專利名稱：用于銅箔生產(chǎn)后處理過(guò)程中防氧化的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種印刷電路板用電解銅箔在聯(lián)體機(jī)生產(chǎn)生箔的后處理過(guò)程中防止氧化的裝置。利用這種裝置，可在聯(lián)體機(jī)連續(xù)生產(chǎn)電解銅箔中，解決銅箔在后處理過(guò)程中易氧化問題，從而提高電解銅箔的產(chǎn)品合格率和產(chǎn)品質(zhì)量性能。
背景技術(shù)：
目前世界上生產(chǎn)電解銅箔的方式，多用“兩步法”，即第一階段，在生箔機(jī)(又稱電解機(jī))上生產(chǎn)出成卷的生箔(又稱原箔)；第二階段，再將一卷卷的生箔在表面后處理機(jī)上，進(jìn)行瘤化處理(又稱粗化處理)、耐熱層處理、防氧化處理(又稱鈍化處理)。
這種方式的缺陷在于，對(duì)于生箔而言，兩個(gè)階段之間隔較久，電解出的高純度銅，在空氣中很容易氧化。
為了解決電解銅箔在生產(chǎn)中被氧化問題，提供了一種使生箔的制造、后處理連續(xù)進(jìn)行的聯(lián)體機(jī)(參見中國(guó)實(shí)用新型專利說(shuō)明書ZL01201624)。聯(lián)體機(jī)是將生箔的制造、后處理兩個(gè)工序在一臺(tái)設(shè)備上的完成，即生箔之后，緊隨進(jìn)行生箔的表面后處理，從而初步解決了間斷式生箔制造中氧化的問題。聯(lián)體機(jī)將生箔的制造與后處理的工序合為一體進(jìn)行，所以，通過(guò)它，可實(shí)現(xiàn)生箔的制造-表面處理的連續(xù)進(jìn)行。
如圖1所示，聯(lián)體機(jī)的結(jié)構(gòu)圖。聯(lián)體機(jī)由如下部分組成生箔加工部分103；后處理機(jī)部分105。在聯(lián)體機(jī)的生箔加工部分103(生箔機(jī))生產(chǎn)出的生箔，當(dāng)它進(jìn)入后聯(lián)體機(jī)的后處理機(jī)加工部分105(后處理機(jī))后，它的運(yùn)行速度要與生箔機(jī)加工部分103相同。后處理機(jī)加工部分105的速度取決于生箔機(jī)加工部分103的速度。因此聯(lián)體機(jī)的后處理機(jī)加工部分105的速度，要比傳統(tǒng)“兩步法”生產(chǎn)方式的單臺(tái)后處理機(jī)加工部分在速度上要慢。在聯(lián)體機(jī)的后處理機(jī)加工部分105銅箔行走的速度，一般是單臺(tái)后處理機(jī)方式的20-35％。這樣在聯(lián)體機(jī)上生產(chǎn)時(shí)銅箔時(shí)就出現(xiàn)了一個(gè)新的質(zhì)量問題。既銅箔在經(jīng)后處理的酸槽進(jìn)行表面處理時(shí)，當(dāng)銅箔出電解槽中酸液液面后發(fā)生箔表面氧化的問題。這種氧化的發(fā)生，是由于行走著的銅箔出了電解用酸液液面后，銅箔表面附帶的酸液(CuSO2電解液)，由濕態(tài)逐漸變成干態(tài)，變成干態(tài)的CuSO2部分與空氣接觸，而發(fā)生氧化反應(yīng)。由于成為的干態(tài)的部分，是均勻分布的。這部分形成發(fā)生氧化態(tài)后，會(huì)造成生產(chǎn)出的成品箔的粗化面上，出現(xiàn)顏色不均、斑紋狀的痕跡。使得銅箔的外觀有很大的下降。保證不了高水平的電解銅箔外觀質(zhì)量。
在此專利提及的裝置發(fā)明之前，曾經(jīng)采用了其它的一些方法去解決出電解槽后銅箔表面發(fā)生氧化的問題。例如，在銅箔出酸槽后的位置上增添刮板，以刮掉銅箔表面上殘留的酸液；又例如，在銅箔出酸槽后的位置上設(shè)置轉(zhuǎn)動(dòng)的刷輥，以去除銅箔表面上殘留的酸液等。但所采取的措施，均收效較不明顯，仍然有銅箔被氧化的問題存在。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于，防止出電解槽后銅箔表面發(fā)生氧化，生產(chǎn)出的成品箔的粗化面上，出現(xiàn)顏色不均、斑紋狀的痕跡，以保證高水平的電解銅箔外觀質(zhì)量。
為了解決所述問題，本實(shí)用新型提供一種用于銅箔生產(chǎn)后處理過(guò)程中防氧化的裝置，其特征在于，包含輸酸管道202，該輸酸管道202的一端連接酸泵，其另一端封閉；所述輸酸管道202上等間距垂直安裝有平行設(shè)置的噴頭203；所述輸酸管道202的兩端沿其軸向可轉(zhuǎn)動(dòng)固定于電解槽內(nèi)壁。所述輸酸管道202和所述酸泵之間設(shè)置酸液流量控制閥門。所述輸酸管道202的兩端與電解槽之間設(shè)置兩“U”型支架201，該“U”型支架201的一側(cè)固定于輸酸管道202，另一側(cè)固定于電解槽，并可使所述輸酸管道202沿其軸向旋轉(zhuǎn)。所述噴頭203的間距在60-90mm。所述噴頭203的位置與銅箔204的垂直距離在40-80mm。
本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于，由于增加了以上用于銅箔生產(chǎn)后處理過(guò)程中防氧化的裝置，并且正確、合理的設(shè)置了噴頭位置，使得所噴出酸液在剛出酸液液面的銅箔表面形成“水簾”，使銅箔表面繼續(xù)維持濕態(tài)，并起到隔絕空氣的效果，克服了銅箔氧化的問題。從而提高了電解銅箔的表面外觀質(zhì)量。
本實(shí)用新型，在聯(lián)體機(jī)生產(chǎn)銅箔的后處理過(guò)程中增添了防止氧化的裝置。設(shè)計(jì)并利用這種此發(fā)明裝置，可在聯(lián)體機(jī)連續(xù)生產(chǎn)電解銅箔中，解決銅箔在后處理過(guò)程中易氧化問題。從而使得電解銅箔的產(chǎn)品合格率、提高產(chǎn)品質(zhì)量得到提高。
基于上述聯(lián)體機(jī)，為了進(jìn)一步解決氧化的問題，提供方案如下這種用于銅箔生產(chǎn)后處理過(guò)程中防氧化的裝置，安裝于銅箔生產(chǎn)聯(lián)合機(jī)上，包含輸酸管道202，其一端連接酸泵，另一端封閉，該兩端固定于電解槽內(nèi)壁，并可以以其自身的軸轉(zhuǎn)動(dòng)；噴頭203，數(shù)量若干，彼此平行，每個(gè)噴頭的軸線正交于所述輸酸管道202，并且等間距并排安裝于所述輸酸管道202上。
所述輸酸管道202和所述酸泵之間設(shè)置酸液流量控制閥門。
所述輸酸管道202的兩端與電解槽壁之間各設(shè)置一個(gè)“U”型支架201，該“U”型支架201的一側(cè)固定于輸酸管道202的端頭，另一側(cè)固定于電解槽壁，并使所述輸酸管道202可以以其自身的軸旋轉(zhuǎn)。
若干所述噴頭203的間距在60-90mm。
所述噴頭203的位置與銅箔204的垂直距離在40-80mm。


圖1為聯(lián)體機(jī)結(jié)構(gòu)圖；圖2為用于銅箔生產(chǎn)后處理過(guò)程中防氧化裝置的組成結(jié)構(gòu)；圖3為用于銅箔生產(chǎn)后處理過(guò)程中防氧化裝置在電解槽的位置。
*圖中序號(hào)說(shuō)明*103生箔機(jī)加工部分105后處理機(jī)加工部分
201“U”型支架202輸酸管道203噴頭 204銅箔301用于銅箔生產(chǎn)后處理過(guò)程中防氧化的裝置具體實(shí)施方式
通過(guò)附圖對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
本實(shí)用新型提供一種用于銅箔生產(chǎn)后處理過(guò)程中防氧化的裝置，其特征在于，包含輸酸管道202，該輸酸管道202的一端連接酸泵，其另一端封閉；所述輸酸管道202上等間距垂直安裝有平行設(shè)置的噴頭203；所述輸酸管道202的兩端沿其軸向可轉(zhuǎn)動(dòng)固定于電解槽內(nèi)壁。所述輸酸管道202和所述酸泵之間設(shè)置酸液流量控制閥門。所述輸酸管道202的兩端與電解槽之間設(shè)置兩“U”型支架201，該“U”型支架201的一側(cè)固定于輸酸管道202，另一側(cè)固定于電解槽，并可使所述輸酸管道202沿其軸向旋轉(zhuǎn)。所述噴頭203的間距在60-90mm。所述噴頭203的位置與銅箔204的垂直距離在40-80mm。
如圖3所示，用于銅箔生產(chǎn)后處理過(guò)程中防氧化的裝置在電解槽的設(shè)置位置。用于銅箔生產(chǎn)后處理過(guò)程中防氧化的裝置所輸入的酸液與所對(duì)應(yīng)的電解槽內(nèi)的酸液相同，共用同一個(gè)輸酸泵。在輸酸液管道上裝有多個(gè)噴頭203，噴頭203的安放位置要以所噴出的扇形液面呈兩側(cè)緣交叉的形狀為原則，它們之間間距設(shè)置在60-90mm，從而使酸液覆蓋銅箔204表面均勻，達(dá)到能有效防止銅箔氧化的效果。
噴頭203噴出酸液的角度，以垂直角度為佳。因此噴頭203可在180度以上的范圍，通過(guò)”U”型支架201進(jìn)行靈活的調(diào)整。當(dāng)噴頭203與銅箔204的距離較小時(shí)，由于靠銅箔204太近，會(huì)造成酸液噴射力較大。這樣容易造成薄形銅箔204(9-35μm)出現(xiàn)皺折或行走的波動(dòng)、不穩(wěn)，因此，噴頭203設(shè)置的位置，與銅箔204的垂直距離應(yīng)在40-80mm。
權(quán)利要求1.一種用于銅箔生產(chǎn)后處理過(guò)程中防氧化的裝置，安裝于銅箔生產(chǎn)聯(lián)合機(jī)上，其特征在于該裝置包含輸酸管道(202)，其一端連接酸泵，另一端封閉，該兩端固定于電解槽內(nèi)壁，并可以以其自身的軸轉(zhuǎn)動(dòng)；噴頭(203)，數(shù)量若干，彼此平行，每個(gè)噴頭的軸線正交于所述輸酸管道(202)，并且等間距并排安裝于所述輸酸管道(202)上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于銅箔生產(chǎn)后處理過(guò)程中防氧化的裝置，其特征在于所述輸酸管道(202)和所述酸泵之間設(shè)置酸液流量控制閥門。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于銅箔生產(chǎn)后處理過(guò)程中防氧化的裝置，其特征在于所述輸酸管道(202)的兩端與電解槽壁之間各設(shè)置一個(gè)“U”型支架(201)，該“U”型支架(201)的一側(cè)固定于輸酸管道(202)的端頭，另一側(cè)固定于電解槽壁，并使所述輸酸管道(202)可以以其自身的軸旋轉(zhuǎn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于銅箔生產(chǎn)后處理過(guò)程中防氧化的裝置，其特征在于若干所述噴頭(203)的間距在60-90mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1、2或4所述的用于銅箔生產(chǎn)后處理過(guò)程中防氧化的裝置，其特征在于所述噴頭(203)的位置與銅箔(204)的垂直距離在40-80mm。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種用于銅箔生產(chǎn)后處理過(guò)程中防氧化的裝置，包括輸酸管道，其一端連接酸泵，另一端封閉；所述輸酸管道上等間距垂直安裝有若干平行的噴頭；所述輸酸管道的兩端沿其軸向、可轉(zhuǎn)動(dòng)地固定于電解槽內(nèi)壁。所述輸酸管道和所述酸泵之間設(shè)置酸液流量控制閥門。所述輸酸管道的兩端與電解槽之間設(shè)置兩“U”型支架，該“U”型支架的一側(cè)固定于輸酸管道，另一側(cè)固定于電解槽，并使所述輸酸管道可沿其軸向旋轉(zhuǎn)。由于增加了該裝置，并且合理地設(shè)置了噴頭位置，從而使銅箔表面得以維持濕態(tài)，隔絕了空氣，進(jìn)而克服了銅箔氧化的問題，最終提高了電解銅箔表面的外觀質(zhì)量。
文檔編號(hào)B21D33/00GK2767457SQ200420118688
公開日2006年3月29日 申請(qǐng)日期2004年12月30日 優(yōu)先權(quán)日2004年12月30日
發(fā)明者王葉滔, 錢保國(guó), 周柳貞 申請(qǐng)人:北京遠(yuǎn)創(chuàng)銅箔設(shè)備有限公司