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      TiZrN涂層刀具及其制備方法

      文檔序號:3131852閱讀:679來源:國知局
      專利名稱:TiZrN涂層刀具及其制備方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明屬于機械切削刀具制造技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種硬質(zhì)涂層刀具及其制備 方法。
      背景技術(shù)
      TiN薄膜作為一種硬質(zhì)涂層,已經(jīng)廣泛應(yīng)用于機械加工刀具、刃具、各種模具、 各種耐磨涂層和各種金屬的耐腐蝕涂層和裝飾涂層等。TiN基薄膜是比較理想的薄膜體 系,在一個相當(dāng)寬的成分范圍內(nèi)比較穩(wěn)定,而且薄膜合成工藝已經(jīng)成熟。但是TiN涂 層也暴露出了一些問題,如抗氧化溫度低(450'C)、熱硬度低等,而且TiN薄膜一般 呈柱狀結(jié)構(gòu),這種柱狀結(jié)構(gòu)之間存在著貫穿整個膜層的孔隙(也叫做針孔狀結(jié)構(gòu)),而 使基材得不到保護,耐腐蝕性差,尤其是不耐堿腐蝕。TiN基合金薄膜有著比TiN薄膜 更優(yōu)異的性能,成為新一代硬質(zhì)薄膜研究的重要內(nèi)容之一。
      中國專利"專利號200510104988"報道了利用磁控濺射方法制備的至少兩層的 多層結(jié)構(gòu)的Ti基薄膜或Cr基薄膜,Ti基薄膜為Ti層、TiN層、Ti層、TiN層依次交 錯構(gòu)成,Cr基薄膜為Cr層、CrN層、Cr層、CrN層依次交錯構(gòu)成。中國專利"申請?zhí)?200610029133"報道了采用在氬氣氛中的雙靶濺射技術(shù)在拋光的金屬或陶瓷基體表面 交替沉積ZrU層和TiN層得到的Zr(VTiN納米多層涂層,Zr02層的厚度為2 8 ran, TiN層厚為0. 4 1. 2 nm,涂層總厚度為2 5 u m。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種硬質(zhì)涂層刀具及其制備方 法。該刀具其涂層為多層結(jié)構(gòu),刀具表面為合金氮化物TiZrN層,TiZrN層與刀具基體 之間有Ti和Zr/Ti過渡層,以減小殘余應(yīng)力,增加涂層與刀具基體間的結(jié)合強度。該 硬質(zhì)涂層刀具進行干切削時,可達(dá)到減小摩擦、阻止粘結(jié)、降低切削力和切削溫度、 減小刀具磨損的目的。
      本發(fā)明是通過以下方式實現(xiàn)的。
      TiZrN涂層刀具,基體材料為高速鋼或硬質(zhì)合金,涂層材料為Ti、 Zr/Ti和TiZrN;刀具表面為合金氮化物TiZrN層,TiZrN層與刀具基體之間有Ti和Zr/Ti過渡層。
      TiZrN涂層刀具的制備方法,其特征在于沉積方式為多弧離子鍍膜法鍍Zr、 Zr/Ti 及TiZrN,其制備方法的步驟為
      (1) 前處理將刀具基體材料拋光至鏡面,去除表面污染層,依次放入酒精和丙酮 中,超聲清洗各15 min,去除表面汗?jié)n和油污,干燥充分后迅速放入鍍膜機 真空室,真空室本底真空7.0Xl(TPa,加熱至200 °C,保溫30 40min;
      (2) 離子清洗通Ar"其壓力為0.6 l,5Pa,開啟偏壓電源,電壓800 900 V, 占空比0.2,輝光放電清洗15min;偏壓降低至200 V/0. 2,開啟離子源離子 清洗15min,開啟電弧源,偏壓400V,靶電流50 70A,離子轟擊Ti靶0.5
      (3) 沉積Ti:調(diào)整Ar2壓為0.4 0.5Pa,偏壓降低至150V,電弧鍍Til 2min;
      (4) 沉積Ti/Zr:調(diào)整An壓為0.4 0.5Pa,偏壓150V,同時開啟Ti靶和Zr靶, 耙電流50 60A,電弧鍍Ti和Zr 2 3min;
      (5) 沉積TiZrN:調(diào)整工作氣壓為0. 4 0. 5 Pa,偏壓150 V, Ti靶和Zr靶的靶電 流90 100A;開啟N2,調(diào)整N2與Ar2的分壓比為1:1,電弧鍍TiZrN 60 80 min;
      (6) 后處理關(guān)閉鈦靶、鋯靶,關(guān)閉各電源、離子源及氣體源,涂層結(jié)束。
      通過上述工藝制備的TiZrN涂層刀具,刀具表面為合金氮化物TiZrN層,TiZrN 層與刀具基體間具有Ti和Zr/Ti過渡層,可減小殘余應(yīng)力,增加涂層與刀具基體間的 結(jié)合強度。由于Zr摻雜,造成涂層的混晶強化、晶格畸變,使得涂層硬度很大;TiN 薄膜柱狀結(jié)構(gòu)的孔隙大為減少,涂層抗腐蝕性能提高。該涂層刀具可廣泛應(yīng)用于干切 削和難加工材料的切削加工以及有色金屬的切削加工,利用TiZrN涂層刀具進行干切 削是一種環(huán)境效益和經(jīng)濟效益俱佳的工藝選擇,具有廣闊應(yīng)用前景。


      附圖為本發(fā)明的TiZrN涂層刀具的涂層結(jié)構(gòu)示意圖。圖中l(wèi)為刀具基體、2為Ti 層、3為Zr/Ti層、4為TiZrN層。
      具體實施例方式下面給出本發(fā)明的二個最佳實施例
      實施例一如附圖所示,TiZrN涂層刀具及其制備方法,該刀具的基體材料為 W18Cr4V高速鋼;涂層材料為Ti、 Zr/Ti和TiZrN;沉積方式為多弧離子鍍膜法鍍 Ti、 Zr/Ti和TiZrN。其制備工藝步驟如下
      (1) 前處理將W18Cr4V高速鋼刀具基體材料拋光至鏡面,去除表面污染層,依次放入 酒精和丙酮中,超聲清洗各15 rnin,去除表面汗?jié)n和油污,干燥充分后迅速放入 鍍膜機真空室,真空室本底真空7.0X10—3Pa,加熱至200 'C,保溫30 min;
      (2) 離子清洗通Ar"其壓力為0.8Pa,開啟偏壓電源,電壓800 V,占空比0.2, 輝光放電清洗15 min;偏壓降低至200 V/0. 2,開啟離子源離子清洗15 min,開 啟電弧源,偏壓400 V,靶電流50 A,離子轟擊Ti靶0.5 min;
      (3) 沉積Ti:調(diào)整Ar2氣壓為0.4 Pa,偏壓降低至150 V,電弧鍍Ti 2 min;
      (4) 沉積Ti/Zr:調(diào)整An氣壓為0. 4 Pa,偏壓150 V,同時開啟Ti靶和Zr靶,靶電 流60A,電弧鍍Ti和Zr 3 min;
      (5) 沉積TiZrN:調(diào)整工作氣壓為0.4 Pa,偏壓200 V, Ti靶和Zr靶的靶電流90 A; 開啟N2,調(diào)整N2與Ar2的分壓比為1:1,電弧鍍TiZrN 60 min;
      (6) 后處理關(guān)閉鈦耙、鋯耙,關(guān)閉各電源、離子源及氣體源,涂層結(jié)束。
      實施例二如附圖所示,TiZrN涂層刀具及其制備方法,該刀具的基體材料為YT15 硬質(zhì)合金;涂層材料為Ti、 Zr/Ti和TiZrN;沉積方式為多弧離子鍍膜法鍍Ti、 Zr/Ti 和TiZrN。其制備工藝步驟如下
      (1) 前處理將YT15硬質(zhì)合金刀具基體材料拋光至鏡面,去除表面污染層,依次放入 酒精和丙酮中,超聲清洗各15 min,去除表面汗?jié)n和油污,干燥充分后迅速放入 鍍膜機真空室,真空室本底真空7.0X10—3pa,加熱至200 。C,保溫40 min;
      (2) 離子清洗通Ar"其壓力為l.OPa,開啟偏壓電源,電壓900 V,占空比0.2, 輝光放電清洗15 min;偏壓降低至200 V/0.2,開啟離子源離子清洗15 min,開 啟電弧源,偏壓400 V,靶電流70 A,離子轟擊Ti靶O. 5 min;
      (3) 沉積Ti:調(diào)整Ar2氣壓為0.45 Pa,偏壓降低至150 V,電弧鍍Ti 2 min;
      (4) 沉積Ti/Zr:調(diào)整Ar2氣壓為0. 45 Pa,偏壓150 V,同時開啟Ti靶和Zr靶,靶電流60 A,電弧鍍Ti和Zr 3 min:
      (5) 沉積TiZrN:調(diào)整工作氣壓為0. 45 Pa,偏壓150 V, Ti靶和Zr靶的耙電流100 A; 開啟&,調(diào)整N2與Ar2的分壓比為1:1,電弧鍍TiZrN 80 min;
      (6) 后處理關(guān)閉鈦靶、鋯耙,關(guān)閉各電源、離子源及氣體源,涂層結(jié)束。
      權(quán)利要求
      1、TiZrN涂層刀具,刀具基體材料為高速鋼或硬質(zhì)合金,其特征是涂層材料為Ti、Zr/Ti和TiZrN;刀具表面為合金氮化物TiZrN層,TiZrN層與刀具基體之間有Ti和Zr/Ti過渡層。
      2、 TiZrN涂層刀具的制備方法,其特征在于沉積方式為多弧離子鍍膜法鍍Ti、 Zr/Ti和TiZrN,其制備方法的步驟為(1) 前處理將刀具基體材料拋光至鏡面,去除表面污染層,依次放入酒精和丙 酮中,超聲清洗各15 min,去除表面汗?jié)n和油污,干燥充分后迅速放入鍍 膜機真空室,真空室本底真空7. 0X l(TPa,加熱至200 °C ,保溫30 40 min;(2) 離子清洗通Ar"其壓力為0,6 1.5Pa,開啟偏壓電源,電壓800 900 V, 占空比0.2,輝光放電清洗15min;偏壓降低至200 V/0.2,開啟離子源離 子清洗15 min,開啟電弧源,偏壓400 V,靶電流50 70 A,離子轟擊Ti 耙0. 5 min;(3) 沉積Ti:調(diào)整Ar2氣壓為0.4 0.5 Pa,偏壓降低至150 V,電弧鍍Ti l 2 min;(4) 沉積Ti/Zr:調(diào)整Ar2氣壓為0. 4 0. 5 Pa,偏壓150 V,同時開啟Ti靶和 Zr靶,靶電流50 60 A,電弧鍍Ti和Zr 2 3min;(5) 沉積TiZrN:調(diào)整工作氣壓為0. 4 0. 5 Pa,偏壓150 V, Ti靶和Zr靶的靶 電流90 100A;開啟N2,調(diào)整N2與An的分壓為1:1,電弧鍍TiZrN 60 80 min;(6) 后處理關(guān)閉鈦靶、鋯靶,關(guān)閉各電源、離子源及氣體源,涂層結(jié)束。
      全文摘要
      本發(fā)明屬于機械切削刀具制造技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種硬質(zhì)涂層刀具及其制備方法。該刀具為采用多弧離子鍍膜法制備的TiZrN+Zr/Ti+Ti復(fù)合涂層刀具,刀具表面為合金氮化物TiZrN層,TiZrN層與刀具基體之間具有Ti和Zr/Ti過渡層。該刀具表面的TiZrN層有著很高的硬度和強度、較低的摩擦系數(shù)、較好的抗氧化性能和熱穩(wěn)定性、高抗熱震性能,優(yōu)異的抗磨損和抗腐蝕性能,切削過程中可達(dá)到減小摩擦、阻止粘結(jié)、降低切削力和切削溫度、減小刀具磨損的目的。該涂層刀具可廣泛應(yīng)用于干切削和難加工材料的切削加工以及有色金屬的切削加工。
      文檔編號B23B27/00GK101596607SQ20091001486
      公開日2009年12月9日 申請日期2009年5月4日 優(yōu)先權(quán)日2009年5月4日
      發(fā)明者宋文龍, 鄧建新, 培 顏 申請人:山東大學(xué)
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