超導(dǎo)腔的制備方法
【專利摘要】本發(fā)明屬于粒子加速器【技術(shù)領(lǐng)域】，特別涉及射頻超導(dǎo)加速腔的制造。一種超導(dǎo)腔的制備方法，其主要包括以下步驟：制備：1）原材料為超導(dǎo)材料粉末；2）使用CAD軟件生成超導(dǎo)腔模型，采用分層軟件對(duì)其進(jìn)行分層；3）使用氣氛控制系統(tǒng)為成型室提供氬氣；4）將步驟1）的超導(dǎo)材料末攤鋪到成形室成型臺(tái)上；5）使用掃描控制系統(tǒng)，根據(jù)超導(dǎo)腔切片層的軟件模型描述，將激光能量“打印”到粉末層上，產(chǎn)生超導(dǎo)材料切片層實(shí)體，該實(shí)體成為超導(dǎo)腔體的一部分；下一切片層又在第一個(gè)切片層實(shí)體上面繼續(xù)被加工，一直到整個(gè)超導(dǎo)腔加工過程完成。最后進(jìn)行機(jī)械拋光、化學(xué)清洗、高溫退火、高壓超純水沖洗、超凈間裝配。本發(fā)明方法，縮短了超導(dǎo)腔研制周期；整個(gè)超導(dǎo)腔無焊縫，提高了超導(dǎo)腔研制的成品率；不受沖壓成形條件的限制，可以提高超導(dǎo)腔的性能；制造過程中多余的超導(dǎo)材料粉末可以重復(fù)使用，降低了生產(chǎn)成本。
【專利說明】超導(dǎo)腔的制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于粒子加速器【技術(shù)領(lǐng)域】，特別涉及射頻超導(dǎo)加速腔(簡(jiǎn)稱超導(dǎo)腔)的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]超導(dǎo)加速腔與常溫加速腔相比，具有加速效率高、高頻熱損耗小的優(yōu)點(diǎn)。超導(dǎo)加速腔已經(jīng)成為直線對(duì)撞機(jī)、自由電子激光、散裂中子源、先進(jìn)光源、加速器驅(qū)動(dòng)核能嬗變裝置(ADS)等大科學(xué)裝置的核心器件。世界上已經(jīng)發(fā)展了橢球腔、Spoke腔、半波長(zhǎng)腔(HWR)、四分之一波長(zhǎng)腔(QWR)等多種超導(dǎo)腔型，目前基本上所有類型超導(dǎo)腔的制作采用的原材料都是高純鈮板，經(jīng)過沖壓成型，然后電子束焊接而成。制作的工藝方法包括以下步驟:
[0003]I材料準(zhǔn)備:根據(jù)超導(dǎo)腔部件形狀尺寸，使用線切割、銑床機(jī)加等手段將厚度為
2.8-4mm的高純鈮板材裁剪成沖壓腔體部件需要的尺寸；
[0004]2沖壓成型:將鈮板放在硬鋁(T7075)模具中沖壓成部件形狀；
[0005]3沖后裁邊:使用線切割或銑床將沖壓后部件邊緣上的余量裁剪掉，精加工到圖紙?jiān)O(shè)計(jì)尺寸；
[0006]4焊前清洗:然后將部件化學(xué)清洗，去除掉焊口上的污染雜質(zhì)；
[0007]5部件焊接:使用電子束焊，在高真空環(huán)境下，將沖壓件焊接成整體部件；
[0008]6部件焊接件的機(jī)加和化學(xué)清洗:精加工部件焊接件到圖紙?jiān)O(shè)計(jì)尺寸，然后化學(xué)清洗焊口，去除焊口上的污染雜質(zhì)；
[0009]7整腔焊接:最后將部件拼成一個(gè)整體進(jìn)行焊接，由于整體焊接后,腔體內(nèi)部焊縫無法打磨處理，一般需要焊接時(shí)使用背成型工藝，即正面焊接、焊縫背面成型光滑。
[0010]8.后處理階段。
[0011]使用上述方法制造超導(dǎo)腔有如下問題:(I)過程復(fù)雜，周期長(zhǎng)，制造一種新結(jié)構(gòu)或新參數(shù)的超導(dǎo)腔，一般需要一年時(shí)間；⑵制造過程中很容易劃傷和污染鈮材表面，最終導(dǎo)致超導(dǎo)腔的高頻性能下降或制造失敗；(3)由于鈮材的反彈特性，一次沖壓，很難達(dá)到設(shè)計(jì)尺寸要求，需要對(duì)沖壓件進(jìn)行真空退火，然后進(jìn)行二次沖壓矯形，要保證超導(dǎo)腔的尺寸精度非常困難；(4) 一個(gè)超導(dǎo)腔一般需要焊接幾十道焊縫，每次焊接前都要進(jìn)行化學(xué)處理，整腔焊接一般需要背成型，要求腔體內(nèi)表面焊縫成形光滑，焊接風(fēng)險(xiǎn)很高。
[0012]目前超導(dǎo)腔制造研究工藝研究的熱點(diǎn)是:如何縮短超導(dǎo)腔制造周期；如何提高超導(dǎo)腔制造成品率；如何降低超導(dǎo)腔制造成本。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0013]本發(fā)明的目的在于，為避免現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種超導(dǎo)腔的制備方法。此方法縮短了超導(dǎo)腔的研制周期，提高了制造成品率；整個(gè)超導(dǎo)腔無焊縫，提高超導(dǎo)腔的高頻性倉泛。
[0014]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采取的技術(shù)方案為:一種超導(dǎo)腔的制備方法，其主要特點(diǎn)在于包括以下步驟:
[0015](I)制備:
[0016]I)原材料為超導(dǎo)材料粉末:粉末微粒粒度為小于50 μ m、純度好于99% ；
[0017]2)使用CAD軟件生成超導(dǎo)腔模型，采用分層軟件對(duì)其進(jìn)行分層，每個(gè)切片層描述確定高度為小于0.5mm的超導(dǎo)腔體的橫截面；
[0018]3)使用氣氛控制系統(tǒng)為成型裝置內(nèi)提供氬氣，氬氣純度好于99.9%，壓力為0.1Mpa至IMpa的IS氣保護(hù)環(huán)境；
[0019]4)將步驟I)的超導(dǎo)材料粉末攤鋪到成型裝置的超導(dǎo)腔的成型臺(tái)上；
[0020]5)使用掃描控制系統(tǒng)，根據(jù)超導(dǎo)腔切片層的軟件模型描述，將激光能量“打印”到粉末層上，激光功率為大于50W,激光波長(zhǎng)大于0.1 μ m,產(chǎn)生超導(dǎo)材料切片層實(shí)體，該實(shí)體成為超導(dǎo)腔體的一部分；下一切片層又在第一個(gè)切片層實(shí)體上面繼續(xù)被加工，一直到整個(gè)超導(dǎo)腔加工過程完成。
[0021]所述的超導(dǎo)腔的制備方法，還包括以下步驟:
[0022](2)機(jī)械拋光:將采用步驟(I)制備的超導(dǎo)腔進(jìn)行機(jī)械滾拋，滾拋后進(jìn)行化學(xué)拋光,刻蝕掉腔體表面大于lOOum，去掉機(jī)械滾拋過程中在腔體內(nèi)表面生產(chǎn)的污染層，去除掉高頻面上的松散超導(dǎo)材料粉末，提高超導(dǎo)腔內(nèi)表面的光潔度；
[0023](3)高溫退火:將超導(dǎo)腔放在鈦箱中，在高真空度好于10_3pa，退火溫度為高于600°C，保溫時(shí)間大于30分鐘，提高超導(dǎo)材料的高頻性能；
[0024](4)化學(xué)輕拋光:刻蝕掉腔體表面大于10um，去除掉機(jī)械滾拋在超導(dǎo)腔體內(nèi)表面生成的污染層；
[0025](5)清洗:在超凈間中，超純水電阻率高于18ΜΩ.cm，高純水壓力為大于IMpa ；
[0026](6)安裝:在超凈間中安裝超導(dǎo)腔配件。
[0027]所述的超導(dǎo)腔的制備方法，所述的成型裝置包括有在超導(dǎo)材料粉末供料缸中設(shè)有供料升降裝置，在超導(dǎo)材料粉末供料缸的一側(cè)設(shè)有成型臺(tái)，在成型臺(tái)上設(shè)有鋪粉輥，在成型臺(tái)的另一側(cè)設(shè)有超導(dǎo)材料粉末收集缸；在成型臺(tái)上方設(shè)有激光源，激光源發(fā)出的激光經(jīng)光學(xué)系統(tǒng)和掃描系統(tǒng)照射在成型臺(tái)上的超導(dǎo)材料粉末上，點(diǎn)激光源在超導(dǎo)材料粉末上移動(dòng)；在成型臺(tái)的下方設(shè)有成型升降裝置；激光源由微機(jī)軟件控制；超導(dǎo)材料粉末供料缸、成型臺(tái)、超導(dǎo)材料粉末收集缸、鋪粉輥放置在成型裝置中，成型裝置內(nèi)充氬氣。
[0028]所述的超導(dǎo)腔的制備方法，所述的超導(dǎo)材料粉末為高純鈮粉末或Nb3Sn粉末或MgB2粉末。
[0029]本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明采用激光熔化3D打印技術(shù)制造超導(dǎo)腔，使用該方法制造超導(dǎo)腔，只需要一道加工程序就將超導(dǎo)材料粉末熔化成型為超導(dǎo)腔，所以大大簡(jiǎn)化了超導(dǎo)腔加工工藝，制造一個(gè)超導(dǎo)腔只需要兩個(gè)月時(shí)間，縮短了超導(dǎo)腔的制造周期(使用常規(guī)方法研制一個(gè)超導(dǎo)腔一般需要一年時(shí)間)；使用的原材料為超導(dǎo)材料粉末，超導(dǎo)腔的整個(gè)制造過程在高純氬氣保護(hù)的環(huán)境中完成，避免外界環(huán)境的污染，保證了超導(dǎo)材料的高頻特性；超導(dǎo)腔是由激光逐層熔化而成，整個(gè)腔體上沒有一道焊縫，腔體內(nèi)表面更光滑，提高了腔體的成品率和高頻特性；制造過程中多余的超導(dǎo)材料粉末可以重復(fù)使用，降低了生產(chǎn)成本。
[0030]從上述可知，采用激光熔化3D打印技術(shù)制造超導(dǎo)腔具有常規(guī)制造方法無法比擬的優(yōu)勢(shì)，是一個(gè)極具發(fā)展前途的新技術(shù)。【專利附圖】

【附圖說明】
[0031]圖1:本發(fā)明成形裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0032]圖2:半波長(zhǎng)超導(dǎo)腔的結(jié)構(gòu)主視示意圖；
[0033]圖3:為圖2半波長(zhǎng)超導(dǎo)腔的A-A剖視示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0034]下面結(jié)合附圖來詳細(xì)說明本發(fā)明。
[0035]實(shí)施例1:見圖1，一種高純鈮超導(dǎo)腔的制備方法，其主要包括以下步驟:
[0036](I)制備:
[0037]I)原材料為高純鈮粉末:高純鈮粉末由還原氧化鈮得到，粉末微粒粒度為10nm_20 u m、純度 99%_99.99% ；
[0038]2)使用CAD軟件生成超導(dǎo)腔模型，以半波長(zhǎng)腔為例，見圖2和圖3，采用分層軟件對(duì)其進(jìn)行分層，每個(gè)切片層描述了確定高度0.05-0.3mm的超導(dǎo)腔體的橫截面；
[0039]3)使用氣氛控制系統(tǒng)為成型裝置提供氬氣純度好于99.9996%，壓力為
0.1-0.2Mpa氬氣保護(hù)環(huán)境；
[0040]4)將步驟I)的高純鈮粉末攤鋪到成型室工作臺(tái)上；
[0041]5)使用掃描控制系統(tǒng)，根據(jù)超導(dǎo)腔切片層的軟件模型描述，將激光能量“打印”到粉末層上，激光功率為50-1000W，激光波長(zhǎng)I μ m-20 μ m，產(chǎn)生高純鈮切片層實(shí)體，該實(shí)體成為超導(dǎo)腔體的一部分；下一切片層又在第一個(gè)切片層實(shí)體上面繼續(xù)被加工，一直到整個(gè)超導(dǎo)腔加工過程完成。
[0042]所述的高純鈮超導(dǎo)腔的制備方法，還包括以下步驟:
[0043](2)機(jī)械拋光:將采用步驟(I)制備的超導(dǎo)腔進(jìn)行機(jī)械滾拋，滾拋后進(jìn)行化學(xué)拋光,刻蝕掉腔體表面100-200um，去掉機(jī)械滾拋過程中在腔體內(nèi)表面生產(chǎn)的污染層去除掉高頻面上的松散鈮粉末，提高超導(dǎo)腔內(nèi)表面的光潔度；
[0044](3)高溫退火:將超導(dǎo)腔放在鈦箱中，在高真空度好于10_3pa，退火溫度為600-1400°C，保溫3-9小時(shí)，提高鈮材的高頻性能；
[0045](4)化學(xué)輕拋光:刻蝕掉腔體表面20_50um，去除掉機(jī)械滾拋在超導(dǎo)腔體內(nèi)表面生成的污染層；
[0046](5)清洗:在100級(jí)超凈間中，超純水電阻率高于18ΜΩ.cm，高純水壓力
[0047]為8Mpa_10Mpa
[0048](6)安裝:在100級(jí)超凈間中安裝超導(dǎo)腔配件。
[0049]所述的成型裝置，包括有在高純鈮粉末供料缸I中設(shè)有活塞1-1，在高純鈮粉末供料缸I的一側(cè)設(shè)有成型臺(tái)2，在成型臺(tái)2上設(shè)有鋪粉輥4，在成型臺(tái)2的另一側(cè)設(shè)有高純鈮粉末收集缸3 ;在工作臺(tái)2上方設(shè)有激光源7，激光源7發(fā)出的激光經(jīng)光學(xué)系統(tǒng)8和掃描系統(tǒng)9照射在工作臺(tái)2上的高純鈮粉末上，點(diǎn)激光源在高純鈮粉末上移動(dòng)；在成型臺(tái)2的下方設(shè)有升降裝置2-2 ;激光源7由微機(jī)軟件控制；高純鈮粉末供料缸1、成型臺(tái)2、高純鈮粉末收集缸3、鋪粉輥4放置在成型裝置中，成型裝置中充氬氣。
[0050]高純鈮粉末供料缸I中的活塞向上運(yùn)動(dòng)，為成型室提供高純鈮粉末，鋪粉軸4將成型室中的高純鈮粉末鋪平，并將多余的高純鈮粉末收集到高純鈮粉末收集缸3中，由微機(jī)軟件控制，激光源7發(fā)出的激光經(jīng)光學(xué)系統(tǒng)8和掃描系統(tǒng)9掃描到成型室中粉末床2上的高純鈮粉末上，熔化高純鈮粉末，成型超導(dǎo)腔模型中的第一層，當(dāng)?shù)谝粚映尚秃螅勰┐?向下運(yùn)動(dòng)，重新鋪高純鈮粉末，激光熔化成型第二次，依次類推，直到所有層被激光熔化成型，圖1上的6為正在成型的工件，5為未被熔化的高純鈮粉末。
[0051]實(shí)施例2:本發(fā)明提出的Nb3Sn超導(dǎo)腔制造方法實(shí)施例詳細(xì)說明如下:
[0052]I 制備:
[0053](I)采用的原材料為Nb3Sn粉末，粉末微粒粒度為10nm_20 μ m、純度99%_99.99% ；
[0054](2)采用CAD、Solidfforks軟件繪制超導(dǎo)腔模型，以半波長(zhǎng)腔為例，見圖2和圖3，采用分層軟件對(duì)其進(jìn)行分層，每個(gè)切片層高度為0.05-0.3mm，每個(gè)切片層描述了確定高度的超導(dǎo)腔體的橫截面；
[0055](3)激光熔化制造超導(dǎo)腔過程見圖1，在高純氬氣保護(hù)的環(huán)境中，高純氬氣純度為99.9996%, Nb3Sn粉末供料缸I中的活塞向上運(yùn)動(dòng)，為成型室提供Nb3Sn粉末，鋪粉輥4將成型室中的Nb3Sn粉末鋪平，并將多余的Nb3Sn粉末末收集到Nb3Sn粉末收集缸3中，由微機(jī)軟件控制，激光源7發(fā)出的激光經(jīng)光學(xué)系統(tǒng)8和掃描系統(tǒng)9掃描到成型室中粉末床2上的Nb3Sn粉末上,熔化Nb3Sn粉末,成型超導(dǎo)腔模型中的第一層，當(dāng)?shù)谝粚映尚秃?粉末床2向下運(yùn)動(dòng)，重新鋪高Nb3Sn粉末，激光熔化成型第二次，依次類推，直到所有層被激光熔化成型，圖2上的6為正在成型的工件，5為未被熔化的Nb3Sn粉末。
[0056]2.將采用上述方法制作的超導(dǎo)腔安裝到到滾拋機(jī)上，在腔體內(nèi)裝研磨料，開啟滾拋機(jī)轉(zhuǎn)動(dòng)超導(dǎo)腔體，對(duì)超導(dǎo)腔體內(nèi)表面進(jìn)行機(jī)械拋光，去除高頻面上的松散Nb3Sn粉末，提高超導(dǎo)腔內(nèi)表面的光潔度；
[0057]3.超導(dǎo)腔滾拋后進(jìn)行化學(xué)輕拋光，刻蝕掉腔體表面約200um ；
[0058]4.高溫退火:將超導(dǎo)腔放在鈦箱中，在高真空度下(好于10_3pa)，退火溫度為600-1000°C，保溫時(shí)間大于2小時(shí)，提高Nb3Sn的高頻性能；
[0059]5.化學(xué)輕拋:化學(xué)清洗，刻蝕掉腔體表面50個(gè)微米，去除熱處理過程中產(chǎn)生的污染層；
[0060]6.高壓水沖洗:在100級(jí)超凈間中，使用壓力為8-10Mpa，電阻率高于18ΜΩ.αιι高純水,沖洗超導(dǎo)腔的內(nèi)表面,去除腔體內(nèi)部的微小顆粒；
[0061]7.超凈間裝配:在100級(jí)超凈間中對(duì)超導(dǎo)腔及其配件進(jìn)行裝配。
[0062]實(shí)施例3:見圖1，一種MgB2超導(dǎo)腔的制備方法，其主要包括以下步驟:
[0063](I)制備:
[0064]I)原材料為MgB2粉末:粉末微粒粒度為10nm-20 μ m、純度99%_99.99%:
[0065]2)使用CAD軟件生成超導(dǎo)腔模型，以半波長(zhǎng)腔為例，見圖2和圖3，采用分層軟件對(duì)其進(jìn)行分層，每個(gè)切片層描述了確定高度0.05-0.3mm的超導(dǎo)腔體的橫截面；
[0066]3)使用氣氛控制系統(tǒng)為成型室提供氬氣純度好于99.9996%，壓力為0.1-0.2Mpa氬氣保護(hù)環(huán)境；
[0067]4)將步驟I)的MgB2粉末攤鋪到成型室工作臺(tái)上；
[0068]5)使用掃描控制系統(tǒng)，根據(jù)超導(dǎo)腔切片層的軟件模型描述，將激光能量“打印”到粉末層上，激光功率為50-1000W，激光波長(zhǎng)I μ m-20 μ m,產(chǎn)生MgB2切片層實(shí)體，該實(shí)體成為超導(dǎo)腔體的一部分；下一切片層又在第一個(gè)切片層實(shí)體上面繼續(xù)被加工，一直到整個(gè)超導(dǎo)腔加工過程完成。
[0069]所述的MgB2超導(dǎo)腔的制備方法，還包括以下步驟:
[0070](2)機(jī)械拋光:將采用步驟(I)制備的超導(dǎo)腔進(jìn)行機(jī)械滾拋，滾拋后進(jìn)行化學(xué)拋光,刻蝕掉腔體表面100-200um，去掉機(jī)械滾拋過程中在腔體內(nèi)表面生產(chǎn)的污染層去除掉高頻面上的松散MgB2粉末，提高超導(dǎo)腔內(nèi)表面的光潔度；
[0071](3)高溫退火:將超導(dǎo)腔放在鈦箱中，在高真空度好于10_3pa，退火溫度為大于600°C，保溫時(shí)間大于30分鐘，提MgB2的高頻性能；
[0072](4)化學(xué)輕拋光:刻蝕掉腔體表面20_50um，去除掉機(jī)械滾拋在超導(dǎo)腔體內(nèi)表面生成的污染層；
[0073](5)清洗:在100級(jí)超凈間中，超純水電阻率高于18ΜΩ.cm，高純水壓力為8Mpa_10Mpa
[0074](6)安裝:在100級(jí)超凈間中安裝超導(dǎo)腔配件。
[0075]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種超導(dǎo)腔的制備方法，其特征在于包括以下步驟: (1)制備: O原材料為超導(dǎo)材料粉末:粉末微粒粒度為小于50 μ m、純度好于99% ； 2)使用CAD軟件生成超導(dǎo)腔模型，采用分層軟件對(duì)其進(jìn)行分層，每個(gè)切片層描述確定高度為小于0.5mm的超導(dǎo)腔體的橫截面； 3)使用氣氛控制系統(tǒng)為成型裝置內(nèi)提供氬氣，氬氣純度好于99.9%，壓力為0.1Mpa至IMpa的氬氣保護(hù)環(huán)境； 4)將步驟I)的超導(dǎo)材料粉末攤鋪到成型裝置的超導(dǎo)腔的成型臺(tái)上； 5)使用掃描控制系統(tǒng)，根據(jù)超導(dǎo)腔切片層的軟件模型描述，將激光能量“打印”到粉末層上，激光功率為大于50W,激光波長(zhǎng)大于0.1 μ m,產(chǎn)生超導(dǎo)材料切片層實(shí)體，該實(shí)體成為超導(dǎo)腔體的一部分；下一切片層又在第一個(gè)切片層實(shí)體上面繼續(xù)被加工，一直到整個(gè)超導(dǎo)腔加工過程完成。
2.如權(quán)利要求1所述的超導(dǎo)腔的制備方法，其特征在于還包括以下步驟: (2)機(jī)械拋光:將采用步驟(I)制備的超導(dǎo)腔進(jìn)行機(jī)械滾拋，滾拋后進(jìn)行化學(xué)拋光，刻蝕掉腔體表面大于lOOum，去掉機(jī)械滾拋過程中在腔體內(nèi)表面生產(chǎn)的污染層，去除掉高頻面上的松散超導(dǎo)材料粉末，提高超導(dǎo)腔內(nèi)表面的光潔度； (3)高溫退火:將超導(dǎo)腔放在鈦箱中，在高真空度好于10_3pa，退火溫度為高于600°C，保溫時(shí)間大于30分鐘，提高超導(dǎo)材料的高頻性能； (4)化學(xué)輕拋光:刻蝕掉腔體表面大于10um，去除掉機(jī)械滾拋在超導(dǎo)腔體內(nèi)表面生成的污染層； (5)清洗:在超凈間中，超純水電阻率高于18ΜΩ.cm，高純水壓力為大于IMpa ； (6)安裝:在超凈間中安裝超導(dǎo)腔配件。
3.如權(quán)利要求1所述的超導(dǎo)腔的制備方法，其特征在于所述的成型裝置包括有在超導(dǎo)材料粉末供料缸中設(shè)有供料升降裝置，在超導(dǎo)材料粉末供料缸的一側(cè)設(shè)有成型臺(tái)，在成型臺(tái)上設(shè)有鋪粉輥，在成型臺(tái)的另一側(cè)設(shè)有超導(dǎo)材料粉末收集缸；在成型臺(tái)上方設(shè)有激光源，激光源發(fā)出的激光經(jīng)光學(xué)系統(tǒng)和掃描系統(tǒng)照射在成型臺(tái)上的超導(dǎo)材料粉末上，點(diǎn)激光源在超導(dǎo)材料粉末上移動(dòng)；在成型臺(tái)的下方設(shè)有成型升降裝置；激光源由微機(jī)軟件控制；超導(dǎo)材料粉末供料缸、成型臺(tái)、超導(dǎo)材料粉末收集缸、鋪粉輥放置在成型裝置中，成型裝置內(nèi)充IS氣。
4.如權(quán)利要求1所述的超導(dǎo)腔的制備方法，其特征在于所述的超導(dǎo)材料粉末為高純鈮粉末或Nb3Sn粉末或MgB2粉末。
【文檔編號(hào)】B23P15/00GK103567726SQ201310581948
【公開日】2014年2月12日 申請(qǐng)日期:2013年11月18日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月18日
【發(fā)明者】何源, 岳偉明, 張生虎 申請(qǐng)人:中國科學(xué)院近代物理研究所