專利名稱：一種數(shù)控鉆頭冷卻裝置及方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及PCB設(shè)備領(lǐng)域，更具體地說，涉及一種數(shù)控鉆頭的冷卻裝置及方法
背景技術(shù)：
目前PCB(Printed Circuit Board，印制電路板)是電子元器件的支撐體，是電子 元器件電氣連接的提供者。PCB在打孔時，采用數(shù)控鉆機，數(shù)控鉆機在鉆孔時，鉆頭高速旋 轉(zhuǎn)，與電路板摩擦，鉆頭和電路板會瞬間升溫，并且溫度非常高，有些特殊的電路板不能承 受這么高的溫度，所以鉆頭和電路板必須用液態(tài)氮氣進行冷卻，但更致命的一點，在壓腳座 下面也就是鉆頭突出部分，是吸塵區(qū)，形成很高的負(fù)壓，當(dāng)液態(tài)氮氣噴到鉆頭和電路板時， 會強烈的負(fù)壓所吸走，達不到冷卻的效果。現(xiàn)在急需一種冷卻裝置及方法，該制冷裝置能夠很好的解決數(shù)控鉆機的制冷問題。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明提供一種數(shù)控鉆頭冷卻裝置及方法，以解決數(shù)控鉆機順利冷卻 的方法。為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案一種數(shù)控鉆頭冷卻裝置，所述數(shù)控鉆頭上設(shè)置有吸塵管，所述吸塵管工作時形成 負(fù)壓區(qū)，包括多個均勻分布在同一圓周上的液態(tài)氮管，且多個液態(tài)氮管的噴頭與所述數(shù)控 鉆頭的距離相同，所述液態(tài)氮管的噴射壓力大于負(fù)壓區(qū)的吸力。優(yōu)選的，在上述數(shù)控鉆頭冷卻裝置中，所述液態(tài)氮管個數(shù)為6個，且每個液態(tài)氮管 所呈夾角為60°。優(yōu)選的，在上述數(shù)控鉆頭冷卻裝置中，所述液態(tài)氮管噴射方向與水平方向的夾角 范圍為:40-50°。優(yōu)選的，在上述數(shù)控鉆頭冷卻裝置中，所述液態(tài)氮管噴射方向與水平方向的夾角 為38° 。本發(fā)明實施例還提供了一種數(shù)控鉆頭的冷卻方法，所述數(shù)控鉆頭上設(shè)置有吸塵 管，所述吸塵管工作時形成負(fù)壓區(qū)，多個液態(tài)氮管態(tài)氮管噴射壓力的水平方向的合力為零， 豎直方向的噴射壓力大于負(fù)壓區(qū)的吸力。優(yōu)選的，在上述數(shù)控鉆頭的冷卻方法中，所述多個液態(tài)氮管態(tài)氮管均勻分布在同 一圓周上的液態(tài)氮管，且多個液態(tài)氮管的噴頭與所述數(shù)控鉆頭的距離相同。優(yōu)選的，在上述數(shù)控鉆頭的冷卻方法中，所述液態(tài)氮管個數(shù)為6個，且每個液態(tài)氮 管所呈夾角為60°。優(yōu)選的，在上述數(shù)控鉆頭的冷卻方法中，所述液態(tài)氮管噴射方向與水平方向的夾 角范圍為:40-50°。優(yōu)選的，在上述數(shù)控鉆頭的冷卻方法中，所述液態(tài)氮管噴射方向與水平方向的夾角為38°。從上述技術(shù)方案可以看出，本發(fā)明實施例中通過在鉆頭周圍設(shè)置圍繞吸塵的負(fù)壓 區(qū)，形成一個環(huán)形，在圓的周圍設(shè)置多個液態(tài)氮氣的噴管，在同一時間對鉆頭所在負(fù)壓區(qū)進 行噴射液態(tài)氮氣，只要噴射液氮的這個力大于吸塵的吸力就可以一部份液態(tài)氮氣存留在板 面和鉆頭上面，瞬間對鉆頭進行冷卻。由于采用這種結(jié)構(gòu)工作過程中產(chǎn)生的粉塵不會因為 受力不均產(chǎn)生飛塵現(xiàn)象。


為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn) 有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本 發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以 根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本發(fā)明實施例中提供的數(shù)控鉆頭冷卻裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本發(fā)明實施例中提供的數(shù)控鉆頭冷卻裝置原理示意圖。
具體實施例方式PCB在打孔時，采用數(shù)控鉆機，數(shù)控鉆機在鉆孔時，鉆頭高速旋轉(zhuǎn)，與電路板摩擦， 鉆頭和電路板會瞬間升溫，并且溫度非常高，有些特殊的電路板不能承受這么高的溫度，所 以鉆頭和電路板必須用液態(tài)氮氣進行冷卻，但更致命的一點，在壓腳座下面也就是鉆頭突 出部分，是吸塵區(qū)，形成很高的負(fù)壓，當(dāng)液態(tài)氮氣噴到鉆頭和電路板時，會強烈的負(fù)壓所吸 走，達不到冷卻的效果。下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完 整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于 本發(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他 實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。本發(fā)明實施例公開了一種數(shù)控鉆頭冷卻裝置，請參照圖1，其中，1為主軸；2為壓 腳座；3壓腳座底塊；4為液態(tài)氮氣管；5為數(shù)控鉆頭；6為吸塵管安裝口 ；7為PCB板；8為 粉塵。數(shù)控鉆頭5通過主軸1安裝在數(shù)控鉆機上，其周圍還設(shè)置有壓腳座2和壓腳座底塊 3，數(shù)控鉆頭5上方設(shè)置有吸塵管安裝口 6，用于安裝吸塵管，在工作時將鉆頭鉆下的粉塵吸 入安裝吸塵管，因此鉆頭周圍就會形成負(fù)壓區(qū)，當(dāng)液態(tài)氮氣管4的噴射壓力小于負(fù)壓區(qū)的 吸入壓力是，液態(tài)氮就會被吸入到吸塵管內(nèi)，而起不到冷卻數(shù)控鉆頭5的目的。為了解決這 一問題，該數(shù)控鉆頭冷卻裝置，包括多個均勻分布在同一圓周上的液態(tài)氮管4，且多個液態(tài) 氮管4的噴頭與數(shù)控鉆頭5的距離相同，液態(tài)氮管的噴射壓力大于負(fù)壓區(qū)的吸力。本發(fā)明實施例中液態(tài)氮管個數(shù)為6個，且每個液態(tài)氮管所呈夾角為60°。請參照 圖2，圍繞吸塵的負(fù)壓區(qū)，形成一個環(huán)形，在圓的周圍做6個液態(tài)氮氣的噴管，在同一時間對 鉆頭所在負(fù)壓區(qū)進行噴射液態(tài)氮氣，只要噴射液氮的這個力F大于吸塵的吸力f就可以一 部份液態(tài)氮氣存留在板面和鉆頭上面，瞬間對鉆頭進行冷卻。為了保證冷卻效果液態(tài)氮管4與水平方向的角度進行控制，通常液態(tài)氮管4的噴 射方向與水平方向的夾角范圍為40-50°。最優(yōu)的，液態(tài)氮管噴4的射方向與水平方向的夾角為38°。本發(fā)明實施例中通過在鉆頭周圍設(shè)置圍繞吸塵的負(fù)壓區(qū)，形成一個環(huán)形，在圓的 周圍設(shè)置多個液態(tài)氮氣的噴管，在同一時間對鉆頭所在負(fù)壓區(qū)進行噴射液態(tài)氮氣，只要噴 射液氮的這個力大于吸塵的吸力就可以一部份液態(tài)氮氣存留在板面和鉆頭上面，瞬間對鉆 頭進行冷卻。由于采用這種結(jié)構(gòu)工作過程中產(chǎn)生的粉塵不會因為受力不均產(chǎn)生飛塵現(xiàn)象。本發(fā)明實施例還提供了一種數(shù)控鉆頭的冷卻方法，在該方法中多個液態(tài)氮管態(tài)氮 管噴射壓力的水平方向的合力為零，豎直方向的噴射壓力大于負(fù)壓區(qū)的吸力。其中，其實現(xiàn)方式是多個液態(tài)氮管態(tài)氮管均勻分布在同一圓周上的液態(tài)氮管，且 多個液態(tài)氮管的噴頭與所述數(shù)控鉆頭的距離相同。本發(fā)明實施例中液態(tài)氮管個數(shù)為6個，且每個液態(tài)氮管所呈夾角為60°。請參照 圖2，圍繞吸塵的負(fù)壓區(qū)，形成一個環(huán)形，在圓的周圍做6個液態(tài)氮氣的噴管4，在同一時間 對鉆頭所在負(fù)壓區(qū)進行噴射液態(tài)氮氣，只要噴射液氮的這個力F大于吸塵的吸力f就可以 一部份液態(tài)氮氣存留在板面和鉆頭上面，瞬間對鉆頭進行冷卻。為了保證冷卻效果液態(tài)氮管4與水平方向的角度進行控制，通常液態(tài)氮管6的噴 射方向與水平方向的夾角范圍為40-50°。最優(yōu)的，液態(tài)氮管噴6的射方向與水平方向的 夾角為38°。本說明書中各個實施例采用遞進的方式描述，每個實施例重點說明的都是與其他 實施例的不同之處，各個實施例之間相同相似部分互相參見即可。對于實施例公開的裝置 而言，由于其與實施例公開的方法相對應(yīng)，所以描述的比較簡單，相關(guān)之處參見方法部分說 明即可。對所公開的實施例的上述說明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本發(fā)明。 對這些實施例的多種修改對本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的 一般原理可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下，在其它實施例中實現(xiàn)。因此，本發(fā)明 將不會被限制于本文所示的這些實施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點相一 致的最寬的范圍。
權(quán)利要求
1.一種數(shù)控鉆頭冷卻裝置，所述數(shù)控鉆頭上設(shè)置有吸塵管，所述吸塵管工作時形成負(fù) 壓區(qū)，其特征在于，包括多個均勻分布在同一圓周上的液態(tài)氮管，且多個液態(tài)氮管的噴頭與 所述數(shù)控鉆頭的距離相同，所述液態(tài)氮管的噴射壓力大于負(fù)壓區(qū)的吸力。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的數(shù)控鉆頭冷卻裝置，其特征在于，所述液態(tài)氮管個數(shù)為6個， 且每個液態(tài)氮管所呈夾角為60°。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的數(shù)控鉆頭冷卻裝置，其特征在于，所述液態(tài)氮管噴射方向與 水平方向的夾角范圍為40-50°。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的數(shù)控鉆頭冷卻裝置，其特征在于，所述液態(tài)氮管噴射方向與 水平方向的夾角為38°。
5.一種數(shù)控鉆頭的冷卻方法，所述數(shù)控鉆頭上設(shè)置有吸塵管，所述吸塵管工作時形成 負(fù)壓區(qū)，其特征在于，多個液態(tài)氮管態(tài)氮管噴射壓力的水平方向的合力為零，豎直方向的噴 射壓力大于負(fù)壓區(qū)的吸力。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的數(shù)控鉆頭的冷卻方法，其特征在于，所述多個液態(tài)氮管態(tài)氮 管均勻分布在同一圓周上的液態(tài)氮管，且多個液態(tài)氮管的噴頭與所述數(shù)控鉆頭的距離相 同。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的數(shù)控鉆頭的冷卻方法，其特征在于，所述液態(tài)氮管個數(shù)為6 個，且每個液態(tài)氮管所呈夾角為60°。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的數(shù)控鉆頭的冷卻方法，其特征在于，所述液態(tài)氮管噴射方向 與水平方向的夾角范圍為40-50°。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的數(shù)控鉆頭的冷卻方法，其特征在于，所述液態(tài)氮管噴射方向 與水平方向的夾角為38°。
全文摘要
本發(fā)明實施例公開了一種數(shù)控鉆頭冷卻裝置，所述數(shù)控鉆頭上設(shè)置有吸塵管，所述吸塵管工作時形成負(fù)壓區(qū)，包括多個均勻分布在同一圓周上的液態(tài)氮管，且多個液態(tài)氮管的噴頭與所述數(shù)控鉆頭的距離相同，所述液態(tài)氮管的噴射壓力大于負(fù)壓區(qū)的吸力。本發(fā)明實施例中通過在鉆頭周圍設(shè)置圍繞吸塵的負(fù)壓區(qū)，形成一個環(huán)形，在圓的周圍設(shè)置多個液態(tài)氮氣的噴管，在同一時間對鉆頭所在負(fù)壓區(qū)進行噴射液態(tài)氮氣，只要噴射液氮的這個力大于吸塵的吸力就可以一部份液態(tài)氮氣存留在板面和鉆頭上面，瞬間對鉆頭進行冷卻。由于采用這種結(jié)構(gòu)工作過程中產(chǎn)生的粉塵不會因為受力不均產(chǎn)生飛塵現(xiàn)象。本發(fā)明實施例還公開了一種數(shù)控鉆頭的冷卻方法。
文檔編號B23Q11/00GK102059581SQ20101055519
公開日2011年5月18日 申請日期2010年11月23日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月23日
發(fā)明者俞小東, 張松林, 張紅, 黃金元 申請人:深南電路有限公司