán)利要求723所述的方法，其中，所述至少一個(gè)致動(dòng)器包括MEMs器件。
727.根據(jù)權(quán)利要求707所述的方法，其中，所述可選個(gè)第一輸出束都位于一個(gè)平面內(nèi)。
728.根據(jù)權(quán)利要求708所述的方法，其中，所述可選個(gè)第二輸出束都位于一個(gè)平面內(nèi)。
全文摘要
一種把能量傳送到基片的系統(tǒng)包括可動(dòng)態(tài)定向輻射能量源，用于提供每一個(gè)沿著可動(dòng)態(tài)選擇方向傳播的數(shù)個(gè)輻射束。數(shù)個(gè)束導(dǎo)引單元當(dāng)中的可獨(dú)立定位束導(dǎo)引單元起接收輻射束和把它們引向基片上的可選位置的作用。
文檔編號(hào)B23K26/38GK1538893SQ02815556
公開(kāi)日2004年10月20日 申請(qǐng)日期2002年6月13日 優(yōu)先權(quán)日2001年6月13日
發(fā)明者埃利澤·利普曼, 茲維·科特勒, 亞伯拉罕·格羅斯, 埃利澤 利普曼, 科特勒, 罕 格羅斯 申請(qǐng)人:奧博泰克有限公司