專利名稱：激光修復裝置、激光修復方法以及信息處理裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及將激光照射到對象物上來修復缺陷的技術。
背景技術：
在各種基板的制造工序中，使用拍攝基板得到的圖像進行檢查，當檢查 的結果發(fā)現(xiàn)了缺陷時，根據(jù)需要進行缺陷修復。基板例如包含液晶顯示器(LCD; Liquid Crystal Display) 、 PDP (Plasma Display Panel,等離子體顯示面板)、 有機EL (ElectroUiminescence， 電致發(fā)光)顯不器、SED (Surface-conduction Electron-emitter Display,表面?zhèn)鲗щ娮影l(fā)射顯示器)等的FDP(Flat Panel Display，平 板顯示器)基板、半導體晶片(wafer)、印刷基板等。 關于缺陷，有導體之間不應連接卻連接而導致的"短路缺陷"、布線在途中斷線的 "開路缺陷"等各種缺陷。并且，附著在FPD基板的表面上的微粒和抗蝕劑等異物也是應通 過去除來修復的缺陷的例子。缺陷的修復方法根據(jù)缺陷的種類而不同，利用激光的照射來 修復缺陷的被稱為"激光修復(laser r印air)"的技術是公知的。 例如，短路缺陷是通過利用激光的照射來去除在FPD基板上不適當?shù)匦纬傻慕饘?布線的一部分來修復的。并且，附著在FPD基板的表面上的微粒和抗蝕劑等異物也是通過 利用激光照射去除來修復的。即，短路缺陷和異物都是激光修復的對象。
在激光修復裝置中，能將激光照射到包含應修復的缺陷的基板上的范圍(以下稱 為"最大照射范圍")依賴于從激光光源射出的激光的光束剖面的大小和形狀、以及光學系 統(tǒng)內包含的鏡頭等。在缺陷大于最大照射范圍的情況下，激光修復裝置一般通過分多次照 射激光來修復缺陷(例如，參照專利文獻1)。 例如，有這樣的方法以從被定義為外接于缺陷的矩形的缺陷區(qū)域的左上點偏移 了預定量后的點作為起點，設定多個矩形的激光照射區(qū)域，以使得完全包含缺陷區(qū)域。為了 防止未加工部的產生，可以使各激光照射區(qū)域少許重合。例如，通過在使多個矩形的激光照 射區(qū)域相互少許重合的同時將其有規(guī)則地排列成二維陣列狀，可完全覆蓋缺陷區(qū)域。
專利文獻1日本特開2006-119575號公報 —般，缺陷的形狀是不規(guī)則的。因此，當把多個激光照射區(qū)域設定成有規(guī)則的二維
陣列狀時，有時多個激光照射區(qū)域中的若干區(qū)域實際上與缺陷僅少量重合。 也就是說，將激光照射到有規(guī)則地設定成二維陣列狀的位置的方法在比激光照射
區(qū)域大的缺陷的激光修復中不一定能說是高效的修復方法。

發(fā)明內容
因此，本發(fā)明的目的是提供一種激光修復裝置能高速地修復缺陷的技術。 根據(jù)本發(fā)明的第1方式，提供一種修復對象物上的缺陷的激光修復裝置。所述激
光修復裝置具有射出單元、光學系統(tǒng)、攝像單元、缺陷提取單元以及照射位置決定單元。 所述射出單元射出激光。所述光學系統(tǒng)將所述射出單元所射出的所述激光引導到所述對象物。所述攝像單元拍攝所述對象物并生成圖像數(shù)據(jù)。 并且，所述缺陷提取單元根據(jù)所述攝像單元所生成的所述圖像數(shù)據(jù)，提取所述對 象物上的所述缺陷的外形。 然后，所述照射位置決定單元在根據(jù)由所述射出單元和所述光學系統(tǒng)將所述激光 照射到所述對象物上的范圍而使所述缺陷提取單元所提取的所述缺陷的所述外形變窄的 同時，重復如下處理即根據(jù)所述缺陷的所述外形與外接于所述外形的外接矩形的多個接 點中的至少一個接點來決定將所述激光照射到所述對象物上的位置。 而且，所述激光修復裝置將所述激光經由所述光學系統(tǒng)照射到所述照射位置決定 單元通過重復處理所決定的多個所述位置。 根據(jù)本發(fā)明的第2方式，提供了一種由上述激光修復裝置執(zhí)行的方法。并且，根據(jù) 本發(fā)明的第3方式，提供了一種信息處理裝置，該信息處理裝置決定修復對象物上的缺陷 的激光修復裝置應照射激光的所述對象物上的多個位置。 所述信息處理裝置具有取得單元，其取得拍攝所述對象物所獲得的圖像數(shù)據(jù)； 缺陷提取單元，其根據(jù)所述取得單元所取得的所述圖像數(shù)據(jù)，提取所述對象物上的所述缺 陷的外形；以及與第1方式的所述激光修復裝置具有的所述照射位置決定單元相同的照射 位置決定單元。 根據(jù)本發(fā)明的上述各方式，在對缺陷的外形與外接矩形的接點加以考慮的同時， 決定將激光照射到對象物上的位置。因此，比起與缺陷的外形無關系地有規(guī)則地配置照射 激光的位置的情況，根據(jù)本發(fā)明的上述各方式，能抑制激光照射次數(shù)，從而相應地能高速修 復缺陷。


圖1是第1實施方式的激光修復裝置的結構圖。 圖2是示出缺陷的例子的圖。 圖3是在第1實施方式中決定激光照射位置的處理的流程圖。 圖4是說明在第1實施方式中決定激光照射位置的處理的途中經過的第1圖。 圖5是說明激光的最大照射范圍和基準矩形的圖。 圖6是說明在第1實施方式中決定激光照射位置的處理的途中經過的第2圖。 圖7是說明使用基準矩形的遮蔽的圖。 圖8是說明在第1實施方式中決定激光照射位置的處理的途中經過的第3圖。 圖9是說明在第1實施方式中決定激光照射位置的處理的途中經過的第4圖。 圖10是說明在第1實施方式中決定完激光照射位置的階段的圖。 圖11是示出比較例中的多個激光照射位置的圖。 圖12是說明在第1實施方式中決定激光照射順序的處理的圖。 圖13是示出在第1實施方式中設定的多個照射區(qū)域的例子的圖。 圖14是示意性示出與在第1實施方式中設定的1個照射區(qū)域對應的DMD控制數(shù)
據(jù)的例子的圖。 圖15是示出在第2實施方式中設定的多個照射區(qū)域的例子的圖。 圖16是說明在第3實施方式中決定激光照射位置的處理的途中經過的圖。
圖17是在第4實施方式中顯示在監(jiān)視器上的畫面例的圖。
標號說明 100 :激光修復裝置；101 :XY載物臺；102 :玻璃基板；103 :激光振蕩器；104 :反射 鏡;105 :DMD ;106、 108 :半反射鏡;107 :成像鏡頭;109 :物鏡;110 :照明光源;111 :CCD照 相機;112 :控制部;113 :操作部;114 :監(jiān)視器;201 :缺陷;202 206 :布線;211、214、230 :
外接矩形;212、215、231 :可設定區(qū)域;213、216 228、302、602 :基準矩形；229、301、603、 701、702 :最大照射范圍；401 403 :2值圖像；501 505、501a 505b :照射區(qū)域；600 :
DMD控制數(shù)據(jù);601 :打開區(qū)域;P1 P8 :接點;C1 C9 :頂點;G0 G5 :重心。
具體實施例方式
以下，參照附圖詳細說明多個實施方式。首先，參照圖1 圖14說明第1實施方 式，之后參照圖15 圖17來針對第2 第4實施方式主要說明與第1實施方式的不同。最 后還說明其他實施方式。 圖1是第1實施方式的激光修復裝置的結構圖。 圖1的激光修復裝置100在顯微鏡中一體地形成具有激光振蕩器103、 DMD105的 激光光源部而構成激光修復頭，其中上述顯微鏡具備將基板面放大觀察的物鏡109、照明光 源110、 CCD照相機111。為了進行玻璃基板102的缺陷與顯微鏡部的物鏡109的位置對 準，該激光修復頭與保持玻璃基板102的載物臺可以設置成能夠相對移動。如本實施方式 這樣，用于使激光修復頭與保持玻璃基板102的載物臺相對移動的XY移動單元能夠由使保 持玻璃基板的載物臺在XY方向移動的XY載物臺構成。并且，XY移動單元也可以通過設置 成將載物臺固定，使激光修復頭能在XY方向移動來實現(xiàn)。并且，XY移動單元也可以通過設 置成使載物臺與激光修復頭能夠分別在垂直的方向移動來實現(xiàn)。 激光修復裝置100是使激光修復頭與載物臺在二維方向上相對移動，將從激光振 蕩器103所射出的激光照射到玻璃基板102上的缺陷來進行修復的裝置。玻璃基板102例 如是在薄板玻璃上使用光刻(photolithography)技術等形成電路圖形的LCD基板。然而， 第1實施方式還能應用于檢查和修復的對象物是LCD基板以外的FPD基板、半導體晶片、印 刷布線基板等各種基板的情況。 在基板的制造中，為了提高成品率而在每個制造工序中進行檢查和修復。近年來， 在FPD基板的制造中，為了提高生產性能，為了能夠一次生成多張液晶基板，使用一條邊大 于2000mm的大型母玻璃(motherglass)基板，期望能以短時間高效地對這種大型基板進行 缺陷的修復。 因此，在第1實施方式中，關注于"由于要修復的缺陷大，因而在修復該缺陷時有 必要一邊使激光移動一邊將其照射到不同的多個位置"的情況。例如，在修復比作為照射到 玻璃基板102上的激光的最大照射范圍的光束剖面大的缺陷時，一般分多次照射激光。根 據(jù)第1實施方式，在向多個位置照射激光的情況下，由激光修復裝置100決定用于高效地照 射激光的位置和順序。 在圖！中，從作為射出激光的射出單元執(zhí)行功能的激光振蕩器103所射出的激光 被反射鏡104反射，入射到DMD (Digital MicromirrorDevice，數(shù)字微反射鏡器件)105。 DMD 105是將一種微小器件即微小反射鏡排列成二維陣列狀的空間光調制器。微小反射鏡的傾斜角至少能切換成2種。以下，分別把傾斜角是第1角度和第2角度時的微小反射鏡的狀 態(tài)稱為"打開狀態(tài)"和"關閉狀態(tài)"。 DMD 105能夠根據(jù)來自后述的控制部112的指示，獨立地切換各個微小反射鏡的 傾斜角，形成任意形狀的照射圖案。對DMD 105的指示例如利用與各微小反射鏡對應的二 維數(shù)據(jù)來表現(xiàn)表示是否應照射激光的2值數(shù)據(jù)，并從控制部112被輸出。
將激光振蕩器103、反射鏡104以及DMD 105配置成，當從反射鏡104以規(guī)定的入 射角入射到匿D 105的入射光被切換到第1傾斜角度的打開狀態(tài)的微小反射鏡反射時，反 射光的方向相對于玻璃基板102為垂直方向。 由打開狀態(tài)的微小反射鏡所反射的激光到達玻璃基板102的表面的光路上配置 有投影光學系統(tǒng)，該投影光學系統(tǒng)具有半反射鏡106、成像鏡頭107、半反射鏡108以及物鏡 109。由打開狀態(tài)的微小反射鏡所反射的激光經由投影光學系統(tǒng)的物鏡109照射到玻璃基 板102的表面。投影光學系統(tǒng)構成為使玻璃基板102的表面和DMD 105的微小反射鏡的反 射鏡面處于共軛的位置。 上述反射鏡104、DMD 105以及投影光學系統(tǒng)構成將激光振蕩器103所射出的激光 引導到作為對象物的玻璃基板102的光學系統(tǒng)。 與打開狀態(tài)的微小反射鏡對應的上述第1傾斜角為例如+12° ，與關閉狀態(tài)的微 小反射鏡對應的上述第2傾斜角為例如-12° 。因此，從反射鏡104入射到DMD 105的入射 光在關閉狀態(tài)的微小反射鏡中被朝向偏離投影光學系統(tǒng)的光路的方向反射，不照射到玻璃 基板102上。在圖1中，由被設定成與關閉狀態(tài)對應的上述第2傾斜角的微小反射鏡反射 的反射光的光路由虛線箭頭表示。 因此，通過將各個微小反射鏡控制為打開狀態(tài)或關閉狀態(tài)，能夠將激光以任意的 形狀照射到與各微小反射鏡對應的玻璃基板102上的任意位置。也就是說，通過使用DMD 105，能以任意的位置、方向、形狀將激光照射到玻璃基板102上。這樣，DMD 105作為將所 反射的激光的光束剖面形狀整形成任意的形狀的激光整形單元執(zhí)行功能。
并且，激光修復裝置IOO也兼?zhèn)渥鳛轱@微鏡的功能，該顯微鏡具有照明光源 110，以及對被物鏡109放大的基板圖像進行拍攝的攝像單元。激光修復裝置100具備 CCD(Charge Coupled Device,電荷耦合器件)照相機111作為攝像單元。在攝像需要照明 光的情況下，來自照明光源110的照明光被半反射鏡108反射，經由物鏡109照射到玻璃基 板102的表面。另外，可以取代CCD照相機111而使用CMOS(ComplementaryMetal-Oxide Semiconductor,互補金屬氧化物半導體)照相機等攝像裝置。 在玻璃基板102的表面上反射的反射光通過物鏡109、半反射鏡108以及成像鏡頭 107，被半反射鏡106反射，入射到配置于CCD照相機111的受光面的光電轉換元件。由此， CCD照相機111拍攝玻璃基板102并生成圖像數(shù)據(jù)。 這里，為了便于說明，把垂直方向的坐標軸設定為Z軸，把垂直于Z軸的2個坐標 軸設定為X軸和Y軸。并且，假定玻璃基板102的表面是矩形，該矩形的各邊平行于X軸或 Y軸。作為XY移動單元的XY載物臺101的名稱起源于使玻璃基板102相對于物鏡109沿 X方向和Y方向相對移動的功能。 構成投影光學系統(tǒng)的物鏡109與玻璃基板102朝X方向和Y方向的相對移動能使 用各種方法實現(xiàn)。
例如，可以將激光振蕩器103、反射鏡104、 DMD 105、半反射鏡106、成像鏡頭107、 半反射鏡108、物鏡109、照明光源110以及CCD照相機111作為集成為1個光學單元的激 光修復頭來構成。并且，XY移動單元可以具備用于放置玻璃基板102的工作臺部和配置成 跨越該工作臺部的門型的龍門架(gantry)。龍門架具有平行于Y軸的梁。光學單元以能沿 著龍門架的梁移動的方式安裝在龍門架上。 例如，在龍門架相對于架臺固定、且工作臺部能通過未圖示的電動機沿X方向移 動的情況下，能實現(xiàn)物鏡109與玻璃基板102在X方向和Y方向的移動。或者，即使在工作 臺部相對于架臺固定、且龍門架整體能通過未圖示的電動機沿X方向移動的結構中，也能 實現(xiàn)物鏡109與玻璃基板102在X方向和Y方向的相對移動。 通過上述的XY移動單元，能將來自激光振蕩器103的激光照射到玻璃基板102上
的任意位置。并且，還能使用CCD照相機111拍攝玻璃基板102上的任意位置。 而且，激光修復裝置100具有控制部112、操作部113以及監(jiān)視器114。 控制部112控制激光修復裝置100整體。操作部113由鍵盤或指向器件等輸入設
備實現(xiàn)。從操作部113所輸入的指示被送到控制部112。 并且，監(jiān)視器114根據(jù)來自控制部112的指示顯示圖像和文字等。監(jiān)視器114例 如也可以顯示CCD照相機111所拍攝的玻璃基板102的圖像。 向控制部112的輸入是來自操作部113的指示和來自CCD照相機111的圖像數(shù) 據(jù)。并且，控制部112也可以經由未圖示的網(wǎng)絡接受由未圖示的其他裝置檢測出的玻璃基 板102的缺陷位置或缺陷圖像等缺陷信息?？刂撇?12根據(jù)輸入，控制XY載物臺101、激光 振蕩器103、DMD 105以及監(jiān)視器114。并且，在XY移動單元具有能沿X方向移動的工作臺 部和龍門架的情況下，控制部112控制使工作臺部沿X方向移動的電動機和使光學單元沿 著龍門架沿Y方向移動的電動機這兩者。并且，在XY移動單元具備能沿X方向移動的龍門 架的情況下，控制部112控制使龍門架沿X方向移動的電動機和使光學單元沿著龍門架沿 Y方向移動的電動機這兩者。 控制部112的處理的具體例在后面描述，控制部112可以是專用的硬件電路，也可 以是通用的計算機?？刂撇?12的功能可以由硬件、軟件、固件或者它們的組合的任一種來 實現(xiàn)。 例如，控制部112可以由這樣的計算機實現(xiàn)，該計算機具有CPU (Central Processing Unit :中央處理單元)，ROM (Read Only Memory :只讀存儲器)等非易失性存儲 器，用作工作區(qū)域的RAM (Random AccessMemory :隨機存取存儲器)，硬盤裝置等外部存儲 裝置，以及與外部設備的連接接口 ，并且上述這些裝置通過總線相互連接。
在該情況下，實現(xiàn)控制部112的計算機與XY移動單元(XY載物臺101)、激光振蕩 器103、DMD 105、CCD照相機111、操作部113、以及監(jiān)視器114連接。并且，上述CPU通過將 程序裝載到RAM內并執(zhí)行該程序，來實現(xiàn)后述的控制部112的功能。用于實現(xiàn)控制部112 的功能的程序例如可以存儲在計算機可讀取的存儲介質內，經由存儲介質的讀取裝置安裝 在計算機的硬盤裝置內。 并且，控制部112經由網(wǎng)絡間接地、或者通過電纜直接地與未圖示的缺陷檢查裝 置連接。缺陷檢查裝置檢查玻璃基板102的表面，在有缺陷的情況下，例如識別缺陷所在的 位置的坐標、缺陷的大小以及缺陷的種類等，并作為檢查結果來記錄。缺陷所在的位置的坐標例如利用以玻璃基板102為基準的坐標系來表示。缺陷檢查裝置將檢查結果的數(shù)據(jù)輸出 到激光修復裝置100。 并且，缺陷檢查裝置還可以將記錄有進行了檢查時的條件的被稱為"處方 (recipe)"的數(shù)據(jù)進一步輸出到激光修復裝置100。在處方內可以包含有例如當進行了檢 查時的照明光的強度和波長等。 控制部112根據(jù)從缺陷檢查裝置接受到的檢查結果的數(shù)據(jù)，對照缺陷檢查裝置檢 測出的缺陷的位置，控制XY移動單元具有的未圖示的電動機。此時，根據(jù)需要，控制部112 可以進行從以玻璃基板102為基準的坐標系向以XY移動單元(XY載物臺101)為基準的坐 標系的坐標轉換。 例如，在檢查結果的數(shù)據(jù)中缺陷的位置是利用缺陷的重心的坐標來表示的情況 下，控制部112控制保持玻璃基板102的工作臺部與具備投影光學系統(tǒng)的光學單元的相對 位置，以使構成投影光學系統(tǒng)的物鏡109的光軸與缺陷的重心一致。在本實施方式中，沿XY 方向對XY載物臺IOI進行移動控制，使玻璃基板上的缺陷與投影光學系統(tǒng)的光軸對準。不 過，由于檢查結果中的坐標所包含的誤差等原因，實際上，物鏡109的光軸有時會若干偏離 缺陷的重心。因此，激光修復裝置100使用CCD照相機111拍攝缺陷，使用控制部112識別 缺陷的準確位置和范圍來進行使物鏡光軸和照射范圍的中心一致的校準(calibration), 之后進行向缺陷的激光照射。 詳情結合圖3 圖14進行說明，控制部112還作為缺陷提取單元執(zhí)行功能，該缺 陷提取單元根據(jù)由CCD照相機111拍攝作為對象物的玻璃基板102所生成的圖像數(shù)據(jù)，提 取玻璃基板102上的缺陷的外形、缺陷的大小、缺陷的種類等缺陷信息。
而且，控制部112通過按以下所述進行動作，還作為照射位置決定單元執(zhí)行功能。
控制部112根據(jù)缺陷的外形與外接于該外形的外接矩形的多個接點中的至少1個 接點決定將激光照射到玻璃基板102上的位置。具體地說，控制部112以如下的方式決定 將激光照射到玻璃基板102上的位置，即使得從激光振蕩器103所射出的激光照射到玻璃 基板102上的范圍包含缺陷的外形與和該外形外接的外接矩形的多個接點中的至少1個接 點。例如，控制部112可以將位置決定成使得激光照射的范圍包含多個接點中離外接矩形 的頂點(即外接矩形的角)最近的接點。 然后，控制部112在根據(jù)上述激光照射的范圍(更具體地說，根據(jù)所決定的位置和 上述范圍的雙方)使缺陷的外形變窄的同時，重復上述決定。例如，控制部112也可以通過 刪除配置在所決定的位置處的上述范圍或者內接于該范圍的矩形，來使缺陷的外形變窄。
與外接矩形的接點是缺陷的最外側的點。由此，控制部112通過將上述范圍(例 如后述的圖10的基準矩形213，圖16的最大照射范圍229)配置成使得激光照射的范圍包 含接點，從而使缺陷的外形從外側朝內側慢慢變窄。詳情在后面比較圖10和圖ll進行敘 述，通過從外側朝內側來配置上述范圍，能夠實現(xiàn)效率良好的照射。 另外，在后面與圖3 —起敘述詳情，如果存在通過一次照射激光所照射的范圍能 包含2個以上的接點的照射位置，則第一實施方式的控制部112優(yōu)先采用這樣的照射位置 (參照圖3的步驟S102和S104)。在沒有發(fā)現(xiàn)這樣的照射位置的情況下，控制部112按照 使激光照射的范圍包含接點并且與缺陷的重合盡可能大的方式來決定照射位置(參照圖3 的步驟S108)。
這樣，激光修復裝置100將來自激光振蕩器103的激光經由光學系統(tǒng)照射到由作 為照射位置決定單元的控制部112所決定的多個照射位置。結果，激光的照射次數(shù)得到適 當控制，能以短時間效率良好地修復缺陷。 并且，控制部112還作為照射順序決定單元執(zhí)行功能，該照射順序決定單元根據(jù) 所決定的位置間的距離(例如如后所述所配置的多個基準矩形302的中心位置間的距離)， 決定將激光照射到多個位置的順序。激光修復裝置ioo按照由作為照射順序決定單元的控 制部112所決定的順序，將激光依次照射到由作為照射位置決定單元的控制部112所決定 的多個位置。 而且，控制部112還作為整形控制單元執(zhí)行功能，該整形控制單元根據(jù)所提取的 缺陷的外形、以及在所決定的多個位置分別配置了上述范圍時所產生的范圍之間的重合， 控制DMD 105，以便對激光的光束剖面形狀進行整形。例如，控制部112根據(jù)后述的圖2的 缺陷201的外形、圖10的基準矩形216與218的重合，決定后述的圖13的照射區(qū)域502，控 制匿D105，以便對照照射區(qū)域502的形狀對激光的光束剖面形狀進行整形。
接下來，參照圖2來說明按圖1所示構成的激光修復裝置100的修復對象即缺陷 的例子。另外，由于不會引起混亂，因而以下對玻璃基板102上的缺陷的實體、與在由CCD 照相機111拍攝存在缺陷的玻璃基板102而得到的圖像(以下稱為"缺陷圖像")中所拍到 的缺陷的像不作特別區(qū)別，將它們簡稱為"缺陷"。 圖2是示出缺陷的例子的圖，是切換到能取得大的缺陷201的整體圖像的低倍率 (例如5倍)的物鏡109后由CCD照相機111所拍攝的缺陷圖像。圖2圖示出在缺陷圖像 中拍到的缺陷201和布線202 206。該大的缺陷201跨越布線202、布線203和布線205，
是短路缺陷的一種。 并且，如后所述，缺陷201比經由倍率比獲取大的缺陷201的整體的低倍物鏡大的 高倍率(例如20倍)的物鏡109所能照射激光的最大照射范圍大。因此，為了去除缺陷201 的整體，有必要利用高倍物鏡的照射范圍將大的缺陷201的區(qū)域分割成多個，控制XY移動 單元，將激光分別照射到各分割區(qū)域。在第1實施方式中，激光修復裝置100的控制部112 使用后述方法決定實現(xiàn)高效的激光修復的激光照射位置和激光照射順序。
另外，以下將缺陷圖像的水平方向和垂直方向的坐標軸分別設定為x軸和y軸。并 且，以下假定缺陷圖像的x軸與XY移動單元的X軸平行，缺陷圖像的y軸與XY移動單元的 Y軸平行。 嚴格地說，上述假定有時由于以下等影響而不成立，S卩激光修復裝置100的應 變，激光修復裝置100的各部的安裝位置或安裝角度的偏差，以及玻璃基板102的應變或撓 曲。然而，通過使用例如公知技術來進行各種校正，事實上能消除上述應變、偏差、撓曲等的 影響，可視作上述假定成立。 接下來，參照圖3 圖11來說明在第1實施方式中決定激光照射位置的處理。
圖3是在第1實施方式中決定激光照射位置的處理的流程圖。圖3的處理針對1 個缺陷執(zhí)行1次。 在圖3的步驟S101中，控制部112求出切換到低倍率(例如0. 5-10倍)的物鏡 109后所拍攝的缺陷的外形與外接矩形(bounding box)的接點。具體地說，在步驟S101中 進行如下處理。
首先，控制部112根據(jù)從缺陷檢查裝置接受到的檢查結果內包含的缺陷的坐標數(shù) 據(jù)，控制XY移動單元，將光軸與缺陷的重心對準，以使低倍率的物鏡109的光軸與缺陷的重 心一致。然后，控制部112命令CCD照相機111拍攝玻璃基板102。于是，CCD照相機111 拍攝玻璃基板102，并將通過拍攝得到的缺陷圖像的數(shù)據(jù)輸出到控制部112。
此時，即使缺陷從低倍率的物鏡109的視野范圍越出，控制部112通過控制XY移 動單元(XY載物臺101)的未圖示的電動機，也能調整成使缺陷位于低倍率的物鏡109的視 野范圍內?？刂撇?12也可以進行調整以使缺陷自動進入物鏡109的視野范圍內，也可以 根據(jù)來自作業(yè)者的經由操作部113的命令使XY移動單元微動來進行調整。因此，以下假定 在視野內拍攝了缺陷來進行說明。 控制部112通過處理切換到低倍率的物鏡109后所拍攝的缺陷圖像來求出缺陷的 外形?？刂撇?12例如可以根據(jù)預先拍攝沒有缺陷的正常合格品的玻璃基板而得到的基準 圖像來求出缺陷的外形。另外，基準圖像例如可以被預先存儲在實現(xiàn)控制部112的計算機 所具有的硬盤裝置內。 例如，控制部112使用模板匹配(template matching)等的圖像處理技術來進行 缺陷圖像和基準圖像的位置對準。在此基礎上，控制部112例如針對缺陷圖像的各像素，將 缺陷圖像中的像素值P和基準圖像中的對應的像素的像素值Q之差的絕對值lP-Ql與預定 的閾值T進行比較。當|P-Q| ^T時，控制部112可以識別為關注的該像素包含在缺陷內， 當|P-Q| 〈T時，控制部112可以識別為該像素不包含在缺陷內。 例如，如果CCD照相機111是拍攝被稱為亮度圖像的黑白圖像的照相機，則控制部 112能使用亮度值作為像素值。即使CCD照相機111是拍攝彩色圖像的照相機，控制部112 也能根據(jù)基準圖像與缺陷圖像的比較，使用類似的方法來識別各像素是否包含在缺陷內。
控制部112通過使用上述例示的方法或其他方法來識別缺陷圖像中的各像素是 否包含在缺陷內，來求出缺陷的外形。 控制部112求出外接于所求出的缺陷的外接矩形。在第1實施方式中，為了削減 控制部112的計算負荷，外接矩形是根據(jù)"由平行于x軸的邊和平行于y軸的邊包圍的矩 形"這樣的條件求出的。 例如，控制部112可以將識別了缺陷圖像中的各像素是否包含在缺陷內的結果以 這樣的2值圖像的形式來存儲，即包含在缺陷內的像素用"1"的像素值表示，不包含在缺 陷內的像素用"O"的像素值表示。控制部112通過調查該2值圖像中用"1"的像素值表示 的像素中的、x坐標最小的像素、x坐標最大的像素、y坐標最小的像素、以及y坐標最大的 像素，能夠求出外接矩形的各邊。 并且，在步驟SIOI中，控制部112還求出缺陷的外形與外接矩形的接點。這些接 點使用在上述2值圖像中用"1"的像素值表示的像素中的、x坐標最小的像素、x坐標最大 的像素、y坐標最小的像素、以及y坐標最大的像素各自的xy坐標來表示。
圖4示出以上在步驟S101中求出的外接矩形和接點的例子。 圖4是說明在第1實施方式中決定激光照射位置的處理的途中經過的第1圖。圖 4的缺陷201與圖2的缺陷201相同。另外，由于圖2的布線202 206是基準圖像和缺陷 圖像中共同的部分，因而在從圖4開始的圖中省略。 圖4所示的缺陷201的外接矩形211的4個頂點從右上開始按順時針方向為頂點C1、C2、C3和C4。并且，缺陷201的外形與外接矩形211的接點是外接矩形211的上邊的接 點Pl、右邊的接點P2、下邊的接點P3、以及左邊的接點P4這4個點。 這里回到圖3的說明，接以上的步驟S101的處理之后，控制部112在步驟S102中 判斷有無未試行的接點。這里，某接點P是"未試行"是指，控制部112還未根據(jù)接點P的 位置來試行配置圖5所示的基準矩形302。換言之，某接點P是"未試行"是指，針對在最近 的步驟S101中求出的當前的外接矩形，控制部112還未進行選擇接點P來求出后述的步驟 S103的"可設定區(qū)域"的處理。 圖5是說明切換到高倍率(例如10-100倍)的物鏡109時的激光的最大照射范 圍和整形成最大照射范圍的內接矩形的基準矩形的照射范圍的圖。圖5所示的圓是激光的 最大照射范圍301，內接于最大照射范圍301的正方形是第一實施方式中表示實際照射激 光的范圍的基準矩形302。 在第1實施方式中，由于從激光振蕩器103射出的激光的光束剖面的形狀是圓形， 因而最大照射范圍301也是圓形。 并且，在第1實施方式中，為了削減控制部112的計算負荷并抑制照射次數(shù)，將由 平行于x軸的邊和平行于y軸的邊包圍、且內接于最大照射范圍301的正方形用作基準矩 形302。 這里回到圖3的說明，在控制部112還未完成對所有的接點(在圖4的例子中是接 點Pl-P4)試行圖5所示的基準矩形302的配置情況下，處理從步驟S102轉移到步驟S103。 反之，在控制部112已針對全部接點試行了基準矩形302的配置的情況下，處理從步驟S102 轉移到步驟S107。因此，在緊接在步驟S101后執(zhí)行了步驟S102的情況下，處理轉移到步驟 S103。 在步驟S103中，控制部112使用圖5的基準矩形302，求出包含未試行且離已設定 的照射位置最近的接點的可設定區(qū)域。即，控制部112關注在步驟S101中求出的接點中的 未試行的接點，選擇未試行的接點中的離已設定的照射位置最近的接點，求出包含所選擇 的接點的可設定區(qū)域。 這里，"已設定的照射位置"是指由控制部112設定為照射激光的照射位置的位置 (即所設定的基準矩形302的重心的位置)。在已設定多個照射位置的情況下，在步驟S103 的處理中參照最近設定的照射位置。 并且，當?shù)?次執(zhí)行步驟S103時，由于不存在"已設定的照射位置"，因而控制部 112使用外接矩形的頂點來取代"已設定的照射位置"來進行步驟S103的處理。也就是 說，在不存在已設定的照射位置的情況下，控制部112針對各接點計算到外接矩形的4個頂 點中離相應接點最近的頂點的距離，取代已設定的照射位置而參照計算出的距離最短的接 點。 并且，"可設定區(qū)域"是指，能從當前關注的、作為"未試行且離已設定的照射位置 最近的接點"向外接矩形的內部方向配置基準矩形302、而且在邊界上包含當前關注的接點 的區(qū)域。 這里，為了說明可設定區(qū)域，再次參照上述圖4來說明當?shù)?次執(zhí)行步驟S103時 的具體例。 在圖4的例子中，當?shù)?次執(zhí)行步驟S103時，關于步驟S101所說明的接點Pl P4中的接點P2離外接矩形211的頂點最近。S卩，如圖4所示，接點P2與頂點Cl的距離比 接點P2與其他任一頂點的距離都短，并且，比接點Pl與頂點Cl的距離、接點P3與頂點C3 的距離等都短。 因此，控制部112將接點P2視為"未試行且離已設定的照射位置最近的接點"，求 出可設定區(qū)域。結果，獲得圖4的可設定區(qū)域212。 也就是說，根據(jù)上述定義，在圖4的例子中，控制部112求出能從接點P2向外接矩 形211的內部方向配置基準矩形302、而且包含接點P2的區(qū)域。由于接點P2是外接矩形 211的右邊上的接點，因而"從接點P2向外接矩形211的內部配置基準矩形302"是指，"將 基準矩形302配置成使基準矩形302的右邊和外接矩形211的右邊位于一直線上"。
并且，根據(jù)上述定義，圖4的例子中的可設定區(qū)域212是包含當前關注的接點P2 的區(qū)域。因此，可設定區(qū)域212的上邊是根據(jù)當把基準矩形302配置成在基準矩形302的 下端包含接點P2時的基準矩形302的上邊的位置來規(guī)定的。并且，可設定區(qū)域212的下邊 是根據(jù)當把基準矩形302配置成在上端包含接點P2時的基準矩形302的下邊的位置來規(guī) 定的。 在第1實施方式中按上述來定義可設定區(qū)域是因為考慮到要在作為照射激光的 范圍的缺陷范圍(這里是包含輪廓線的范圍)內包含各接點。 另外，在關注的接點是外接矩形的上邊上的接點(例如外接矩形211的上邊上的 接點P1)的情況下，可設定區(qū)域是能將基準矩形302配置成使外接矩形(例如外接矩形 211)的上邊和基準矩形302的上邊位于一直線上的區(qū)域。在該情況下，可設定區(qū)域的左邊 是根據(jù)當把基準矩形302配置成在基準矩形302的右端包含關注的接點(例如外接矩形 211的上邊上的接點P1)時的基準矩形302的左邊的位置來規(guī)定的。然后，可設定區(qū)域的右 邊是根據(jù)當把基準矩形302配置成在基準矩形302的左端包含關注的接點(例如接點Pl) 時的基準矩形302的右邊的位置來規(guī)定的。 或者，在關注的接點是外接矩形的下邊上的接點(例如外接矩形211的下邊上的 接點P3)的情況下，可設定區(qū)域是能將基準矩形302配置成使外接矩形的下邊和基準矩形 302的下邊位于一直線上的區(qū)域。 并且，在該情況下，可設定區(qū)域的左邊是根據(jù)當把基準矩形302配置成在基準矩 形302的右端包含關注的接點(例如外接矩形211的下邊上的接點P3)時的基準矩形302 的左邊的位置來規(guī)定的。然后，可設定區(qū)域的右邊是根據(jù)當把基準矩形302配置成在基準 矩形302的左端包含關注的接點(例如接點P3)時的基準矩形302的右邊的位置來規(guī)定的。
或者，在關注的接點是外接矩形的左邊上的接點(例如外接矩形211的左邊上的 接點P4)的情況下，可設定區(qū)域是能將基準矩形302配置成使外接矩形的左邊和基準矩形 302的左邊位于一直線上的區(qū)域。 并且，在該情況下，可設定區(qū)域的上邊是根據(jù)當把基準矩形302配置成在基準矩 形302的下端包含關注的接點(例如外接矩形211的左邊上的接點P3)時的基準矩形302 的上邊的位置來規(guī)定的。然后，可設定區(qū)域的下邊是根據(jù)當把基準矩形302配置成在基準 矩形302的上端包含關注的接點時的基準矩形302的下邊的位置來規(guī)定的。
這里回到圖3的說明，當控制部112在步驟S103中如以上說明的那樣求出了可設 定區(qū)域時，接下來在步驟S104中進行如下的判斷處理。
在步驟S103中關注的接點是外接矩形的右邊(或左邊)上的接點(例如外接矩 形311的右邊上的接點P2或左邊上的接點P4)的情況下，控制部112判斷在可設定區(qū)域的 內部是否存在缺陷的最上點或最下點。在可設定區(qū)域的內部存在最上點或最下點的情況 下，處理轉移到步驟S105，在可設定區(qū)域的內部不存在最上點或最下點的情況下，為了進行 基于別的接點的試行，處理回到步驟S102。 在步驟S103中關注的接點是外接矩形的上邊(或下邊)上的接點(例如外接矩 形311的上邊上的接點Pl或下邊上的接點P3)的情況下，控制部112判斷在可設定區(qū)域的 內部是否存在缺陷201的最左點或最右點。在可設定區(qū)域的內部存在最左點或最右點的情 況下，處理轉移到步驟S105，在可設定區(qū)域的內部不存在最左點或最右點的情況下，為了進 行基于別的接點的試行，處理回到步驟S102。 另外，步驟S104的判斷中的"可設定區(qū)域的內部"是指可設定區(qū)域的包含上邊、下 邊、左邊以及右邊在內的內部。 例如，在圖4的例子中，缺陷201的最上點即接點Pl包含在可設定區(qū)域212的內 部。因此，在圖4的例子中處理從步驟S104轉移到步驟S105。 當處理從步驟S104轉移到步驟S105時，控制部112將具有通過在步驟S104檢測 出的點(例如缺陷201的最上點P1)的邊的可設定區(qū)域內的基準矩形302的位置設定為照 射激光的位置，該基準矩形302具有通過在步驟S104檢測出的點的邊。然后，控制部112 通過將基準矩形302配置在所設定的位置上，并從缺陷中切掉基準矩形302的范圍，從而使 缺陷的外形變窄。 這里，在步驟S103中關注的接點是外接矩形的右邊或左邊上的接點的情況下，"在 步驟S104檢測出的點"是指被檢測出存在于可設定區(qū)域的內部的、缺陷的最上點或最下點。 或者，在步驟S103關注的接點是外接矩形的上邊或下邊上的接點的情況下，"在步驟S104 檢測出的點"是指被檢測出存在于可設定區(qū)域的內部的、缺陷的最左點或最右點。并且，在 第1實施方式中，基準矩形302的位置利用基準矩形302的重心的位置來表示。
這里，為了說明在步驟S105中配置基準矩形302的處理的具體例，參照圖6。
圖6是說明在第1實施方式中決定激光照射位置的處理的途中經過的第2圖。在 圖6中示出與圖4相同的缺陷201、其外接矩形211以及可設定區(qū)域212。并且，如上所述， 在圖4的例子中，在步驟S104檢測接點Pl。 因此，在圖6的例子中，控制部112在可設定區(qū)域212內將基準矩形302的位置設 定成使基準矩形302具有通過檢測出的接點P1的邊。另外，這里由于接點P1是缺陷201 的最上點，因而具體地說，"將基準矩形302的位置設定成使基準矩形302具有通過接點Pl 的邊"是指將基準矩形302的位置設定成使基準矩形302的上邊通過接點Pl。
在圖6中還圖示出最開始設定了位置的基準矩形213。另外，參照標號"302"—般 用于基準矩形，而在要突出地示出配置在特定位置的基準矩形的情況下，如圖6的"213"那 樣，使用與"302 "不同的參照標號。 并且，在步驟S104檢測出的檢測點是缺陷的最下點的情況下，在步驟S 105中將 基準矩形302的位置設定成使基準矩形302的下邊通過檢測點。并且，在檢測點是缺陷的 最左點的情況下，在步驟S105中將基準矩形302的位置設定成使基準矩形302的左邊通過 檢測點。同樣，在檢測點是缺陷的最右點的情況下，在步驟S105中將基準矩形302的位置
14設定成使基準矩形302的右邊通過檢測點。 以上，當如參照圖6所說明的那樣設定了基準矩形302的位置即激光的照射位置 時，如上所述，控制部112在步驟S105中接下來從缺陷中切掉基準矩形302的范圍。為了 說明該切掉處理的具體例，這里參照圖7。 圖7是說明使用基準矩形的遮蔽(masking)的圖。如針對在圖3的步驟S101中 求出缺陷的外形的處理所說明的那樣，控制部112例如可以以2值圖像的形式來存儲識別 缺陷圖像中的各像素是否包含在缺陷內所得到的結果。 圖7的2值圖像401是這樣的2值圖像包含在缺陷內的像素用"1"的像素值表 示，不包含在缺陷內的像素用"0"的像素值表示。在圖7中，"1"和"0"的像素值分別用白 色和黑色表示。另外，由于紙面的原因，2值圖像401僅摘錄示出缺陷圖像中與圖4的外接 矩形211相當?shù)姆秶?，而實際上，外接矩形211的外部用"0"的像素值表示。
步驟S105中的切掉處理是一般的遮蔽處理。也就是說，控制部112使用作為切掉 范圍、用"0"的像素值表示的2值圖像402，僅對在圖6中配置在外接矩形211內的基準矩 形213的范圍執(zhí)行遮蔽處理。 具體地說，控制部112針對各像素，計算2值圖像401中的像素值和2值圖像402 中的像素值的邏輯"與"。結果，獲得表示在圖6中從缺陷201切掉了基準矩形213的范圍 后的剩余的2值圖像403?？刂撇?12能夠將2值圖像403中用"1"的像素值表示的區(qū)域 識別為遮蔽后的缺陷201的外形。 這里回到圖3的說明，在執(zhí)行步驟S105后，處理轉移到步驟S106。在步驟S106 中，控制部112判定有無還未切掉而殘留的缺陷。 在存在還未切掉而殘留的缺陷的情況下，處理回到步驟S101，通過剩余的范圍的 缺陷的外形和外接矩形的識別來重復上述處理。反之，在缺陷的所有部分已切掉的情況下， 控制部112已按照去除缺陷所需要的次數(shù)設定完激光照射位置，因而圖3的處理結束。
并且，在上述步驟S102中，在控制部112判斷為沒有未試行的接點的情況下，處理 轉移到步驟S107。S卩，如果針對當前未切掉而殘留的缺陷與其外接矩形的全部接點，即使重 復步驟S102 S104的處理也不會轉移到步驟S105，則控制部112執(zhí)行步驟S107的處理。
在步驟S107中，控制部112使用圖5的基準矩形302，求出包含離已設定的照射位 置最近的接點的可設定區(qū)域。步驟S107除了以下處理以外與步驟S103相同，S卩不限于未 試行的接點，以當前未切掉而殘留的缺陷的外形與其外接矩形的全部接點作為對象，控制 部112探索離已設定的照射位置最近的接點。 不存在已設定的照射位置的情況下的處理在步驟S103和步驟S107中是相同的。
因此，省略步驟S107的詳細說明。在執(zhí)行步驟S107后，處理轉移到步驟S108。 在步驟S108中，在步驟S107求出的可設定區(qū)域內，控制部112把在配置基準矩形
302時與基準矩形302重合的缺陷的面積最大的基準矩形302的位置設定為照射激光的位
置。然后，控制部112將基準矩形302配置在所設定的位置上，從缺陷中切掉基準矩形302
的范圍，從而使缺陷的外形變窄。 例如，控制部112可以在可設定區(qū)域內，使基準矩形302 —個像素一個像素地移 動，同時探索與基準矩形302重合的缺陷的面積最大的位置。另外，在步驟S108中，從缺陷 中切掉所配置的基準矩形302的范圍的遮蔽處理與步驟S105相同。在步驟S108執(zhí)行后，處理轉移到步驟S106。 以上，詳細說明了圖3的各步驟。如上所述，圖3的處理是以下操作的重復即，求 出缺陷的外接矩形，從缺陷與外接矩形相接的多個接點中選擇關注的接點，在以關注的接 點作為基準的可設定區(qū)域內，在優(yōu)先包含缺陷的最端點的同時配置基準矩形302。因此，圖 3的處理具有如下的特征和效果。 g卩，圖3的處理具有如下的特征點在使缺陷的外緣優(yōu)先于中心部的同時，決定配 置基準矩形302的位置，該特征有助于抑制照射的次數(shù)。當與使缺陷的中心部優(yōu)先來配置 基準矩形302的情況相比較時，其原因是顯而易見的。 假定取代圖3的處理，而進行在缺陷的中心附近先配置基準矩形302，向缺陷的外 緣依次重復進行基準矩形302的配置的處理。于是，根據(jù)最初配置的基準矩形302的位置， 可能有必要在例如缺陷的上端附近和下端附近這兩個位置配置與缺陷的重合少的基準矩 形302。 在缺陷的上端附近和下端附近這兩個位置配置了與缺陷的重合少的基準矩形302 的情況下，當改變配置的模式時，可能能夠以更少個數(shù)的基準矩形302來覆蓋盡缺陷的整 體。例如，如果使所配置的全部基準矩形302朝上或下錯開相同量，則可能能夠以更少個數(shù) 的基準矩形302來覆蓋盡缺陷的整體。也就是說，在先在缺陷的中心附近配置基準矩形302 的方法中，存在照射次數(shù)徒勞增多的可能性。 與此相對，在圖3的處理中，在步驟S101、S102、S103和S107中，控制部112關注 于缺陷與外接矩形的接點(即位于缺陷的最外緣的點)。 而且，如步驟S104那樣，在關注右邊或左邊上的接點的情況下，優(yōu)先將基準矩形 302配置成使基準矩形302包含缺陷的最上點或最下點。同樣，在關注上邊或下邊上的接點 的情況下，優(yōu)先將基準矩形302配置成使基準矩形302包含缺陷的最左點或最右點。
因此，根據(jù)圖3的處理，由于先從缺陷的外緣配置基準矩形302，因而不會產生先 在缺陷的中心附近配置基準矩形302的情況那樣的徒勞工作。因此，根據(jù)圖3的處理，能事 實上將激光照射次數(shù)抑制到所需的最低限度。 接下來，為了幫助理解在圖3的處理中配置基準矩形302后切掉其范圍的重復處 理，使用具體例，參照圖8 圖10說明狀態(tài)從圖6所示的狀態(tài)起如何變遷。
通過第1次執(zhí)行步驟S105，如圖6所示配置基準矩形213，當通過圖7所示的處理 從缺陷201中切掉了基準矩形213的范圍時，切掉后的缺陷201的右端成為連接圖6所示 的點P5和點P6的線。另外，以下在缺陷201的輪廓線與基準矩形213的左邊相交的2點 中，把圖6中的上方的點設定為點P5，把下方的點設定為點P6。 于是，由于缺陷201的一部分(相當于圖7的2值圖像403中的白色的部分)還 未被切掉而殘留，因而處理從步驟S106回到步驟S101，再次求出外接矩形。參照圖8說明 該第2次的步驟S101的執(zhí)行。 圖8是說明在第1實施方式中決定激光照射位置的處理的途中經過的第3圖。
如圖8所示，通過切掉基準矩形213，缺陷201的上端從接點Pl變?yōu)辄cP5，右端從 接點P2變?yōu)檫B接點P5和點P6的線段。因此，在第2次的步驟S101的執(zhí)行中求出的外接 矩形214是上邊和右邊通過點P5、左邊通過接點P4、下邊通過接點P3的矩形。以下，將外 接矩形214的右下頂點稱為頂點C5，將左上頂點稱為頂點C6。
外接矩形214與第1次切掉后的缺陷201的接點如下。即，上邊上的接點是點P5， 左邊上的接點是接點P4，下邊上的接點是接點P3，右邊上的接點則是連接點P5和點P6的 線段上的全部點。 這樣當在步驟S101求出缺陷201與外接矩形214的接點時，在接下來的步驟S102 中判斷為存在還未試行圖5所示的基準矩形302的配置的接點，處理轉移到步驟S103。
然后，在步驟S103中，作為未試行的接點中離作為已設定的照射位置的基準矩形 213的重心最近的接點，控制部112關注接點P5，求出包含接點P5的可設定區(qū)域。另夕卜，由 于接點P5是外接矩形214的右上頂點，因而既是外接矩形214的上邊上的接點，也是右邊 上的接點。 這樣，在關注的接點是外接矩形的頂點的情況下，在第1實施方式中，在步驟S104 中，控制部112通過將基準矩形302的上邊(或下邊)配置成與外接矩形的上邊(或下邊) 在一直線上對齊，求出可設定區(qū)域(例如圖8的可設定區(qū)域215)。也就是說，比起頂點是 右邊上或左邊上的接點，為了方便起見控制部112優(yōu)先關注頂點是上邊或下邊的接點的情 況，執(zhí)行步驟S103。 這里描述為"為了方便起見"的原因是因為，在關注的接點是外接矩形的頂點的情 況下，即使優(yōu)先關注頂點是右邊或左邊上的接點的情況，后續(xù)的步驟S104和S105的處理結 果也不會改變。 例如，對于外接矩形214的右上頂點即接點P5，當優(yōu)先關注頂點是上邊上的接點 的情況時，求出能將基準矩形302配置成使基準矩形302的上邊與外接矩形214的上邊位 于一直線上、且包含接點P5的可設定區(qū)域215。這里，接點P5由于是外接矩形214的右上 頂點，因而也是缺陷201的最右點。因此，在步驟S104中至少檢測出接點P5，在步驟S105 中將基準矩形302的位置設定成使右邊通過接點P5。 圖9是說明在第1實施方式中決定激光照射位置的處理的途中經過的第4圖，示
出按上述所設定的基準矩形216。從上述說明可知，基準矩形216的右上頂點是接點P5，該
接點P5既是外接矩形214的右上頂點，也是在步驟S103中關注的接點。這里，在外接矩形214的右上頂點即接點P5在步驟S103受到關注的情況下，與上
述相反，為了方便起見，假定在步驟S104中優(yōu)先關注頂點是右邊上的接點的情況。 在該情況下，求出能將基準矩形302配置成使右邊與外接矩形214的右邊位于一
直線上、且包含接點P5的可設定區(qū)域。于是，由于接點P5也是缺陷201的最上點，因而在
步驟S104中檢測出接點P5，在步驟S105中將基準矩形302的位置設定成使上邊通過接點
P5。 S卩，將基準矩形302的位置設定成使右上頂點與接點P5 —致，這樣設定的位置與圖9
的基準矩形216的位置相同。 因此，在關注的接點是外接矩形的頂點的情況下，不管優(yōu)先關注頂點是上邊或下 邊上的接點的情況、以及頂點是右邊或左邊上的接點的情況中的哪一種情況，步驟S105的 結果都相同。因此，在上述中描述為"為了方便起見"。并且，為了方便起見，優(yōu)先關注頂點 是右邊或左邊上的接點的情況的實施方式當然也能實現(xiàn)。 如以上說明那樣當進行了圖3的處理時，最終，如圖IO所示成為由多個基準矩形 213、216、217、218、219覆蓋圖4的缺陷201的原始范圍整體的狀態(tài)。 S卩，為了第3次配置基準矩形302，控制部112在步驟S101求出外接于切掉了第1次_第2次的基準矩形213、216之后的缺陷201的外形的外接矩形。然后，控制部112找 出在圖9中基準矩形216的左邊與缺陷201的輪廓相交的點(即第3次求出的外接矩形的 上邊上的接點)，作為步驟S103中未試行的且離已設定的照射位置最近的接點。另外這里 的已設定的照射位置具體而言是第2次設定的基準矩形216的重心位置。于是，控制部112 在步驟S104中找出接點P4作為可設定區(qū)域內的最左點，在步驟S105中設定基準矩形217， 并進行切掉處理。 然后，為了第4次配置基準矩形302，控制部112在步驟S101求出外接于切掉了第 1次-第3次配置的基準矩形213、216、217之后的缺陷201的外形的外接矩形。然后，控制 部112找出在圖10中基準矩形216的下邊與基準矩形217的右邊相交的點(即第4次求 出的外接矩形的上邊上的接點)，作為步驟S103中未試行的且離已設定的照射位置最近的 接點。另外這里的已設定的照射位置具體而言是第3次設定的基準矩形217的重心位置。 于是，控制部112在步驟S104中找出圖10的基準矩形218的右上頂點作為可設定區(qū)域內 的最右點，在步驟S105中設定基準矩形218，并進行切掉處理。 然后，為了第5次配置基準矩形302，控制部112在步驟S101求出外接于切掉了 第1次-第4次配置的基準矩形213、216、217、218之后的缺陷201的外形的外接矩形。然 后，控制部112找出在圖10中基準矩形218的下邊與缺陷201的輪廓相交的2個交點中的 左邊的交點(即第5次求出的外接矩形的上邊上的接點)，作為步驟S103中未試行的且離 已設定的照射位置最近的接點。另外這里的已設定的照射位置具體而言是第4次設定的基 準矩形218的重心位置。于是，控制部112在步驟S104中找出圖10的基準矩形219的右 上頂點作為可設定區(qū)域內的最右點，在步驟S105中設定基準矩形219，并進行切掉處理。以 上，最終如圖10所示，成為由5個基準矩形219覆蓋缺陷201的狀態(tài)。
圖10是說明在第1實施方式中決定完激光照射位置的階段的圖。如針對圖9所 說明的那樣，在設定了基準矩形216的位置之后，同樣依次設定基準矩形217、基準矩形218 以及基準矩形219的位置，圖3的處理結束。 另外，在第1實施方式中如上所述決定激光照射位置的處理例如與圖11的比較例 相比，具有削減激光的照射次數(shù)、縮短缺陷修復所花時間的效果。 圖ll是示出比較例中的多個激光照射位置的圖。在圖11中示出與圖4相同的缺 陷201的外形及其外接矩形211。圖11的比較例是這樣的例子以外接矩形211的左上頂 點C4作為起點，將基準矩形302呈二維陣列狀有規(guī)則地配置成覆蓋外接矩形211。
在比較例中，為了覆蓋外接矩形211，如圖11所示，需要9個基準矩形220 228。 其中，基準矩形225和基準矩形228由于完全沒有與缺陷201重合，因而可從實際的激光照 射位置的設定中去除。然而，盡管如此，剩余的7個基準矩形220 224、226和227的重心 在比較例中被設定為激光照射位置。也就是說，在比較例中，為了修復缺陷201，有必要照射 激光7次。 另一方面，如圖IO所示，根據(jù)第1實施方式，由于僅利用5個基準矩形就能覆蓋盡 缺陷201，因而為了修復缺陷201，只需照射激光5次即可。這樣，根據(jù)第1實施方式，可針 對缺陷201高效地排列照射位置，避免配置無用的基準矩形302。因此，在第1實施方式中， 能利用比單純地有規(guī)則地配置基準矩形302的比較例少的次數(shù)來修復缺陷201。
也就是說，第1實施方式能利用少的次數(shù)(實質上最小的次數(shù))來照射激光，具有縮短激光修復裝置100修復缺陷201所花時間的效果。原因在于，通過削減照射次數(shù)，不僅 削減了激光照射自身所花的時間，而且還削減了激光在照射位置間的移動所花的時間。因 此，根據(jù)第1實施方式，實現(xiàn)了高速修復。 接下來，參照圖12說明決定向在第1實施方式中按上述設定的多個激光照射位置 實際照射激光的順序的處理的具體例。 圖12是說明在第1實施方式中決定激光照射順序的處理的圖。在圖12中，與圖 10—樣示出缺陷201以及所設定的5個基準矩形213、216、217、218和219。并且，還示出 5個基準矩形213、216、217、218和219各自的重心Gl G5。 而且，圖12還示出缺陷201的重心GO。更準確地說，重心GO是在圖1的激光修 復裝置100的控制部112從未圖示的缺陷檢查裝置接受到的檢查結果的數(shù)據(jù)中表示為缺陷 201的重心的點。 如針對圖l所說明的那樣，控制部112將XY移動單元(XY載物臺101)控制成使 從缺陷檢查裝置接受的重心GO的坐標與低倍率的物鏡109的光軸一致，并使CCD照相機拍 攝玻璃基板102。因此，重心GO是缺陷圖像(視野)的中心點。 因此，只要以重心GO為起點，沿著1度1度地通過5個基準矩形各自的重心Gl G5的最短路徑依次進行激光照射，就能使激光修復裝置100進行的缺陷201的修復所花的 時間最短。另外，在XY載物臺101的X方向和Y方向的相對移動速度沒有差異的情況下， 可利用歐幾里德距離來表示路徑的長度，在有差異的情況下，可利用根據(jù)X方向和Y方向的 相對移動速度進行了加權后的曼哈頓距離(Manhattan distance)來表示路徑的長度。
在第1實施方式中，為了使用簡單的算法高速獲得最短的路徑的近似解，控制部 112如下來決定激光照射順序。 首先，控制部112將所配置的5個基準矩形的重心Gl G5中、距當前能照射激光 的位置(例如缺陷201的重心GO)的距離最短的位置決定為最開始的照射位置。在圖12 的例子中，重心Gl G5中的重心G4離重心GO最近。因此，控制部112將照射順序是第1 的照射位置決定為重心G4。 之后，控制部112重復進行如下處理將還未決定照射順序的其他基準矩形的重 心(或中心)中的、距照射順序是第j個的照射位置的距離最短的重心決定為第(j+l)個 照射位置(l《j<N。 N是所配置的基準矩形的數(shù)，在圖12的例子中N二5)。然后，當控 制部112針對所配置的基準矩形的重心已全部決定了照射順序時，確定激光的照射位置和 照射順序。 在圖12的例子中，具體地說，重心G4是第1個照射位置，重心G3是第2個照射位
置，重心G2是第3個照射位置，重心Gl是第4個照射位置，重心G5是第5個照射位置。在
圖12中，用箭頭示出從重心GO出發(fā)按照射順序向5個照射位置前進的路徑。 在按以上所述決定了激光的照射位置和照射順序后，控制部112接下來決定照射
激光的形狀。以下，參照圖12和圖13說明決定照射激光的形狀的處理。 圖13是示出在第1實施方式中設定的多個照射區(qū)域的例子的圖。如針對圖1所
說明的那樣，在第1實施方式中由于使用了 DMD 105，因而能將激光的光束剖面形狀整形成
任意的形狀來照射到玻璃基板102的表面。 換句話說，由于能通過使用DMD105將激光的光束剖面形狀整形成任意的形狀，因
19而即使在向同1個部位多次照射激光而招致電路圖形損傷的情況下，在決定多個基準矩形 213、216、217、218以及219的配置(即決定照射位置)時，即使前面次序的基準矩形與下一 次序的基準矩形之間重合也不會存在問題。這是因為，控制部112為了使前面次序的基準 矩形與下一次序的基準矩形之間不重合，進行從下一次序的基準矩形中排除在前面次序中 照射激光的區(qū)域的處理，并且對應于排除掉了前面次序的基準矩形的重復區(qū)域后的基準矩 形內的缺陷形狀來進行匿D105的微小反射鏡的打開/關閉控制，能夠將激光的光束剖面整 形成被各基準矩形302分割的缺陷201的形狀。因此，通過使用匿D 105，能根據(jù)缺陷201 的外形靈活地配置多個基準矩形。在第1實施方式中，控制部112將照射激光的區(qū)域的形 狀決定成，僅向缺陷201照射激光(也就是說，不向缺陷201的外部照射激光)，并向多個基 準矩形重合的區(qū)域也僅照射1次激光。 具體地說，控制部112按以下那樣來決定照射區(qū)域的形狀。 首先，控制部112將在圖12中與第1個照射位置即重心G4對應的基準矩形218 與缺陷201的重合范圍如圖13所示決定為第1次激光照射的照射區(qū)域501。
之后，控制部112將如下范圍決定為照射范圍502，該范圍是與第2個照射位置即 重心G3對應的基準矩形217與缺陷201重合的范圍、且是與第1次激光照射的照射區(qū)域 501不重合的范圍。同樣，控制部112根據(jù)與第3-5次的激光照射對應的基準矩形216、213、 219，決定照射區(qū)域503、504、505。即，控制部112將與第(j+l)個照射位置對應的基準矩形 與缺陷201重合的范圍中、與第l-j次激光照射的照射區(qū)域不重合的范圍決定為第(j+l) 次的激光照射的照射范圍。 具體地說，控制部112把與第2個照射位置即重心G3對應的基準矩形217與缺陷 201重合的范圍、且與第1次照射的照射區(qū)域501不重合的范圍決定為第2次激光照射的照 射區(qū)域502。 并且，與第3個照射位置即重心G2對應的基準矩形216在圖12中與基準矩形217 重合。因此，控制部112僅選擇基準矩形216與缺陷201重合的范圍中的不與照射區(qū)域502 重合的部分作為第3次激光照射的照射區(qū)域503。 與第4個照射位置即重心Gl對應的基準矩形213和與第5個照射位置即重心G5 對應的基準矩形219如圖12所示，原本不與其他基準矩形重合。因此，如圖13所示，控制 部112選擇基準矩形213與缺陷201重合的范圍作為第4次激光照射的照射區(qū)域504，并選 擇基準矩形219與缺陷201重合的范圍作為第5次激光照射的照射區(qū)域505。
如圖13所示，與5次激光照射對應的5個照射區(qū)域501 505是互不相交 (mutually disjoint)的區(qū)域，覆蓋盡缺陷201的全部區(qū)域。因此，激光修復裝置100向照 射區(qū)域501 505依次照射激光，從而向缺陷201上無遺漏地照射激光，并且不向缺陷201 以外的部分照射激光。因此，不會發(fā)生缺陷201以外的部分由于不需要的激光照射而損傷 的情況。 控制部112根據(jù)按上述所決定的激光的照射位置、照射順序以及照射區(qū)域，控制 向缺陷201上的激光照射。具體地說，假定1《j < N，N是所配置的基準矩形的數(shù)量，控制 部112針對各整數(shù)j進行以下處理。 S卩，控制部112在從第倍率的物鏡109切換到高倍率的物鏡109后，將XY載物臺 101控制成使物鏡109的光軸與第j個照射位置的重心一致。并且，控制部112使用第j次激光照射的照射區(qū)域的數(shù)據(jù)來控制匿D 105的各微小反射鏡的狀態(tài)，從而使激光振蕩器 103射出激光。 圖14是示意性示出與在第1實施方式中設定的1個照射區(qū)域對應的DMD控制數(shù) 據(jù)的例子的圖。 如上所述，可將DMD 105的各微小反射鏡控制為打開狀態(tài)和關閉狀態(tài)。因此，例如 在第1次激光照射中，控制部112指示將與缺陷圖像中包含于圖13的照射區(qū)域501內的像 素對應的微小反射鏡驅動到打開狀態(tài)，并指示將除此以外的微小反射鏡驅動到關閉狀態(tài)。
控制部112用于控制DMD 105的DMD控制數(shù)據(jù)600例如可以是按每個微小反射鏡 指定表示打開狀態(tài)的"1"值和表示關閉狀態(tài)的"0"值中的任一方的數(shù)據(jù)。
在圖14中，示意性地用白色表示被指定了"l"值的微小反射鏡，并用黑色表示被 指定了"O"值的微小反射鏡。因此，與圖13的照射區(qū)域501對應的部分在圖14中用白色 表示為打開區(qū)域601。并且，為了便于圖示，表示最大照射范圍603的圓和內接于最大照射 范圍603的基準矩形602用白線表示，然而并不意味著將最大照射范圍603和基準矩形602 的輪廓上的微小反射鏡驅動到打開狀態(tài)。 如圖14所示，DMD 105可以在比最大照射范圍603寬的范圍內將微小反射鏡配置 成二維陣列狀。在該情況下，在采用能移動匿D 105的結構的情況下，當出現(xiàn)微小反射鏡破 損的區(qū)域時，通過進行校準，從而不用更換DMD 105而能繼續(xù)進行修復。
以上，參照圖1 圖14說明了第1實施方式。 接下來，針對第2實施方式，參照圖2、圖13和圖15來主要說明與第1實施方式的 不同。 圖15是示出在第2實施方式中設定的多個照射區(qū)域的例子的圖。在第2實施方 式中，激光修復裝置100不是在缺陷201的全部區(qū)域內照射激光，而是僅向除了照射禁止區(qū) 域以外的范圍照射激光來修復缺陷201。照射禁止區(qū)域可以根據(jù)任意基準預先決定，而在第 2實施方式中是與圖2的布線202 206重合的區(qū)域。 在圖2中，缺陷201與布線202、203和205重合。根據(jù)激光振蕩器103的規(guī)格和 布線202、203和205的性質等，存在由于向缺陷201照射激光而使布線202、203和205損 傷的危險性。因此，在第2實施方式中，圖2的布線202 206的區(qū)域作為照射禁止區(qū)域而 被預先登記在激光修復裝置100內。 例如，可以通過針對圖3的步驟S101所說明的基準圖像來定義照射禁止區(qū)域。例 如，由于控制部112如上所述在提取缺陷201時進行缺陷圖像和基準圖像的位置對準，因而 能夠將該基準圖像中的布線202-206的圖像設定為照射禁止區(qū)域。 第2實施方式與第1實施方式中的激光修復裝置100的動作的不同之處在于控制 部112決定照射區(qū)域的動作。即，在第2實施方式中，在決定了激光的照射位置和照射順序 后，控制部112按以下所述決定照射區(qū)域。 首先，控制部112對于與第1個照射位置對應的基準矩形218，將與基準圖像中的 布線202-206的圖形重合的范圍設定為照射禁止區(qū)域，由于基準矩形218與缺陷201重合， 所以將排除了該照射禁止區(qū)域的范圍決定為第l次激光照射的照射區(qū)域501b、501a。將圖 2、圖13和圖15進行比較可知，第1實施方式中的照射區(qū)域501由于其一部分與布線205 的區(qū)域重合，因而對應于第2實施方式中的2個分離的照射區(qū)域501a和501b。
另外，通過使用DMD 105，能向這樣分離后的2個照射區(qū)域501a和501b同時照射 激光。因此，不會由于設定照射禁止區(qū)域而使照射次數(shù)增加。即，可以假定為從最開始缺陷 已經分離為多個來進行處理。 之后，控制部112同樣針對與第(j+1)個照射位置對應的基準矩形，將與基準圖 像中的布線202-206的圖形重合的范圍設定為照射禁止區(qū)域。然后，控制部112選擇與第 (j+1)個照射位置對應的基準矩形302與缺陷201重合的范圍、且與第1次 第j次激光照 射的照射區(qū)域中的任一方都不重合、且與照射禁止區(qū)域也不重合的范圍。然后，控制部112 將所選擇的范圍決定為第(j+1)次激光照射的照射區(qū)域。 具體地說，第1實施方式中的第2次激光照射的照射區(qū)域502由于不與照射禁止 區(qū)域重合，因而在第2實施方式中也同樣被決定為第2次激光照射的照射區(qū)域502。
并且，第1實施方式中的第3次激光照射的照射區(qū)域503的一部分與布線202和 205重合。因此，在第2實施方式中，與布線202和205的區(qū)域不重合、且相互分離的2個照 射區(qū)域503a和503b被決定為第3次激光照射的照射區(qū)域。 同樣，第1實施方式中的第4次激光照射的照射區(qū)域504的一部分與布線202重 合。因此，在第2實施方式中，除了該重合部分以外的照射區(qū)域504a被決定為第4次激光 照射的照射區(qū)域。 并且，第1實施方式的第5次激光照射的照射區(qū)域505的一部分與布線203重合。 因此，在第2實施方式中，與布線203的區(qū)域不重合、且相互分離的2個照射區(qū)域505a和 505b被決定為第5次激光照射的照射區(qū)域。 接下來，針對第3實施方式，參照圖3、圖7、圖8和圖16來主要說明與第l實施方 式的不同。 圖16是說明在第3實施方式中決定激光照射位置的處理的途中經過的圖。第3 實施方式與第1實施方式的不同點是，在控制部112通過重復進行基準矩形302的配置來 決定多個照射位置的過程中，在切掉時使用最大照射范圍301而不是基準矩形302。
在圖3的步驟S105和S108中，進行基準矩形302的位置設定以及從缺陷中切掉基 準矩形302。在第3實施方式中，在步驟S105和S108中，從缺陷中切掉最大照射范圍301 而不是基準矩形302。 圖16示出與圖8相同的缺陷201和最開始設定了位置的基準矩形213。在第1實 施方式中，從缺陷201中切掉基準矩形213。然而，在第3實施方式中，從缺陷201中切掉外 接于設定了位置的基準矩形213的最大照射范圍229。 切掉處理能通過圖7所示的簡單遮蔽處理來實現(xiàn)。因此，在第3實施方式中，控制 部112可以取代使用如圖7的2值圖像402那樣基準矩形213的范圍被設定為"O"值的遮 蔽圖形，而僅使用最大照射范圍229被設定為"0"值的遮蔽圖形。 也就是說，第3實施方式與第1實施方式相比較，算法的復雜性不會增加。盡管如 此，在第3實施方式中，控制部112由于每配置1次基準矩形302就切掉比第1實施方式寬 的范圍，因而有時與第1實施方式相比能削減激光照射次數(shù)。 例如，如圖16所示，在第3實施方式中，從缺陷201中切掉比基準矩形213寬的最 大照射范圍229。當把最大照射范圍229的輪廓線與缺陷201的輪廓線的2個交點中的位 于上方的交點稱為點P7、并把位于下方的交點稱為點P8時，點P7位于點P5的左下方，點P8位于點P6的左方。因此，切掉最大照射范圍229后的缺陷201的外接矩形230小于圖8 的外接矩形214。 根據(jù)缺陷201的外形，存在這樣的情況由于這樣每次切掉時都切掉比第1實施方 式寬的范圍，因而能削減激光照射次數(shù)。并且，如果激光照射次數(shù)削減了，則缺陷201的修 復所花的時間也被削減。 另外，在第3實施方式中，在切掉了圓形的最大照射范圍229后，處理再次回到圖3 的步驟SlOl，之后在步驟S103或S107由控制部112求出可設定區(qū)域時，使用基準矩形302。 原因在于，使用由平行于x軸的邊和平行于y軸的邊所包圍的基準矩形302來求出可設定 區(qū)域的算法簡單，控制部112的計算負荷低，處理時間短。 在圖16的例子中，由于點P7是缺陷201的新的上端，因而外接矩形230的上邊通 過點P7，點P7是外接矩形230與缺陷201的接點。并且，與點P7相比點P8稍位于右方，由 于點P8是缺陷201的新的右端，因而外接矩形230的右邊通過點P8，點P8是外接矩形230 與缺陷201的接點。另外，在圖16中，將外接矩形230的右上頂點表示為頂點C7，把右下頂 點表示為頂點C8，把左上頂點表示為頂點C9。 在步驟S105中的最大照射范圍229的切掉后，控制部112在步驟S103中關注離 已設定的基準矩形213的重心最近的接點P7來求出可設定區(qū)域231。 接下來，針對第4實施方式，參照圖17來主要說明與第1實施方式的不同。在第 4實施方式中，操作部113作為指定單元執(zhí)行功能，該指定單元接受用于指定監(jiān)視器114顯 示的缺陷圖像或缺陷201的外形上的位置的輸入，作為應照射激光的位置。然后，激光修復 裝置100向根據(jù)由操作部113所接受的輸入而指定的位置照射激光。 圖17是在第4實施方式中顯示在監(jiān)視器上的畫面例的圖。在第4實施方式中，控 制部112進行如下的控制使最大照射范圍701和702的圓形框與CCD照相機111所拍攝 的缺陷圖像重合，使其顯示在作為顯示單元的監(jiān)視器114上。 S卩，控制部112使缺陷圖像顯示在監(jiān)視器114上，并從操作部113接受從作業(yè)者經 由操作部113指定的位置信息。然后，控制部112控制監(jiān)視器114，以使最大照射范圍701 和702等的框與接受到的位置信息表示的位置重合來進行顯示。 例如，在操作部113利用鼠標來實現(xiàn)的情況下，控制部112控制監(jiān)視器114，以便根 據(jù)鼠標的拖動操作使最大照射范圍701的框在缺陷圖像內移動的同時進行顯示。然后，當 進行了例如點擊操作時，控制部112將最大照射范圍701配置在進行了點擊操作時的光標 位置上。 如圖17所示，操作部113可接受多個最大照射范圍的配置指示，換句話說激光照 射位置的指示。然后，控制部112根據(jù)指示配置多個最大照射范圍(例如最大照射范圍701 和702)。 并且，當從操作部113接收到表示結束激光照射位置的指示的命令時，以此為契 機，控制部112例如與第1實施方式一樣決定激光照射順序，設定激光照射區(qū)域的形狀。然 后，控制部112控制XY載物臺101、激光振蕩器103以及DMD 105，以便按照射順序向各照 射位置依次照射激光。 S卩，根據(jù)第4實施方式，由于根據(jù)來自作業(yè)者的指示進行激光照射，因而可靈活決 定照射位置。
并且，與激光修復裝置100每次接收到1個部位的照射位置的指示就實際進行激 光照射的情況相比較，第4實施方式具有多次照射所需時間短的優(yōu)點。原因在于，由于控制 部112考慮到所指示的多個照射位置之間的距離來決定照射順序，因而選擇能連接多個照 射位置的路徑中的較短的路徑。 這樣，根據(jù)第4實施方式，即使在根據(jù)手動的指示進行缺陷201的修復的情況下， 也能比以往縮短修復時間。 另外，本發(fā)明不限于上述實施方式，能進行各種變形。以下描述若干其例子。上述 實施方式與下述變形例，只要相互不矛盾，則能夠任意組合。 激光修復裝置100可以具有使用透射型液晶或反射型液晶的空間光調制器來取 代DMD 105。 另外，激光修復裝置100可以使用矩形可變狹縫等來取代空間光調制器，以對激 光的光束剖面形狀進行整形，也可以不具有對激光的光束剖面形狀進行整形的部件。
在使用狹縫的實施方式、和激光修復裝置100不具有對激光的光束剖面形狀進行 整形的部件的實施方式中，向缺陷以外的部分也照射激光。并且，在有相互重合地設定的基 準矩形的情況下，有時會向1個部位照射2次以上激光。 然而，根據(jù)激光的強度、激光的波長、形成在玻璃基板102上的電路圖形的性質 等，即使向缺陷以外的部分照射激光，或者向相同場所照射2次以上激光，也不會有電路圖 形受到損傷的危險。因此，在這樣判明了不會有因激光而引起損傷的危險的情況下，可以采 用使用狹縫的實施方式、和激光修復裝置100不具有對激光的光束剖面形狀進行整形的部 件的實施方式。另外，在激光修復裝置100不具有對激光的光束剖面形狀進行整形的部件 的情況下，控制部112在如圖12所示決定了激光的照射順序之后，無需如圖13所示決定照 射區(qū)域。 另外，控制部112決定照射位置的處理的具體算法不限于圖3所例示的算法。艮卩，
控制部112通過重復以下(a)和(b)的處理，能夠從外側慢慢地將缺陷的范圍變窄，同時依
次決定激光的照射位置。在(a)的處理中決定將基準形狀配置在哪里的算法是任意的。
(a)將基準形狀(例如基準矩形302)配置在缺陷的外緣部，將配置的基準形狀的
位置(例如基準矩形302的重心的位置)決定為激光的照射位置的處理。
(b)將通過向決定的照射位置照射激光而除去的缺陷的范圍從原來的缺陷的范圍
中排除掉，從而將缺陷的范圍變窄的處理。 例如，控制部112在圖2的例子中，在決定第l個照射位置時，與圖4所示的第1實 施方式同樣，可以求出缺陷201的外形和外接于該外形的外接矩形211。進而，控制部112 可以求出和外接矩形211相接的缺陷201的各接點P1-P4與作為外接矩形211的角的各頂 點C1-C4的距離。 于是，對于4個接點Pl-P4與4個頂點Cl-C4的16 ( = 4X4)種組合，得到16個 距離。在圖4的例子中，接點P2與頂點Cl的距離是16個距離中最短的。
至此與第一實施方式同樣，然而之后，控制部112如下所述求出第1次配置基準矩 形302的位置(即第1個照射位置)。S卩，控制部112可以將得到最短的距離的頂點Cl作 為基點來配置基準矩形302。 這里，頂點Cl是外接矩形211的右上頂點，所以以頂點Cl為基點來配置基準矩形
24302是指，具體而言將基準矩形302配置成使基準矩形302的右上頂點與頂點CI 一致。
同樣，以外接矩形的左上(或右下或左下)頂點為基點來配置基準矩形302是指， 將基準矩形302配置成使基準矩形302的左上(或右下或左下)頂點與外接矩形的左上 (或右下或左下)頂點一致。 控制部112在如上所述以頂點為基點來配置基準矩形302的情況下，有時結果也 會在與第一實施方式相同的位置配置基準矩形302。例如，當控制部112以頂點CI為基點 來配置基準矩形302時，具體而言，在與圖6的基準矩形213相同的位置配置基準矩形302。
控制部112在如上所述決定了第1個照射位置后，在決定第2個照射位置時，作為 上述(a)的處理，具體地可以進行如下處理。即，控制部112可以將基準矩形302配置成與 配置在第1個照射位置的基準矩形302(即基準矩形213)連接，并以外接矩形的頂點為基 點。另外，2個基準矩形302連接是指，2個基準矩形302的邊連接，或者2個基準矩形302 彼此的一部分重合。 于是結果與第一實施方式相同，在圖9的基準矩形216的位置配置基準矩形302。 即，控制部112可以從排除掉了第1次配置的基準矩形213后的缺陷201的外接矩形214 的4個頂點中，探尋與基準矩形213相接的頂點，找到右上頂點P5，以頂點P5為基點，來配 置基準矩形302。 從第3次開始也同樣，控制部112可以將基準矩形302配置成與之前最近配置的 基準矩形302連接、并以新的外接矩形的頂點為基點，從而來決定照射位置。然后，控制部 112重復(a)和(b)的處理，直到在缺陷的整個區(qū)域配置了基準矩形302。
另外，根據(jù)缺陷的形狀，結果得到的照射位置有時和第一實施方式不同，不管怎 樣，當如上所述決定了多個照射位置時，缺陷的整體被基準矩形302分割。由此，控制部112 能夠按照配置的多個基準矩形302來設定各激光照射區(qū)域。 控制部112通過如上所述從缺陷的外緣部向內側依次配置基準矩形，從而高效地 配置基準形狀。即，能以少量的基準形狀高效地覆蓋缺陷的整個區(qū)域。
另外，作為重復上述(a)和(b)的處理的具體算法，還可以采用其他的算法。
例如，在圖4的例子中，控制部112可以分別關注外接矩形211與缺陷201的4個 接點P1-P4，并行地求出包含各接點的可設定區(qū)域。然后，控制部112可以針對對應于4個 接點P卜P4所求出的4個可設定區(qū)域的各個，進行與圖3的步驟S104同樣的判斷，在判斷 為"有"時與步驟S105同樣，求出基準矩形302的位置，在判斷為"無"時與步驟S108同樣 求出基準矩形302的位置。 在該例子的情況下，結果所求出的4個位置中2個是相同位置(即圖6的基準矩 形213的位置)，所以控制部112可以排除掉重復的位置在3個部位配置基準矩形302。然 后，控制部112可以從缺陷201中排除掉已配置的3個基準矩形302，求出新的外接矩形，與 上述同樣分別對多個接點并行地進行處理。 或者，控制部112可以不關注4個接點的全部，而關注2個或3個接點，進行與上 述同樣的并行處理。 并且，用于決定激光照射順序的圖12的處理能置換為任意的最短路徑探索算法。 或者，控制部112可以根據(jù)例如"從x坐標值大的照射位置開始依次照射激光"、或者"按配 置基準矩形302的順序照射激光"等預先決定的規(guī)則決定照射順序。
并且，在決定照射順序的處理中，照射位置之間的距離可以利用歐幾里德距離表示，也可以利用根據(jù)玻璃基板102和物鏡109在X方向和Y方向的各相對移動花費的成本進行了加權后的曼哈頓距離來表示。作為成本，可使用例如電動機驅動電力或移動時間。
而且，在圖5中基準矩形302是內接于最大照射范圍301的正方形，而基準矩形302只要是包含在最大照射范圍301內的矩形即可?；鶞示匦?02可以不內接于最大照射范圍301，可以是長方形而不是正方形。 并且，根據(jù)激光振蕩器103的規(guī)格，最大照射范圍的形狀有時不是圓。不管最大照
射范圍的形狀如何，都能夠將最大照射范圍內包含的任意矩形用作基準矩形。 并且，在第1實施方式中，控制部112在第1次執(zhí)行圖3的步驟S103時，關注離外
接矩形的頂點最近的接點。然而，在步驟S103的第1次執(zhí)行中，控制部112也可以以別的
基準來選擇關注的接點。例如，控制部112可以考慮重心G0與各接點的距離來決定關注的接點。 或者，控制部112可以針對在步驟S103的第1次執(zhí)行中分別關注多個接點的多個情況分別執(zhí)行以后的處理，并采用沿所決定的多個照射位置前進的路徑最短的情況的結果。例如，控制部112可以在步驟S103的第1次執(zhí)行中分別關注圖4的4個接點Pl P4，并針對4種情況分別執(zhí)行以后的處理來求出照射位置和照射順序。結果，控制部112可以根據(jù)在4種情況中沿多個照射位置前進的路徑最短的情況的結果，控制實際的激光照射。
并且，在上述各實施方式中，外接矩形和基準矩形302的各邊平行于x軸或y軸。其原因如上所述是為了減輕控制部112的計算負荷。然而，使用與缺陷的形狀一致的方向的外接矩形和基準矩形的實施方式也是能實現(xiàn)的。 具體地說，為了進一步削減激光照射次數(shù)，并進一步縮短連接各次照射的路徑，控制部112可以使用《n -夕A畫像処理》(數(shù)字圖像處理)(CG-ARTS協(xié)會發(fā)行)的第183頁上記載的方法等來計算缺陷的外形的主軸方向。即，控制部112可以通過使用由下述式(1)定義的pq次力矩M(p，q)來求解下述式(2)的方程式，從而計算缺陷的外形的主軸與x軸形成的角e 。
算式1
識河)=》7 (1)
算式2
tan26> + ~~"、、乂tan^ —1 = 0 (2)
M(l，l) 另外，式(1)中的總和符號E表示，針對缺陷圖像中包含在缺陷內的全部像素，把
該像素的坐標設定為(x，y) = (i，j)，計算(ipjq)的和。并且，缺陷的外形的主軸方向利用通過缺陷的重心的直線與x軸形成的角e來表示。 控制部112可以使用式(1)和式(2)計算缺陷的外形的主軸方向，在具有相對于x
軸傾斜了角e的邊的矩形的條件下，求出缺陷的外接矩形。然后，可以在具有相對于x軸傾斜了角e的邊、且包含在最大照射范圍301內的矩形的條件下，定義基準矩形。 除了使用相對于x軸傾斜的外接矩形和基準矩形這一方面以外，控制部112與第1 第3實施方式相同地動作。通過使用傾斜的外接矩形和基準矩形，能效率更良好地修復
26具有例如角e的傾斜的橢圓狀的缺陷。 并且，控制部112可以取代計算主軸方向，而針對預先決定的M個角度9 l 9M，
使用分別相對于x軸傾斜了角e j的外接矩形和基準矩形來決定照射位置和照射順序，并
估計修復所花的時間tj (1《j《M)。然后，控制部112可以根據(jù)所估計的時間tj最短的情況下的照射位置和照射順序，控制激光照射。 另外，在圖1中，控制部112包含在激光修復裝置100內，然而激光修復裝置100
的外部的未圖示的服務器等信息處理裝置也可以實現(xiàn)控制部112的功能。 例如，服務器可以具有接收從激光修復裝置100經由網(wǎng)絡所發(fā)送的數(shù)據(jù)的網(wǎng)絡接
口，作為取得由CCD照相機111拍攝玻璃基板102得到的圖像數(shù)據(jù)的取得單元。并且，服務
器可以與例如第1實施方式中的控制部112 —樣，作為缺陷提取單元和照射位置決定單元
執(zhí)行功能。
2權利要求
一種激光修復裝置，其修復對象物上的缺陷，該激光修復裝置的特征在于，該激光修復裝置具有射出單元，其射出激光；光學系統(tǒng)，其將所述射出單元所射出的所述激光引導到所述對象物；攝像單元，其拍攝所述對象物并生成圖像數(shù)據(jù)；缺陷提取單元，其根據(jù)所述攝像單元所生成的所述圖像數(shù)據(jù)，提取所述對象物上的所述缺陷的外形；以及照射位置決定單元，其在根據(jù)由所述射出單元和所述光學系統(tǒng)將所述激光照射到所述對象物上的范圍而使所述缺陷提取單元所提取的所述缺陷的所述外形變窄的同時，重復如下處理即根據(jù)所述缺陷的所述外形與外接于所述外形的外接矩形的多個接點中的至少一個接點來決定將所述激光照射到所述對象物上的位置，所示激光修復裝置將所述激光經由所述光學系統(tǒng)照射到所述照射位置決定單元通過重復處理所決定的多個所述位置。
2. 根據(jù)權利要求1所述的激光修復裝置，其特征在于，所述照射位置決定單元將所述位置決定成使所述范圍包含所述多個接點中的至少一個接點，并根據(jù)所述位置和所述范圍 使所述缺陷的所述外形變窄。
3. 根據(jù)權利要求2所述的激光修復裝置，其特征在于，所述照射位置決定單元將所述位置決定成使所述范圍包含所述多個接點中的離所述外接矩形的頂點最近的接點。
4. 根據(jù)權利要求1至3中的任一項所述的激光修復裝置，其特征在于，該激光修復裝置還具有照射順序決定單元，該照射順序決定單元根據(jù)所述照射位置決定單元所決定的所述 多個位置間的距離，決定將所述激光照射到所述多個位置的順序，所述激光修復裝置按照所述照射順序決定單元所決定的所述順序，將所述激光經由所 述光學系統(tǒng)照射到所述照射位置決定單元所決定的所述多個位置。
5. 根據(jù)權利要求1至3中的任一項所述的激光修復裝置，其特征在于，所述照射位置決 定單元通過去除配置在所決定的所述位置上的所述范圍或者內接于所述范圍的矩形，來使 所述缺陷的所述外形變窄。
6. 根據(jù)權利要求1至3中的任一項所述的激光修復裝置，其特征在于，該激光修復裝置 還具有激光整形單元，其配置在被所述光學系統(tǒng)從所述射出單元引導到所述對象物的所述激 光的光路上，對所述激光的光束剖面形狀進行整形；以及整形控制單元，其根據(jù)所述缺陷提取單元所提取的所述缺陷的所述外形、以及當把所 述范圍分別配置在所述照射位置決定單元所決定的所述多個位置上時所產生的所述范圍 之間的重合，控制所述激光整形單元，以便對所述光束剖面形狀進行整形。
7. 根據(jù)權利要求6所述的激光修復裝置，其特征在于，所述激光整形單元是具有一維 或二維地排列的多個微小器件的空間光調制單元，所述整形控制單元通過分別控制所述空間光調制單元具有的所述多個微小器件，來使 所述空間光調制單元對所述光束剖面形狀進行整形。
8. 根據(jù)權利要求6所述的激光修復裝置，其特征在于，所述整形控制單元還根據(jù)被預 先決定了禁止照射所述激光的照射禁止區(qū)域，控制所述激光整形單元。
9. 根據(jù)權利要求1至3中的任一項所述的激光修復裝置，其特征在于，該激光修復裝置還具有顯示單元，其顯示所述圖像數(shù)據(jù)或所述缺陷的所述外形；以及指定單元，其接受將所述顯示單元顯示的所述圖像數(shù)據(jù)或所述缺陷的所述外形的位置 指定為應照射所述激光的位置的輸入，所述激光修復裝置將所述激光經由所述光學系統(tǒng)照射到根據(jù)所述指定單元所接受的 所述輸入而指定的所述位置。
10. —種激光修復方法，該激光修復方法通過照射激光來修復對象物上的缺陷，該激光修復方法的特征在于，拍攝對象物并生成圖像數(shù)據(jù)；根據(jù)所生成的所述圖像數(shù)據(jù)，提取所述對象物上的所述缺陷的外形；在根據(jù)所述激光照射到所述對象物上的范圍使所提取的所述缺陷的所述外形變窄的 同時，重復如下處理即根據(jù)所述缺陷的所述外形與外接于所述外形的外接矩形的多個接 點中的至少一個接點來決定將所述激光照射到所述對象物上的位置的處理；以及將所述激光照射到通過重復處理所決定的多個所述位置。
11. 根據(jù)權利要求io所述的激光修復方法，其特征在于，將所述位置決定成使所述范圍包含所述多個接點中的至少一個接點；以及 根據(jù)所述位置和所述范圍使所述缺陷的所述外形變窄。
12. —種信息處理裝置，該信息處理裝置決定修復對象物上的缺陷的激光修復裝置 應照射激光的所述對象物上的多個位置，該信息處理裝置的特征在于，該信息處理裝置具 有取得單元，其取得拍攝所述對象物所獲得的圖像數(shù)據(jù)；缺陷提取單元，其根據(jù)所述取得單元所取得的所述圖像數(shù)據(jù)，提取所述對象物上的所 述缺陷的外形；以及照射位置決定單元，其在根據(jù)在所述激光修復裝置中將所述激光照射到所述對象物上 的范圍而使所述缺陷提取單元所提取的所述缺陷的所述外形變窄的同時，重復如下處理 即根據(jù)所述缺陷的所述外形與外接于所述外形的外接矩形的多個接點中的至少一個接點 來決定將所述激光照射到所述對象物上的位置的處理。
13. 根據(jù)權利要求12所述的信息處理裝置，其特征在于，所述照射位置決定單元將所 述位置決定成使所述范圍包含所述多個接點中的至少一個接點，并根據(jù)所述位置和所述范 圍使所述缺陷的所述外形變窄。
全文摘要
本發(fā)明提供激光修復裝置、激光修復方法以及信息處理裝置。激光修復裝置能高速修復缺陷。CCD照相機(111)拍攝玻璃基板(102)并生成圖像數(shù)據(jù)?？刂撇?112)根據(jù)圖像數(shù)據(jù)，提取玻璃基板(102)上的缺陷的外形。并且，控制部112根據(jù)缺陷的外形與外接于該外形的外接矩形的多個接點中的至少一個接點，決定向玻璃基板(102)上照射激光的位置?？刂撇?112)在根據(jù)從激光振蕩器(103)所射出的激光照射到玻璃基板(102)上的范圍使缺陷的外形變窄的同時，重復進行上述決定。然后，激光修復裝置(100)將來自激光振蕩器(103)的激光經由光學系統(tǒng)照射到通過重復處理所決定的多個位置。
文檔編號B23K26/08GK101745743SQ200910250748
公開日2010年6月23日 申請日期2009年12月10日 優(yōu)先權日2008年12月11日
發(fā)明者吉田昂平 申請人:奧林巴斯株式會社